JPH07296357A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH07296357A JPH07296357A JP9217094A JP9217094A JPH07296357A JP H07296357 A JPH07296357 A JP H07296357A JP 9217094 A JP9217094 A JP 9217094A JP 9217094 A JP9217094 A JP 9217094A JP H07296357 A JPH07296357 A JP H07296357A
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- magnetic
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来のＣｏ系合金では困難であった高保磁力
を達成することができ、特に垂直記録方式において高密
度記録に適した新たな磁気記録媒体を提供する。 【構成】 記録層が、Ｒ（Ｒは希土類元素のうちＮｄお
よび／またはＲｒを表わす）、ＦｅおよびＢを主成分と
する合金磁性薄膜からなるものである。また必要によっ
て、Ｒ：８〜１８原子％、Ｂ：５〜１０原子％、残部：
実質的にＦｅとなる様に調整したり、Ｆｅの一部をＡｇ
で置換する。
を達成することができ、特に垂直記録方式において高密
度記録に適した新たな磁気記録媒体を提供する。 【構成】 記録層が、Ｒ（Ｒは希土類元素のうちＮｄお
よび／またはＲｒを表わす）、ＦｅおよびＢを主成分と
する合金磁性薄膜からなるものである。また必要によっ
て、Ｒ：８〜１８原子％、Ｂ：５〜１０原子％、残部：
実質的にＦｅとなる様に調整したり、Ｆｅの一部をＡｇ
で置換する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明、コンピュータやデータプ
ロセッサ等における各種磁気記録装置用として有用な合
金磁性薄膜型磁気記録媒体に関するものであり、特に垂
直磁化記録方式において高密度記録に適した磁気記録媒
体に関するものである。
ロセッサ等における各種磁気記録装置用として有用な合
金磁性薄膜型磁気記録媒体に関するものであり、特に垂
直磁化記録方式において高密度記録に適した磁気記録媒
体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】上記の様な磁気記録媒体における磁性膜
の磁化記録方式には、長手磁化と垂直磁化との２の方式
が知られている。このうち垂直磁化方式では、非浮上型
磁気ヘッドを用いることが要求されるため、信頼性の面
でまだ十分満足できないので、現在では長手磁化記録方
式の方が技術的に先行している。しかしながら、理論的
には、垂直磁化記録方式の方が、高密度になるほど自己
減磁界の発生が小さくなり、高密度記録に適していると
言われている。
の磁化記録方式には、長手磁化と垂直磁化との２の方式
が知られている。このうち垂直磁化方式では、非浮上型
磁気ヘッドを用いることが要求されるため、信頼性の面
でまだ十分満足できないので、現在では長手磁化記録方
式の方が技術的に先行している。しかしながら、理論的
には、垂直磁化記録方式の方が、高密度になるほど自己
減磁界の発生が小さくなり、高密度記録に適していると
言われている。
【０００３】長手磁化方式用の磁気記録媒体として、Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系合金、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合金、Ｃｏ
−Ｃｒ−Ｐｔ系合金等のものが知られており、垂直磁化
方式の磁気記録媒体として、Ｃｏ−Ｃｒ系合金等の強磁
性金属からなるものが知られており、これらの合金から
なる磁性層をスパッタリング等により非磁性基盤上に成
膜した金属薄膜型磁気記録媒体が広く使用されている。
ｏ−Ｎｉ−Ｃｒ系合金、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ系合金、Ｃｏ
−Ｃｒ−Ｐｔ系合金等のものが知られており、垂直磁化
方式の磁気記録媒体として、Ｃｏ−Ｃｒ系合金等の強磁
性金属からなるものが知られており、これらの合金から
なる磁性層をスパッタリング等により非磁性基盤上に成
膜した金属薄膜型磁気記録媒体が広く使用されている。
【０００４】また、長手磁化磁気記録媒体では、例えば
特開平２−１１３４１９号に示されているように、Ｃｒ
あるいはＣｒ基合金からなる下地層上に、Ｃｏ系合金磁
性層を形成することによって磁性層のＣ軸を面内方向に
配向させて、高い面内方向の保磁力が得られている。一
方垂直磁化磁気記録媒体では、Ｃｏ−Ｃｒ系合金膜が垂
直方向に強く配向するので望ましいことが知られている
（「垂直磁気記録」東北大通研シンポジウム１９８２年
３月）。
特開平２−１１３４１９号に示されているように、Ｃｒ
あるいはＣｒ基合金からなる下地層上に、Ｃｏ系合金磁
性層を形成することによって磁性層のＣ軸を面内方向に
配向させて、高い面内方向の保磁力が得られている。一
方垂直磁化磁気記録媒体では、Ｃｏ−Ｃｒ系合金膜が垂
直方向に強く配向するので望ましいことが知られている
（「垂直磁気記録」東北大通研シンポジウム１９８２年
３月）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】近年における情報量の
増加は目を見張るものがあり、こうした状況のもとでコ
ンピュータやデータプロセッサ等における高密度記録化
が急速に発展してきており、これらの磁気記録に係わる
磁気記録媒体においても、更なる高密度記録化が達成さ
れることが要求されている。磁気記録媒体の高密度記録
化を達成するには、記録層となる磁性層が薄膜で且つ高
保磁力を有することが要求される。しかしながら本発明
者らが検討したところによると、これまで提案されてき
たＣｏ系合金では、下記に示す様に保磁力に関しては限
界に近づいており、更なる高密度記録化を目指すための
材料とはなり得ないことが判明した。
増加は目を見張るものがあり、こうした状況のもとでコ
ンピュータやデータプロセッサ等における高密度記録化
が急速に発展してきており、これらの磁気記録に係わる
磁気記録媒体においても、更なる高密度記録化が達成さ
れることが要求されている。磁気記録媒体の高密度記録
化を達成するには、記録層となる磁性層が薄膜で且つ高
保磁力を有することが要求される。しかしながら本発明
者らが検討したところによると、これまで提案されてき
たＣｏ系合金では、下記に示す様に保磁力に関しては限
界に近づいており、更なる高密度記録化を目指すための
材料とはなり得ないことが判明した。
【０００６】一般に長手磁化容易なＣｏ系合金単層では
高い保磁力が得られず、Ｃｒ等の下地層を設けることに
よって磁気的分離度が向上し、面内方向の保磁力は向上
すると考えられている。しかしながら、下地層の膜厚や
作成条件等によって、Ｃｏ系合金からなる磁性層の磁気
特性が多く変化するので、下地層の制御が必要となる。
また、高密度になるほど長手磁化記録方式では自己減磁
界の発生が大きくなるので、この自己減磁界を低減する
ために、更なる薄膜化が必要となり、安定に所望の特性
を有する膜を形成することが困難になる。
高い保磁力が得られず、Ｃｒ等の下地層を設けることに
よって磁気的分離度が向上し、面内方向の保磁力は向上
すると考えられている。しかしながら、下地層の膜厚や
作成条件等によって、Ｃｏ系合金からなる磁性層の磁気
特性が多く変化するので、下地層の制御が必要となる。
また、高密度になるほど長手磁化記録方式では自己減磁
界の発生が大きくなるので、この自己減磁界を低減する
ために、更なる薄膜化が必要となり、安定に所望の特性
を有する膜を形成することが困難になる。
【０００７】一方、垂直磁化方式では、自己減磁界が小
さいため長手磁化方式に比べると記録層（磁性層）の膜
厚は大きくてよいが、更なる高密度記録化のために磁気
ヘッド記録能力が減少するので、十分な飽和記録を可能
にするにはある程度膜厚を小さくする必要がある。しか
しながら、垂直磁化容易なＣｏ−Ｃｒ系合金では、膜厚
が薄くなるにしたがって、垂直方向の結晶配向が劣化
し、保磁力は低下するという欠点がある。こうしたこと
から、高保磁力を達成することのできる新たな金属薄膜
型磁気記録媒体の開発が望まれているのが実情である。
さいため長手磁化方式に比べると記録層（磁性層）の膜
厚は大きくてよいが、更なる高密度記録化のために磁気
ヘッド記録能力が減少するので、十分な飽和記録を可能
にするにはある程度膜厚を小さくする必要がある。しか
しながら、垂直磁化容易なＣｏ−Ｃｒ系合金では、膜厚
が薄くなるにしたがって、垂直方向の結晶配向が劣化
し、保磁力は低下するという欠点がある。こうしたこと
から、高保磁力を達成することのできる新たな金属薄膜
型磁気記録媒体の開発が望まれているのが実情である。
【０００８】本発明は上記の様な状況の下になされたも
のであって、その目的は、従来のＣｏ系合金では困難で
あった高保磁力を達成することができ、特に垂直記録方
式において高密度記録化に適した新たな磁気記録媒体を
提供することにある。
のであって、その目的は、従来のＣｏ系合金では困難で
あった高保磁力を達成することができ、特に垂直記録方
式において高密度記録化に適した新たな磁気記録媒体を
提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成し得た本
発明とは、記録層が、Ｒ（Ｒは希土類元素のうちＮｄお
よび／またはＰｒを表わす）、ＦｅおよびＢを主成分と
する合金磁性薄膜からなるものである点に要旨を有する
磁気記録媒体である。本発明の磁気記録媒体は、Ｒ：８
〜１８原子％、Ｂ：５〜１０原子％、残部：実質的にＦ
ｅからなる化学成分組成のものが好ましく、またＦｅの
一部を１．５原子％以下までの範囲でＡｇで置換するこ
とも有効である。更に、本発明の磁気記録媒体におい
て、その性能を最大限に発揮させるためには、その膜厚
は０．０５〜０．５μｍ程度が適当である。
発明とは、記録層が、Ｒ（Ｒは希土類元素のうちＮｄお
よび／またはＰｒを表わす）、ＦｅおよびＢを主成分と
する合金磁性薄膜からなるものである点に要旨を有する
磁気記録媒体である。本発明の磁気記録媒体は、Ｒ：８
〜１８原子％、Ｂ：５〜１０原子％、残部：実質的にＦ
ｅからなる化学成分組成のものが好ましく、またＦｅの
一部を１．５原子％以下までの範囲でＡｇで置換するこ
とも有効である。更に、本発明の磁気記録媒体におい
て、その性能を最大限に発揮させるためには、その膜厚
は０．０５〜０．５μｍ程度が適当である。
【００１０】
【作用】本発明者らは、薄膜でしかも高保磁力を達成す
ることのできる磁気記録媒体を実現すべく、特にその化
学成分組成と磁気特性の関係について検討を重ねた。そ
の結果、上記した様なＲ−Ｆｅ−Ｂ系合金を記録層とし
て用いれば、薄膜であっても従来のＣｏ−Ｃｒ系合金垂
直磁化膜では実現できない程の高い保磁力が得られ、こ
の様なＲ−Ｆｅ−Ｂ系合金は近年の高密度記録化の要求
に十分応えることのできる磁気記録媒体となり得ること
を見出し、本発明を完成した。
ることのできる磁気記録媒体を実現すべく、特にその化
学成分組成と磁気特性の関係について検討を重ねた。そ
の結果、上記した様なＲ−Ｆｅ−Ｂ系合金を記録層とし
て用いれば、薄膜であっても従来のＣｏ−Ｃｒ系合金垂
直磁化膜では実現できない程の高い保磁力が得られ、こ
の様なＲ−Ｆｅ−Ｂ系合金は近年の高密度記録化の要求
に十分応えることのできる磁気記録媒体となり得ること
を見出し、本発明を完成した。
【００１１】本発明によって上記の様な効果が得られた
理由については、そのすべてを解明し得た訳ではない
が、おそらく次の様に考えることができる。即ち、上記
の様なＲ−Ｒｅ−Ｂ系合金では、高保磁力相であるＲ2
−Ｆｅ14−Ｂ（原子化、例えばＰｒ2 Ｆｅ14Ｂ）が主相
となって析出し、そのＣ軸が膜厚方向に配向して膜厚方
向の異方性（垂直異方性）が大きくなり、しかもα−Ｆ
ｅ相やＦｅ3 Ｂ化合物相或は他の低保磁力相が多少存在
しても保磁力の低下が起こらず、垂直方向の高い保磁力
が得られるものと考えられる。
理由については、そのすべてを解明し得た訳ではない
が、おそらく次の様に考えることができる。即ち、上記
の様なＲ−Ｒｅ−Ｂ系合金では、高保磁力相であるＲ2
−Ｆｅ14−Ｂ（原子化、例えばＰｒ2 Ｆｅ14Ｂ）が主相
となって析出し、そのＣ軸が膜厚方向に配向して膜厚方
向の異方性（垂直異方性）が大きくなり、しかもα−Ｆ
ｅ相やＦｅ3 Ｂ化合物相或は他の低保磁力相が多少存在
しても保磁力の低下が起こらず、垂直方向の高い保磁力
が得られるものと考えられる。
【００１２】次に、本発明のＲ−Ｆｅ−Ｂ系磁気記録媒
体を構成する合金組成について説明する。まずＲとして
は、希土類元素のうちＮｄおよび／Ｐｒとする必要があ
る。即ち、最も高い磁気特性が得られるのは、ＰｒとＮ
ｄであるので、ＲとしてはＰｒおよび／またはＮｄであ
ることが必要であり、他の希土類元素を含んでいると、
希望する磁気特性が得られない。
体を構成する合金組成について説明する。まずＲとして
は、希土類元素のうちＮｄおよび／Ｐｒとする必要があ
る。即ち、最も高い磁気特性が得られるのは、ＰｒとＮ
ｄであるので、ＲとしてはＰｒおよび／またはＮｄであ
ることが必要であり、他の希土類元素を含んでいると、
希望する磁気特性が得られない。
【００１３】また、Ｒが少な過ぎると主相である前記Ｒ
2 −Ｆ14−Ｂが形成されにくくなり、磁気記録媒体の高
性能化は達成されない。こうした観点からして、Ｒの割
合は８原子％以上とするのが好ましい。一方上限につい
ては、１８原子％を超えると、非磁性相であるＲリッチ
相の過剰を招きこれが磁束密度（Ｂｒ）の低下等となっ
て現われ、良好な磁気特性を発揮することはできない。
尚Ｒのより好ましい組成割合は、１２〜１５原子％の範
囲である。
2 −Ｆ14−Ｂが形成されにくくなり、磁気記録媒体の高
性能化は達成されない。こうした観点からして、Ｒの割
合は８原子％以上とするのが好ましい。一方上限につい
ては、１８原子％を超えると、非磁性相であるＲリッチ
相の過剰を招きこれが磁束密度（Ｂｒ）の低下等となっ
て現われ、良好な磁気特性を発揮することはできない。
尚Ｒのより好ましい組成割合は、１２〜１５原子％の範
囲である。
【００１４】一方、Ｂは５〜１０原子％とするのが好ま
しく、５原子％未満では主相体積率の不足が生じ、磁束
密度（Ｂｒ）の低下を招く。他方上限については、磁気
特性を有しないＲＦｅ4 Ｂ4 相の出現による保磁力の低
下を防止するという観点から１０原子％以下とするのが
好ましい。尚Ｂのより好ましい範囲は、７〜９原子％程
度である。
しく、５原子％未満では主相体積率の不足が生じ、磁束
密度（Ｂｒ）の低下を招く。他方上限については、磁気
特性を有しないＲＦｅ4 Ｂ4 相の出現による保磁力の低
下を防止するという観点から１０原子％以下とするのが
好ましい。尚Ｂのより好ましい範囲は、７〜９原子％程
度である。
【００１５】本発明のＲ−Ｆｅ−Ｂ系磁気記録媒体にお
いて、上記ＲとＢ以外は実質的にＦｅ（即ち、Ｆｅおよ
び不可避不純物）であるが、Ｆｅの一部をＡｇで置換す
ることも有効である。即ち、Ａｇを添加すると粒子間の
磁気的孤立度が向上し、保磁力が増大する。但し、Ａｇ
の添加量を余り多くすると非磁性の粒界相が増加し、保
磁力および飽和磁束密度（Ｂｓ）が却って低下するの
で、１．５原子％以下とすべきである。尚Ａｇの添加量
のより好ましい範囲は１原子％以下である。
いて、上記ＲとＢ以外は実質的にＦｅ（即ち、Ｆｅおよ
び不可避不純物）であるが、Ｆｅの一部をＡｇで置換す
ることも有効である。即ち、Ａｇを添加すると粒子間の
磁気的孤立度が向上し、保磁力が増大する。但し、Ａｇ
の添加量を余り多くすると非磁性の粒界相が増加し、保
磁力および飽和磁束密度（Ｂｓ）が却って低下するの
で、１．５原子％以下とすべきである。尚Ａｇの添加量
のより好ましい範囲は１原子％以下である。
【００１６】また上記Ｒ−Ｆｅ−Ｂ系合金磁性薄膜の膜
厚は、０．０５〜０．５μｍ程度であることが好まし
く、この膜厚であれば上記合金の磁気記録層としての性
能を最大限に発揮することができる。尚この膜厚のより
好ましい範囲は、０．１〜０．２μｍ程度である。
厚は、０．０５〜０．５μｍ程度であることが好まし
く、この膜厚であれば上記合金の磁気記録層としての性
能を最大限に発揮することができる。尚この膜厚のより
好ましい範囲は、０．１〜０．２μｍ程度である。
【００１７】本発明に係るＲ−Ｆｅ−Ｂ系合金磁性薄膜
を製造する方法としては、基本的にスパッタリング法に
よって前記した様な合金組成の磁気的主相を形成する様
にすれば良いが、上記の様な磁気的主相を形成すること
ができれば、真空蒸着法やＣＶＤ法等も採用することも
できる。また製造する際の条件については特に限定する
ものではないが、良好な磁気的主相を形成するために
は、特に製造時の基板温度を５００〜７００℃程度とす
るのが好ましい。即ち、このときの基板温度が５００℃
未満では、膜がアモルファス状態になって高い保磁力が
得られにくく、７００℃を超えるとＲ2 Ｆｅ14Ｂ以外の
相（例えばα−Ｆｅ相等）が生成して、飽和磁束密度
（ＢS ）化が減少することになる。尚上記Ｒ−Ｆｅ−Ｂ
系合金磁性薄膜は、基板上に形成されるものであるが、
この基板の種類については時に限定されるものではな
く、例えばシリコン，ガラス，アルミ，パーマロイ，ポ
リイミドの等が採用できる。
を製造する方法としては、基本的にスパッタリング法に
よって前記した様な合金組成の磁気的主相を形成する様
にすれば良いが、上記の様な磁気的主相を形成すること
ができれば、真空蒸着法やＣＶＤ法等も採用することも
できる。また製造する際の条件については特に限定する
ものではないが、良好な磁気的主相を形成するために
は、特に製造時の基板温度を５００〜７００℃程度とす
るのが好ましい。即ち、このときの基板温度が５００℃
未満では、膜がアモルファス状態になって高い保磁力が
得られにくく、７００℃を超えるとＲ2 Ｆｅ14Ｂ以外の
相（例えばα−Ｆｅ相等）が生成して、飽和磁束密度
（ＢS ）化が減少することになる。尚上記Ｒ−Ｆｅ−Ｂ
系合金磁性薄膜は、基板上に形成されるものであるが、
この基板の種類については時に限定されるものではな
く、例えばシリコン，ガラス，アルミ，パーマロイ，ポ
リイミドの等が採用できる。
【００１８】以下本発明を実施例によって更に詳細に説
明するが、下記実施例は本発明を限定する性質のもので
はなく、前・後記の趣旨に徴して設計変更することはい
ずれも本発明の技術的範囲に含まれるものである。
明するが、下記実施例は本発明を限定する性質のもので
はなく、前・後記の趣旨に徴して設計変更することはい
ずれも本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【００１９】
実施例１ 組成割合を変えた合金ターゲットを使用して、高周波ス
パッタリング法により様々な組成割合のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ
系合金磁性薄膜をシリコン基板上に作成した。このとき
の基板温度は６５０℃とした。また薄膜の膜厚は０．２
μｍであった。得られた合金磁性薄膜について、各々振
動試料型磁力計（ＶＳＭ）によって、保磁力Ｈｃ（ｋＯ
ｅ）を測定した。図１には、Ｎｄ、ＢおよびＦｅを基本
組成とする合金磁性薄膜のＨｃの値が従来のＣｏ−Ｃｒ
合金薄膜で得られる最大値である２．０ｋＯｅ（後記比
較例１）を超える組成範囲を斜線で示したものである。
尚図１に示したグラフは、それぞれの組成において、最
大保磁力が得られた成膜条件での値であることを示して
いる。
パッタリング法により様々な組成割合のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ
系合金磁性薄膜をシリコン基板上に作成した。このとき
の基板温度は６５０℃とした。また薄膜の膜厚は０．２
μｍであった。得られた合金磁性薄膜について、各々振
動試料型磁力計（ＶＳＭ）によって、保磁力Ｈｃ（ｋＯ
ｅ）を測定した。図１には、Ｎｄ、ＢおよびＦｅを基本
組成とする合金磁性薄膜のＨｃの値が従来のＣｏ−Ｃｒ
合金薄膜で得られる最大値である２．０ｋＯｅ（後記比
較例１）を超える組成範囲を斜線で示したものである。
尚図１に示したグラフは、それぞれの組成において、最
大保磁力が得られた成膜条件での値であることを示して
いる。
【００２０】実施例２ 組成割合を変えた合金ターゲットを使用して、高周波ス
パッタリング法により様々な組成割合のＰｒ−Ｆｅ−Ｂ
系合金磁性薄膜をシリコン基板上に作成した。このとき
の基板温度は６５０℃とした。また薄膜の膜厚は０．２
μｍであった。得られた合金磁性薄膜について、各々Ｖ
ＳＭによって、Ｈｃを測定した。図２には、Ｐｒ、Ｂお
よびＦｅを基本組成とする合金磁性薄膜のＨｃの値が，
前記２．０ｋＯｅを超える組成範囲を斜線で示したもの
である。尚図２に示したグラフはそれぞれの組成におい
て、最大保磁力が得られた成膜条件での値であることを
示している。
パッタリング法により様々な組成割合のＰｒ−Ｆｅ−Ｂ
系合金磁性薄膜をシリコン基板上に作成した。このとき
の基板温度は６５０℃とした。また薄膜の膜厚は０．２
μｍであった。得られた合金磁性薄膜について、各々Ｖ
ＳＭによって、Ｈｃを測定した。図２には、Ｐｒ、Ｂお
よびＦｅを基本組成とする合金磁性薄膜のＨｃの値が，
前記２．０ｋＯｅを超える組成範囲を斜線で示したもの
である。尚図２に示したグラフはそれぞれの組成におい
て、最大保磁力が得られた成膜条件での値であることを
示している。
【００２１】実施例３ ＮｄとＢの組成を一定にして、残部のＦｅとＡｇの組成
を変化させて成膜した。図３は、Ｎｄ12−Ｆｅ83-x−Ｂ
5 −Ａｇx 膜のＡｇ添加量による磁気特性（Ｈｃ，Ｂ
ｓ）の変化を示すグラフである。尚図３の結果は、それ
ぞれの組成において、最大保磁力が得られた成膜条件で
の値である。この結果から明らかな様に、Ｎｄ−Ｆｅ−
Ｂ系合金において１．５原子％以下のＡｇの添加はＨｃ
の向上に有効であることがわかる。
を変化させて成膜した。図３は、Ｎｄ12−Ｆｅ83-x−Ｂ
5 −Ａｇx 膜のＡｇ添加量による磁気特性（Ｈｃ，Ｂ
ｓ）の変化を示すグラフである。尚図３の結果は、それ
ぞれの組成において、最大保磁力が得られた成膜条件で
の値である。この結果から明らかな様に、Ｎｄ−Ｆｅ−
Ｂ系合金において１．５原子％以下のＡｇの添加はＨｃ
の向上に有効であることがわかる。
【００２２】実施例４ ＰｒとＢの組成を一定にして、残部のＦｅとＡｇの組成
を変化させて成膜した。図４は、Ｐｒ12−Ｆｅ83-x−Ｂ
5 −Ａｇx 膜のＡｇ添加量による磁気特性（Ｈｃ，Ｂ
ｓ）の変化を示すグラフである。尚図４の結果は、それ
ぞれの組成において、最大保磁力が得られた成膜条件で
の値である。この結果から明らかな様に、Ｐｒ−Ｆｅ−
Ｂ系においても１．５原子％以下のＡｇの添加はＨｃの
向上に有効であることがわかる。
を変化させて成膜した。図４は、Ｐｒ12−Ｆｅ83-x−Ｂ
5 −Ａｇx 膜のＡｇ添加量による磁気特性（Ｈｃ，Ｂ
ｓ）の変化を示すグラフである。尚図４の結果は、それ
ぞれの組成において、最大保磁力が得られた成膜条件で
の値である。この結果から明らかな様に、Ｐｒ−Ｆｅ−
Ｂ系においても１．５原子％以下のＡｇの添加はＨｃの
向上に有効であることがわかる。
【００２３】比較例１ Ｃｏ−２０原子％Ｃｒの合金ターゲットを使用して、ス
パッタリング法により薄膜を作成した。このときの薄膜
の膜厚は、０．２μｍであった。得られた磁気記録媒体
について、ＶＳＭによって、Ｈｃを測定したところ、最
大で２．０ｋＯｅしか得られなかった。
パッタリング法により薄膜を作成した。このときの薄膜
の膜厚は、０．２μｍであった。得られた磁気記録媒体
について、ＶＳＭによって、Ｈｃを測定したところ、最
大で２．０ｋＯｅしか得られなかった。
【００２４】
【発明の効果】本発明は以上の様に構成されており、薄
膜であってしかも良好な磁気特性を発揮することのでき
る磁気記録媒体が実現できた。
膜であってしかも良好な磁気特性を発揮することのでき
る磁気記録媒体が実現できた。
【図１】本発明のＮｄ−Ｆｅ−Ｂ系合金磁性薄膜のＨｃ
が２．０ｋＯｅを超える組成範囲を示したグラフであ
る。
が２．０ｋＯｅを超える組成範囲を示したグラフであ
る。
【図２】本発明のＰｒ−Ｆｅ−Ｂ系合金磁性薄膜のＨｃ
が２．０ｋＯｅを超える組成範囲を示したグラフであ
る。
が２．０ｋＯｅを超える組成範囲を示したグラフであ
る。
【図３】本発明のＮｄ12−Ｆｅ83-x−Ｂ5 −Ａｇx 合金
磁性薄膜のＡｇの添加量による磁気特性の変化を示した
グラフである。
磁性薄膜のＡｇの添加量による磁気特性の変化を示した
グラフである。
【図４】本発明のＰｒ12−Ｆｅ83-x−Ｂ5 −Ａｇx 合金
磁性薄膜のＡｇの添加量による磁気特性の変化を示した
グラフである。
磁性薄膜のＡｇの添加量による磁気特性の変化を示した
グラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉川 一男 兵庫県神戸市西区高塚台１丁目５番５号 株式会社神戸製鋼所神戸総合技術研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】 記録層が、Ｒ（Ｒは希土類元素のうちＮ
ｄおよび／またはＰｒを表わす）、ＦｅおよびＢを主成
分とする合金磁性薄膜からなるものであることを特徴と
する磁気記録媒体。 - 【請求項２】 Ｒ：８〜１８原子％、Ｂ：５〜１０原子
％、残部：実質的にＦｅからなるものである請求項１に
記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 Ｆｅの一部を１．５原子％以下のＡｇで
置換したものである請求項２に記載の磁気記録媒体。 - 【請求項４】 膜厚が０．０５〜０．５μｍである請求
項１〜３のいずれかに記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9217094A JPH07296357A (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9217094A JPH07296357A (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07296357A true JPH07296357A (ja) | 1995-11-10 |
Family
ID=14046964
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9217094A Withdrawn JPH07296357A (ja) | 1994-04-28 | 1994-04-28 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07296357A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002039433A1 (fr) * | 2000-11-09 | 2002-05-16 | Hitachi Maxell, Ltd. | Support d'enregistrement magnetique et appareil d'enregistrement magnetique |
-
1994
- 1994-04-28 JP JP9217094A patent/JPH07296357A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002039433A1 (fr) * | 2000-11-09 | 2002-05-16 | Hitachi Maxell, Ltd. | Support d'enregistrement magnetique et appareil d'enregistrement magnetique |
| US6846583B2 (en) | 2000-11-09 | 2005-01-25 | Hitachi Maxell, Ltd. | Magnetic recording medium and magnetic recording apparatus |
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