JP3877044B2 - 液処理装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハやＬＣＤ基板等の各種基板に対して所定の液処理や乾燥処理を施すために用いられる液処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、半導体デバイスの製造工程においては、基板としての半導体ウエハ（以下「ウエハ」という）を所定の薬液や純水等の洗浄液によって洗浄し、ウエハからパーティクル、有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーションを除去し、また、窒素（Ｎ２）ガス等の不活性ガスや揮発性および親水性の高いＩＰＡ蒸気等によってウエハから液滴を取り除いてウエハを乾燥させるウエハ洗浄処理装置が使用されている。このような洗浄処理装置としては、複数枚のウエハをウエハ洗浄／乾燥チャンバに収納してバッチ式に処理するものが知られている。
【０００３】
従来より、ウエハ洗浄／乾燥チャンバ自体は、処理液の漏れが生じないように密閉構造とされているが、ウエハ洗浄／乾燥チャンバが配設される洗浄処理室が密閉構造とされることはなかった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来からウエハ洗浄／乾燥チャンバを構成する部材の継ぎ目等から薬剤が漏洩する場合があり、漏洩した薬剤が洗浄処理室からも漏洩して、洗浄処理装置に配設された機械系統や電気系統等に付着し、故障を引き起こすおそれがあった。また、高速で回転するウエハが破損した場合、ウエハの破片によってウエハ洗浄／乾燥チャンバが損傷した場合にも、処理液が漏洩して前記と同様の事故が発生する問題があった。
【０００５】
さらに、ウエハの破片によってウエハ洗浄／乾燥チャンバが破損し、ウエハおよびウエハ洗浄／乾燥チャンバの破片が隣接した他の処理部や駆動機構に飛散した場合や、漏洩した処理液に引火して火災が発生した場合等には、液処理装置全体に損害が及ぶ場合があり、洗浄処理装置の復旧に時間およびコストが嵩む問題があった。
【０００６】
本発明は上述した従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、液処理室で生じた事故が液処理装置内の他の機構や処理部へ影響を及ぼし難い信頼性に優れた液処理装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は第１発明として、
回転自在に保持された被処理体を回転させながら被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理部と、
前記液処理部を収容する液処理室と、を具備し、
前記液処理部は、
前記被処理体を収納する保持手段と、
前記保持手段を収納し、端面部を構成する固定部と側面部を構成する移動部とを有する処理チャンバと、
前記処理チャンバに配設され、前記保持手段に保持された被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給機構と、
前記処理チャンバの前記移動部をガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、を具備し、
前記移動部は、前記ガイドに沿って、前記被処理体を保持した前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能であり、
前記処理位置において、前記移動部が前記固定部とともに密閉構造の処理チャンバを構成し、
前記処理チャンバの前記移動部は内側部分と外側部分からなる二重構造を有し、前記スライド機構は、前記内側部分と前記外側部分の両方をガイドに沿ってスライドさせ、前記内側部分および前記外側部分の両方が、前記ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能であり、
前記内側部分および前記外側部分は、それぞれ、前記処理位置において前記固定部とともに密閉構造の内側チャンバおよび外側チャンバを構成し、
液処理の際に、前記液処理部が密閉構造とされるとともに、前記液処理室も密閉構造とされて実質的に外部と遮断された状態とされることを特徴とする液処理装置を提供する。
【０００８】
本発明は第２発明として、
回転自在に配置された被処理体を回転させながら被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理部と、
前記液処理部を収納する液処理室と、
前記液処理部の下方に設けられ、上下方向駆動により前記液処理部との間で前記被処理体の受渡を行う被処理体受渡機構が配設された被処理体待機室と、
前記液処理室と前記被処理体待機室との間の仕切壁に設けられた被処理体を搬送するための開口部と、
前記開口部を開閉するシャッターと、を具備し、
前記液処理部は、
前記被処理体を収納する保持手段と、
前記保持手段を収納し、端面部を構成する固定部と側面部を構成する移動部とを有する処理チャンバと、
前記処理チャンバに配設され、前記保持手段に保持された被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給機構と、
前記処理チャンバの前記移動部をガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、を具備し、
前記移動部は、前記ガイドに沿って、前記被処理体を保持した前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能であり、
前記処理位置において、前記移動部が前記固定部とともに密閉構造の処理チャンバを構成し、
前記スライド機構は、前記内側部分と前記外側部分の両方をガイドに沿ってスライドさせ、前記内側部分および前記外側部分の両方が、前記ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能であり、
前記内側部分および前記外側部分は、それぞれ、前記処理位置において前記固定部とともに密閉構造の内側チャンバおよび外側チャンバを構成し、
液処理の際に、前記液処理部が密閉構造とされるとともに、前記シャッターが閉じられることにより前記液処理室も密閉構造とされて実質的に外部と遮断された状態とされることを特徴とする液処理装置を提供する。
【０００９】
本発明は第３発明として、
回転自在に配置された被処理体を回転させながら被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理部と、
前記液処理部を収納する液処理室と、
前記被処理体を収納可能な容器の搬入出を行う容器搬入出部と、
前記容器搬入出部と前記液処理室との間で被処理体を搬送する搬送機構と、を具備し、
前記液処理室は、
被処理体を搬入出するための開口部と、
前記開口部を開閉するシャッターと、を有し、
前記液処理部は、
前記被処理体を収納する保持手段と、
前記保持手段を収納し、端面部を構成する固定部と側面部を構成する移動部とを有する処理チャンバと、
前記処理チャンバに配設され、前記保持手段に保持された被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給機構と、
前記処理チャンバの前記移動部をガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、を具備し、
前記移動部は、前記ガイドに沿って、前記被処理体を保持した前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能であり、
前記処理位置において、前記移動部が前記固定部とともに密閉構造の処理チャンバを構成し、
前記スライド機構は、前記内側部分と前記外側部分の両方をガイドに沿ってスライドさせ、前記内側部分および前記外側部分の両方が、前記ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能であり、
前記内側部分および前記外側部分は、それぞれ、前記処理位置において前記固定部とともに密閉構造の内側チャンバおよび外側チャンバを構成し、
液処理の際に、前記液処理部が密閉構造とされるとともに、前記シャッターが閉じられることにより前記液処理室も密閉構造とされて実質的に外部と遮断された状態とされることを特徴とする液処理装置を提供する。
【００１０】
本発明は第４発明として、
回転自在に配置された被処理体を回転させながら被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理部と、
前記液処理部を収納する液処理室と、
前記液処理部の下方に設けられ、上下方向駆動により前記液処理部との間で前記被処理体の受渡を行う被処理体受渡機構が配設された被処理体待機室と、
前記液処理室と前記被処理体待機室との間を仕切る仕切壁に設けられた被処理体を搬送するための被処理体搬送用開口部と、
前記被処理体搬送用開口部を密閉するシャッターと、
前記被処理体を収納可能な容器の搬入出を行う容器搬入出部と、
前記被処理体待機室と前記容器搬入出部との間に位置し、前記容器の載置が可能であり、かつ、前記被処理体待機室との間で前記容器の受渡を行う第１容器搬送機構が配設された容器中継部と、
前記容器中継部と前記容器搬入出部との間で前記容器の搬送を行う第２容器搬送機構と、を具備し、
前記液処理部は、
前記被処理体を収納する保持手段と、
前記保持手段を収納し、端面部を構成する固定部と側面部を構成する移動部とを有する処理チャンバと、
前記処理チャンバに配設され、前記保持手段に保持された被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給機構と、
前記処理チャンバの前記移動部をガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、を具備し、
前記移動部は、前記ガイドに沿って、前記被処理体を保持した前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能であり、
前記処理位置において、前記移動部が前記固定部とともに密閉構造の処理チャンバを構成し、
前記スライド機構は、前記内側部分と前記外側部分の両方をガイドに沿ってスライドさせ、前記内側部分および前記外側部分の両方が、前記ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能であり、
前記内側部分および前記外側部分は、それぞれ、前記処理位置において前記固定部とともに密閉構造の内側チャンバおよび外側チャンバを構成し、
液処理の際に、前記液処理部が密閉構造とされるとともに、前記シャッターが閉じられることにより前記液処理室も密閉構造とされて実質的に外部と遮断された状態とされることを特徴とする液処理装置を提供する。
【００１１】
このような本発明の液処理装置では、液処理の際に、被処理体の液処理を行う処理チャンバ等の液処理部を密閉構造とするとともに、液処理部を収容する液処理室をも密閉構造とすることから、例えば、処理チャンバから処理液が漏洩しても、漏洩した処理液が他の処理部へ流入、拡散等して、他の処理部に損傷を与えるといった事故の発生を有効に回避することが可能となる。また、処理チャンバから漏洩した処理液に引火して液処理部で火災が発生した場合にも、消火作業を液処理部内でのみ行えばよく、液処理装置における他の処理部への引火と損傷が防止される。
【００１２】
さらに、本発明の液処理装置においては、液処理部において被処理体や処理チャンバ等の装置が損傷して破片が散乱する等の事故が発生した場合でも、散乱した破片は液処理室内から飛散することが防止され、液処理装置を構成する他の処理部等が散乱した破片によって損傷を受けることが防止される。従って、損傷した処理チャンバ等の液処理部内のみの復旧により液処理装置全体を復旧することが可能となるため、復旧時間が短縮され、交換部品等を低減して、液処理装置の復旧に要するコストを低減することが可能である。
【００１３】
さらにまた、液処理室を密閉構造とすることにより、他の処理部や外部環境の影響を受け難くなり、液処理室内を一定環境、例えば、一定温度に保持すること等も可能となる。これにより、高温の処理液を用いる場合には処理液の温度に合わせて液処理室内を処理液が冷め難い環境に設定すること等が可能となり、処理液の特性を引き出した効果的な液処理の実施が可能となる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して、本発明の液処理装置について、その一実施形態である半導体ウエハ（ウエハ）の洗浄処理装置を例として具体的に説明することとする。
【００１５】
図１は洗浄処理装置１の斜視図であり、図２はその平面図である。図１および図２に示されるように、洗浄処理装置１は、ウエハＷを収納可能な容器であるキャリアＣの搬入出が行われるイン・アウトポート（容器搬入出部）２と、ウエハＷに対して洗浄処理を実施する洗浄処理ユニット（洗浄処理室）３と、洗浄処理ユニット３の下方に洗浄処理ユニット３と隔離して設けられたウエハ受渡部９（図１・２に図示せず、後に参照する図３参照）と、ウエハ受渡部９とイン・アウトポート２との間に設けられ、ウエハ受渡部９に対してキャリアＣの搬入出を行うキャリア中継部４を備えている。
【００１６】
また、洗浄処理装置１は、キャリアＣを洗浄するキャリア洗浄ユニット５と、複数のキャリアＣをストックするキャリアストックユニット６と、電源ユニット７と、洗浄処理ユニット３へ送液する所定の処理液を貯蔵したケミカルタンクボックス８を備えている。
【００１７】
イン・アウトポート２は、４個のキャリアＣを載置可能な載置台１０と、キャリアＣの配列方向に沿って形成された搬送路１１に沿って移動可能であり、載置台１０のキャリアＣをキャリア中継部４に搬送し、逆にキャリア中継部４に載置されたキャリアＣを載置台１０に搬送する第１キャリア搬送機構１２を有している。キャリアＣ内には、例えば２６枚のウエハＷが収納可能となっており、キャリアＣはウエハＷの面が鉛直に配列されるようにして載置台１０上に載置されている。
【００１８】
キャリア洗浄ユニット５はキャリア洗浄槽１６を有しており、ウエハ受渡部９においてウエハＷが取り出されて空になったキャリアＣが第１キャリア搬送機構１２および後述する第２キャリア搬送機構１７を用いて搬送され、洗浄されるようになっている。
【００１９】
また、キャリアストックユニット６は、洗浄前のウエハＷが収納されたキャリアＣや洗浄前のウエハＷが取り出されて空になったキャリアＣを一時的に待機させたり、洗浄後のウエハＷを収納するための空のキャリアＣを予め待機させるためのものであり、上下方向に複数のキャリアＣがストック可能となっている。キャリアストックユニット６は、キャリアストックユニット６内の所定のキャリアＣを載置台１０に載置したり、その中の所定の位置にキャリアＣをストックしたりするためのキャリア移動機構を内蔵している。
【００２０】
次に、キャリア中継部４、ウエハ受渡部９、洗浄処理ユニット３について、図１・２に加え、図３〜図５を参照しながら説明する。ここで、洗浄処理ユニット３に配設される処理チャンバ２６としては、外側チャンバ２６ａと外側チャンバ２６ａ内に収納可能な内側チャンバ２６ｂからなる二重構造チャンバを例として用いることとする。
【００２１】
図３はキャリア中継部４、ウエハ受渡部９、洗浄処理ユニット３の配置構成を示す断面図、図４および図５は洗浄処理ユニット３に配設された処理チャンバ２６の構成を示す断面図であり、図４は内側チャンバ２６ｂを外側チャンバ２６ａの外部に出した状態（このような状態における内側チャンバ２６ｂの位置を「退避位置」ということとする）、図５は外側チャンバ２６ａの内部に内側チャンバ２６ｂを配置した状態（このような状態における内側チャンバ２６ｂの位置を「処理位置」ということとする）を示しており、図３では外側チャンバ２６ａと内側チャンバ２６ｂの両方が退避位置にある状態が示されている。
【００２２】
キャリア中継部４にはステージ１３が設けられており、ステージ１３上に第２キャリア搬送機構１７が配設されている。第２キャリア搬送機構１７は、キャリアＣを載置・保持可能であって、図示しない伸縮機構によってウエハ受渡部９との間で進退可能であるアーム１７ａを有しており、アーム１７ａには、後述するウエハ保持部材４１とウエハ保持部材４１を支持する支持棒４２が貫通できるように、中央部に図示しない孔部が形成されている。
【００２３】
また、キャリア搬送機構１７は、アーム１７ａに載置されたキャリアＣの向きを１８０°変えることが可能な図示しない反転機構を有している。この反転機構は、載置台１０上のキャリアＣを第１キャリア搬送機構１２のキャリア搬送アームを回転させてアーム１７ａ上に載置したときには、アーム１７ａ上のキャリアＣの向きは載置台１０上に載置されていた向きとは逆向きとなるため、キャリアＣの向きを戻すために用いられる。また、この反転機構は逆にアーム１７ａから載置台１０へキャリアＣを戻す際にも同様に使用される。
【００２４】
キャリア中継部４とウエハ受渡部９との間には仕切壁１４が設けられており、仕切壁１４には、キャリアＣおよびアーム１７ａを搬入出するためにキャリアＣおよびアーム１７ａが通過可能なキャリア搬送口１４ａが形成され、キャリア搬送口１４ａは、キャリア中継部４側において蓋体１５により開閉可能となっている。蓋体１５は、図３中に示した矢印Ｓ１で示すように水平方向と鉛直方向に移動可能となっており、蓋体１５を水平方向で移動させる図示しないエアーシリンダ等の移動／押付機構によってシール材１８を介して仕切壁１４に密着させることで、キャリア搬送口１４ａを密閉閉塞することが可能となっている。
【００２５】
こうして、蓋体１５を用いてキャリア中継部４とウエハ受渡部９を遮断することが可能であることから、例えば、洗浄処理ユニット３において処理チャンバ２６から処理液が漏洩した場合等、洗浄処理ユニット３の雰囲気に異常が生じた場合でも、ウエハ受渡部９を介してその雰囲気がキャリア中継部４に拡がることが防止され、キャリア中継部４の汚染が回避される。従って、キャリア搬送口１４ａは、キャリアＣの搬入出時にのみ開いた状態とされ、それ以外のときには閉じた状態に保持することが好ましい。
【００２６】
ウエハ受渡部９には、ウエハＷを保持するウエハ保持部材４１と、鉛直に配置されウエハ保持部材４１を支持する支持棒４２と、支持棒４２を介してウエハ保持部材４１を昇降する図示しない昇降駆動機構とを有するウエハ受渡機構４０が配設されている。
【００２７】
例えば、キャリア中継部４から洗浄処理ユニット３へのウエハＷの搬送は、次のようにして行われる。まず、キャリア搬送口１４ａを開口してウエハＷが収納されたキャリアＣを保持したアーム１７ａをウエハ受渡部９の所定位置まで挿入し、この状態においてウエハ保持部材４１を上昇させてキャリアＣ内のウエハＷをウエハ保持部材４１に保持させた後、後述するウエハ搬送口１９ａを開口して、さらにウエハ保持部材４１を洗浄処理ユニット３まで押し上げ、処理チャンバ２６内に収納されたウエハＷの保持手段たるロータ２４にウエハＷを移し替える。次に、ウエハ保持部材４１を降下させてウエハ搬送口１９ａを閉口し、ウエハ保持部材４１がアーム１７ａよりも下方に移動したことを確認した後に、アーム１７ａを縮ませてキャリア中継部４に戻し、しかる後にキャリア搬送口１４ａを閉口する。
【００２８】
なお、ウエハＷを保持したウエハ保持部材４１を昇降させる際には、ラインセンサ４４が、ウエハＷの枚数の過不足や破損、垂直に保持されずに斜めに保持されている等のウエハＷの状態を監視し、異常がある場合には処理を中断し、または警報を発するようになっている。
【００２９】
洗浄処理ユニット３とウエハ受渡部９との間には仕切壁１９が設けられており、仕切壁１９にはウエハＷおよびウエハ保持部材４１が通過可能なようにウエハ搬送口１９ａが形成されている。ウエハ搬送口１９ａは、図３中に示した矢印Ｓ２で示されるように水平方向と鉛直方向に移動可能な蓋体２１により開閉可能となっている。蓋体２１は、図３中に示した矢印Ｓ２で示すように水平方向と鉛直方向に移動可能となっており、蓋体２１を鉛直方向で移動させる図示しなエアーシリンダ等の移動／押付機構によってシール材２２を介して仕切壁１９に密着させることで、ウエハ搬送口１９ａを密閉閉塞することが可能となっている。
【００３０】
こうして、蓋体２１を用いてウエハ搬送口１９ａを密閉閉塞することにより、ウエハ受渡部９が配設された室内は、洗浄処理ユニット３と遮断されることから、例えば、洗浄処理ユニット３において処理チャンバ２６から処理液が漏洩した場合等、洗浄処理ユニット３の雰囲気に異常が生じた場合でも、その雰囲気がウエハ受渡部９が配設された室内に拡がってウエハ受渡部９が汚染され、また、ウエハ受渡部９の種々の機構や部材に損傷を与えることが回避される。従って、ウエハＷの搬入出時にのみウエハ搬送口１９ａを開いた状態とし、処理チャンバ２６を用いた液処理中等には、ウエハ搬送口１９ａを閉じた状態に保持することが好ましい。
【００３１】
ところで、上述したように、ウエハ受渡部９は洗浄処理ユニット３の下方に設けられ、ウエハＷは洗浄処理ユニット３とウエハ受渡部９との間を上下方向に移動する構造となっているが、ウエハＷの移動方向に制限はなく、例えば、側面（横）方向等からウエハＷが洗浄処理ユニット３内に搬入され、また洗浄処理ユニット３から搬出されるように構成してもよい。
【００３２】
次に、洗浄処理ユニット３について説明する。洗浄処理ユニット３は、例えば、ウエハＷのエッチング処理後にレジストマスク、エッチング残渣であるポリマー層等の除去、洗浄を行うために用いられる。洗浄処理ユニット３の外壁の１つである仕切壁２５には孔部２５ａが形成されており、孔部２５ａを貫通するようにして回転軸２３ａが水平に配設されている。
【００３３】
この回転軸２３ａには、洗浄処理ユニット３内においてロータ２４が取り付けられ、また、洗浄処理ユニット３外においてモータ２３が取り付けられており、モータ２３の回転駆動によりロータ２４を回転させることが可能となっている。なお、例えば、モータ２３はモータ固定治具２３ｂを用いて仕切壁２５に固定することができる。
【００３４】
回転軸２３ａは、また、円筒状の支持筒３２に囲繞されて支持されており、支持筒３２は第２垂直壁３４に取り付けられている。支持筒３２と回転軸２３ａとの間にはベアリング２８が設けられ、また、第２垂直壁３４と支持筒３２の先端部はラビリンスシール２９によりシールされており、回転軸２３ａの回転によって回転軸２３ａと支持筒３２との間隙で生ずるパーティクル等がロータ２４側へ拡散しない構造となっている。
【００３５】
支持筒３２のモータ２３側には、内側チャンバ２６ｂを係止する係止部材３３が設けられており、係止部材３３は仕切壁２５に固定されている。こうして、モータ２３は洗浄処理ユニット３の室内とは隔離されて配置されることとなり、モータ２３において発生するパーティクル等は洗浄処理ユニット３内に侵入することが防止され、これにより洗浄処理ユニット３の汚染が抑制される。
【００３６】
ロータ２４は、円盤７０ａ・７０ｂ間に係止部材７１ａ・７１ｂ・７２ａ・７２ｂが配設され、ウエハ保持部材７３ａ・７３ｂによって、鉛直にされた複数（例えば２６枚）のウエハＷを水平方向に配列した状態で、その内部に保持可能な構造を有している。回転軸２３ａは円盤７０ｂに取り付けられており、モータ２３を回転させると、回転軸２３ａを介してロータ２４が内部に保持されたウエハＷとともに回転するようになっている。なお、図４および図５において、係止部材７１ｂ・７２ｂはそれぞれ係止部材７１ａ・７２ａの背面に位置し、また、ウエハ保持部材７３ｂはウエハ保持部材７３ａの背面に位置している。
【００３７】
ロータ２４を囲繞するように設けられた外側チャンバ２６ａは、筒状体６１ａと筒状体６１ａの端面に配設されたリング部材６２ａ・６２ｂを構成部材として有しており、筒状体６１ａはリング部材６２ａ側の外径がリング部材６２ｂ側の外径よりも大きくなるように構成されている。外側チャンバ２６ａは、図３に示した退避位置と図４に示した処理位置との間をスライド自在に配設されている。
【００３８】
一方、内側チャンバ２６ｂは、筒状体６１ａよりも外径が短い略円筒状の筒状体６１ｂと筒状体６１ｂの端面に配設されたリング部材６７ａ・６７ｂを構成部材に有しており、図３・図４に示した退避位置と図５に示した処理位置との間をスライド自在に構成されている。ウエハＷの搬入出時には、外側チャンバ２６ａと内側チャンバ２６ｂは、ともに図３に示すように退避位置に位置される。
【００３９】
なお、外側チャンバ２６ａが退避位置にあるときには、通常、内側チャンバ２６ｂが処理位置にあることはなく、退避位置にあるように制御される。これは外側チャンバ２６ａと内側チャンバ２６ｂを保持してスライドさせるスライド機構の構成と、内側チャンバ２６ｂの下部に配設された排液管６５ｃの存在により、干渉が生ずること等の理由による。
【００４０】
図４に示すように外側チャンバ２６ａが処理位置にあるときには、第１垂直壁３１の構成部材の１つであって洗浄処理ユニット３の外壁またはフレーム等に連結・固定して設けられた枠部材３１ｂとリング部材６２ａとの間がシール材６３ａを介してシールされ、また、リング部材６２ｂとリング部材６７ａとの間がシール材６３ｂを介してシールされた状態となる。なお、シール材６３ａは枠部材３１ｂに配設され、シール材６３ｂはリング部材６２ｂに配設されている。
【００４１】
図４に示すように内側チャンバ２６ｂが退避位置にあるときには、リング部材６７ａと第２垂直壁３４の端面との間がシール材６８ａを介してシールされ、かつ、リング部材６７ａとリング部材６２ｂとの間がシール材６３ｂを介してシールされる。また、リング部材６７ｂと係止部材３３との間がシール材６８ｂを介してシールされた状態となる。そして、内側チャンバ２６ｂを処理位置に移動させた場合には図５に示すように、リング部材６７ａと第１垂直壁３１を構成する部材の１つである蓋体３１ａにおいて水平に形成された部分との間がシール材６８ａを介してシールされ、リング部材６７ｂと第２垂直壁３４の端面との間がシール材６８ｂを介してシールされ、かつ、リング部材６７ｂとリング部材６２ｂとの間がシール材６３ｂを介してシールされた状態となる。なお、シール材６８ａはリング部材６７ａに配設され、シール材６８ｂはリング部材６７ｂに配設されている。
【００４２】
このように、シール材６３ａ・６３ｂ・６８ａ・６８ｂを介してリング部材６２ｂ等が配置されている部分はシール構造を有することから、図４に示すように、外側チャンバ２６ａが処理位置にあり、内側チャンバ２６ｂが退避位置にある場合には、第１垂直壁３１、第２垂直壁３４、筒状体６１ａ・リング部材６２ａ・６２ｂ・６７ａによって、密閉された処理空間５１が形成される。また、図５に示すように、外側チャンバ２６ａと内側チャンバ２６ｂがともに処理位置にある場合には、蓋体３１ａ、第２垂直壁３４、筒状体６１ｂ、リング部材６７ａ・６７ｂによって、密閉された処理空間５２が形成される。
【００４３】
筒状体６１ａの上部には、水平方向に配設された多数の処理液吐出口５３を有する処理液吐出ノズル５４が、ノズルケース５７に収納された状態で取り付けられており、処理液吐出ノズル５４には、ケミカルタンクボックス８等の処理液供給源から純水やＩＰＡ、各種薬液といった処理液やＮ２ガス等の乾燥ガスが供給されて、処理液吐出口５３からロータ２４に保持されたウエハＷに向かって吐出することができるようになっている。
【００４４】
また、筒状体６１ｂの上部には、水平方向に配設された多数の処理液吐出口５５を有する処理液吐出ノズル５６がノズルケース５８に収納された状態で取り付けられており、処理液吐出ノズル５６には、ケミカルタンクボックス８等の処理液供給源から各種薬液、純水、ＩＰＡといった処理液が供給され、処理液吐出口５５からロータ２４に保持されたウエハＷに向かって吐出可能となっている。これら処理液吐出ノズル５４・５６は、図３〜図５では、各１本のみ示されているが、それぞれを複数配設することも可能であり、また、必ずしも筒状体６１ａ・６１ｂの真上に設けなければならないものでもない。
【００４５】
筒状体６１ａの底部は、第１垂直壁３１側が低くなるように斜面状に形成されており、外側チャンバ２６ａによる処理空間５１において液処理を行う際に、処理液吐出ノズル５４から処理空間５１内に吐出された各種の処理液は、枠部材３１ｂの下部に形成された孔部６５ａとこの孔部６５ａに連通して設けられた排液管６５ｂを通して外部へ排出されるようになっている。
【００４６】
筒状体６１ａの下方には、外側チャンバ２６ａを処理位置と退避位置との間でスライドさせるときに、外側チャンバ２６ａ内から液垂れが生じた場合にも、この液を捕集することができる液受け６４ａ・６４ｂが設けられており、これにより、液垂れした処理液によって洗浄処理ユニット３内が汚染されることが防止される。外側チャンバ２６ａ内からの液垂れは高さの低いリング部材６２ａ側で生ずることから、リング部材６２ａの下方で液受け６４ａに捕集された処理液は液受け６４ｂに流れてドレインから排出される構造となっており、液受け６４ａからの処理液の排出口（図４において、液受け６４ａの右端）は、外側チャンバ２６ａのスライド可能な範囲で常に液受け６４ｂ上に位置するようになっている。
【００４７】
一方、筒状体６１ｂの下部には、底面を傾斜させた溝部６９が筒状体６１ｂから突出する形で形成されており、溝部６９の下側がリング部材６７ｂの下部に形成された排液口６６と連通し、さらに排液口６６には排液管６５ｃが接続されている。こうして、内側チャンバ２６ｂによる処理空間５２での液処理において、処理液吐出ノズル５６から吐出された各種の処理液は、溝部６９から排液口６６を通って排液管６５ｃに流れ込み、排出されるようになっている。
【００４８】
蓋体３１ａには２カ所に洗浄液吐出ノズル７９ａが設けられており、円盤７０ａにおいて蓋体３１ａに対向している面に所定の洗浄液を吐出して、洗浄処理を行うことができるようになっている。また、第２垂直壁３４には、円盤７０ｂにおいて第２垂直壁３４に対向している面の洗浄を行うための洗浄液吐出ノズル７９ｂが２カ所に設けられている。これらの洗浄液吐出ノズル７９ａ・７９ｂから吐出された洗浄液は、形成されている処理空間５１・５２に応じて、排液管６５ｂ・６５ｃのいずれか一方から排出される。
【００４９】
なお、洗浄液吐出ノズル７９ａ・７９ｂは、処理空間５１・５２へ雰囲気調整ガス、例えば、Ｎ２ガスやアルゴン（Ａｒ）ガス、二酸化炭素（ＣＯ２）ガス、酸素（Ｏ２）ガス等の種々のガスを供給する目的にも用いることができるようになっている。後述するように、こうして処理空間５１・５２に供給された雰囲気調整ガスは、蓋体３１ａに配設されたガス排気機構８０を用いて行われる。
【００５０】
続いて、外側チャンバ２６ａを例として、そのスライド機構について図６を参照しながら説明する。図６（ａ）はスライド機構９０と外側チャンバ２６ａを示した正面図、図６（ｂ）はその平面図である。スライド機構９０は、長手方向に延在する凸部９３ａが形成されているガイド９３、エアーシリンダ等の直線駆動機構９４、凸部９３ａと嵌合するように凹部９２ａが形成されており、直線駆動機構９４と連結されてガイド９３の長手方向に沿って移動する連結治具９２を有している。ガイド９３の長手方向端部は、例えば、洗浄処理ユニット３を形成するフレーム等に固定することができる。
【００５１】
また、直線駆動機構９４から発生するパーティクル等の拡散を防止するために、直線駆動機構９４にはシール構造を有するカバー９５ａが取り付けられており、凹部９２ａと凸部９３ａとの嵌合部から発生するパーティクル等の拡散を防止するために、シール材９５ｂがガイド９３に取り付けられている。
【００５２】
筒状体６１ａには筒状体保持治具９１が固定されており、筒状体保持治具９１はネジ９１ａによって連結治具９２に固定されている。こうして、直線駆動機構９４を駆動させることによって外側チャンバ２６ａをガイド９３の長手方向にスライドさせることができる。なお、ガイド９３の一方にはストッパ９６ａ・９６ｂが設けられており、ストッパ９６ａは連結治具９２に当接して外側チャンバ２６ａを処理位置で位置決めし、ストッパ９６ｂは連結治具９２に設けられた当接部９２ｂと当接して外側チャンバ２６ａを退避位置で位置決めする。
【００５３】
内側チャンバ２６ｂのスライド機構も、ガイドを外側チャンバ２６ａと内側チャンバ２６ｂとの間隙部に設ける等して、外側チャンバ２６ａのスライド機構９０と同様に構成することができる。
【００５４】
次に、第１垂直壁３１の構造について、図４・図５に加え、図７に示す第１垂直壁３１をキャリア中継部４側から見た斜視図を参照しながら詳細に説明する。第１垂直壁３１は、蓋体３１ａと枠部材３１ｂから構成され、蓋体３１ａにはガス排気機構８０が配設されている。
【００５５】
洗浄処理ユニット３を形成するフレームの一部であるフレーム７５ａと蓋体３１ａとを連結するように配設されたヒンジ機構８５を用いて、蓋体３１ａは枠部材３１ｂに形成された窓部３１ｃを開閉することができるようになっており、窓部３１ｃの近傍では蓋体３１ａを所定距離だけ水平方向に移動することが可能であるとともに、ヒンジ機構８５を中心とした回転駆動により、窓部３１ｃが全開した状態（図３〜図５において、各図左側から右側を見た場合に蓋体３１ａが窓部３１ｃを遮ることなく窓部３１ｃ全体が開口して見える状態）となる位置に退避させることが可能となっている。
【００５６】
また、蓋体３１ａは、フレーム７５ａと対向するように設けられたフレーム７５ｂに設けられた回転自在な固定治具７８を用い、ボルト７８ａにより蓋体３１ａを枠部材３１ｂに締め付けることで、蓋体３１ａを枠部材３１ｂに固定して、窓部３１ｃを密閉閉塞することができるようになっている。そして、数カ所において（図７では４カ所）ボルト７７を用いてより確実に蓋体３１ａを枠部材３１ｂに固定することができるようになっている。
【００５７】
蓋体３１ａに配設されたガス排気機構８０は、図４・図５に示される「排気１」および「排気２」の２系統のガス排気ラインを備えており、それぞれ処理空間５１・５２の雰囲気や使用薬液の種類によって使い分けられる。排気されるガスは処理空間５１・５２からパイプ部材８３・８４を通り、所定のガス排気ラインから排出されることとなるが、パイプ部材８３が配設されたパイプ保持部材８１は、蓋体３１ａにパイプ保持部材８１を固定しているピン８２を抜くことで、容易に蓋体３１ａから離隔することができ、このため、パイプ部材８３とパイプ部材８４とはシール性を保ちながらも脱着が容易な構造となっている。
【００５８】
こうして、窓部３１ｃの開閉のために蓋体３１ａを移動させなければならない場合に、ガス排気機構８０の配管等が蓋体３１ａの移動作業の妨げにならないように、簡単にガス排気機構８０を取り外して退避させることが可能となり、蓋体３１ａの移動を容易に行うことが可能となる。なお、逆に、パイプ保持部材８１は容易に窓部３１ｃを密閉閉塞した蓋体３１ａの所定位置に取り付けることが可能である。
【００５９】
さて、処理チャンバ２６が配設された洗浄処理ユニット３は、周囲を、第１垂直壁３１側に設けられた仕切壁１４ｂ（図３参照）、仕切壁１９および仕切壁１９に設けられたウエハ搬送口１９ａを閉塞する蓋体２１、鉛直に設けられた仕切壁２５、水平に設けられた天板壁２５ｂ、電源ユニット７およびケミカルタンクボックス８側との境界をなす側面壁とこの側面壁に対向して洗浄処理装置１の外壁の一部となっている別の側面壁によって囲まれた構造を有している。
【００６０】
洗浄処理ユニット３内には、図３に示すように内部での火災の発生を検知する火災センサ５０が配設されており、火災センサ５０が火災を検知すると図示しない消火機構から消火薬剤または消火ガスが噴射されるようになっている。このような火災は、例えば、ＩＰＡ等の可燃性溶媒を用いた処理中に回転しているウエハＷが破損等して周囲に飛散し、損傷を与えた場合等に発生するおそれがある。
【００６１】
洗浄処理ユニット３の上部にはフィルターファンユニット（ＦＦＵ）２０が配設されており、清浄な空気が洗浄処理ユニット３内に送風される。また、仕切壁２５に設けられた排気口２７から排気されるようになっている。ここで、前述したように、ウエハ搬送口１９ａは蓋体２１により密閉されていることから、洗浄処理ユニット３内の排気は、排気口２７からのみ行うことができるようになっている。
【００６２】
換言すれば、洗浄処理ユニット３は、ウエハ搬送口１９ａが密閉閉塞された状態において密閉構造を有し、実質的に外部と遮断される。こうして、洗浄処理装置１においては、洗浄処理ユニット３内の雰囲気が、ウエハ受渡部９やキャリア中継部４、電源ユニット８等の洗浄処理装置１における他の処理部に伝わり難い構造となっており、例えば、処理チャンバ２６の構成部材の連結部やシール部から処理液が漏洩したり、回転中のウエハＷが破損することで飛散した破片が処理チャンバ２６に損傷を与えて、その破損箇所から処理液が漏洩した場合にも、漏洩した処理液がウエハ受渡部９等の他の処理部へ流入、拡散等して損傷を与えるといった事態の発生を回避することが可能となる。また、洗浄処理ユニット３内で火災が発生した場合にも、消火作業を洗浄処理ユニット３内でのみ行うことができ、これにより、洗浄処理装置１における他の処理部への引火と損傷が防止され、また、消火薬剤の洗浄処理装置１内での拡散も防止することができる。
【００６３】
このように、洗浄処理ユニット３内において、ウエハＷや処理チャンバ等の装置が損傷する等の事故が発生した場合でも、洗浄処理装置１を構成する他の処理部等に連鎖的に損傷が拡がることが防止されるため、損傷した洗浄処理ユニット３内のみの復旧により洗浄処理装置１全体を復旧することが可能となることから、洗浄処理装置１の復旧時間が短縮され、また交換部品等が低減され、洗浄処理装置１の復旧に要するコストを低減することが可能となる。
【００６４】
さらにまた、洗浄処理ユニット３を密閉構造とすると、洗浄処理ユニット３は他の処理部や外部環境の影響を受け難くなり、洗浄処理ユニット３内を一定の環境に保持することが容易となる。これにより、例えば、高温の処理液を用いる場合に処理液の温度に合わせて洗浄処理ユニット３内を処理液が冷め難いように室温を上げた環境とする等が可能となって、処理液の特性を引き出し、より効果的な液処理を行うことが可能となる。
【００６５】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明が上記実施の形態に限定されるものでないことはいうまでもなく、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、外側チャンバ２６ａおよび内側チャンバ２６ｂの２つの処理チャンバによって処理を行う場合について説明したが、チャンバは３つ以上であってもよいし、１つであってもよい。また、外側チャンバ２６ａおよび内側チャンバ２６ｂは、いずれを洗浄に、いずれを乾燥に用いても構わず、洗浄と乾燥の両方を連続して行う用途にも用いることができる。さらに、上記実施の形態では本発明を洗浄処理に適用した場合について示したが、これに限らず、所定の塗布液を塗布する塗布処理等の他の液処理、または液処理以外の処理、例えばＣＶＤ処理やエッチング処理等に適用することも可能である。さらにまた、半導体ウエハに適用した場合について示したが、これに限らず、液晶表示装置（ＬＣＤ）用基板等、他の基板の処理にも適用することができる。
【００６６】
【発明の効果】
上述の通り、本発明の液処理装置によれば、被処理体の液処理を行う処理チャンバ等の液処理部を密閉構造とするとともに、液処理部を収容する液処理室をも密閉構造とすることから、処理チャンバから処理液が漏洩しても、漏洩した処理液が他の処理部へ流入、拡散等して、他の処理部に損傷を与えるといった事態の発生が回避され、液処理装置の信頼性が高められるという効果が得られる。また、被処理体や処理チャンバ等の装置が損傷し、破片等が散乱するような事故が発生した場合でも、破片等が液処理装置を構成する他の処理部等を損傷させることがないため復旧作業が容易となり、復旧時間が短縮され、交換部品の点数が低減されて液処理装置の復旧に要するコストが低減されるという効果が得られる。さらに液処理室を一定の環境に保持することで処理液の特性を引き出したより効果的な液処理を行うことが可能となるという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液処理装置の一実施形態である洗浄処理装置の外観を示す斜視図。
【図２】図１記載の洗浄処理装置の平面図。
【図３】図１記載の洗浄処理装置におけるキャリア中継部、ウエハ受渡部、洗浄処理ユニットの構成を示す断面図。
【図４】図３に示した洗浄処理ユニットに配設された処理チャンバの断面図。
【図５】図３に示した洗浄処理ユニットに配設された処理チャンバの別の断面図。
【図６】処理チャンバを構成する外側チャンバのスライド機構を示す正面図（ａ）および断面図（ｂ）。
【図７】図３に示した第１垂直壁の構成を示す斜視図。
【符号の説明】
１；洗浄処理装置
２；イン・アウトポート
３；洗浄処理ユニット
４；キャリア中継部
９；ウエハ受渡部
１４；仕切壁
１４ａ；キャリア搬送口
１５；蓋体
１９；仕切壁
１９ａ；ウエハ搬送口
２１；蓋体
２４；ロータ
２６ａ；外側チャンバ
２６ｂ；内側チャンバ
３１；第１垂直壁
３１ａ；蓋体
３１ｂ；枠部材
Ｗ；半導体ウエハ（基板）
Ｃ；キャリア（収納容器）

Claims (8)

1. 回転自在に保持された被処理体を回転させながら被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理部と、
   前記液処理部を収容する液処理室と、を具備し、
   前記液処理部は、
   前記被処理体を収納する保持手段と、
   前記保持手段を収納し、端面部を構成する固定部と側面部を構成する移動部とを有する処理チャンバと、
   前記処理チャンバに配設され、前記保持手段に保持された被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給機構と、
   前記処理チャンバの前記移動部をガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、を具備し、
   前記移動部は、前記ガイドに沿って、前記被処理体を保持した前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能であり、
   前記処理位置において、前記移動部が前記固定部とともに密閉構造の処理チャンバを構成し、
   前記処理チャンバの前記移動部は内側部分と外側部分からなる二重構造を有し、前記スライド機構は、前記内側部分と前記外側部分の両方をガイドに沿ってスライドさせ、前記内側部分および前記外側部分の両方が、前記ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能であり、
   前記内側部分および前記外側部分は、それぞれ、前記処理位置において前記固定部とともに密閉構造の内側チャンバおよび外側チャンバを構成し、
   液処理の際に、前記液処理部が密閉構造とされるとともに、前記液処理室も密閉構造とされて実質的に外部と遮断された状態とされることを特徴とする液処理装置。
2. 回転自在に配置された被処理体を回転させながら被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理部と、
   前記液処理部を収納する液処理室と、
   前記液処理部の下方に設けられ、上下方向駆動により前記液処理部との間で前記被処理体の受渡を行う被処理体受渡機構が配設された被処理体待機室と、
   前記液処理室と前記被処理体待機室との間の仕切壁に設けられた被処理体を搬送するための開口部と、
   前記開口部を開閉するシャッターと、を具備し、
   前記液処理部は、
   前記被処理体を収納する保持手段と、
   前記保持手段を収納し、端面部を構成する固定部と側面部を構成する移動部とを有する処理チャンバと、
   前記処理チャンバに配設され、前記保持手段に保持された被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給機構と、
   前記処理チャンバの前記移動部をガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、を具備し、
   前記移動部は、前記ガイドに沿って、前記被処理体を保持した前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能であり、
   前記処理位置において、前記移動部が前記固定部とともに密閉構造の処理チャンバを構成し、
   前記スライド機構は、前記内側部分と前記外側部分の両方をガイドに沿ってスライドさせ、前記内側部分および前記外側部分の両方が、前記ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスラ イド可能であり、
   前記内側部分および前記外側部分は、それぞれ、前記処理位置において前記固定部とともに密閉構造の内側チャンバおよび外側チャンバを構成し、
   液処理の際に、前記液処理部が密閉構造とされるとともに、前記シャッターが閉じられることにより前記液処理室も密閉構造とされて実質的に外部と遮断された状態とされることを特徴とする液処理装置。
3. 回転自在に配置された被処理体を回転させながら被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理部と、
   前記液処理部を収納する液処理室と、
   前記被処理体を収納可能な容器の搬入出を行う容器搬入出部と、
   前記容器搬入出部と前記液処理室との間で被処理体を搬送する搬送機構と、を具備し、
   前記液処理室は、
   被処理体を搬入出するための開口部と、
   前記開口部を開閉するシャッターと、を有し、
   前記液処理部は、
   前記被処理体を収納する保持手段と、
   前記保持手段を収納し、端面部を構成する固定部と側面部を構成する移動部とを有する処理チャンバと、
   前記処理チャンバに配設され、前記保持手段に保持された被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給機構と、
   前記処理チャンバの前記移動部をガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、を具備し、
   前記移動部は、前記ガイドに沿って、前記被処理体を保持した前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能であり、
   前記処理位置において、前記移動部が前記固定部とともに密閉構造の処理チャンバを構成し、
   前記スライド機構は、前記内側部分と前記外側部分の両方をガイドに沿ってスライドさせ、前記内側部分および前記外側部分の両方が、前記ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能であり、
   前記内側部分および前記外側部分は、それぞれ、前記処理位置において前記固定部とともに密閉構造の内側チャンバおよび外側チャンバを構成し、
   液処理の際に、前記液処理部が密閉構造とされるとともに、前記シャッターが閉じられることにより前記液処理室も密閉構造とされて実質的に外部と遮断された状態とされることを特徴とする液処理装置。
4. 前記搬送機構は、
   被処理体を保持する支持部材と、
   前記支持部材を駆動する駆動機構部と、を有し、
   前記駆動機構部は前記液処理室の外側に配置されていることを特徴とする請求項３に記載の液処理装置。
5. 回転自在に配置された被処理体を回転させながら被処理体に所定の処理液を供給して液処理を行う液処理部と、
   前記液処理部を収納する液処理室と、
   前記液処理部の下方に設けられ、上下方向駆動により前記液処理部との間で前記被処理体の受渡を行う被処理体受渡機構が配設された被処理体待機室と、
   前記液処理室と前記被処理体待機室との間を仕切る仕切壁に設けられた被処理体を搬送するための被処理体搬送用開口部と、
   前記被処理体搬送用開口部を密閉するシャッターと、
   前記被処理体を収納可能な容器の搬入出を行う容器搬入出部と、
   前記被処理体待機室と前記容器搬入出部との間に位置し、前記容器の載置が可能であり、かつ、前記被処理体待機室との間で前記容器の受渡を行う第１容器搬送機構が配設された容器中継部と、
   前記容器中継部と前記容器搬入出部との間で前記容器の搬送を行う第２容器搬送機構と、を具備し、
   前記液処理部は、
   前記被処理体を収納する保持手段と、
   前記保持手段を収納し、端面部を構成する固定部と側面部を構成する移動部とを有する処理チャンバと、
   前記処理チャンバに配設され、前記保持手段に保持された被処理体に所定の処理液を供給する処理液供給機構と、
   前記処理チャンバの前記移動部をガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、を具備し、
   前記移動部は、前記ガイドに沿って、前記被処理体を保持した前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能であり、
   前記処理位置において、前記移動部が前記固定部とともに密閉構造の処理チャンバを構成し、
   前記スライド機構は、前記内側部分と前記外側部分の両方をガイドに沿ってスライドさせ、前記内側部分および前記外側部分の両方が、前記ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能であり、
   前記内側部分および前記外側部分は、それぞれ、前記処理位置において前記固定部とともに密閉構造の内側チャンバおよび外側チャンバを構成し、
   液処理の際に、前記液処理部が密閉構造とされるとともに、前記シャッターが閉じられることにより前記液処理室も密閉構造とされて実質的に外部と遮断された状態とされることを特徴とする液処理装置。
6. 前記容器中継部が配設された容器中継室と前記被処理体待機室との間を仕切る仕切壁に設けられた前記容器を搬送するための容器搬送用開口部と、
   前記容器搬送用開口部を密閉するシャッターと、
   を具備し、
   前記被処理体搬送用開口部を密閉するシャッターが閉じられ、かつ、前記容器搬送用開口部を密閉するシャッターが閉じられることにより、前記液処理室と前記被処理体待機室がそれぞれ密閉構造とされ、実質的に外部と遮断されることを特徴とする請求項５に記載の液処理装置。
7. 前記液処理室の上方に設けられ、前記液処理室に清浄な空気を送風するフィルターファンユニットと、
   前記液処理室の排気を行う排気機構と、を具備し、
   前記液処理室の雰囲気制御が可能であることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の液処理装置。
8. 前記液処理室には、
   火災を検知する火災検知センサと、
   前記火災検知センサの信号を受けて前記液処理室に消火薬剤を散布する消火装置と、が配設されていることを特徴とする請求項１から請求項７のいずれか１項に記載の液処理装置。

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