JPH0729497A - 面放電型プラズマディスプレイパネル - Google Patents

面放電型プラズマディスプレイパネル

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JPH0729497A
JPH0729497A JP17288093A JP17288093A JPH0729497A JP H0729497 A JPH0729497 A JP H0729497A JP 17288093 A JP17288093 A JP 17288093A JP 17288093 A JP17288093 A JP 17288093A JP H0729497 A JPH0729497 A JP H0729497A
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裕之 中原
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達利 金江
Tetsuyoshi Tomioka
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Abstract

(57)【要約】 【目的】マトリクス表示方式の面放電型PDP及びその
製造方法に関し、放電の干渉を防止し、表示の安定化を
図ることを目的とする。 【構成】表示面H側の基板11上に、透明導電膜41と
それに重なる金属層42とからなる面放電用の表示電極
X,Yと、誘電体層17とを有し、背面側の基板21上
に放電空間30を単位発光領域毎に区画するストライプ
状の隔壁29を有した面放電型プラズマディスプレイパ
ネル1において、金属層42上の誘電体層17の表面が
他の部分に対して突出しており、その突出部分17Bと
隔壁29とが当接するように構成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、マトリクス表示方式の
面放電型のプラズマディスプレイパネル(PDP)、及
びその製造方法に関する。
【0002】面放電型PDPは、蛍光体によるカラー表
示に適しており、OA機器及び公報表示装置などのその
用途が拡大され且つ浸透し始めている。これにともなっ
て、表示の安定化の要求が強まっている。
【0003】
【従来の技術】図4は一般的な面放電型PDP10の分
解斜視図であり、1つの画素EGに対応する部分の基本
的な構造を示している。
【0004】PDP10は、蛍光体の配置形態による分
類の上で反射型と呼称される3電極構造のPDPであ
り、表示面H側のガラス基板11、表示のライン方向に
延びた面放電用の一対の表示電極X,Y、AC駆動のた
めの誘電体層17、MgOからなる保護膜18、背面側
のガラス基板21、ライン方向に等間隔に並ぶストライ
プ状の隔壁29、単位発光領域EUを選択的に発光させ
るためのアドレス電極A、及びフルカラー表示のための
3原色の蛍光体28R,28G,28Bなどから構成さ
れている。
【0005】表示の各画素(ドット)EGは、ライン方
向に並ぶ同一面積の3つの単位発光領域EUから構成さ
れ、単位発光領域EUの平面形状は縦方向に長い長方形
(例えば660μm×220μm程度の大きさ)とされ
ている。
【0006】内部の放電空間30は、隔壁29によっ
て、ライン方向に単位発光領域EU毎に区画され且つそ
の間隙寸法が規定されている。この放電空間30には適
当な放電ガスが封入されている。
【0007】表示電極X,Yは、蛍光体28R,28
G,28Bに対して表示面H側に配置されることから、
面放電を広範囲とし且つ表示光の遮光を最小限とするた
め、150μm程度の幅を有した帯状の透明導電体41
と、その導電性を補う60μm程度の幅を有した金属層
42とから構成されている。透明導電体41はネサ膜
(酸化錫膜)からなり、金属層42は例えばクロム−銅
−クロムの三層構造の薄膜からなる。通常、透明導電体
41及び金属層42は、それぞれフォトリソグラフィ法
によって形成され、これらを合わせた厚さは1.5μm
程度である。
【0008】表示電極X,Yに対して所定の電圧を印加
すると、誘電体層17の表面方向の放電(面放電)が生
じ、放電ガスの放つ紫外線によって蛍光体28R,28
G,28Bが励起されて発光する。
【0009】図5及び図6は従来のPDP1jの要部を
拡大して示す断面図である。これらの図において、図3
に対応する構成要素には同一の符号を付してある。した
がって、ここではPDP1jの各部の説明を省略する。
【0010】PDP1jは、各ガラス基板11,21に
ついて別個に所定の構成要素を設けた後、隔壁29と誘
電体層17とが当接するようにガラス基板11,21を
対向配置し、予め一方の基板の周囲に塗布した封止ガラ
スを焼成して放電空間を封止するといった一連の工程を
経て製造される。なお、誘電体層17の表面には保護膜
18(図3参照)が設けられるが、その厚さは5000
Å程度であるので、保護膜18は隔壁29との当接時に
局所的に破れ、実質的には隔壁29と誘電体層17とが
当接する形となる。
【0011】このような製造過程において、隔壁29は
低融点ガラスペーストの焼成によって形成される。すな
わち、帯状の開口パターンを有したスクリーンマスクを
用いて、焼成時の型崩れを防止するために無機フィラー
を多めに混合した低融点ガラスペーストが、アドレス電
極Aを設けたガラス基板21上に数回重ねて塗布され
る。そして、500〜600℃程度の温度の熱処理が行
われ、所定の高さの隔壁29が形成される。
【0012】隔壁29の配列ピッチ、すなわちライン方
向の単位発光領域のピッチが220μm程度である場合
には、隔壁29の高さは130μm程度とされる。通
常、アドレス電極Aと蛍光体とを合わせた厚さは30μ
m程度であるので、この場合には、各単位発光領域の放
電空間の間隙寸法は100μm程度となる。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】上述したように隔壁2
9は厚膜法によって形成されるので、ペーストの塗布ム
ラや焼成時のいわゆるダレなどに起因して、各隔壁29
においてその延長方向に高さのバラツキが生じる。つま
り、図5によく示されるように、隔壁29の頂上部(稜
線)は平坦ではなく、隔壁29と誘電体層17との間に
は大小の空隙が生じる。
【0014】このため、従来では、特に金属層42の上
方に表裏方向の寸法が数μm以上の空隙50が生じた場
合に、図6によく示されるように放電が不要に拡がり、
隣接する単位発光領域間で放電の干渉が起こるという問
題があった。
【0015】放電の干渉が起こると、点灯(発光)すべ
きドットが非点灯となったり、逆に非点灯となるべきド
ットが点灯し、表示が乱れてしまう。なお、放電空間の
間隙寸法が100μm程度である場合には、金属層42
以外の部分においては、空隙50が10μmを越える大
きなものでない限り放電の干渉はほとんど起こらない。
【0016】本発明は、上述の問題に鑑み、放電の干渉
を防止し、表示の安定化を図ることを目的としている。
【0017】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明に係るP
DPは、上述の課題を解決するため、図1に示すよう
に、表示面H側の基板11上に、透明導電膜41とそれ
に重なる金属層42とからなる面放電用の表示電極X,
Yと、前記表示電極X,Yを被覆する誘電体層17とを
有し、背面側の基板21上に放電空間30を単位発光領
域毎に区画するストライプ状の隔壁29を有した面放電
型プラズマディスプレイパネル1において、前記金属層
42上の前記誘電体層17の表面が他の部分に対して突
出しており、その突出部分17Bと前記隔壁29とが当
接してなる。
【0018】請求項2の発明に係る方法は、前記表示電
極X,Yを含めて前記基板11を一様に被覆する表面が
平坦な第1の低融点ガラス層17Aを設けた後、前記第
1の低融点ガラス層17Aに重ねて前記金属層42上に
第2の低融点ガラス層17Bを設けることによって、前
記誘電体層17を形成するものである。
【0019】請求項3の発明に係る方法は、前記第1の
低融点ガラス層17A上に、低融点ガラスを含有した感
光性樹脂170を一様に塗布し、前記金属層42を露光
マスクとして前記感光性樹脂170のパターン露光を行
い、現像処理の後に残った前記感光性樹脂170aを焼
成することによって、前記第2の低融点ガラス層17B
を形成するものである。
【0020】請求項4の発明に係る方法は、厚膜法によ
って前記誘電体層17の表面を部分的に突出させるに十
分な厚さの前記金属層42を形成し、その後に前記基板
11を被覆する一様な厚さの低融点ガラス層を設けるこ
とにより、前記誘電体層17を形成するものである。
【0021】
【作用】誘電体層17の表面の部分的な突出により、誘
電体層17の表面が平坦である場合と比べて、誘電体層
17と隔壁29との接触面積が減少することから、当接
によって隔壁29の頂上部及び誘電体層17の突出部分
の一方又は両方が変形する。
【0022】したがって、誘電体層17の突出部分以外
の部分と隔壁29との間隙寸法は、当接前における誘電
体層17の表面の高低差よりも小さくなる。そして、放
電の干渉の起こり易い金属層42の上方において、偶然
に隔壁29の高さが他の部分に比べて低く、誘電体層1
7と隔壁29との間に空隙が生じたとしても、その空隙
は誘電体層17の突出部分が入り込むことによって小さ
くなる。
【0023】
【実施例】図1及び図2は本発明に係るPDP1の要部
を拡大して示す断面図である。これらの図において、P
DP1は、3電極構造を有した反射型のPDPであり、
表示面H側のガラス基板11、透明導電膜41とそれに
重なる金属層42とからなる面放電用の表示電極X,
Y、表示電極X,Yを被覆する誘電体層17、背面側の
ガラス基板21、内部の放電空間30をライン方向に単
位発光領域毎に区画するストライプ状の隔壁29、蛍光
体28R,28G,28B、及び図示しない保護膜など
から構成されている。
【0024】ライン方向の単位発光領域のピッチは22
0μmであり、各単位発光領域における放電空間30の
間隙寸法は100μm程度である。また、透明導電膜4
1の幅は150μmであり、金属層(バス電極)42の
幅は60μmである。
【0025】PDP1において、誘電体層17は、表示
電極X,Yを含めてガラス基板11の内面を一様に被覆
する30μm程度の厚さの低融点ガラス層17Aと、金
属層42に対応づけて設けられた5〜10μm程度の厚
さのストライプ状の低融点ガラス層17Bとから構成さ
れている。つまり、誘電体層17は、金属層42の上方
の表面が他の部分に対して5〜10μm程度だけ突出す
るように形成されている。
【0026】図3(a)〜(c)はPDP1の各製造段
階を示す断面図である。PDP1の製造に際しては、ガ
ラス基板11上に、まず、表示電極X,Yを設け、続け
て表示電極X,Yを含めてガラス基板11を一様に被覆
する表面が平坦な第1の低融点ガラス層17Aを設け
る。
【0027】次に、低融点ガラス層17A上に、低融点
ガラス粉末を含有したポジ型の感光性樹脂170を一様
に塗布し、2mm又は3mm程度の厚さを有したガラス
基板11の裏面側からいわゆる全面露光の形で感光性樹
脂170に対して紫外線を照射する〔図3(a)〕。こ
のとき、金属層42により紫外線が遮られ、感光性樹脂
170の内で金属層42の上方の部分が非露光部分とな
り、この部分では非可溶状態(現像により除去されない
状態)が保たれる。
【0028】そして、現像処理を行い〔図3(b)〕、
残った感光性樹脂170aを500〜560℃程度の温
度で焼成する。これにより、樹脂成分が消失して第2の
低融点ガラス層17Bが形成される〔図3(c)〕。
【0029】その後、低融点ガラス層17A,17Bの
表面にMgOを蒸着して保護膜を設け、ガラス基板11
と別途に隔壁29などを設けたガラス基板21とを重ね
合わせ、適当な当接力を加えながら封止ガラスを焼成し
てガラス基板11,21の周囲を封止し、放電ガスを封
入して組み立てを終える。
【0030】PDP1においては、封止に際して、誘電
体層17の突出部分、すなわち低融点ガラス層17Bと
隔壁29とが当接して放電空間30の間隙寸法が規定さ
れる。そのとき、誘電体層17と隔壁29との接触面積
が小さいことから、例えば隔壁29の頂上部が変形し、
図1によく示されるように低融点ガラス層17Bが隔壁
29に埋まり込む。
【0031】したがって、誘電体層17と隔壁29との
間隙寸法は、低融点ガラス層17Bの厚さよりも小さく
なる。そして、放電の干渉の起こり易い金属層42の上
方においては、偶然に隔壁29の高さが他の部分に比べ
て低く、誘電体層17と隔壁29との間に空隙50が生
じるような場合であっても、図1と図5との比較から明
らかなように、その空隙50に低融点ガラス層17Bが
挿入されて空隙50が小さくなり、放電の干渉が防止さ
れる。
【0032】なお、低融点ガラス層17Bの厚さを必要
以上に大きくすると、たとえ隔壁29の頂上部が平坦で
あっても、低融点ガラス層17Aと隔壁29との間隙寸
法が大きくなり、透明導電膜41の上部などにおいて放
電の干渉が起こるおそれがある。そのため、放電空間3
0の間隙寸法が100μm程度である場合には、低融点
ガラス層17Bの厚さ(誘電体層17の表面の高低差)
を10μm以下とするのが望ましい。
【0033】また、金属層42上の誘電体層17の表面
を他の部分に対して突出させる方法としては、上述のよ
うに誘電体層17を2つの層に分けて形成する方法の他
に、例えばAg又はNiを主成分とする導電ペーストを
用いる厚膜法によって金属層42を10μm程度の厚さ
に形成し、その後に低融点ガラスペーストを塗布面の起
伏を踏襲するように一様な厚さに塗布して焼成する方法
がある。
【0034】上述の実施例によれば、誘電体層17の突
出部分と金属層42とがセルフアライメントとなるの
で、放電の干渉を確実に抑えることができる。上述の実
施例において、各部の寸法は、表示面の大きさや解像度
に応じて適宜選定することができる。
【0035】
【発明の効果】本発明によれば、放電空間を区画する隔
壁の高さのバラツキに起因する単位発光領域間の放電の
干渉を抑えることができ、表示の安定化を図ることがで
きる。
【0036】請求項3及び請求項4の発明によれば、誘
電体層の突出部分の位置精度を高めることができ、より
表示の安定したプラズマディスプレイパネルを製造する
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るPDPの要部を拡大して示す断面
図である。
【図2】本発明に係るPDPの要部を拡大して示す断面
図である。
【図3】図1及び図2のPDPの各製造段階を示す断面
図である。
【図4】一般的な面放電型PDPの基本的な構造を示す
分解斜視図である。
【図5】従来のPDPの要部を拡大して示す断面図であ
る。
【図6】従来のPDPの要部を拡大して示す断面図であ
る。
【符号の説明】
1 PDP(面放電型プラズマディスプレイパネル) 11 ガラス基板(基板) 17 誘電体層 17A 第1の低融点ガラス層(突出部分) 17B 第2の低融点ガラス層 21 ガラス基板(基板) 29 隔壁 30 放電空間 41 透明導電膜 42 金属層 170 感光性樹脂 170a 感光性樹脂 H 表示面 X,Y 表示電極
フロントページの続き (72)発明者 富岡 哲好 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】表示面(H)側の基板(11)上に、透明
    導電膜(41)とそれに重なる金属層(42)とからな
    る面放電用の表示電極(X)(Y)と、前記表示電極
    (X)(Y)を被覆する誘電体層(17)とを有し、背
    面側の基板(21)上に放電空間(30)を単位発光領
    域毎に区画するストライプ状の隔壁(29)を有した面
    放電型プラズマディスプレイパネル(1)において、 前記金属層(42)上の前記誘電体層(17)の表面が
    他の部分に対して突出しており、その突出部分(17
    B)と前記隔壁(29)とが当接してなることを特徴と
    する面放電型プラズマディスプレイパネル。
  2. 【請求項2】請求項1記載の面放電型プラズマディスプ
    レイパネル(1)の製造方法であって、 前記表示電極(X)(Y)を含めて前記基板(11)を
    一様に被覆する表面が平坦な第1の低融点ガラス層(1
    7A)を設けた後、前記第1の低融点ガラス層(17
    A)に重ねて前記金属層(42)上に第2の低融点ガラ
    ス層(17B)を設けることによって、前記誘電体層
    (17)を形成することを特徴とする面放電型プラズマ
    ディスプレイパネルの製造方法。
  3. 【請求項3】請求項2記載の面放電型プラズマディスプ
    レイパネル(1)の製造方法であって、 前記第1の低融点ガラス層(17A)上に、低融点ガラ
    スを含有した感光性樹脂(170)を一様に塗布し、前
    記金属層(42)を露光マスクとして前記感光性樹脂
    (170)のパターン露光を行い、現像処理の後に残っ
    た前記感光性樹脂(170a)を焼成することによっ
    て、前記第2の低融点ガラス層(17B)を形成するこ
    とを特徴とする面放電型プラズマディスプレイパネルの
    製造方法。
  4. 【請求項4】請求項1記載の面放電型プラズマディスプ
    レイパネル(1)の製造方法であって、 厚膜法によって前記誘電体層(17)の表面を部分的に
    突出させるに十分な厚さの前記金属層(42)を形成
    し、その後に前記基板(11)を被覆する一様な厚さの
    低融点ガラス層を設けることにより、前記誘電体層(1
    7)を形成することを特徴とする面放電型プラズマディ
    スプレイパネルの製造方法。
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