JPH07299740A

JPH07299740A - ウエハ研磨ヘッドおよびウエハ研磨装置

Info

Publication number: JPH07299740A
Application number: JP9778094A
Authority: JP
Inventors: Keisuke Takeda; 圭介武田; Keiichi Shirai; 啓一白井
Original assignee: Mitsubishi Materials Corp
Current assignee: Mitsubishi Materials Corp
Priority date: 1994-05-11
Filing date: 1994-05-11
Publication date: 1995-11-14

Abstract

(57)【要約】【目的】ヘッド支持アームの負担を軽減し、また、ヘ
ッドハウジングの振動やばたつきを低減し、高精度な鏡
面研磨を行えるウエハ研磨ヘッドを提供する。【構成】ウエハ研磨ヘッド４０のヘッド軸体４７の上
端部は、ヘッド支持アーム４２のヘッド支持部４２ｂに
設置されたエアシリンダ４５ａやリンク機構４５ｂ等か
らなるヘッド上下駆動機構４６に連結されており、ヘッ
ド上下駆動機構４６が作動することにより、ヘッド軸体
４７が若干距離だけ上下移動するようになっている。ヘ
ッド軸体４７の上端部には、ストッパ部材４７ａが一体
的に設けられており、リンク機構４５ｂとヘッド軸体４
７との間に設けられたクラッチ（図示せず）を解くこと
より、ストッパ部材４７ａがヘッド支持部４２ｂに係止
され、これにより、ウエハ研磨ヘッド４０やウエイト６
２の重量がストッパ部材４７ａを介してヘッド支持部４
２ｂで受けられる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、集積回路を形成する半
導体ウエハ等の表面を研磨するためのウエハ研磨ヘッド
および該研磨ヘッドを備えた研磨装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＬＳＩ等の集積回路を製造するウ
エハの研磨は、デバイスの微細化に伴い、高精度かつ無
欠陥の表面が益々要求されるようになり、これに対応し
て技術的に進歩してきた。研磨のメカニズムが、微粒子
シリカ等によるメカニカル的な要素とアルカリ液による
エッチング要素を複合したメカノ・ケミカル研磨法であ
り、研磨剤や研磨布の性質がウエハ表面状態を決める主
要素であるために、従来はこれらについて多くの改良が
なされてきたが、最近のウエハ精度は、特に平坦度向上
の要求に対しては研磨装置自体の重要度が高まりつつあ
る。

【０００３】従来のウエハ研磨装置としては、大別する
と、以下に記述する、（１）研磨圧を流体圧により設定
および調整するもの、および（２）研磨圧をウエイトに
より設定および調整するものがある。

【０００４】（１）図４に示すように、ウエハ研磨装置
１の研磨ヘッド２はその下部にウエハキャリア６を有
し、このウエハキャリア６の下面にはウエハ３が真空吸
着されている。一方、ウエハキャリア６の上方に、圧力
空気源３２（図５参照）から低圧空気が供給されると、
ウエハキャリア６が下方に変位してプラテン５に押し付
けられる。研磨ヘッド２は、基台７上に設置されここか
ら逆Ｌ字状に延びるアーム４によりプラテン５の上面に
対向するように支持されている。アーム４の先端にはエ
アシリンダ８が設置され、これが研磨ヘッド２のヘッド
軸体９と連結されることによりエアシリンダ８が作動し
たときに研磨ヘッド２が若干の上下移動を行い得る。プ
ラテン５はベアリング１２により回転自在に支持され、
その上面には研磨布（不図示）が貼付けられており、研
磨の際には、この研磨布が研磨ヘッド２に保持されたウ
エハ３と接触するようになっている。プラテン５の中心
には回転軸１０が設けられ、基台７に設置された駆動モ
ータ１１の回転力が動力伝達機構（不図示）を介してこ
の回転軸１０に伝達され、プラテン５が回転する。

【０００５】図５に示すように、研磨ヘッド２の構成と
しては、ヘッド軸体９の下部には、連結部材２６を介し
て、ヘッドハウジング２７が固定され、このヘッドハウ
ジング２７は環状の壁部２７ａを有する。この壁部２７
ａの下部のフランジ部２７ｂによりリテーナ３０が支持
され、さらにリテーナ３０により円板状のウエハキャリ
ア６が支持されている。リテーナ３０はウエハキャリア
６に対して相対的に上下移動可能に構成されており、ウ
エハキャリア６の表面から突出させることにより保持し
たウエハ３の水平方向への移動を抑制するためのもので
ある。また、ウエハキャリア６には表裏面を貫通する複
数の細孔３１が形成されており、各細孔３１は真空排気
源（不図示）に接続されていることで、ウエハ３がウエ
ハキャリア６の表面に真空吸着されて保持される。ヘッ
ドハウジング２７の内部は弾性を有するダイヤフラム２
９によって密閉空間部３７とウエハキャリア６とが区画
されており、圧力空気源３２から密閉空間部３７に低圧
空気が供給されることにより、ダイヤフラム２９が伸
び、さらにウエハキャリア６が下方に変位してプラテン
５（図４参照）に押し付けられるように構成されている
（この研磨ヘッドは、例えば、特開平４−３４３６５８
号公報や特開平５−６９３１４号公報参照）。

【０００６】上述したウエハ研磨装置１を使用する際に
は、先ず、密閉空間部３７内に供給する空気圧を設定お
よび調整して、研磨圧を設定および調整する。また、研
磨ヘッド２にウエハ３を装着した後、研磨ヘッド２を所
定の圧力でプラテン５に押し付け、動作を開始させる
と、ウエハ３とプラテン５の研磨布との微小な間隙に研
磨剤が供給されつつ、プラテン５およびヘッドハウジン
グ２７が同方向に回転するとともに、研磨ヘッド２を支
持するアーム４が鉛直方向に延びる支持部４ａを回転軸
として研磨ヘッド２がプラテン５上に位置する範囲で揺
動運動を行う。このアーム４の揺動運動は、プラテン５
の同一箇所のみで研磨を行うと、その部分の研磨布のみ
が磨耗することにより研磨むらが生じるので、研磨布を
まんべんなく使用するためのものである。そして、研磨
ヘッド２、プラテン５、アーム４が上記のように相互に
運動を行いつつ、ウエハ３と研磨布が研磨剤を伴って摩
擦されることによってウエハ３の研磨が行われる。この
際、ヘッドハウジング２７がプラテン５から受ける研磨
圧の反力は、ヘッド軸体９を介してアームで支持され
る。

【０００７】（２）図６の（ａ）および（ｂ）に示すよ
うに、ウエハ１３を下面に接着したプレート１４が、定
盤１５に貼付した研磨クロス（研磨布）１６上に載置さ
れ、上下動主軸１８に吊下げられた研磨ヘッド１９で圧
下してウエハ１３を研磨（ポリッシング）するものであ
る。研磨ヘッド１９はプレート１４を圧下する円板状ヘ
ッド２０と、この中心に垂直に立設された中央軸２１
と、中央軸２１を貫いてヘッド２０上に積み重なれた環
状ウエイト２５ａよりなる。上下動主軸１８は下端に下
方に向って広がるトップリング支持部材２２を有し、中
央軸２１は円筒状で、上方内部にヘッド支持部材２２を
収容し、かつ上端に上方に向って狭くなったストッパー
２３を形成し、ヘッド支持部材２２の最大外径は中央軸
２１の円筒部の内径より小さいが、ストッパー２３の内
径よりも大きくなっている。これにより、ヘッド支持部
材２２と、ストッパー２３との接触は解消され、さらに
研磨ヘッド１９は上下動主軸１８から切離されて、単に
プレート１４の上に載置されているだけの状態となる。
環状ウエイト２５ａを増減して研磨ヘッド１９による研
磨圧を適当な値に調節すれば、終始一定の加工条件のも
とで、ウエハ１３の研磨を実施できる（特開平５−１３
８５３０号公報参照）。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、（１）
のものは、研磨時に、プラテンからヘッドハウジングに
働く、研磨圧の反力に、ヘッド軸体を介してアームで対
抗するものなので、アームの負担が大きい。また、研磨
中に、例えば、プラテンの面振れによる横荷重やウエハ
の厚さの不揃い等に起因して、ヘッドハウジングが振動
したりばたつきやすく、結果的に、研磨精度が低くなる
という問題点がある。

【０００９】（２）のものは、ウエイトの重量により研
磨圧を設定および調整するものであるので、研磨圧を変
更する際には、いちいち人手によりウエイトを交換しな
ければならない上、研磨圧の微調整が不可能である。ま
た、ヘッド軸体がないため、研磨時に、定盤から研磨ヘ
ッドに加わる、研磨圧の反力をウエイトのみで支持する
ものなので、（１）のものと同様に、研磨精度が低いと
いう問題点がある。さらに、研磨ヘッドはウエハ研磨時
に上下動主軸から切離され、水平方向には何等拘束を受
けずに、定盤上をある程度自由に移動できるので、この
ままでは安定した加工ができなくなる。そこで、研磨ヘ
ッドを研磨クロスの全範囲で移動させるためのローラ
（図６の（ａ）の符号２４参照）や、水平方向の動きを
規制するために、必ず研磨ヘッドの外側から複数のガイ
ドローラ（図６の（ａ）の符号２５参照）で支持する必
要があるため、構成が複雑化し、結果的に、装置コスト
が嵩むという問題点がある。

【００１０】本発明は、上記従来技術の有する問題点に
鑑みてなされたものであり、ヘッド支持アームの負担を
軽減し、また、ヘッドハウジングの振動やばたつきを低
減し、高精度な鏡面研磨を行え、しかも、構成が簡単で
安価なウエハ研磨ヘッドおよびウエハ研磨装置を提供す
ることを目的としている。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、揺動されるヘッド支持アームに取付けられ
たヘッド軸体と、該ヘッド軸体の下端部に支持されたヘ
ッドハウジングと、該ヘッドハウジング内に設けられ
た、被研磨物としてのウエハを吸着保持するウエハチェ
ックを取付けた加圧プレートと、該加圧プレートを前記
ヘッドハウジングに支持しかつ前記加圧プレートと前記
ヘッドハウジングとの間に密閉空間部を形成するための
弾性体シートとを有するウエハ研磨ヘッドにおいて、前
記ヘッド軸体は前記ヘッド支持アームに鉛直方向に移動
自在に吊下げられ、前記ヘッドハウジングにはウエイト
が搭載されていることを特徴とするものである。また、
本発明のウエハ研磨装置は、本発明のウエハ研磨ヘッド
と、一面に研磨布を有しかつ回転駆動されるプラテンと
を備え、前記密閉空間部に圧力流体を供給するととも
に、前記プラテンを回転させることにより、前記ウエハ
を、前記プラテンの前記研磨布に研磨剤を供給しなが
ら、押し付けて鏡面研磨するものである。

【００１２】

【作用】請求項１に記載の発明では、密閉空間部に圧力
流体を供給し、これにより研磨圧を設定および調整す
る。そして、研磨時には、プラテンには研磨圧のみがか
かり、また、プラテンからヘッドハウジングに加わる、
研磨圧の反力にウエイトで対抗して、ヘッド支持アーム
の負担を軽減する。ヘッド支持アームにかかる荷重は、
ウエイトの重量から研磨圧を引いたものとなる。請求項
２に記載のウエハ研磨装置は、本発明のウエハ研磨ヘッ
ドとプラテンとの相対的な運動により、ウエハの高精度
な鏡面研磨が行われる。

【００１３】

【実施例】次に、本発明の一実施例について図面を参照
して説明する。図１は本発明のウエハ研磨装置の一実施
例の概略構成図、図２は図１の研磨ヘッドの拡大断面
図、図３は図１に示したヘッド部の概略上面図である。

【００１４】図１に示すように、このウエハ研磨装置の
全体構成については、符号４０はウエハ５９を支持する
ウエハ研磨ヘッド、符号４２はウエハ研磨ヘッド４０を
支持するためのヘッド支持アーム、符号４１はプラテン
（研磨盤）、符号５５はウエハ研磨ヘッド４０およびプ
ラテン４１を回転させるための駆動モータである。

【００１５】プラテン４１は、セラミック等の材料で形
成されたものであって、ベアリング５８により装置フレ
ーム５７に回転自在に支持されたプラテン台４１ａに搭
載されている。このプラテン台４１ａは、その中心に、
後述する駆動モータ５５により回転されるプラテン主軸
５６が連結されており、このプラテン主軸５６を中心と
して回転駆動される。プラテン主軸５６は、プーリ５
３、タイミングベルト５３ａおよびプーリ５４を介し
て、駆動モータ５５と接続されている。また、プラテン
４１の上面には、ウエハ５９と接触してウエハ５９を研
磨するためのフェルト等からなる研磨布７８が貼り付け
られている。

【００１６】ヘッド支持アーム４２は、鉛直方向に延び
る基部４２ａとその上端から水平に延びるヘッド支持部
４２ｂからなり、ヘッド支持部４２ｂは基部４２ａを中
心としてアーム回転機構（不図示）により回転駆動され
るように構成されている。そして、ヘッド支持部４２ｂ
の先端には、研磨ヘッド４０および後述するヘッド上下
駆動機構４６が備えられている。また、ヘッド支持アー
ム４２は、装置フレーム５７に、プラテン４１の半径方
向（矢印Ｂ方向）に平行移動自在に設置され、また、エ
アシリンダ等からなるアーム水平駆動機構（不図示）が
連結されていることにより、研磨時に矢印Ｂ方向に揺動
される。また、研磨時に、前記駆動モータ５５の回転力
は、ベルト５２ａ、プーリ５２、伝動軸５１、プーリ５
０、タイミングベルト４８およびプーリ４９等のヘッド
回転機構を介してヘッド軸体４７に伝動され、ヘッド軸
体４７を回転駆動できる。

【００１７】図１および図２に示すように、前記ヘッド
軸体４７は、ヘッド支持アーム４２の先端にベアリング
７３ａ，７３ｂによって水平回転自在に支持された円筒
状のスリーブ７５内に同心に挿入配置され、スリーブ７
５との間に形成されたスプライン７６によって、スリー
ブ７５に対して上下方向に摺動自在に配されるととも
に、水平回転方向に拘束されるようになっている。前記
スリーブ７５には、プーリ４９が固定されている。これ
によって、スリーブ７５は、前記ヘッド回転機構を介し
て伝達されるモータ５５の回転トルクにより水平回転さ
せられるようになっている。

【００１８】また、このヘッド軸体４７は、ウエハ研磨
ヘッド４０のヘッドハウジング６１の上面に接触状態に
配置されるとともに、所定のガタを設けたピン７４によ
ってヘッドハウジング６１との間に相対的な水平回転を
拘束されるようになっている。これにより、ヘッドハウ
ジング６１は、ヘッド軸体４７によって押え込まれ、そ
の上方への移動を制限されるとともに、水平方向には、
ピン７４のガタ分の変位を許容されるようになってお
り、しかも、ヘッド軸体４７に伝達されたモータ５５の
回転力がピン７４を介して伝達されるようになってい
る。

【００１９】一方、ウエハ研磨ヘッド４０のヘッドハウ
ジング６１の上面には、適当な重量のウエイト６２が搭
載されている。このウエイト６２は、ヘッドハウジング
６１内の後述する密閉空間部６９に供給される空気圧に
よってウエハ５９がプラテン４１に押し付けられる際の
ヘッドハウジング６１を押し上げようとする反力に対抗
して、ヘッドハウジング６１を押下するようになってい
る。

【００２０】図２に示すように、研磨ヘッド４０の詳細
構成としては、ヘッド軸体４７には高圧流体供給通路７
１および吸引用通路７０が形成され、高圧流体供給通路
７１は外部の圧力空気源（不図示）に通じており、吸引
用通路７０はバキューム源に通じている。符号７２は加
圧プレートを示し、この加圧プレート７２には、被研磨
物としてのウエハ５９（図１参照）を吸着保持するウエ
ハチェック６０が取付けられており、この加圧プレート
７２は、弾性体シートとしてのダイヤフラム６７により
支持されている。すなわち、ダイヤフラム６７の外周部
は、ヘッドハウジング６１に固定され、このダイヤフラ
ム６７には加圧プレート７２がボルト等で固定され支持
されている。これにより、加圧プレート７２とヘッドハ
ウジング６１との間に密閉空間部６９が形成されてい
る。

【００２１】ヘッドハウジング６１は、壁部６３を有
し、この壁部６３の下部のフランジ部６４によりリテー
ナ６５が支持され、さらにリテーナ６５により円板状の
ウエハキャリア６０が支持されている。このリテーナ６
５はウエハキャリア６０に対して相対的に上下移動可能
に構成されており、ウエハキャリア６０の表面から突出
させることにより、保持したウエハ５９の水平方向への
移動を抑制るためのものである。また、ウエハキャリア
６０には表裏面を貫通する複数の細孔６６が形成されて
おり、これら細孔６６は吸引用通路７０を介してバキュ
ーム源に接続されることによりウエハ５９がウエハキャ
リア６０の表面に真空吸着されて保持されるようになっ
ている。

【００２２】また、ヘッドハウジング６１の内部は前記
ダイヤフラム６７によって密閉空間部６９とウエハキャ
リア６０とが区画されており、圧力空気源から圧力流体
供給路７１を介して密閉空間部６９に低圧空気が供給さ
れることで、ダイヤフラム６７が伸び、これにより、ウ
エハキャリア６０が下方に変位してプラテン１４に押し
付けられるように構成されている。

【００２３】ヘッド軸体４７の上端部は、ヘッド支持ア
ーム４２のヘッド支持部４２ｂに設置されたエアシリン
ダ４５ａやリンク機構４５ｂ等からなるヘッド上下駆動
機構４６に連結されており、ヘッド上下駆動機構４６が
作動することにより、ヘッド軸体４７が若干距離だけ上
下移動するようになっている。ヘッド軸体４７の上端部
には、ストッパ部材４７ａが一体的に設けられており、
リンク機構４５ｂとヘッド軸体４７との間に設けられた
クラッチ（不図示）を解くことより、ストッパ部材４７
ａがヘッド支持部４２ｂに係止され、ウエハ研磨ヘッド
４０やウエイト６２の重量がヘッド支持部４２ｂで受け
られる。

【００２４】図１および図３に示すように、ヘッド支持
アーム４２のヘッド支持部４２ｂはローラ支持アーム４
３を備え、このローラ支持アーム４３の先端部は２つの
湾曲分岐部４３ａ，４３ｂを備えている。これら湾曲分
岐部４３ａ，４３ｂの先端にはガイドローラ４４ａ，４
４ｃが回転自在に設けられ、また、ローラ支持アーム４
３の分岐部にもガイドローラ４４ｂが回転自在に設けら
れている。各ガイドローラ４４ａ，４４ｂ，４４ｃは、
ヘッドハウジング６１の外周面に当接し、ヘッドハウジ
ング６１の横方向の振れを阻止するものであるが、必ず
しも必要ではない。湾曲分岐部４３ａ，４３ｂには、研
磨剤をウエハと研磨布との間に研磨剤を供給するための
研磨剤ノズル（不図示）が複数設けられている。

【００２５】次に、上記構成のウエハ研磨装置を用いて
ウエハ研磨作業を行うときの動作について説明する。先
ず、密閉空間部６９内に低圧空気を供給し、これにより
研磨圧を設定および調整する。ヘッド上下駆動機構４６
のリンク機構４５ｂのクラッチ（不図示）を解き、ウエ
ハ研磨ヘッド４０やウエイト６２の重量をストッパ部材
４７ａを介してヘッド支持部４２ｂで受ける。この状態
では、ウエハ研磨ヘッド４０は所定の研磨圧力でプラテ
ン４１に押し付けられ、微粒子シリカからなる砥粒を含
有する水酸化カリウム等のアルカリ溶液で構成された研
磨剤をウエハ５９とプラテン研磨布７８との間の微小な
間隙に流し込みつつ、ヘッドハウジング６１とプラテン
４１とが相対運動を行う。

【００２６】すなわち、図３に示すように、プラテン４
１が時計回り方向（矢印Ｘ方向）に回転し、ヘッドハウ
ジング６１およびウエイト６２も同方向に回転するとと
もに、ヘッド支持アーム４２が前記アーム水平駆動機構
（不図示）によりプラテン４１の半径方向に往復運動す
なわち揺動を行う（矢印Ｂ参照）。このように、ヘッド
ハウジング６１、プラテン４１およびヘッド支持アーム
４２が相対的に運動を行うとともに、低圧空気によりウ
エハキャリア６０がプラテン４１に押し付けられ、ウエ
ハ５９が研磨布７８に対して研磨剤を介して摩擦される
ことによりウエハ５９の研磨を行う。この研磨の際、プ
ラテン４１には研磨圧のみがかかり、プラテン４１から
ヘッドハウジング６１に働く、研磨圧の反力をウエイト
６２で対抗して、剛性を高めることで、プラテン４１の
面振れ等の影響が受けにくくなり、結果的に、ヘッドハ
ウジング６１の振動やばたつきが低減される。非研磨時
には、リンク機構４５ｂのクラッチ（不図示）を繋ぎ、
ウエハ研磨ヘッド４０を上昇させる。

【００２７】本実施例では、流体圧により研磨圧を設定
および調整するものであるので、研磨圧を変更する際に
は、ウエイトの交換が不要であり、研磨圧の微調整も可
能である。また、研磨ヘッドがヘッド支持アームに支持
されていうので、研磨ヘッドを研磨布の全範囲で移動さ
せるためや、水平方向の動きを規制するために、必ずし
もヘッドハウジングを外側から複数のガイドローラで支
持する必要がないので、構成が複雑化せず、結果的に、
装置コストが嵩まない。

【００２８】

【発明の効果】本発明は、以上説明したとおりに構成さ
れているので、以下に記載するような効果を奏する。請
求項１に記載の発明は、プラテンからヘッドハウジング
に働く、研磨圧の反力にウエイトで対抗することによ
り、ヘッド支持アームの負担を軽減し、また、プラテン
の面振れ等による横荷重やウエハの厚さの不揃い等に起
因する、ヘッドハウジングの振動やばたつきを低減でき
る。また、流体圧により研磨圧を設定および調整するも
のなので、研磨圧を変更する際には、ウエイトの交換が
不要であり、研磨圧の微調整も可能である。さらに、研
磨ヘッドを研磨布の全範囲で移動させるためや、水平方
向の動きを規制するために、ヘッドハウジングを外側か
ら複数のガイドローラで支持する必要がなく、構成が複
雑化せず、コストが嵩まない。請求項２に記載の発明
は、結果的に、高精度な鏡面研磨を行える、装置コスト
の低いウエハ研磨装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のウエハ研磨装置の一実施例の概略構成
図である。

【図２】図１に示した研磨ヘッドの詳細断面図である。

【図３】図１に示した研磨ヘッド部の概略上面図であ
る。

【図４】従来のウエハ研磨装置の概略構成図である。

【図５】図４に示した研磨ヘッドの詳細断面図である。

【図６】他の従来のウエハ研磨装置を示す図であり、
（ａ）は概略断面図、（ｂ）は上面図である。

【符号の説明】

４０ウエハ研磨ヘッド４１プラテン（研磨盤）４１ａプラテン台４２ヘッド支持アーム４２ａ基部４２ｂヘッド支持部４３ローラ支持アーム４３ａ，４３ｂ湾曲分岐部４４ａ，４４ｂ，４４ｃガイドローラ４５ａエアシリンダ４５ｂリンク機構４６ヘッド上下駆動機構４７ヘッド軸体４７ａストッパ部材４８タイミングベルト４９，５０プーリ５１伝動軸５２，５３，５４プーリ５２ａ，５３ａタイミングベルト５５駆動モータ５６プラテン主軸５７装置フレーム５８ベアリング５９ウエハ６０ウエハキャリア６１ヘッドハウジング６２ウエイト６３壁部６４フランジ部６５リテーナ６６細孔６７ダイヤフラム（弾性体シー
ト）６９密閉空間部７０吸引用通路７１圧力流体供給路７２加圧プレート７３ａ，７３ｂベアリング７４ピン７５スリーブ７６スプライン７８研磨布Ａ鉛直方向Ｂ揺動方向Ｘ回転方向

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】揺動されるヘッド支持アームに取付けら
れたヘッド軸体と、該ヘッド軸体の下端部に支持された
ヘッドハウジングと、該ヘッドハウジング内に設けられ
た、被研磨物としてのウエハを吸着保持するウエハチェ
ックを取付けた加圧プレートと、該加圧プレートを前記
ヘッドハウジングに支持しかつ前記加圧プレートと前記
ヘッドハウジングとの間に密閉空間部を形成するための
弾性体シートとを有するウエハ研磨ヘッドにおいて、前記ヘッド軸体は前記ヘッド支持アームに鉛直方向に移
動自在に吊下げられ、前記ヘッドハウジングにはウエイ
トが搭載されていることを特徴とするウエハ研磨ヘッ
ド。
【請求項２】請求項１に記載のウエハ研磨ヘッドと、
一面に研磨布を有しかつ回転駆動されるプラテンとを備
え、前記密閉空間部に圧力流体を供給するとともに、前
記プラテンを回転させることにより、前記ウエハを、前
記プラテンの前記研磨布に研磨剤を供給しながら、押し
付けて鏡面研磨するウエハ研磨装置。