JPH07273079A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPH07273079A JPH07273079A JP5882094A JP5882094A JPH07273079A JP H07273079 A JPH07273079 A JP H07273079A JP 5882094 A JP5882094 A JP 5882094A JP 5882094 A JP5882094 A JP 5882094A JP H07273079 A JPH07273079 A JP H07273079A
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- Japan
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- cleaning
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- Prevention Of Fouling (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 従来に比べて洗浄液等の外部への漏洩を減少
させることができ、周囲の環境への影響を軽減すること
のできる洗浄装置を提供する。 【構成】 処理室１ｄの天井部には、搬送機構４の係止
部５が通過できるように、軌道２に沿った間隙部８が形
成されている。この間隙部８を閉塞するように、閉塞機
構９と、内側閉塞機構１０が設けられている。閉塞機構
９と内側閉塞機構１０との間には、排気機構に接続され
た排気配管２５が接続されており、これらの間から排気
するよう構成されている。
させることができ、周囲の環境への影響を軽減すること
のできる洗浄装置を提供する。 【構成】 処理室１ｄの天井部には、搬送機構４の係止
部５が通過できるように、軌道２に沿った間隙部８が形
成されている。この間隙部８を閉塞するように、閉塞機
構９と、内側閉塞機構１０が設けられている。閉塞機構
９と内側閉塞機構１０との間には、排気機構に接続され
た排気配管２５が接続されており、これらの間から排気
するよう構成されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から、各種物品の製造工程では、自
動的に部品等を洗浄する洗浄装置が実用化されている。
このような洗浄装置としては、部品等の洗浄、乾燥等を
行う複数の処理室を連設しておき、これらの処理室に順
次部品等を搬送して洗浄、乾燥等を行うものがある。
動的に部品等を洗浄する洗浄装置が実用化されている。
このような洗浄装置としては、部品等の洗浄、乾燥等を
行う複数の処理室を連設しておき、これらの処理室に順
次部品等を搬送して洗浄、乾燥等を行うものがある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上述した洗浄装置にお
いて、例えば、使用する洗浄液等によっては、この洗浄
液等の外部への漏洩をできるだけ少なくする必要が生じ
る場合がある。また、例えば、洗浄装置の配置された環
境等によっては、使用する洗浄液が水等であっても外部
への漏洩が好ましくない場合もある。
いて、例えば、使用する洗浄液等によっては、この洗浄
液等の外部への漏洩をできるだけ少なくする必要が生じ
る場合がある。また、例えば、洗浄装置の配置された環
境等によっては、使用する洗浄液が水等であっても外部
への漏洩が好ましくない場合もある。
【０００４】このような洗浄液等の漏洩を防止する方法
として、各処理室をできるだけ密閉することが挙げられ
る。しかしながら、部品等を搬送するための駆動機構等
は、処理室の外部に設けることが好ましく、また、例え
ば、大形の部品等の洗浄を行う洗浄装置では各処理室も
大きくなるため、処理室を完全に密閉することは、困難
である。このため、洗浄液等が外部へ漏洩し、周囲に好
ましくない影響を与えるという問題があった。
として、各処理室をできるだけ密閉することが挙げられ
る。しかしながら、部品等を搬送するための駆動機構等
は、処理室の外部に設けることが好ましく、また、例え
ば、大形の部品等の洗浄を行う洗浄装置では各処理室も
大きくなるため、処理室を完全に密閉することは、困難
である。このため、洗浄液等が外部へ漏洩し、周囲に好
ましくない影響を与えるという問題があった。
【０００５】本発明は、かかる従来の事情に対処してな
されたもので、従来に比べて洗浄液等の外部への漏洩を
減少させることができ、周囲の環境への影響を軽減する
ことのできる洗浄装置を提供しようとするものである。
されたもので、従来に比べて洗浄液等の外部への漏洩を
減少させることができ、周囲の環境への影響を軽減する
ことのできる洗浄装置を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】すなわち、請求項１記載
の発明は、所定の搬送路を形成する如く上方に敷設され
た軌道と、前記軌道に係止される係止部、この係止部か
ら下方に延在する接続部、この接続部によって前記係止
部の下方に支持され被洗浄物を収容する被洗浄物収容部
を有し、前記軌道に沿って前記被洗浄物を搬送する搬送
機構と、前記軌道の下方に該軌道に沿って設けられ、前
記被洗浄物に所定の洗浄処理及び乾燥処理を実施する処
理室であって、天井部に前記軌道に沿って前記搬送機構
の接続部が通過するための間隙部が設けられた処理室
と、前記間隙部を前記搬送機構の前記接続部が位置する
部位を除いて閉塞する閉塞機構と、前記閉塞機構の内側
から排気を行う排気機構とを具備したことを特徴とする
洗浄装置。
の発明は、所定の搬送路を形成する如く上方に敷設され
た軌道と、前記軌道に係止される係止部、この係止部か
ら下方に延在する接続部、この接続部によって前記係止
部の下方に支持され被洗浄物を収容する被洗浄物収容部
を有し、前記軌道に沿って前記被洗浄物を搬送する搬送
機構と、前記軌道の下方に該軌道に沿って設けられ、前
記被洗浄物に所定の洗浄処理及び乾燥処理を実施する処
理室であって、天井部に前記軌道に沿って前記搬送機構
の接続部が通過するための間隙部が設けられた処理室
と、前記間隙部を前記搬送機構の前記接続部が位置する
部位を除いて閉塞する閉塞機構と、前記閉塞機構の内側
から排気を行う排気機構とを具備したことを特徴とする
洗浄装置。
【０００７】また、請求項２記載の発明は、所定の搬送
路を形成する如く上方に敷設された軌道と、前記軌道に
係止される係止部、この係止部から下方に延在する接続
部、この接続部によって前記係止部の下方に支持され被
洗浄物を収容する被洗浄物収容部を有し、前記軌道に沿
って前記被洗浄物を搬送する搬送機構と、前記軌道の下
方に該軌道に沿って連設され、前記被洗浄物に所定の洗
浄処理及び乾燥処理を実施する複数の処理室であって、
天井部に前記軌道に沿って前記搬送機構の接続部が通過
するための間隙部が設けられた処理室と、前記間隙部を
前記搬送機構の前記接続部が位置する部位を除いて閉塞
する閉塞機構と、前記閉塞機構の内側に配設され、前記
間隙部を前記搬送機構の前記接続部が位置する部位を除
いて閉塞する内側閉塞機構と、前記閉塞機構と前記内側
閉塞機構との間から排気を行う排気機構とを具備したこ
とを特徴とする洗浄装置。
路を形成する如く上方に敷設された軌道と、前記軌道に
係止される係止部、この係止部から下方に延在する接続
部、この接続部によって前記係止部の下方に支持され被
洗浄物を収容する被洗浄物収容部を有し、前記軌道に沿
って前記被洗浄物を搬送する搬送機構と、前記軌道の下
方に該軌道に沿って連設され、前記被洗浄物に所定の洗
浄処理及び乾燥処理を実施する複数の処理室であって、
天井部に前記軌道に沿って前記搬送機構の接続部が通過
するための間隙部が設けられた処理室と、前記間隙部を
前記搬送機構の前記接続部が位置する部位を除いて閉塞
する閉塞機構と、前記閉塞機構の内側に配設され、前記
間隙部を前記搬送機構の前記接続部が位置する部位を除
いて閉塞する内側閉塞機構と、前記閉塞機構と前記内側
閉塞機構との間から排気を行う排気機構とを具備したこ
とを特徴とする洗浄装置。
【０００８】また、請求項３記載の発明は、請求項１〜
２記載の洗浄装置において、前記閉塞機構は、前記間隙
部の両側に交互に回動自在な状態に支持され、かつ、弾
性部材によって付勢された状態で前記間隙部を閉塞する
位置に係止された多数の板状体からなり、これらの板状
体は、前記搬送機構の接続部が通過する際に、該接続部
によって押圧され、前記弾性部材の弾性力に抗して回動
するよう構成されていることを特徴とする洗浄装置。
２記載の洗浄装置において、前記閉塞機構は、前記間隙
部の両側に交互に回動自在な状態に支持され、かつ、弾
性部材によって付勢された状態で前記間隙部を閉塞する
位置に係止された多数の板状体からなり、これらの板状
体は、前記搬送機構の接続部が通過する際に、該接続部
によって押圧され、前記弾性部材の弾性力に抗して回動
するよう構成されていることを特徴とする洗浄装置。
【０００９】
【作用】上記構成の本発明の洗浄装置では、処理室の天
井部に設けられた搬送機構の接続部が通過するための間
隙部が、接続部が位置する部位を除いて閉塞機構によっ
て覆われ、かつ、閉塞機構の内側から排気機構によって
排気されるようになっている。
井部に設けられた搬送機構の接続部が通過するための間
隙部が、接続部が位置する部位を除いて閉塞機構によっ
て覆われ、かつ、閉塞機構の内側から排気機構によって
排気されるようになっている。
【００１０】したがって、上記間隙部から、洗浄液等が
外部へ漏洩することを防止することができ、周囲の環境
への影響を軽減することができる。
外部へ漏洩することを防止することができ、周囲の環境
への影響を軽減することができる。
【００１１】また、請求項２記載の洗浄装置では、上述
した閉塞機構の内側に、内側閉塞機構が設けられている
ので、さらに、確実に洗浄液等の外部への漏洩すること
を防止することができる。
した閉塞機構の内側に、内側閉塞機構が設けられている
ので、さらに、確実に洗浄液等の外部への漏洩すること
を防止することができる。
【００１２】また、請求項３記載の洗浄装置では、板状
体が、弾性部材の弾性力に抗して回動することにより、
搬送機構の接続部を通過させるようになっているので、
開閉用の駆動機構等を設けることなく、確実に間隙部を
閉塞することができる。
体が、弾性部材の弾性力に抗して回動することにより、
搬送機構の接続部を通過させるようになっているので、
開閉用の駆動機構等を設けることなく、確実に間隙部を
閉塞することができる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。
明する。
【００１４】図１は、本発明の一実施例の洗浄装置の構
成を示すものである。同図において、１は、被洗浄物
に、洗浄、リンス、乾燥等の所定の処理を施す処理室を
示している。この処理室１は、板状部材によって床部、
側壁部、天井部がそれぞれ設けられ、直方体形状の部屋
を形成する如く構成されている。
成を示すものである。同図において、１は、被洗浄物
に、洗浄、リンス、乾燥等の所定の処理を施す処理室を
示している。この処理室１は、板状部材によって床部、
側壁部、天井部がそれぞれ設けられ、直方体形状の部屋
を形成する如く構成されている。
【００１５】この処理室１は、図２に示すように、複数
（図２の場合は４つ）一列に連設されており、例えば、
１ａが薬液洗浄室、１ｂが純水洗浄室、１ｃが第１乾燥
室、１ｄが第２乾燥室とされている。これらの処理室１
ａ〜１ｄの上方には、被洗浄物を搬送するための長円状
の軌道２が敷設されており、処理室１ａ〜１ｄの両側に
は、それぞれ処理室１ａ〜１ｄの間及び外部との間を遮
断するための扉３が設けられている。
（図２の場合は４つ）一列に連設されており、例えば、
１ａが薬液洗浄室、１ｂが純水洗浄室、１ｃが第１乾燥
室、１ｄが第２乾燥室とされている。これらの処理室１
ａ〜１ｄの上方には、被洗浄物を搬送するための長円状
の軌道２が敷設されており、処理室１ａ〜１ｄの両側に
は、それぞれ処理室１ａ〜１ｄの間及び外部との間を遮
断するための扉３が設けられている。
【００１６】なお、薬液洗浄室１ａ、純水洗浄室１ｂに
は、それぞれ薬液及び純水を被洗浄物に向けて噴出する
ノズルユニット（図示せず）が設けられており、第１乾
燥室１ｃ及び第２乾燥室１ｄには、それぞれ所定温度に
加熱した乾燥空気を被洗浄物に向けて吹き付ける熱風発
生機（図示せず）が設けられている。
は、それぞれ薬液及び純水を被洗浄物に向けて噴出する
ノズルユニット（図示せず）が設けられており、第１乾
燥室１ｃ及び第２乾燥室１ｄには、それぞれ所定温度に
加熱した乾燥空気を被洗浄物に向けて吹き付ける熱風発
生機（図示せず）が設けられている。
【００１７】図１に示すように、軌道２には、被洗浄物
を搬送するための搬送機構４が垂下されている。この搬
送機構４は、軌道２に係止され、軌道２に沿って移動可
能とされた係止部５と、この係止部５から下方に延在す
る棒状の接続部６と、この接続部６によって係止部５の
下方に支持された被洗浄物収容部７とから構成されてい
る。
を搬送するための搬送機構４が垂下されている。この搬
送機構４は、軌道２に係止され、軌道２に沿って移動可
能とされた係止部５と、この係止部５から下方に延在す
る棒状の接続部６と、この接続部６によって係止部５の
下方に支持された被洗浄物収容部７とから構成されてい
る。
【００１８】被洗浄物収容部７は、内部に被洗浄物を収
容するよう構成されており、被洗浄物の形状、数、大き
さ等によって、適宜変更されるようになっており、例え
ば、メッシュ状の部材によってその周囲を形成し、内部
に配置された被洗浄物に周囲から薬液、純水、乾燥空気
等を当てて、洗浄、リンス、乾燥等の処理を実施するよ
う構成されている。
容するよう構成されており、被洗浄物の形状、数、大き
さ等によって、適宜変更されるようになっており、例え
ば、メッシュ状の部材によってその周囲を形成し、内部
に配置された被洗浄物に周囲から薬液、純水、乾燥空気
等を当てて、洗浄、リンス、乾燥等の処理を実施するよ
う構成されている。
【００１９】処理室１ｄの天井部には、搬送機構４の係
止部５が通過できるように、軌道２に沿った間隙部８が
形成されている。この間隙部８を閉塞するように、閉塞
機構９と、内側閉塞機構１０が設けられている。
止部５が通過できるように、軌道２に沿った間隙部８が
形成されている。この間隙部８を閉塞するように、閉塞
機構９と、内側閉塞機構１０が設けられている。
【００２０】上記閉塞機構９は、図３に示すように、複
数設けられた２種類の板体１１ａ、１１ｂから構成され
ている。これらの板体１１ａ、１１ｂは、略三角形に形
成されており、その一頂点部に設けられた支軸１２おい
て、図中点線で示すように、回動自在に係止されてい
る。この支軸１２は、間隙部８を挟んで両側に設けられ
ており、間隙部８の一方の側に板体１１ａが配設され、
他方の側に板体１１ｂが配設されるよう、板体１１ａ、
１１ｂは、間隙部８の両側に交互に支持されている。
数設けられた２種類の板体１１ａ、１１ｂから構成され
ている。これらの板体１１ａ、１１ｂは、略三角形に形
成されており、その一頂点部に設けられた支軸１２おい
て、図中点線で示すように、回動自在に係止されてい
る。この支軸１２は、間隙部８を挟んで両側に設けられ
ており、間隙部８の一方の側に板体１１ａが配設され、
他方の側に板体１１ｂが配設されるよう、板体１１ａ、
１１ｂは、間隙部８の両側に交互に支持されている。
【００２１】上記板体１１ａ、１１ｂは、支軸１２の部
位に設けられた図示しない弾性部材としてのスプリング
により、回動方向に付勢されており、外力が加わってい
ない状態では、各板体１１ａ、１１ｂが図中実線で示す
ように間隙部８の上方に位置した状態に係止され、間隙
部８を閉塞するよう構成されている。
位に設けられた図示しない弾性部材としてのスプリング
により、回動方向に付勢されており、外力が加わってい
ない状態では、各板体１１ａ、１１ｂが図中実線で示す
ように間隙部８の上方に位置した状態に係止され、間隙
部８を閉塞するよう構成されている。
【００２２】また、板体１１ａ、１１ｂの支軸１２に対
向する辺の部位には、板端部が上方に位置するよう段差
状に折曲された折曲部１３が設けられており、この折曲
部１３が隣接する板体１１ａ、１１ｂの上方に重なるよ
う配置され、隣接する板体１１ａ、１１ｂとの間に隙間
が生じないよう構成されている。さらに、この折曲部１
３が設けられた辺の外形は、滑らかに湾曲する凸状に形
成されており、例えば、係止部５が所定の進行方向（図
中矢印で示す。）とは逆方向に僅かに移動したような場
合、この移動を吸収し易いよう構成されている。
向する辺の部位には、板端部が上方に位置するよう段差
状に折曲された折曲部１３が設けられており、この折曲
部１３が隣接する板体１１ａ、１１ｂの上方に重なるよ
う配置され、隣接する板体１１ａ、１１ｂとの間に隙間
が生じないよう構成されている。さらに、この折曲部１
３が設けられた辺の外形は、滑らかに湾曲する凸状に形
成されており、例えば、係止部５が所定の進行方向（図
中矢印で示す。）とは逆方向に僅かに移動したような場
合、この移動を吸収し易いよう構成されている。
【００２３】一方、上記折曲部１３が形成された辺とは
反対側の辺１４は、滑らかに湾曲する凹状に形成されて
おり、係止部５が移動しつつこの辺１４を押圧すること
により、板体１１ａ、１１ｂが図示しないスプリングの
弾性力に抗して滑らかに回動するよう構成されている。
反対側の辺１４は、滑らかに湾曲する凹状に形成されて
おり、係止部５が移動しつつこの辺１４を押圧すること
により、板体１１ａ、１１ｂが図示しないスプリングの
弾性力に抗して滑らかに回動するよう構成されている。
【００２４】そして、係止部５の移動に伴って、板体１
１ａ、１１ｂが順次回動し、係止部５の移動経路を形成
すると伴に、係止部５の通過後は、板体１１ａ、１１ｂ
が自動的に閉塞位置に戻り、係止部５が位置する部位を
除いて間隙部８を閉塞するよう構成されている。
１ａ、１１ｂが順次回動し、係止部５の移動経路を形成
すると伴に、係止部５の通過後は、板体１１ａ、１１ｂ
が自動的に閉塞位置に戻り、係止部５が位置する部位を
除いて間隙部８を閉塞するよう構成されている。
【００２５】また、上記閉塞機構９の内側に設けられた
内側閉塞機構１０は、図４に示すように、２枚の略矩形
状の蓋体２０から構成されている。これらの蓋体２０に
は、洗浄等の処理を行う際の係止部５の停止位置に対応
して、切欠部２１が形成されている。また、図１に示す
ように、蓋体２０は、支軸２２を中心に回動自在とされ
ており、駆動機構としてのエアシリンダ２３の伸縮によ
り蓋体２０が支軸２２を中心に回動し、間隙部８を開閉
するよう構成されている。
内側閉塞機構１０は、図４に示すように、２枚の略矩形
状の蓋体２０から構成されている。これらの蓋体２０に
は、洗浄等の処理を行う際の係止部５の停止位置に対応
して、切欠部２１が形成されている。また、図１に示す
ように、蓋体２０は、支軸２２を中心に回動自在とされ
ており、駆動機構としてのエアシリンダ２３の伸縮によ
り蓋体２０が支軸２２を中心に回動し、間隙部８を開閉
するよう構成されている。
【００２６】そして、上述した閉塞機構９と内側閉塞機
構１０との間には、図示しない排気機構に接続された排
気配管２５が接続されており、これらの間から排気する
よう構成されている。
構１０との間には、図示しない排気機構に接続された排
気配管２５が接続されており、これらの間から排気する
よう構成されている。
【００２７】上記構成のこの実施例の洗浄装置では、複
数、例えば５台程度の搬送機構４によって、被洗浄物
を、薬液洗浄室１ａ、純水洗浄室１ｂ、第１乾燥室１
ｃ、第２乾燥室１ｄに順送りしながら、薬液洗浄、リン
ス、乾燥を行う。
数、例えば５台程度の搬送機構４によって、被洗浄物
を、薬液洗浄室１ａ、純水洗浄室１ｂ、第１乾燥室１
ｃ、第２乾燥室１ｄに順送りしながら、薬液洗浄、リン
ス、乾燥を行う。
【００２８】すなわち、搬送機構４の被洗浄物収容部７
に大形の被洗浄物等を収容し、搬送機構４によって、ま
ず、この被洗浄物を、薬液洗浄室１ａの前方まで搬送す
る。次に、薬液洗浄室１ａの扉３を開け、搬送機構４を
薬液洗浄室１ａの略中心まで移動させ、この後扉３を閉
めるとともに、エアシリンダ２３を伸張させ、蓋体２０
を閉じた状態とする。
に大形の被洗浄物等を収容し、搬送機構４によって、ま
ず、この被洗浄物を、薬液洗浄室１ａの前方まで搬送す
る。次に、薬液洗浄室１ａの扉３を開け、搬送機構４を
薬液洗浄室１ａの略中心まで移動させ、この後扉３を閉
めるとともに、エアシリンダ２３を伸張させ、蓋体２０
を閉じた状態とする。
【００２９】そして、排気配管２５によって、閉塞機構
９と内側閉塞機構１０との間の排気を実施しつつ、所定
の薬液を被洗浄物に向けて噴出させ、薬液による洗浄処
理を行う。
９と内側閉塞機構１０との間の排気を実施しつつ、所定
の薬液を被洗浄物に向けて噴出させ、薬液による洗浄処
理を行う。
【００３０】所定時間の洗浄処理が終了すると、薬液の
噴出を停止し、薬液洗浄室１ａの両側の扉３を開けると
ともに、エアシリンダ２３を収縮させ、蓋体２０を開け
て、洗浄処理の終了した被洗浄物を搭載した搬送機構４
を、純水洗浄室１ｂに移動させる。これとともに、次の
搬送機構４を薬液洗浄室１ａ内に移動させる。
噴出を停止し、薬液洗浄室１ａの両側の扉３を開けると
ともに、エアシリンダ２３を収縮させ、蓋体２０を開け
て、洗浄処理の終了した被洗浄物を搭載した搬送機構４
を、純水洗浄室１ｂに移動させる。これとともに、次の
搬送機構４を薬液洗浄室１ａ内に移動させる。
【００３１】そして、上記洗浄処理と同様にして、純水
洗浄室１ｂ内における純水によるリンス処理を行うと伴
に、薬液洗浄室１ａ内で次の搬送機構４に搭載された被
洗浄物の洗浄処理を行う。
洗浄室１ｂ内における純水によるリンス処理を行うと伴
に、薬液洗浄室１ａ内で次の搬送機構４に搭載された被
洗浄物の洗浄処理を行う。
【００３２】同様にして、第１乾燥室１ｃ、第２乾燥室
１ｄにおける乾燥処理を行い、搬送機構４を順送りしな
がら、連続的に一連の処理を実施する。
１ｄにおける乾燥処理を行い、搬送機構４を順送りしな
がら、連続的に一連の処理を実施する。
【００３３】このような処理において、本実施例の洗浄
装置では、処理中に、搬送機構４の接続部５が位置する
部位を除いて、各処理室１ａ〜１ｄの天井部に形成され
た間隙部８が、閉塞機構９と内側閉塞機構１０とによっ
て閉塞され、かつ、排気配管２５からこれらの間の排気
が実施される。
装置では、処理中に、搬送機構４の接続部５が位置する
部位を除いて、各処理室１ａ〜１ｄの天井部に形成され
た間隙部８が、閉塞機構９と内側閉塞機構１０とによっ
て閉塞され、かつ、排気配管２５からこれらの間の排気
が実施される。
【００３４】したがって、例えば、洗浄に使用した薬液
等が外部に漏洩することを防止することができ、周囲の
環境への影響を軽減することができる。
等が外部に漏洩することを防止することができ、周囲の
環境への影響を軽減することができる。
【００３５】また、閉塞機構９は、係止部５の移動に伴
って、自動的に係止部５の移動経路を形成及び閉塞する
よう構成されているので、例えば、駆動機構等を必要と
せず、かつ、搬送機構４の接続部５が位置する部位を除
いて、間隙部８を確実に閉塞することができる。
って、自動的に係止部５の移動経路を形成及び閉塞する
よう構成されているので、例えば、駆動機構等を必要と
せず、かつ、搬送機構４の接続部５が位置する部位を除
いて、間隙部８を確実に閉塞することができる。
【００３６】さらに、可動部分を有する搬送機構４の係
止部５等が、各処理室１ａ〜１ｄの外部に設けられてい
るため、これらの部位に薬液等が作用して、腐蝕等が生
じることも防止することができる。
止部５等が、各処理室１ａ〜１ｄの外部に設けられてい
るため、これらの部位に薬液等が作用して、腐蝕等が生
じることも防止することができる。
【００３７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の洗浄装置
によれば、従来に比べて洗浄液等の外部への漏洩を減少
させることができ、周囲の環境への影響を軽減すること
ができる。
によれば、従来に比べて洗浄液等の外部への漏洩を減少
させることができ、周囲の環境への影響を軽減すること
ができる。
【図１】本発明の一実施例の洗浄装置の要部構成を示す
図。
図。
【図２】図１の洗浄装置の全体構成を示す図。
【図３】図１の洗浄装置の閉塞機構の構成を示す図。
【図４】図１の洗浄装置の内側閉塞機構の構成を示す
図。
図。
１ 処理室 ２ 軌道 ４ 搬送機構 ５ 係止部 ６ 接続部 ７ 被洗浄物収容部 ８ 間隙部 ９ 閉塞機構 １０ 内側閉塞機構 ２５ 排気配管
Claims (3)
- 【請求項１】 所定の搬送路を形成する如く上方に敷設
された軌道と、 前記軌道に係止される係止部、この係止部から下方に延
在する接続部、この接続部によって前記係止部の下方に
支持され被洗浄物を収容する被洗浄物収容部を有し、前
記軌道に沿って前記被洗浄物を搬送する搬送機構と、 前記軌道の下方に該軌道に沿って設けられ、前記被洗浄
物に所定の洗浄処理及び乾燥処理を実施する処理室であ
って、天井部に前記軌道に沿って前記搬送機構の接続部
が通過するための間隙部が設けられた処理室と、 前記間隙部を前記搬送機構の前記接続部が位置する部位
を除いて閉塞する閉塞機構と、 前記閉塞機構の内側から排気を行う排気機構とを具備し
たことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項２】 所定の搬送路を形成する如く上方に敷設
された軌道と、 前記軌道に係止される係止部、この係止部から下方に延
在する接続部、この接続部によって前記係止部の下方に
支持され被洗浄物を収容する被洗浄物収容部を有し、前
記軌道に沿って前記被洗浄物を搬送する搬送機構と、 前記軌道の下方に該軌道に沿って連設され、前記被洗浄
物に所定の洗浄処理及び乾燥処理を実施する複数の処理
室であって、天井部に前記軌道に沿って前記搬送機構の
接続部が通過するための間隙部が設けられた処理室と、 前記間隙部を前記搬送機構の前記接続部が位置する部位
を除いて閉塞する閉塞機構と、 前記閉塞機構の内側に配設され、前記間隙部を前記搬送
機構の前記接続部が位置する部位を除いて閉塞する内側
閉塞機構と、 前記閉塞機構と前記内側閉塞機構との間から排気を行う
排気機構とを具備したことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項３】 請求項１〜２記載の洗浄装置において、 前記閉塞機構は、前記間隙部の両側に交互に回動自在な
状態に支持され、かつ、弾性部材によって付勢された状
態で前記間隙部を閉塞する位置に係止された多数の板状
体からなり、これらの板状体は、前記搬送機構の接続部
が通過する際に、該接続部によって押圧され、前記弾性
部材の弾性力に抗して回動するよう構成されていること
を特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5882094A JPH07273079A (ja) | 1994-03-29 | 1994-03-29 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5882094A JPH07273079A (ja) | 1994-03-29 | 1994-03-29 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07273079A true JPH07273079A (ja) | 1995-10-20 |
Family
ID=13095273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5882094A Withdrawn JPH07273079A (ja) | 1994-03-29 | 1994-03-29 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07273079A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6244282B1 (en) | 1996-11-04 | 2001-06-12 | Steag Microtech Gmbh | Substrate treatment device |
-
1994
- 1994-03-29 JP JP5882094A patent/JPH07273079A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6244282B1 (en) | 1996-11-04 | 2001-06-12 | Steag Microtech Gmbh | Substrate treatment device |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010605 |