JP2002217162A - 液処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 薬液等が貯蔵されるユニットにおいて異常が
発生した場合にその原因特定が容易であり、しかも作業
者の安全が確保される液処理装置を提供する。 【解決手段】 基板に所定の液処理を施す液処理装置、
例えば、半導体ウエハの洗浄処理装置１は、ウエハＷを
保持するロータ３４と、ロータ３４に保持されたウエハ
Ｗに所定の処理液を供給して液処理を行うチャンバ７０
と、チャンバ７０へ所定の薬液を供給する薬液供給ユニ
ット５とを具備する。薬液供給ユニット５の一側面には
薬液供給ユニット５の内部にアクセスできるように開閉
可能な扉が設けられ、この扉を略透明な内側扉７７と金
属製の外側扉７５からなる二重構造とした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハやＬ
ＣＤ基板等の各種基板に対して所定の液処理や乾燥処理
を施す液処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、半導体デバイスの製造工程にお
いては、基板としての半導体ウエハ（ウエハ）を所定の
薬液や純水等の洗浄液によって洗浄し、ウエハからパー
ティクル、有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーシ
ョン、エッチング処理後のポリマー等を除去するウエハ
洗浄装置や、窒素（Ｎ_２）ガス等の不活性ガスや揮発性
および親水性の高いＩＰＡ蒸気等によってウエハから液
滴を取り除いてウエハを乾燥させるウエハ乾燥装置が使
用されている。

【０００３】このような洗浄・乾燥装置は、通常、使用
される薬液や純水、ＩＰＡ等の処理液を所定量ほど貯留
するタンクや、タンクからウエハに供給する送液機構
や、使用された処理液のうち再利用できるものはタンク
に回収し、再利用不能なものは別途回収して廃棄する処
理液回収機構等が配設された１つのユニット（以下「ケ
ミカルユニット」という）を有している。

【０００４】ここで、ケミカルユニットの内部にアクセ
スするために、ケミカルユニットの一側面は開閉可能な
扉構造が採られており、例えば、作業員がこの扉を開い
た場合にはケミカルユニットに配設された送液機構等の
各種動作機器の運転が停止されるようにセンサが作動す
る構造となっているものや、扉を開いてもケミカルユニ
ット内に配設された動作機器の運転は停止することな
く、これら動作機器の運転は操作パネル（制御パネル）
からの制御信号のみによって制御されているものがあ
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、作業員
が扉を開いた場合にケミカルユニットに配設された送液
機構等の各種動作機器の運転が停止される構造では、例
えば、液処理の供給状態に異常が生じた場合に、その原
因を特定して修理を行うために扉を開くと全ての動作機
構の運転が自動的に停止してしまうことから、不良原因
を特定することができなくなる問題がある。この場合、
別途、マニュアルによる運転により個々の動作機器を運
転させて不良原因を特定しなければならない等、修復に
時間を要することとなる。

【０００６】一方、扉が開いてもケミカルユニット内に
配設された動作機器の運転が停止しない場合には、ケミ
カルユニットで有害な有機溶媒等の蒸気が発生していた
場合等に作業員の安全が確保できないこととなるという
問題がある。なお、ケミカルユニットにおいては一般的
に各種の引火性溶媒が用いられることから、ケミカルユ
ニットの安全性をより高めることは、液処理装置の信頼
性を向上させる点からも望ましい。

【０００７】本発明は、このような従来技術の問題点に
鑑みてなされたものであり、薬液等が貯蔵されるユニッ
トにおいて異常が発生した場合にその原因特定が容易で
あり、しかも作業者の安全が確保される液処理装置を提
供することを目的とする。また、本発明は、薬液等が貯
蔵されるユニットにおいて火災や爆発等があった場合に
その被害が周囲に及び難い安全性に優れた液処理装置を
提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明によれば、基板に所定の液処理を施す液処理
装置であって、基板を保持する保持手段と、前記保持手
段に保持された基板に所定の処理液を供給して液処理を
行う処理容器と、前記処理容器へ所定の処理液を供給す
る処理液供給機構が配設された処理液供給ユニットと、
を具備し、前記処理液供給ユニットの一側面には前記処
理液供給ユニットの内部にアクセスできるように開閉可
能な扉が設けられ、前記扉は略透明な内側扉と金属製の
外側扉とからなる二重構造を有することを特徴とする液
処理装置、が提供される。

【０００９】また、本発明によれば、基板に所定の液処
理を施す液処理装置であって、基板が収納された搬送容
器の搬入出が行われる容器搬入出部と、基板を保持する
保持手段および前記保持手段に保持された基板に所定の
処理液を供給して液処理を行う処理容器が配設された液
処理ユニットと、前記容器搬入出部と前記液処理ユニッ
トとの間で基板の搬送を行う基板搬送ユニットと、前記
処理容器へ所定の処理液を供給する処理液供給機構が配
設された処理液供給ユニットと、を具備し、前記処理液
供給ユニットの一側面には前記処理液供給ユニットの内
部にアクセスできるように開閉可能な扉が設けられ、前
記扉は略透明な内側扉と金属製の外側扉とからなる二重
構造を有することを特徴とする液処理装置、が提供され
る。

【００１０】さらに本発明によれば、基板に所定の液処
理を施す液処理装置であって、基板を保持する保持手段
と、前記保持手段に保持された基板に所定の処理液を供
給して液処理を行う処理容器と、前記処理容器へ所定の
処理液を供給する処理液供給機構が配設された処理液供
給ユニットと、前記処理液供給ユニットの内部にアクセ
スできるように前記処理液供給ユニットの一側面に設け
られた開閉可能な略透明な内側扉と金属製の外側扉から
なる二重構造扉と、を具備し、前記内側扉と前記外側扉
はそれぞれ前記処理液供給ユニットに外気を取り込むた
めの吸気口と前記処理液供給ユニット内において急激な
気圧上昇が起こった場合に前記気圧を外気圧に解放する
放散口とが一体的に形成された吸気・放散手段を有する
ことを特徴とする液処理装置、が提供される。

【００１１】このような本発明の液処理装置によれば、
処理液供給ユニットの扉は外側が金属製であることか
ら、液処理装置内部で火災、爆発等が発生した場合に
も、外部への延焼や破片の飛散が抑制されるので、安全
性に優れる。また、処理液供給ユニット内に配設された
機器に何らかの異常が発生した場合には、金属製の外側
扉を開いても処理液供給ユニット内の機器の運転が停止
しないようにすることにより、略透明な内側扉を透して
内部を観察することができるため、故障個所等を容易に
発見することが可能となる。なお、内側扉を開いた場合
には開いた内側扉に対応する処理液供給ユニット内の機
器が動作停止するようにすることで、作業員の安全が確
保される。

【００１２】また、本発明の液処理装置によれば、吸気
口から処理液供給ユニットに外部の空気が取り込まれて
いることから、処理液供給ユニットにおいて処理液等の
漏れが発生していた場合に外側扉および内側扉を開けて
も、その蒸気等を扉を開けた作業員が吸引することが防
止される。また、処理液供給ユニット等において爆発等
が発生し、内部圧力が高まった場合には放散口が作動す
ることで、内部からの機器の破片の散乱を防止しつつ、
内部圧力を外部圧力へ解放することができるために、液
処理装置全体が爆発する等の事故の発生が防止される。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しながら本
発明の実施の形態について具体的に説明する。本発明の
液処理装置は、例えば、各種基板を被処理体とする洗浄
処理装置や乾燥処理装置等に適用できる。そこで、本実
施形態においては、半導体ウエハ（ウエハ）の搬入、洗
浄、乾燥、搬出をバッチ式に一貫して行うように構成さ
れた洗浄処理装置に本発明を適用した場合について説明
することとする。

【００１４】本実施形態に係る洗浄処理装置１の外観を
示す斜視図を図１に示す。洗浄処理装置１は、複数枚の
ウエハＷを収納可能なフープ（収納容器）Ｆを載置する
ためのフープステージ２ａ〜２ｃが設けられたフープ搬
入出部２と、ウエハＷに対して洗浄処理を実施する洗浄
処理ユニット３と、フープ搬入出部２と洗浄処理ユニッ
ト３との間に設けられ、ウエハＷの搬送を行うウエハ搬
送ユニット４と、洗浄処理のための薬液を貯蔵等する薬
液供給ユニット５と、から主に構成されている。ここ
で、洗浄処理ユニット３はウエハ移載室３ａとチャンバ
室３ｂおよびチャンバ室３ｂの下方に設けられた図示し
ないユーティリティ室から構成されている。

【００１５】また、洗浄処理装置１に配設された各種の
電動駆動機構や電子制御装置のための電源ボックス６
と、薬液供給ユニット５に貯蔵された薬液等の温度制御
を主に行うための温度制御ボックス７ａと、洗浄処理ユ
ニット３におけるウエハＷの処理プロセスを制御するプ
ロセス制御ボックス７ｂ（温度制御ボックス７ａの直下
に配設されるが図１に示さず後に示す図９において図
示）とが洗浄処理ユニット３の上部に設けられており、
ウエハ搬送ユニット４の上部には、洗浄処理装置１に設
けられた各種の表示パネルを制御する表示ボックス９
と、ウエハ搬送ユニット４におけるウエハＷの処理プロ
セスを制御する搬送機構制御ボックス１０が設けられて
いる。そして、薬液供給ユニット５の上部には各ボック
ス等からの熱排気を集めて排気する熱排気ボックス８が
設けられている。

【００１６】次に、洗浄処理装置１の概略構造を示す平
面図を図２に、洗浄処理装置１の概略構造を示す側面図
を図３に、図３の側面図に示された一部の駆動機構を駆
動させた状態を示した側面図を図４にそれぞれ示す。こ
こで、図２から図４においては、フープ搬入出部２、洗
浄処理ユニット３、ウエハ搬送ユニット４、薬液供給ユ
ニット５のみを示し、洗浄処理ユニット３、ウエハ搬送
ユニット４、薬液供給ユニット５の上部に配設された電
源ボックス６その他各種のボックスについては図示して
いない。また、図３および図４については、洗浄処理ユ
ニット３においてウエハ移載室３ａの概略構造を示して
いる。以下、上記各ユニット等について詳細に説明す
る。

【００１７】最初にフープ搬入出部２について説明す
る。フープ搬入出部２には３箇所のフープステージ２ａ
〜２ｃが設けられており、フープステージ２ａ〜２ｃに
載置されるフープＦは、ウエハＷを複数枚、例えば２５
枚を所定間隔で主面が水平になるように収納することが
可能となっており、フープＦの一側面にはウエハＷを搬
入出するためのウエハ搬入出口が設けられており、ウエ
ハ搬入出口は蓋体１１により開閉されるようになってい
る。

【００１８】ウエハ搬送ユニット４とフープ搬入出部２
との間の境界壁１２には窓部１２ａ〜１２ｃが設けられ
ており、フープＦに形成されたウエハ搬入出口の外周部
が窓部１２ａ〜１２ｃを閉塞し、また、蓋体１１が蓋体
開閉機構１５ａ〜１５ｃによって脱着可能な状態となる
ようにして、フープＦはフープステージ２ａ〜２ｃ上に
載置される（図４参照）。

【００１９】続いてウエハ搬送ユニット４について説明
する。境界壁１２の内側（ウエハ搬送ユニット４側）に
は、窓部１２ａ〜１２ｃのそれぞれの位置に、窓部１２
ａ〜１２ｃを開閉するシャッター１３ａ〜１３ｃとシャ
ッター１３ａ〜１３ｃを昇降させる昇降機構１４ａ〜１
４ｃとからなる蓋体開閉機構１５ａ〜１５ｃが配設され
ている。また、ウエハ搬送ユニット４には、ウエハ検査
機構１１０と、ウエハ搬送機構１６と、フィルターファ
ンユニット（ＦＦＵ）２４ａ・２４ｂと、ウエハ搬送ユ
ニット４と洗浄処理ユニット３とを仕切る境界壁２５に
形成された窓部２５ａを開閉するためのシャッター２６
ａとシャッター２６ａの昇降機構２６ｂと、操作パネル
４ａが設けられている。

【００２０】蓋体開閉機構１５ａ〜１５ｃは図示しない
吸着パッド等の蓋体把持手段を有しており、これにより
フープＦの蓋体１１をシャッター１３ａ〜１３ｃととも
に昇降させることができるようになっている。フープＦ
がフープステージ２ａ〜２ｃに載置されていないときに
は、シャッター１３ａ〜１３ｃが窓部１２ａ〜１２ｃを
閉塞した状態にあり、外部からウエハ搬送ユニット４へ
のパーティクル等の侵入が防止されている。一方、ウエ
ハＷをフープＦから搬出し、またはフープＦへ搬入する
際には、ウエハ搬送機構１６の搬送アーム１７ａ・１７
ｂがフープＦにアクセスできるように、シャッター１３
ａ〜１３ｃおよびフープＦの蓋体１１が蓋体開閉機構１
５ａ〜１５ｃにより降下され、窓部１２ａ〜１２ｃは開
口した状態とされる。

【００２１】ウエハ検査機構１１０は窓部１２ａ〜１２
ｃのそれぞれに対して設けられており、フープＦ内のウ
エハＷの枚数を計測し、また、ウエハＷの収納状態を検
査する。このウエハ検査機構１１０は、例えば、赤外線
レーザを用いた発信部と受信部を有する反射式光センサ
１１１を、モータ１１３を用いてガイド１１２に沿って
Ｚ方向（鉛直方向）にスキャンさせながら、ウエハＷの
端面からの反射光を受信し、フープＦに収納されたウエ
ハＷの枚数や収納状態、例えば、ウエハＷが所定のピッ
チで略平行に１枚ずつ収納されているかどうか、２枚の
ウエハＷが重なって収納されていないかどうか、ウエハ
Ｗが段差ずれして斜めに収納されていないかどうか、ウ
エハＷがフープＦ内の所定位置から飛び出していないか
どうか等を検査することができるようになっている。

【００２２】なお、ウエハ搬送機構１６にウエハ検査機
構１１０を取り付けて、ウエハ検査機構１１０をウエハ
搬送機構１６とともに移動可能な構造とすれば、ウエハ
検査機構１１０は１箇所のみの配設で済ませることが可
能である。また、例えば、ウエハＷの収納枚数を確認す
るセンサと、ウエハＷの収納状態を検査するセンサを別
に設けることもできる。さらに、ウエハ検査機構１１０
を蓋体開閉機構１５ａ〜１５ｃに配設することも可能で
ある。

【００２３】ウエハ搬送ユニット４に配設されたウエハ
搬送機構１６は、リニア駆動機構１９と、ウエハＷを保
持する搬送アーム１７ａ・１７ｂと、搬送アーム１７ａ
・１７ｂをそれぞれ保持する保持部１８ａ・１８ｂと、
搬送アーム１７ａ・１７ｂおよび保持部１８ａ・１８ｂ
がそれぞれ配設されたスライド機構２０ａ・２０ｂと、
スライド機構２０ａ・２０ｂが配置された回転自在なテ
ーブル２１と、テーブル２１を回転させる回転機構２２
と、回転機構２２から上の部分を昇降させる昇降機構２
３と、を有している。

【００２４】リニア駆動機構１９は、Ｘ方向に延在する
ガイド１９ａと、モータ１９ｂとモータ１９ｂによって
回転する枢軸１９ｃを有しており、ガイド１９ａのベー
ス部には排気口１９ｄが形成されている。枢軸１９ｃは
昇降機構２３と噛み合っており、枢軸の回転によって昇
降機構２３がＸ方向に移動できるようになっている。

【００２５】ウエハ搬送機構１６には２系統の搬送アー
ム１７ａ・１７ｂが設けられており、こうして、例え
ば、搬送アーム１７ａを未処理のウエハＷを搬送するた
めに用い、搬送アーム１７ｂを洗浄処理済みのウエハＷ
を搬送するために用いることができるようになってい
る。この場合には、１系統の搬送アームのみが配設され
ている場合と比較して、未処理のウエハＷに付着してい
たパーティクル等が搬送アームに付着してさらに処理済
みのウエハＷに付着するといったことが有効に防止され
る。また、２系統の搬送アームを設けることで、洗浄処
理ユニット３との間で処理済みのウエハＷを受け取った
直後に次の未処理のウエハＷを受け渡すことができ、こ
れにより装置の処理可動時間が有効に使えるためスルー
プットを向上させることができる。

【００２６】１個の搬送アーム１７ａは１枚のウエハＷ
を搬送し、かつ、フープＦに収納されている２５枚のウ
エハＷを一度に搬送可能なように、２５個の搬送アーム
１７ａが略平行に所定間隔で保持部１８ａに保持されて
おり、２５個の搬送アーム１７ｂもまた略平行に所定間
隔で保持部１８ｂに保持されている。フープＦまたは後
述するロータ３４と搬送アーム１７ａ・１７ｂとの間で
ウエハＷの受け渡しを行う際には、搬送アーム１７ａ・
１７ｂを所定距離ほど上下させる必要があるが、この搬
送アーム１７ａ・１７ｂの昇降動作は昇降機構２３より
行うことができる。なお、保持部１８ａ・１８ｂに別途
搬送アーム１７ａ・１７ｂを上下させる昇降機構を配設
してもよい。

【００２７】スライド機構２０ａ・２０ｂによって搬送
アーム１７ａ・１７ｂは保持部１８ａ・１８ｂともに搬
送アーム１７ａ・１７ｂの長さ方向にスライド可能とな
っており（図２、図４参照）、またテーブル２１は回転
機構２２によって図２に示すθ方向における水平面内で
の回転ができるように構成されており、さらにリニア駆
動機構１９によって昇降機構２３から上の部分をＸ方向
に移動可能であることから、搬送アーム１７ａ・１７ｂ
は、フープステージ２ａ〜２ｃに載置されたいずれのフ
ープＦおよび後述するロータ３４にもアクセスでき、こ
うしてフープステージ２ａ〜２ｃに載置されたフープＦ
とロータ３４との間で、ウエハＷを水平状態に保持して
搬送することができるようになっている。

【００２８】なお、スライド機構２０ａを動作させて、
搬送アーム１７ａおよび保持部１８ａをロータ３４側に
スライドさせ、ウエハＷをロータ３４に受け渡した状態
は図４に示されている。また、フープＦ内のウエハＷの
高さ位置と、ロータ３４においてウエハＷが保持される
高さ位置を合わせることで、昇降機構２３による搬送ア
ーム１７ａ・１７ｂの高さ合わせの工程を省略すること
が可能である。

【００２９】上述したウエハ搬送機構１６においては、
搬送アーム１７ａ・１７ｂがテーブル２１の回転中心に
対して点対称な位置に配設されているので、スライド機
構２０ａ・２０ｂが伸張していない状態でテーブル２１
を回転させると、搬送アーム１７ａ・１７ｂがウエハＷ
を保持した状態であっても、搬送アーム１７ａ・１７ｂ
が回転時に通過する軌跡の範囲を狭くすることができ
る。こうして、洗浄処理装置１ではウエハ搬送ユニット
４が省スペース化されている。

【００３０】図１に示されるように、ウエハ搬送ユニッ
ト４の天井部には段差が設けられており、天井の低い部
分にはＦＦＵ２４ａが配設され、高い部分にはＦＦＵ２
４ｂが配設されている。ＦＦＵ２４ａ・２４ｂの空気取
り込みはそれぞれ洗浄処理装置１の側面または上面から
行うことができるようになっている。ＦＦＵ２４ａ・２
４ｂからのダウンフローによってウエハ搬送機構１６に
よって裸の状態で搬送されるウエハＷにパーティクル等
が付着することが防止され、また、ウエハ搬送機構１６
の駆動によって生ずるパーティクル等は、ダウンフロー
によってウエハ搬送ユニット４の底部に形成された図示
しない排気口やリニア駆動機構１９のベースに形成され
た排気口１９ｄから排気される。

【００３１】なお、ＦＦＵ２４ａ・２４ｂの下方に図示
しないイオナイザを設けて、ウエハＷの除電を行うこと
もできる。また、窓部１２ａ〜１２ｃが開口している状
態では、ＦＦＵ２４ａからのダウンフローの一部がフー
プＦ内にも流れ込み、フープＦ内にパーティクル等が付
着することが防止される。ここで、フープＦに通気口が
形成されている場合には、フープＦ内に流れ込んだダウ
ンフローはフープＦを通してフープ搬入出部２から排出
されることとなる。

【００３２】ウエハ搬送ユニット４と洗浄処理ユニット
３とを仕切る境界壁２５には、ウエハＷの搬送のための
窓部２５ａが形成されており、この窓部２５ａは、昇降
機構２６ｂにより昇降自在となっているシャッター２６
ａによって開閉される。シャッター２６ａは洗浄処理装
置１においては、ウエハ搬送ユニット４側に設けられて
いるが、洗浄処理ユニット３側に設けることもできる。
ウエハ搬送ユニット４と洗浄処理ユニット３との間での
ウエハＷの搬送はこの窓部２５ａを介して行われる。な
お、シャッター２６ａにより、ウエハ搬送ユニット４と
洗浄処理ユニット３の雰囲気が分離できるようになって
いることから、例えば、洗浄処理ユニット３において処
理液が飛散し、または処理液の蒸気が拡散等した場合で
も、ウエハ搬送ユニット４にまで汚染が拡大することが
防止される。

【００３３】続いて、洗浄処理ユニット３について説明
する。図２に示されるように、洗浄処理ユニット３は、
ウエハ移載室３ａとチャンバ室３ｂとチャンバ室３ｂの
下方に設けられた図示しないユーティリティ室から構成
されている。ウエハ移載室３ａには、ＦＦＵ２４ｃと、
ロータ回転機構２７と、ロータ回転機構２７の姿勢を制
御する姿勢変換機構２８と、ロータ回転機構２７および
姿勢変換機構２８を垂直方向に移動させるＺ軸リニア駆
動機構２９と、Ｚ軸リニア駆動機構２９を水平方向に移
動させるＸ軸リニア駆動機構３０と、姿勢変換機構２８
およびＺ軸リニア駆動機構２９から発生するパーティク
ルがロータ回転機構２７側へ飛散してウエハＷに付着等
することを防止するためのカバー４５と、Ｘ軸リニア駆
動機構３０から発生するパーティクルがロータ回転機構
２７側へ飛散してウエハＷに付着等することを防止する
ためのカバー４６と、が設けられている。

【００３４】また、チャンバ室３ｂには、固定された外
側チャンバ７１ａと水平方向にスライド自在な内側チャ
ンバ７１ｂとからなる二重構造を有するチャンバ７０が
配設されており、ユーティリティ室には、外側チャンバ
７１ａや内側チャンバ７１ｂに供給する処理液の昇圧ポ
ンプや外側チャンバ７１ａや内側チャンバ７１ｂから排
出される処理液等を外部へ導く配管等が配設されてい
る。

【００３５】図５と図６はチャンバ室３ｂに配設された
チャンバ７０にロータ回転機構２７の有するロータ３４
が挿入されている状態を示した断面図であり、図５は内
側チャンバ７１ｂを外側チャンバ７１ａの外側に退避さ
せた退避位置にある状態を、図６は内側チャンバ７１ｂ
を外側チャンバ７１ａに収納した処理位置にある状態を
それぞれ示している。

【００３６】外側チャンバ７１ａは、筒状体６１ａと、
筒状体６１ａの一方の端面に配設されたリング部材６２
ｂと、リング部材６２ｂの内周面に配設されたシール機
構６３ｂと、水平方向に多数の処理液吐出口５４が形成
され、筒状体６１ａに取り付けられた処理液吐出ノズル
５３と、処理液吐出ノズル５３を収容するノズルケース
５７と、外側チャンバ７１ａの下部に設けられ、処理液
を排出し、また排気をも行うことができる排気／排液管
６５ａとを有している。

【００３７】なお、筒状体６１ａの他方の端面は垂直壁
６２ａに取り付けられており、垂直壁６２ａにはロータ
３４が進入／退出可能なロータ搬入出口６２ｃが形成さ
れ、このロータ搬入出口６２ｃは図２に示すように蓋体
６２ｄにより開閉可能となっている。

【００３８】内側チャンバ７１ｂは、筒状体６１ｂと、
筒状体６１ｂの端面に配設されたリング部材６６ａ・６
６ｂと、リング部材６６ａ・６６ｂの内周面にそれぞれ
２箇所ずつ配設されシール機構６７ａ・６７ｂと、水平
方向に多数の処理液吐出口５６が形成され、筒状体６１
ｂに取り付けられた処理液吐出ノズル５５と、処理液吐
出ノズル５５を収納したノズルケース５８と、内側チャ
ンバ７１ｂの下部に設けられ、処理液を排出するととも
に排気を行うことができる排気／排液管６５ｂと、を有
している。なお、チャンバ室３ｂには、円盤９２ａと、
リング部材９２ｂと、筒状体９１が配設されており、円
盤９２ａには洗浄液吐出ノズル７３ａと排気管７３ｃが
設けられ、筒状体９１にはガス供給ノズル９３と排気管
９４が設けられている。

【００３９】洗浄処理ユニット３について、まずウエハ
移載室３ａ内に配設された各機構について詳細に説明す
る。ロータ回転機構２７は、ウエハＷを所定間隔で保持
可能なロータ３４と、ロータ３４に保持されたウエハＷ
が面内回転するようにロータ３４を回転させるモータ
（駆動機構）３１と、姿勢変換機構２８との連結部３２
と、ロータ３４を後述する外側チャンバ７１ａに挿入し
た際に垂直壁６２ａに形成されたロータ搬入出口６２ｃ
を閉塞する蓋体３３と、連結部３２と蓋体３３を貫通し
てロータ３４とモータ３１を連結している回転軸５０
と、から構成されている。

【００４０】図７はロータ３４の構造を示す斜視図であ
り、ロータ３４は、所定の間隔をおいて配置された一対
の円盤３５ａ・３５ｂと、ウエハＷを保持するための溝
等が形成された係止部材３６ａと、係止部材３６ａと同
様に溝等が形成され開閉可能なホルダー３６ｂと、ホル
ダー３６ｂの開閉の可不可を制御するロックピン３６ｃ
と、を有する。また、このホルダー３６ｂの開閉を行う
ホルダー開閉機構８０が境界壁２５に設けられており
（図３および図４参照）、ホルダー開閉機構８０は、図
３に示す退避位置と図４に示す動作位置との間で移動可
能となっており、ロックピン押圧シリンダ８１と、ホル
ダー開閉シリンダ８２と、を有している。なお、境界壁
２５においてホルダー開閉機構８０が設けられている部
分にはカバー４０が設けられており、ウエハ搬送ユニッ
ト４と洗浄処理ユニット３を隔離している。

【００４１】円盤３５ｂの回転軸５０への固定は、例え
ば、ネジ３５ｃを用いて行うことができ、係止部材３６
ａは、円盤３５ａ・３５ｂの外側からネジ止め等するこ
とで円盤３５ａ・３５ｂ間に固定することができる。ロ
ックピン３６ｃは、例えば、通常の状態では外側に突出
した状態にあり、この状態ではホルダー３６ｂの開閉動
作を行うことができず、一方、図４に示されるように、
ホルダー開閉機構８０がロータ３４にアクセスして、ロ
ックピン押圧シリンダ８１からの押圧力によってロック
ピン３６ｃがロータ３４の内側に向かって押し込まれた
状態となっているときには、ホルダー３６ｂがホルダー
開閉シリンダ８２によって開閉自在な状態となるように
設定することができる。

【００４２】こうして、ホルダー３６ｂが開かれた状態
においては、ロータ３４と搬送アーム１７ａ・１７ｂと
の間でのウエハＷの受け渡しが可能であり、一方、ホル
ダー３６ｂが閉じた状態では、ロータ３４内のウエハＷ
はロータ３４から外部に飛び出すことがない状態に維持
される。

【００４３】ロータ回転機構２７の姿勢を制御する姿勢
変換機構２８は、回転機構４２と回転機構４２に取り付
けられた回転軸４１とを有しており、回転軸４１はロー
タ回転機構２７の連結部３２に固定されている。回転機
構４２によってロータ回転機構２７全体を、図３または
図４に示すようにウエハＷが水平状態で保持されるよう
な姿勢（縦姿勢）に保持することができ、また、図５お
よび図６に示すようにウエハＷが垂直状態で保持される
ような姿勢（横姿勢）に変換して保持することができる
ようになっている。

【００４４】Ｚ軸リニア駆動機構２９は、モータ４３
と、モータ４３の回転駆動力と変位を姿勢変換機構２８
に伝える動力伝達部４４と、ガイド４７と、ガイド４７
を支持する支持体４８と、を有している。姿勢変換機構
２８はガイド４７に沿って移動できるようにガイド４７
と嵌合しており、モータ４３を回転させるとこの回転駆
動力と変位が動力伝達部４４を介して姿勢変換機構２８
に伝えられ、姿勢変換機構２８がロータ回転機構２７と
ともにガイド４７に沿ってＺ方向（垂直方向）に所定距
離移動することができるようになっている。

【００４５】Ｘ軸リニア駆動機構３０は、ガイド４９
と、図示しないモータと、モータに連結されたボールネ
ジ３９ａと、ボールネジ３９ａに噛み合わされた噛み合
わせ部材３９ｂと、ガイド４９に嵌合して噛み合わせ部
材３９ｂと支持体４８とを連結する連結部材３８と、を
有している。モータを回転させることによってボールネ
ジ３９ａが動作し、ボールネジ３９ａの動作に従って噛
み合わせ部材３９ｂはＸ方向に移動する。このとき、連
結部材３８が噛み合わせ部材３９ｂと支持体４８を連結
していることから、連結部材３８と支持体４８もまた噛
み合わせ部材３９ｂとともにＸ方向に移動する。つま
り、噛み合わせ部材３９ｂがＸ方向に移動する際には、
ロータ回転機構２７と姿勢変換機構２８とＺ軸リニア駆
動機構２９が同時にＸ方向に移動するようになってい
る。

【００４６】図８は姿勢変換機構２８とＺ軸リニア駆動
機構２９とＸ軸リニア駆動機構３０を用いてロータ回転
機構２７を移動させるときの形態の一例を示した説明図
である。例えば、ロータ３４にウエハＷを移し替えた後
にロータ３４を外側チャンバ７１ａに進入させる場合に
は、まず、ウエハＷを搬送アーム１７ａからロータ３４
に移し替える必要があるが、このときロータ回転機構２
７は連結部３２が位置Ｐ１に位置して縦姿勢の状態にあ
るものとする。

【００４７】ウエハＷがロータ３４に収納されたらＺ軸
リニア駆動機構２９を動作させて、ロータ回転機構２７
および姿勢変換機構２８を連結部３２が位置Ｐ２に移動
するように上昇させる。そして位置Ｐ２においては、姿
勢変換機構２８を動作させて、ウエハＷが水平保持から
垂直保持の状態になるように、ロータ回転機構２７全体
を９０°回転させ、ロータ回転機構２７全体を横姿勢の
状態とする。続いて、ロータ回転機構２７を横姿勢の状
態としたまま、連結部３２が位置Ｐ３に移動するように
再びＺ軸リニア駆動機構２９を動作させて、ロータ回転
機構２７を上昇させる。

【００４８】連結部３２が位置Ｐ３に到達したら、次
に、Ｘ軸リニア駆動機構３０を動作させて、連結部３２
の位置を位置Ｐ４まで水平移動させることにより、ロー
タ３４を外側チャンバ７１ａに挿入することができる。
なお、ウエハＷの洗浄処理が終了した後は、ロータ回転
機構２７を前述した移動経路を逆走するように移動させ
ることにより、洗浄処理が終了したウエハＷを搬送アー
ム１７ｂに移し替えることが可能となる。

【００４９】さて、ウエハ移載室３ａの天井部分に設け
られたＦＦＵ２４ｃからは、ウエハ移載室３ａに清浄な
空気（ダウンフロー）が送られ、これにより裸の状態で
取り扱われるウエハＷへのパーティクル等の付着が防止
される。ダウンフローの一部はウエハ移載室３ａの底板
に設けられた図示しない排気口から排気される。なお、
ウエハ移載室３ａとチャンバ室３ｂとの境界部分および
ウエハ移載室３ａとユーティリティ室との境界部分にお
いては図示しない通風口が形成されており、ＦＦＵ２４
ｃから送風されるダウンフローは、チャンバ室３ｂまた
はユーティリティ室を通って排気され、こうして、ウエ
ハ移載室３ａとチャンバ室３ｂとユーティリティ室はそ
れぞれが所定の清浄度に保持されるようになっている。

【００５０】続いて、チャンバ室３ｂの内部の構造につ
いて説明する。垂直壁６２ａにはロータ搬入出口６２ｃ
が形成されており、ロータ搬入出口６２ｃの外周にあた
る部分にシール機構６３ａが配設されている。ロータ３
４が外側チャンバ７１ａに進入した状態では、図５およ
び図６に示されるように、ロータ回転機構２７に設けら
れた蓋体３３により閉塞され、蓋体３３の外周面とロー
タ搬入出口６２ｃとの間がシール機構６３ａによりシー
ルされる。こうして外側チャンバ７１ａから処理液がウ
エハ移載室３ａに飛散することが防止される。

【００５１】なお、垂直壁６２ａのウエハ移載室３ａ側
のロータ搬入出口６２ｃ下部には、ロータ３４を外側チ
ャンバ７１ａから退出させるようにロータ回転機構２７
を移動させた際に、蓋体３３やシール機構６３ａ等に付
着していた洗浄液等がロータ搬入出口６２ｃから液漏れ
することを防止するために、液受け６２ｅが設けられて
おり、これによりウエハ移載室３ａを清浄に保つことが
できるようになっている。また、シール機構６３ａとし
ては、例えば、ゴム製シールリングや所定圧力の空気等
を供給することによって膨張することでシール機能が生
ずるゴム製チューブからなるもの等を用いることがで
き、このようなシール機構はシール機構６３ｂ・６７ａ
・６７ｂについても同様に用いられる。

【００５２】外側チャンバ７１ａを構成する筒状体６１
ａは、リング部材６２ｂ側の外径が垂直壁６２ａ側の外
径よりも大きく設定されており、筒状体６１ａは垂直壁
６２ａ側の下端よりもリング部材６２ｂ側の下端が低く
位置するように勾配を設けて配設されている。こうし
て、処理液吐出ノズル５３からウエハＷに向けて吐出さ
れた各種の処理液は、自然に筒状体６１ａの底面を垂直
壁６２ａ側からリング部材６２ｂ側に流れて、排気／排
液管６５ａを通して外部に排出されるようになってい
る。

【００５３】処理液吐出ノズル５３には、薬液供給ユニ
ット５等の処理液供給源から純水やＩＰＡ、各種薬液と
いった処理液や窒素（Ｎ_２）ガス等の乾燥ガスが供給さ
れて、処理液吐出口５４からロータ３４に保持されたウ
エハＷに向かって、これら処理液等を吐出することがで
きるようになっている。また、処理液吐出ノズル５３
は、図５と図６では１本のみ示されているが、複数個配
設することも可能であり、必ずしも筒状体６１ａの真上
に設けなければならないものでもない。このことは、処
理液吐出ノズル５５についても同様である。

【００５４】内側チャンバ７１ｂを構成する筒状体６１
ｂは円筒状に形成されているが、その下部には処理液を
外部に排出することを容易ならしめるために、筒状体６
１ｂから突出し、所定の勾配を有する溝部６９が形成さ
れている。こうして、例えば、内側チャンバ７１ｂが処
理位置にあるときに、処理液吐出ノズル５５からウエハ
Ｗに向かって吐出された処理液は、溝部６９を流れて排
気／排液管６５ｂを通して外部に排出される。なお、処
理液吐出ノズル５５には、薬液供給ユニット５等の処理
液供給源から各種薬液や純水、ＩＰＡといった処理液が
供給されて、処理液吐出口５６からロータ３４に保持さ
れたウエハＷに向かって、これら処理液等を吐出するこ
とができるようになっている。

【００５５】内側チャンバ７１ｂが処理位置にある場合
には、図６に示されるように、リング部材６６ａの内周
面と蓋体３３との間はシール機構６７ａによってシール
され、また、リング部材６６ｂとリング部材６２ｂとの
間がシール機構６３ｂによってシールされ、かつ、リン
グ部材６６ｂと円盤９２ａとの間がシール機構６７ｂに
よってシールされる。こうして、内側チャンバ７１ｂが
処理位置にある場合には、筒状体６１ｂ、リング部材６
６ａ・６６ｂ、円盤９２ａ、蓋体３３によって処理室５
２が形成される。例えば、この処理室５２において、ウ
エハＷに所定の薬液を供給する薬液処理を行うことがで
きる。

【００５６】一方、内側チャンバ７１ｂが退避位置にあ
る図５に示した状態では、リング部材６６ａとリング部
材６２ｂとの間がシール機構６３ｂによってシールさ
れ、かつ、リング部材６６ａと円盤９２ａとの間がシー
ル機構６７ａによってシールされるようになっている。
また、ロータ搬入出口６２ｃは蓋体３３とシール機構６
３ａによって閉塞されていることから、内側チャンバ７
１ｂが退避位置にあるときには、図５に示されるよう
に、筒状体６１ａ、垂直壁６２ａ、リング部材６２ｂ、
円盤９２ａ、リング部材６６ａ、蓋体３３から、外側チ
ャンバ７１ａによる処理室５１が形成される。例えば、
処理室５２での薬液処理が終了した後に、処理室５１に
おいて、ウエハＷの水洗処理、乾燥処理をおこなうこと
ができる。

【００５７】なお、円盤９２ａに設けられた洗浄液吐出
ノズル７３ａからは、円盤３５ａを洗浄、乾燥するため
の洗浄液や乾燥ガスが吐出可能となっており、また、蓋
体３３に設けられた洗浄液吐出ノズル７３ｂからは円盤
３５ｂを洗浄、乾燥するための洗浄液や乾燥ガスが吐出
可能となっている。さらに、洗浄液吐出ノズル７３ａ・
７３ｂからは、処理室５１・５２を所定のガス雰囲気と
するために、例えば、酸素（Ｏ_２）ガスや二酸化炭素
（ＣＯ_２）ガス等を吐出することも可能であり、円盤９
２ａに設けられた排気管７３ｃからは処理室５１・５２
の排気を行うことができるようになっている。

【００５８】ところで、内側チャンバ７１ｂが退避位置
にある状態では、リング部材６６ａと円盤９２ａとの間
がシールされ、かつ、リング部材６６ｂとリング部材９
２ｂとの間がシール機構６７ｂによってシールされるこ
とで、筒状体９１の外周と筒状体６１ｂの内周との間に
狭い環状空間７２が形成されるようになっている。こう
して環状空間７２に処理液吐出ノズル５５から洗浄液を
吐出し、その後に筒状体９１において複数箇所に設けら
れたガス供給ノズル９３と処理液吐出ノズル５５から窒
素ガス等の乾燥ガスを噴射し、排気管９４と排気／排液
管６５ｂから排気を行うことで、内側チャンバ７１ｂの
内周面の洗浄を行うことができるようになっている。こ
のとき、環状空間７２という狭い空間を利用することで
使用する洗浄液の量が低減される。なお、ガス供給ノズ
ル９３から洗浄液を吐出するように構成してもよい。

【００５９】次に、薬液供給ユニット５について説明す
る。図９は洗浄処理装置１を薬液供給ユニット５側から
見た斜視図であり、図１０は洗浄処理装置１の背面図で
あり、図１０（ａ）は薬液供給ユニット５に設けられた
外側扉７５が閉じられた状態を示しており、図１０
（ｂ）は外側扉７５を開いて内側扉７７が閉じられた状
態をそれぞれ示している。後述するように、内側扉７７
は略透明なパネルで構成され、内側扉７７を透して薬液
供給ユニット５内を観察することができるが、図１０の
各図においては、内側扉７７を透して観察可能な薬液供
給ユニット５内のタンク９９ａ〜９９ｄの外形を除いて
他の配管等を図示していない。

【００６０】薬液供給ユニット５は、所定の薬液を貯留
するタンク９９ａ〜９９ｄやタンク９９ａ〜９９ｄから
処理液吐出ノズル５３・５５へ送液を行うための配管等
が配置される薬液貯留部５ａと、タンク９９ａ〜９９ｄ
に貯留されずにライン供給またはライン排出される純水
等の配管が設けられたライン部５ｂから構成されてお
り、薬液貯留部５ａは配設される機器に対応して後述す
るように７つのブロックから構成されている。

【００６１】なお、薬液供給ユニット５には、薬液供給
ユニット５内での火災を検知する図示しない火災検知セ
ンサと、洗浄処理装置１において用いられる引火性溶媒
の漏れを検知する溶媒検知センサとが設けられており、
薬液貯留部５ａを構成する７つのブロックそれぞれに、
前記火災検知センサからの信号を受けて消火薬を放出す
る図示しない消火ノズルが設けられている。

【００６２】洗浄処理装置１の背面、すなわち薬液供給
ユニット５の主パネル面には、薬液貯留部５ａについて
は外側扉７５と内側扉７７からなる二重構造扉と、タン
ク９９ａ〜９９ｄのそれぞれに貯留される各薬液につい
て２箇所ずつのドレイン口８３とが設けられ、外側扉７
５には、取っ手７４と、吸気・放散手段７６と、外側扉
７５の開閉状態を検知する外側扉開閉検知センサ９６が
設けられている。また、内側扉７７は薬液貯留部５ａの
７つのブロックにそれぞれ対応するように７枚の分割扉
７７ａ〜７７ｇとして設けられており、分割扉７７ａ〜
７７ｇのそれぞれに吸気・放散手段７８と、取っ手７９
と、分割扉７７ａ〜７７ｇの開閉状態を検知する分割扉
開閉検知センサ９７が設けられている。

【００６３】ライン部５ｂについては、処理液吐出ノズ
ル５３・５５やガス供給ノズル９３へ所定のガスを供給
するガス供給口８４（３箇所）と、排気管７３ｃ・９４
等から排出されるミストを排気するためのミスト排気口
８５と、薬液供給ユニット５内に導入された空気を排気
するエリア排気口８６と、各種駆動機器の駆動発熱部等
を冷却するための冷却水イン・アウトポート８７と、処
理液吐出ノズル５３・５５へ送液する純水のイン・アウ
トポート８８と、使用される処理液の種類に応じて３箇
所に分けて設けられたドレイン８９と、外側扉７５が開
口状態にあることを表示する表示モニタ９８と、が設け
られている。

【００６４】外側扉７５としては、ステンレス等の金属
製扉が用いられており、これにより、薬液供給ユニット
５内で火災等が生じても外部への延焼が起こり難く、ま
た、薬液供給ユニット５内で爆発等が生じた場合にも、
機器の破片が外部に散乱し難い構造となっている。外側
扉７５は取っ手７４を外側に引っ張ることで中央部分か
ら開口するようになっているが、このような２枚扉に限
定されるものではなく、１枚扉であってもよい。

【００６５】吸気・放散手段７６の構造を図１１（ａ）
〜（ｃ）に示す。ここで、図１１（ａ）は放散口７６ｆ
が閉口している薬液供給ユニット５の通常動作時の状態
を示した断面図であり、図１１（ｂ）は薬液供給ユニッ
ト５の内圧が上昇して放散口７６ｆが開いた状態を示し
た断面図であり、図１１（ｃ）は外側扉７５に配設され
た吸気・放散手段７６の全てが動作して放散口７６ｆが
開口した状態を示した説明図である。

【００６６】吸気・放散手段７６は、外側扉７５に形成
された孔部７５ａを通常の状態においてほぼ閉塞するよ
うに設けられた可動ポケット７６ａを主体として構成さ
れている。可動ポケット７６ａは、吸気口７６ｂと、可
動ポケット７６ａが通常の状態にあるときに外側扉７５
の壁面に当接するストッパ７６ｃと、可動ポケット７６
ａが前方（外側）へ傾倒したとき外側扉７５の壁面に当
接するストッパ７６ｄと、可動ポケット７６ａを外側扉
７５に取り付け、かつ、可動ポケット７６ａが傾倒する
際の回転中心となる部分に配設された蝶番７６ｅ等の治
具と、放散口７６ｆとなる開口部と、を有している。

【００６７】吸気口７６ｂは可動ポケット７６ａの前面
壁にパンチング等により形成された穴部であって、吸気
口７６ｂからの吸気は、例えば、エリア排気口８６に連
結される工場排気設備等からの吸引力を利用して行われ
る。図１１（ａ）に示すように、吸気口７６ｂは常時開
口した状態にあることから、吸気口７６ｂは薬液供給ユ
ニット５内の気圧が上昇した場合には内部の気圧を外部
気圧へと解放する放散口としても機能する。しかしなが
ら、薬液供給ユニット５内の気圧上昇が急激な場合に
は、吸気口７６ｂからの放圧のみでは追いつかずに薬液
供給ユニット５全体全体が爆発する虞もあることから、
より速やかに内部の気圧を外部気圧へと解放する必要が
ある。

【００６８】そこで、図１１（ｂ）に示すように、薬液
供給ユニット５内の圧力が所定値以上となったときにの
み、可動ポケット７６ａが前面側に所定角度ほど傾倒す
ることによって放散口７６ｆが形成され、これにより放
圧面積が増大して、速やかに内圧が外気圧へと解放さ
れ、薬液供給ユニット５内の急激な圧力上昇が起こった
際の薬液供給ユニット５全体の爆発等が回避される。

【００６９】図１１（ｃ）に示されるように、薬液供給
ユニット５の上部に配設された吸気・放散手段７６は薬
液供給ユニット５内から放出されるガスが上方へ向かっ
て排出されるように放散口７６ｆが開き、一方、薬液供
給ユニット５の下部に配設された吸気・放散手段７６は
薬液供給ユニット５内から放出されるガスが下方へ向か
って排出されるように放散口７６ｆが開くようになって
いる。こうして、例えば、放散口７６ｆから放出される
ガスが薬液供給ユニット５の近くにいる作業員等へ直接
にあたらないようになっている。なお、放散口７６ｆが
開く際には吸気口７６ｂが閉塞されるような構造とし
て、確実に外側扉７５から水平方向にガスが排出されな
くなる構造としてもよく、この場合には、放散口ｆの面
積を吸気口７６ｂの面積を考慮して、より大きく設定す
ることが好ましい。

【００７０】外側扉７５の開閉状態を検知する外側扉開
閉検知センサ９６は外側扉７５の内側に配設されてお
り、この外側扉開閉検知センサ９６は、通常のプラスド
ライバーや六角レンチ等の作業工具では取り外しができ
ないように、特殊なネジ等を用いて取り付けられてい
る。これにより、作業員の外側扉開閉検知センサ９６の
故意による取り外しが防止され、安全性を確保するため
の外側扉開閉検知センサ９６の機能が確保されるように
なっている。

【００７１】外側扉開閉検知センサ９６としては、レー
ザ等の光を利用してセンサと分割された分割扉７７ａ〜
７７ｇ間のフレームとの距離を検出することにより外側
扉７５の開閉状態を検知するものや、外側扉７５が閉口
している状態では圧力接点がオンの状態となっており、
外側扉７５を開口した際にこの圧力接点がオフの状態と
なることで外側扉７５の開閉状態を検知するもの等、種
々の検知形態のセンサを用いることができる。

【００７２】外側扉開閉検知センサ９６が外側扉７５の
開口状態を検知したときには、表示モニタ９８や操作パ
ネル４ａに外側扉７５が開口している状態にあることが
表示される。また、音や光により外側扉７５が開口して
いる状態を作業員に確実に知らせるように図示しない警
報装置が作動するようにシーケンスが組まれており、こ
れにより、外側扉７５を開口した状態で洗浄処理を行う
際には作業員に注意を喚起するようになっている。

【００７３】なお、外側扉開閉検知センサ９６は、薬液
供給ユニット５で用いられる薬液の蒸気に晒されること
で劣化が早められることも想定される。従って、センシ
ングに影響を与えない範囲で、外側扉開閉検知センサ９
６の周囲をハウジング９６ａで囲い、そのハウジング９
６ａ内部を窒素ガスや薬液の蒸気を含まない清浄な空気
等の腐食性を有しないガスでパージすることで、外側扉
開閉検知センサ９６の使用寿命を長期化することが可能
である。光を用いたセンサでは透明なハウジングを用い
て全体を囲うことが可能である。

【００７４】内側扉７７を構成する７枚の分割扉７７ａ
〜７７ｇには、薬液貯留部５ａの内部を外部から目視に
て観察することができるように、略透明なパネル、例え
ば、透明樹脂パネルや透明ガラスパネルが用いられてお
り、薬液貯留部５ａの内部を透視観察可能な限り着色さ
れていても構わない。

【００７５】分割扉７７ａ〜７７ｇは、薬液貯留部５ａ
を構成する７つのブロックにそれぞれ対応しており、こ
うして、ブロック毎に対応する内側扉を取り外して薬液
貯留部５ａの内部へアクセスすることができるようにな
っている。薬液供給ユニット５においては、分割扉７７
ａは処理液吐出ノズル５３・５５等へ送液する薬液の種
類を切り替える機器が配設されたブロックに、分割扉７
７ｅはＩＰＡ等の使用量の多い薬液を貯留するタンク９
９ａ・９９ｂが配置されたブロックに、分割扉７７ｂは
タンク９９ａ・９９ｂからの送液を行うためのポンプ等
が配設されたブロックに、それぞれ取り付けられてい
る。

【００７６】また、分割扉７７ｆは所定の薬液（以下
「第１薬液」とする）を貯留したタンク９９ｃが配設さ
れたブロックに、分割扉７７ｃはタンク９９ｃから第１
薬液の送液を行うためのポンプ等が配設されたブロック
に、分割扉７７ｇは別の所定の薬液（以下「第２薬液」
とする）を貯留したタンク９９ｄが配設されたブロック
に、分割扉７７ｄはタンク９９ｄから第２薬液の送液を
行うためのポンプ等が配設されたブロックに、それぞれ
取り付けられている。なお、薬液貯留部５ａのブロック
分割は、このような形態に限定されるものではない。

【００７７】分割扉７７ａ〜７７ｇは通常の状態では、
所定位置に嵌め込まれているが、薬液貯留部５ａの各ブ
ロックにアクセスする際には全体を取り外すことが可能
となっている。取っ手７９はこの分割扉７７ａ〜７７ｇ
の脱着作業を補助するものである。

【００７８】分割扉７７ａ〜７７ｇにそれぞれ設けられ
た吸気・放散手段７８は、前述した吸気・放散手段７６
と同様の構造を有する。吸気口７８ｂの大きさは吸気口
７６ｂと同等であり、吸気時の圧損が小さくなるように
吸気口７８ｂは吸気口７６ｂと同位置（同じ高さ位置お
よび水平方向位置）に取り付けられている。ただし、吸
気口７６ｂと吸気口７８ｂを形成する位置は異ならしめ
てもよい。

【００７９】外側扉７５の放散口７６ｆの大きさが内側
扉７７の放散口の大きさよりも小さい場合には内側扉７
７の放散口が開いた場合の圧力を外側扉７５の放散口７
６ｆが解放することができずに外側扉７５に大きな圧力
が掛かって外側扉７５が破損すること予想されることか
ら、吸気・放散手段７８の可動ポケット７８ａの大きさ
は、外側扉７５に設けられた吸気・放散手段７６の可動
ポケット７６ａよりも小さく形成されている。つまり、
可動ポケット７８ａの作動により形成される放散口の大
きさを可動ポケット７６ａの作動により形成される放散
口７６ｆの大きさよりも小さくすることで外側扉７５の
損傷を防止している。

【００８０】分割扉７７ａ〜７７ｇの開閉状態を検知す
る分割扉開閉検知センサ９７としては、前述した外側扉
開閉検知センサ９６と同等のものを用いることができ
る。分割扉開閉検知センサ９７は、薬液供給ユニット５
を構成するフレームに設けてもよいし、または分割扉７
７ａ〜７７ｇに取り付けてもよい。分割扉開閉検知セン
サ９７についても、取付には特殊ネジ等を用いて安易な
脱着ができないようにし、また、外周をハウジング等で
囲って窒素ガス等をパージして薬液の蒸気等から保護す
ることが好ましい。

【００８１】分割扉開閉検知センサ９７が対応する分割
扉７７ａ〜７７ｇが取り外された状態を検知したときに
は、取り外された分割扉７７ａ〜７７ｇに対応するブロ
ックの動作機器は自動的に停止するようにシーケンスが
組まれている。これにより、分割扉７７ａ〜７７ｇを取
り外した作業員の安全が確保される。また、分割扉７７
ａ〜７７ｇを取り外した状態にあることが、表示モニタ
９８や操作パネル４ａに表示され、また、光または音等
による警報装置が作動するように構成することも好まし
い。

【００８２】さて、分割扉７７ａ〜７７ｇのそれぞれに
対応した各ブロックには、図示しない消火ノズルが配設
されており、薬液供給ユニット５に設けられた火災検知
センサからの信号を受けてこの消火ノズルが作動し、二
酸化炭素ガス等の消火ガスが放出されるようになってい
る。こうして、発生した火災の延焼が防止されるように
なっている。

【００８３】また、薬液供給ユニット５には、ＩＰＡ等
の引火性溶媒の蒸気やガスを検知する溶媒検知センサが
設けられており、例えば、薬液供給ユニット５において
溶媒漏れが発生して漏れた溶媒が蒸気化またはガス化
し、溶媒検知センサが所定濃度以上の溶媒の蒸気または
ガスを検出すると、薬液供給ユニット５内の可動機器の
運転が停止し、これに合わせて警報が発せられ、もしく
は薬液供給ユニット５内から強制排気が行われ、または
溶媒の蒸気またはガスの濃度が小さくなるように所定の
希釈ガスが薬液供給ユニット５内に吐出されて、溶媒の
蒸気またはガスの濃度が高くなることによって生ずる爆
発が防止されるようになっている。

【００８４】なお、このような火災検知センサと溶媒検
知センサは、別途、チャンバ室３ｂにも設けられてお
り、薬液供給ユニット５における対処方法と同様の方法
が採られる。これにより、チャンバ室３ｂからの延焼が
防止され、また、チャンバ室３ｂの爆発が防止される。
火災検知センサと溶媒検知センサはユーティリティ室に
も設けることが好ましい。

【００８５】次に、フープステージ２ａに載置されたフ
ープＦをフープＦ１とし、フープステージ２ｂに載置さ
れたフープＦをフープＦ２として、これら２個のフープ
Ｆ１・Ｆ２に収納されたウエハＷの洗浄処理を行う場合
を例に、その洗浄処理工程について説明する。ここで、
搬送アーム１７ａを未処理のウエハＷの搬送に、搬送ア
ーム１７ｂを洗浄処理済みのウエハＷの搬送にそれぞれ
用いるものとする。

【００８６】まず、２５枚のウエハＷが所定の間隔で平
行に収納されたフープＦ１・Ｆ２を、フープＦ１・Ｆ２
においてウエハＷの出し入れを行うウエハ搬入出口が窓
部１２ａ・１２ｂと対面するように、それぞれフープス
テージ２ａ・２ｂに載置する。最初にフープＦ１に収納
されたウエハＷを搬送するために、窓部１２ａを開口さ
せてフープＦ１の内部とウエハ搬送ユニット４の内部が
連通した状態とする。その後に、フープＦ１内のウエハ
Ｗの枚数および収納状態の検査をウエハ検査機構１１０
を用いて行う。ここで、ウエハＷの収納状態に異常が検
出された場合にはフープＦ１のウエハＷについては処理
を中断し、例えば、フープＦ２に収納されたウエハＷの
処理に移行する。

【００８７】フープＦ１内のウエハＷの収納状態に異常
が検出されなかった場合には、搬送アーム１７ａがフー
プステージ２ａに載置されたフープＦ１にアクセスでき
る位置へ搬送アーム１７ａを移動させ、次いで、昇降機
構２３により搬送アーム１７ａの高さを調節し、スライ
ド機構２０ａを動作させて搬送アーム１７ａおよび保持
部１８ａをフープステージ２ａ側にスライドさせて搬送
アーム１７ａにウエハＷを保持させて、搬送アーム１７
ａおよび保持部１８ａを元の位置に戻す。これによりフ
ープＦ１からウエハＷが搬出された状態となる。

【００８８】次に、テーブル２１を回転機構２２を動作
させて１８０°回転させつつ、搬送アーム１７ａがロー
タ３４にアクセスできる位置までウエハ搬送機構１６を
移動させて窓部２５ａを開口し、昇降機構２３により高
さの調節を行った後に搬送アーム１７ａおよび保持部１
８ａをロータ３４側にスライドさせてウエハＷをホルダ
ー３６ｂが開いた状態に保持されたロータ３４に移し替
える。ホルダー３６ｂを閉じて搬送アーム１７ａおよび
保持部１８ａを元の位置に戻せば、ウエハＷのロータ３
４への搬送が終了する。

【００８９】ウエハＷがロータ３４に保持されたら、ロ
ータ３４が外側チャンバ７１ａ内に挿入され、かつ、ロ
ータ搬入出口６２ｃに蓋体３３が位置するように、姿勢
変換機構２８、Ｚ軸リニア移動機構２９、Ｘ軸リニア駆
動機構３０を駆動してロータ回転機構２７を移動させ
る。ロータ３４が外側チャンバ７１ａ内の所定位置にあ
る状態となるようにしてロータ回転機構２７を所定位置
で保持し、例えば、内側チャンバ７１ｂを外側チャンバ
７１ａ内の処理位置にスライドさせて、シール機構６３
ａ・６３ｂ・６７ａ・６７ｂを動作させて、処理室５２
を形成する。なお、予め内側チャンバ７１ｂを処理位置
に移動させておき、その後にロータ３４を内側チャンバ
７１ｂ内に挿入してもよい。

【００９０】処理室５２が形成されたら、モータ３１を
駆動してロータ３４を回転させつつ、処理液吐出ノズル
５５から所定の薬液、例えば、薬液供給ユニット５から
供給される第１薬液をウエハＷに供給し、薬液処理を行
う。ここで、例えば、第１薬液の供給状態に異常が生じ
た場合には、外側扉７５を開いて異常が生じている可能
性が高い分割扉７７ａ・７７ｃ・７７ｆのブロックを中
心に薬液貯留部５ａの内部を分割扉７７ａ・７７ｃ・７
７ｆを透して観察し、異常原因を特定する。このとき、
外側扉７５が開いている状態にあることが警報装置から
発せられ、作業員に注意を促す。

【００９１】薬液貯留部５ａ内部の異常箇所が特定され
たら、該当するブロックの分割扉を取り外す。これによ
りブロック内の機器の運転が自動停止した状態となり、
安全に修理等を行うことが可能となる。修理等が終了し
たら取り外した分割扉を取り付けて処理を再開する。こ
のとき、分割扉を取り付ければ自動的に対応するブロッ
ク内の機器の運転が再開されるのではなく、改めて動作
スイッチ等をオンの状態とすることにより作業が再開さ
れるようにすることが好ましい。このような作業は、そ
の他の薬液や純水等を用いた処理において異常が発生し
た場合にも同様に行われる。

【００９２】第１薬液による処理の終了後は、続いてＩ
ＰＡによる予備洗浄を行ってもよいし、このような予備
洗浄を行うことなく、内側チャンバ７１ｂを退避位置に
移動させて外側チャンバ７１ａによる処理室５１を形成
し、ウエハＷを回転させながら、ライン部５ｂから供給
される純水を、処理液吐出ノズル５３および洗浄液吐出
ノズル７３ａ・７３ｂから吐出して水洗処理を行っても
よい。水洗処理が終了した後は、窒素ガスによる乾燥処
理を行う。

【００９３】一方、退避位置に移動させた内側チャンバ
７１ｂについては、形成された環状空間７２を利用し
て、処理液吐出ノズル５５から洗浄液を吐出して内側チ
ャンバ７１ｂを洗浄し、その後に、ガス供給ノズル９３
と処理液吐出ノズル５５から乾燥ガスを吐出しながら、
排気管９４から排気を行い、内側チャンバ７１ｂを乾燥
する。こうして、内側チャンバ７１ｂを次のロットのウ
エハＷの薬液処理に使用することが可能となる。

【００９４】このように洗浄処理ユニット３においてウ
エハＷの処理が行われている間に、ウエハ搬送ユニット
４においては、ウエハＷを保持していない状態となった
搬送アーム１７ａをフープステージ２ｂに載置されたフ
ープＦ２にアクセスさせて、フープＦ１からウエハＷを
搬出した方法と同様の方法を用いて搬送アーム１７ａに
フープＦ２に収納されているウエハＷを移し替え、さら
に、ウエハＷを保持していない搬送アーム１７ｂがロー
タ３４にアクセスできる状態となるように、ウエハ搬送
機構１６を動作させる。

【００９５】洗浄処理ユニット３において洗浄処理が終
了した後には、ロータ回転機構２７をＸ軸リニア駆動機
構３０等を駆動させて、ロータ３４をウエハＷを搬送ア
ーム１７ａ・１７ｂとロータ３４との間で受け渡し可能
な位置まで戻す。ホルダー開閉機構８０を処理位置に移
動させ、また窓部２５ａを開口して、搬送アーム１７ｂ
をロータ３４にアクセスさせてホルダー３６ｂを開き、
ロータ３４に保持されたウエハＷを搬送アーム１７ｂに
移し替え、続いて搬送アーム１７ａがロータ３４にアク
セスできるように回転機構２２を動作させてテーブル２
１を１８０°回転させ、搬送アーム１７ａに保持された
未処理のウエハＷをロータ３４へ移し替える。

【００９６】ロータ３４に保持されたフープＦ２の未処
理のウエハＷについては、前述したフープＦ１に収納さ
れていたウエハＷの洗浄処理と同様の工程により洗浄処
理を施し、その後にウエハＷを搬送アーム１７ａ・１７
ｂとの間で受け渡し可能な位置まで移動させる。その間
に、搬送アーム１７ｂをフープＦ１にアクセスさせて洗
浄処理の終了したウエハＷをフープＦ１に移し替え、そ
の後にウエハ搬送機構１６を搬送アーム１７ｂがロータ
３４にアクセスできる状態としておく。

【００９７】搬送アーム１７ｂは洗浄処理が終了したフ
ープＦ２のウエハＷをロータ３４から受け取り、このウ
エハＷをフープＦ２に収納すれば、フープＦ１・Ｆ２に
収納されたウエハＷについての洗浄処理が終了する。な
お、例えば、フープステージ２ｃにウエハＷが収納され
たフープＦ３が配置され、フープＦ２のウエハＷの洗浄
処理後に引き続いてフープＦ３のウエハＷについて洗浄
処理を行う場合には、フープＦ２のウエハＷをロータ３
４に移し替え、また、洗浄処理が終了したフープＦ１の
ウエハＷをフープＦ１に収納した後に、搬送アーム１７
ａを用いてフープＦ３に収容されたウエハＷを取り出
し、さらに、洗浄処理が終了したフープＦ２のウエハＷ
をロータ３４から搬出した後に、搬送アーム１７ａに保
持されたフープＦ３のウエハＷをロータ３４に移し替え
ることで、連続して所定の洗浄処理を行うことができ
る。

【００９８】以上、本発明の実施の形態について説明し
てきたが、本発明が上記実施の形態に限定されるもので
はない。例えば、本発明の液処理装置は、例えば、所定
の塗布液を塗布する塗布処理やエッチング処理等、各種
の薬液を使用する液処理装置全般に適用することが可能
である。さらに、基板としては半導体ウエハを例に挙げ
たが、これに限らず、液晶表示装置（ＬＣＤ）用基板
等、他の基板であってもよい。

【００９９】

【発明の効果】上述の通り、本発明の液処理装置によれ
ば、処理液供給ユニットの扉は外側が金属製であること
から、液処理装置内部で火災、爆発等が発生した場合に
も、外部への延焼や破片の飛散が抑制され、これにより
安全性が高められるという効果が得られる。また、処理
液供給ユニット内に配設された機器に何らかの異常が発
生した場合には、金属製の外側扉を開いても処理液供給
ユニット内の機器の運転が停止せず、略透明な内側扉を
透して内部を観察することができる構造となっているこ
とから、故障個所等を容易に発見して、修理等を迅速に
行うことが可能となり、作業時間が短縮されるという効
果も得られる。さらに、内側扉を開いた場合には開いた
内側扉に対応する処理液供給ユニット内の機器が動作停
止するようになっていることから、作業員の安全が確保
される。なお、扉の開閉状態を検知するセンサを窒素ガ
ス等の清浄なガスでパージした状態に保持すると、セン
サが使用される薬液の蒸気等により腐食することが防止
され、センサの使用寿命を長期化することができるとい
う効果が得られる。

【０１００】さらにまた、本発明の液処理装置において
は、吸気口から処理液供給ユニットに外部の空気が取り
込まれて所定のルートを通じて排気することで、処理液
供給ユニットにおいて処理液等の漏れが発生していた場
合に外側扉や内側扉を開けても、その処理液の蒸気等を
扉を開けた作業員が吸引することが防止され、作業員の
安全性が確保される。また、処理液供給ユニット等にお
いて爆発等が発生し、内部圧力が高まった場合には放散
口が作動することで、内部からの機器の破片の散乱を防
止しつつ、内部圧力を外部圧力へ解放することができ
る。このような放散口を設けることにより、液処理装置
全体の爆発等を防止して、安全性が高められるという効
果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態に係る洗浄処理装置を示す
斜視図。

【図２】図１記載の洗浄処理装置の平面図。

【図３】図１記載の洗浄処理装置の内部構造を示す側面
図。

【図４】図１記載の洗浄処理装置の内部構造を示す別の
側面図。

【図５】ロータをチャンバに挿入した状態の一形態を示
す断面図。

【図６】ロータをチャンバに挿入した状態の別の形態を
示す断面図。

【図７】ロータの構造を示す斜視図。

【図８】ロータ回転機構の移動形態を示す説明図。

【図９】図１記載の洗浄処理装置を背面側から見た斜視
図。

【図１０】洗浄処理装置の背面図であって、薬液供給ユ
ニットの扉構造を示す説明図。

【図１１】吸気・放散手段の構造と配置を示す説明図。

【符号の説明】

１；洗浄処理装置 ２；フープ搬入出部 ３；洗浄処理ユニット ４；ウエハ搬送ユニット ５；薬液供給ユニット １６；ウエハ搬送機構 ２７；ロータ回転機構 ７１ａ；外側チャンバ ７１ｂ；内側チャンバ ７５；外側扉 ７６；吸気・放散手段 ７７；内側扉 ７７ａ〜７７ｇ；分割扉 ７８；吸気・放散手段 ９６；外側扉開閉検知センサ ９７；分割扉開閉検知センサ ９９ａ〜９９ｄ；タンク Ｆ；フープ Ｗ；半導体ウエハ（基板）

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板に所定の液処理を施す液処理装置で
   あって、 基板を保持する保持手段と、 前記保持手段に保持された基板に所定の処理液を供給し
   て液処理を行う処理容器と、 前記処理容器へ所定の処理液を供給する処理液供給機構
   が配設された処理液供給ユニットと、を具備し、 前記処理液供給ユニットの一側面には前記処理液供給ユ
   ニットの内部にアクセスできるように開閉可能な扉が設
   けられ、 前記扉は略透明な内側扉と金属製の外側扉とからなる二
   重構造を有することを特徴とする液処理装置。
2. 【請求項２】 基板に所定の液処理を施す液処理装置で
   あって、 基板が収納された搬送容器の搬入出が行われる容器搬入
   出部と、 基板を保持する保持手段および前記保持手段に保持され
   た基板に所定の処理液を供給して液処理を行う処理容器
   が配設された液処理ユニットと、 前記容器搬入出部と前記液処理ユニットとの間で基板の
   搬送を行う基板搬送ユニットと、 前記処理容器へ所定の処理液を供給する処理液供給機構
   が配設された処理液供給ユニットと、を具備し、 前記処理液供給ユニットの一側面には、前記処理液供給
   ユニットの内部にアクセスできるように開閉可能な扉が
   設けられ、 前記扉は略透明な内側扉と金属製の外側扉とからなる二
   重構造を有することを特徴とする液処理装置。
3. 【請求項３】 基板に所定の液処理を施す液処理装置で
   あって、 基板を保持する保持手段と、 前記保持手段に保持された基板に所定の処理液を供給し
   て液処理を行う処理容器と、 前記処理容器へ所定の処理液を供給する処理液供給機構
   が配設された処理液供給ユニットと、 前記処理液供給ユニットの内部にアクセスできるように
   前記処理液供給ユニットの一側面に設けられた開閉可能
   な略透明な内側扉と金属製の外側扉からなる二重構造扉
   と、を具備し、 前記内側扉と前記外側扉はそれぞれ前記処理液供給ユニ
   ットに外気を取り込むための吸気口と前記処理液供給ユ
   ニット内において急激な気圧上昇が起こった場合に前記
   気圧を外気圧に解放する放散口とが一体的に形成された
   吸気・放散手段を有することを特徴とする液処理装置。
4. 【請求項４】 前記吸気・放散手段は、前記吸気口が常
   時開口状態にあり、かつ、前記放散口が通常の状態では
   閉口状態にあるが所定圧力以上となった場合に開口する
   構造を有し、 前記吸気・放散手段を前記処理液供給ユニットの下部に
   配設する場合には前記放散口が開口すると内気が外部下
   方に噴出するように、 また、前記吸気・放散手段を前記処理液供給ユニットの
   上部に配設する場合には前記放散口が開口すると内気が
   外部上方に噴出するように、 前記扉に前記吸気・放散手段が配設されていることを特
   徴とする請求項３に記載の液処理装置。
5. 【請求項５】 前記外側扉の開閉状態を検知する外側扉
   開閉検知センサと、前記外側扉開閉検知センサが前記外
   側扉の開口状態を検知したときに所定の音または光によ
   る警告を発する警報機構と、 を具備することを特徴とする請求項１から請求項４のい
   ずれか１項に記載の液処理装置。
6. 【請求項６】 前記外側扉開閉検知センサにおいてセン
   シングに影響を与えない部分に非腐食性ガスが供給さ
   れ、前記処理液供給ユニットの雰囲気に晒されない構造
   となっていることを特徴とする請求項５に記載の液処理
   装置。
7. 【請求項７】 前記処理液供給ユニットが複数のブロッ
   クからなる構造を有し、前記内側扉が前記処理液供給ユ
   ニットの各ブロックに対応して所定数に分割して配設さ
   れ、前記所定数の内側扉は個々に開閉可能となっている
   ことを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項
   に記載の液処理装置。
8. 【請求項８】 前記所定数の内側扉の開閉を個々に検知
   する所定数の内側扉開閉検知センサと、 前記内側扉開閉検知センサが前記内側扉の開口状態を検
   知した場合に、前記開口した内側扉に対応する前記処理
   液供給ユニット内のブロックに配置された機器の動作を
   停止する作動停止機構と、 を具備することを特徴とする請求項７に記載の液処理装
   置。
9. 【請求項９】 前記内側扉開閉検知センサにおいてセン
   シングに影響を与えない部分に非腐食性ガスが供給さ
   れ、前記処理液供給ユニットの雰囲気に晒されない構造
   となっていることを特徴とする請求項８に記載の液処理
   装置。
10. 【請求項１０】 前記所定数の内側扉のそれぞれに前記
    吸気・放散手段が配設されていることを特徴とする請求
    項７から請求項９のいずれか１項に記載の液処理装置。
11. 【請求項１１】 前記処理液供給ユニットに火災を検知
    する火災検知センサが設けられ、また、前記火災検知セ
    ンサからの信号を受けて消火薬を吐出する消火ノズルが
    前記処理液供給ユニットの各ブロックに配設されている
    ことを特徴とする請求項７から請求項１０のいずれか１
    項に記載の液処理装置。
12. 【請求項１２】 前記処理液供給ユニットにガス状また
    は蒸気状の溶媒を検知する溶媒検知センサが設けられて
    いることを特徴とする請求項７から請求項１１のいずれ
    か１項に記載の液処理装置。