JP3764335B2 - 液処理装置 - Google Patents

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハやＬＣＤ基板等の各種基板に対して所定の液処理や乾燥処理を施すために用いられる液処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、半導体デバイスの製造工程においては、基板としての半導体ウエハ（以下「ウエハ」という）を所定の薬液や純水等の洗浄液によって洗浄し、ウエハからパーティクル、有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーションを除去し、また、窒素（Ｎ２）ガス等の不活性ガスや揮発性および親水性の高いＩＰＡ蒸気等によってウエハから液滴を取り除いてウエハを乾燥させるウエハ洗浄処理装置が使用されている。このようなウエハ洗浄処理装置としては、複数枚のウエハをウエハ洗浄／乾燥チャンバに収納してバッチ式に処理するものが知られている。
【０００３】
例えば、米国特許５７８４７９７号、同第５６７８３２０号に記載されているウエハ洗浄装置には、ウエハ洗浄室の前面側（ウエハ搬送アームが移動してきた際にウエハ搬送アームと対向する面）に設けられた搬入出口を介して、ウエハ搬送アームのウエハチャックをウエハ洗浄室の前方側（ロータの前方側）からウエハ洗浄室内に進入させ、このウエハチャックに把持されたウエハをロータに渡したり、ロータに保持されたウエハをウエハチャックにより受け取るようになっているウエハ洗浄処理機構が開示されている。
【０００４】
ここで、ウエハ洗浄処理機構については定期的にメンテナンスを行う必要があり、また、洗浄処理中にウエハの破損が生じたり、処理液が漏洩した場合には、洗浄処理を中断して、ウエハ洗浄処理機構の清掃や復旧等の作業を行う必要がある。このため、洗浄処理装置はウエハ洗浄処理機構に容易にアクセスできる構造を有していることが好ましい。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記米国特許第５７８４７９７号、同第５６７８３２０号に開示されたウエハ洗浄処理機構では、メンテナンス等のためにロータの脱着を行う際には、洗浄処理室の前面からしかアクセスできないために、作業性が悪いという問題があった。
【０００６】
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであって、被処理体の液処理を行う部分である液処理機構へのアクセスを容易として、メンテナンス性を向上させた液処理装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は第１発明として、
側面から内部にアクセス可能に構成されたケーシングと、
前記ケーシング内に設けられ、被処理体を回転可能に保持する保持手段と、
保持手段に保持された被処理体に処理液を供給する処理液吐出ノズルと、
前記ケーシング内に設けられ、ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で被処理体に対して液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能な筒状の処理チャンバと、
前記処理チャンバを前記ガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、を具備し、
前記処理チャンバを前記処理位置に位置させた状態で、被処理体を回転させながら被処理体に処理液を供給して液処理を行い、
前記処理チャンバを前記退避位置に位置させた状態で、前記ケーシングの側面から前記保持手段へアクセス可能となることを特徴とする液処理装置を提供する。
【０００８】
本発明は第２発明として、
側面および前面から内部にアクセス可能に構成されたケーシングと、
前記ケーシング内に設けられ、被処理体を回転可能に保持する保持手段と、
保持手段に保持された被処理体に処理液を供給する処理液吐出ノズルと、
前記ケーシング内に設けられ、ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で被処理体に対して液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能な筒状の処理チャンバと、
前記処理チャンバを前記ガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、
前記処理チャンバの前面を開閉可能な蓋体と、を具備し、
前記処理チャンバを前記処理位置に位置させた状態で、被処理体を回転させながら被処理体に処理液を供給して液処理を行い、
前記処理チャンバを前記退避位置に位置させた状態で、前記ケーシングの側面から前記保持手段へアクセス可能となり、前記蓋体を開いた状態で前記ケーシングの前面から前記保持手段へアクセス可能となることを特徴とする液処理装置を提供する。
【０００９】
本発明は第３発明として、
被処理体を回転可能に保持する保持手段と、前記保持手段に保持された被処理体に処理液を供給する処理液吐出ノズルと、ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で被処理体に液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能な筒状の処理チャンバと、前記処理チャンバを前記ガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、を有する液処理部と、
前記液処理部を収容し、側面から内部にアクセス可能に構成されたケーシングと、
前記被処理体を収納可能な容器の搬入出を行う容器搬入出部と、
前記容器搬入出部と前記液処理部との間で被処理体を搬送する搬送機構と、
前記容器搬入出部と前記液処理部とを仕切る壁部と、を具備し、
前記処理チャンバを前記処理位置に位置させた状態で、被処理体を回転させながら被処理体に処理液を供給して液処理を行い、
前記処理チャンバを前記退避位置に位置させた状態で、前記ケーシングの側面から前記保持手段へアクセス可能となることを特徴とする液処理装置を提供する。
【００１０】
本発明は第４発明として、
側面および前面から内部にアクセス可能に構成されたケーシングと、
前記ケーシング内に設けられ、被処理体を回転可能に保持する保持手段と、前記保持手段に保持された被処理体に処理液を供給する処理液吐出ノズルと、前記ケーシング内に設けられ、前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う筒状の処理チャンバと、前記処理チャンバの前面を開閉可能な蓋体と、を有する液処理部と、
前記被処理体を収納可能な容器の搬入出を行う容器搬入出部と、
前記容器搬入出部と前記液処理部との間で被処理体を搬送する搬送機構と、
前記容器搬入出部と前記液処理部との間を仕切る脱着可能な仕切り用側壁パネルと、を具備し、
前記液処理部へは、前記ケーシングの側面から、および前記脱着可能な仕切り用側壁パネルを取り外し、かつ前記蓋体を開いた状態で前記容器搬入出部側からアクセス可能であることを特徴とする液処理装置を提供する。
【００１１】
本発明は第５発明として、
被処理体を回転可能に保持する保持手段と、前記保持手段に保持された被処理体に処理液を供給する処理液吐出ノズルと、ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で被処理体の液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能な筒状の処理チャンバと、前記処理チャンバを前記ガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、を有する液処理部と、
前記液処理部を収容し、側面から内部にアクセス可能に構成されたケーシングと、
前記液処理部の下方に設けられ、上下方向の駆動により前記保持手段との間で被処理体の受渡を行う被処理体受渡機構が配設された被処理体受渡部と、を具備し、
前記処理チャンバを前記処理位置に位置させた状態で、被処理体を回転させながら被処理体に処理液を供給して液処理を行い、
前記処理チャンバを前記退避位置に位置させた状態で、前記ケーシングの側面から前記保持手段へアクセス可能となることを特徴とする液処理装置を提供する。
【００１２】
本発明は第６発明として、
被処理体を回転可能に保持する保持手段と、前記保持手段に保持された被処理体に処理液を供給する処理液吐出ノズルと、前記保持手段を囲繞してその中で被処理体に液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能な筒状の処理チャンバと、前記処理チャンバを前記ガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、前記処理チャンバの前面を開閉可能な蓋体と、を有する液処理部と、
前記液処理部を収容し、側面から内部にアクセス可能に構成されたケーシングと、
前記液処理部の下方に設けられ、上下方向の駆動により前記保持手段との間で被処理体の受渡を行う被処理体受渡機構が配設された被処理体受渡部と、を具備し、
前記処理チャンバを前記処理位置に位置させた状態で、被処理体を回転させながら被処理体に処理液を供給して液処理を行い、
前記処理チャンバを前記退避位置に位置させた状態で、前記ケーシングの側面から前記保持手段へアクセス可能となり、前記蓋体を開いた状態で前記ケーシングの前面から前記保持手段へアクセス可能となることを特徴とする液処理装置を提供する。
【００１３】
本発明は第７発明として、
被処理体を回転可能に保持する保持手段と、前記保持手段に保持された被処理体に処理液を供給する処理液吐出ノズルと、ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で被処理体に液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能な筒状の処理チャンバと、前記処理チャンバを前記ガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、を有する液処理部と、
側面から内部にアクセス可能に構成されたケーシングと、
前記液処理部の下方に設けられ、上下方向の駆動により前記保持手段との間で被処理体の受渡を行う被処理体受渡機構が配設された被処理体受渡部と、
被処理体を収納可能な容器の搬入出を行う容器搬入出部と、
前記被処理体受渡部と前記容器搬入出部との間に位置し、前記容器の載置が可能であり、かつ前記被処理体受渡部との間で前記容器の受渡を行う第１容器搬送機構が配設された容器中継部と、
前記容器中継部と前記容器搬入出部との間で容器の搬送を行う第２容器搬送機構と、を具備し、
前記処理チャンバを前記処理位置に位置させた状態で、被処理体を回転させながら被処理体に処理液を供給して液処理を行い、
前記処理チャンバを前記退避位置に位置させた状態で、前記ケーシングの側面から前記保持手段へアクセス可能となることを特徴とする液処理装置を提供する
【００１４】
本発明は第８発明として、
被処理体を回転可能に保持する保持手段と、前記保持手段に保持された被処理体に処理液を供給する処理液吐出ノズルと、ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能な筒状の処理チャンバと、前記処理チャンバを前記ガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、前記処理チャンバの前面を開閉可能な蓋体と、を有する液処理部と、
側面および前面から内部にアクセス可能に構成されたケーシングと、
前記液処理部の下方に設けられ、上下方向の駆動により前記液処理部との間で前記被処理体の受渡を行う被処理体受渡機構が配設された被処理体受渡部と、
前記被処理体を収納可能な容器の搬入出を行う容器搬入出部と、
前記被処理体受渡部と前記容器搬入出部との間に位置し、前記被処理体受渡部との間で容器の受渡を行う第１容器搬送機構が配設された容器中継部と、
前記容器中継部と前記容器搬入出部との間で容器の搬送を行う第２容器搬送機構と、を具備し、
前記ケーシングは、
前記処理チャンバの側面に対向する脱着可能な第１側壁パネルと、
前記液処理部と前記容器搬入出部とを仕切る脱着可能な第２側壁パネルと、を有し、
前記処理チャンバを前記処理位置に位置させた状態で、被処理体を回転させながら被処理体に処理液を供給して液処理を行い、
前記液処理部へは、前記第１側壁パネルを取り外して前記ケーシングの側面からアクセス可能であり、また前記第２側壁パネルを取り外し、前記蓋体を開いて前記ケーシングの前面からアクセス可能であることを特徴とする液処理装置を提供する。
【００１５】
このような本発明の液処理装置では、作業員や清掃機械等は被処理体の保持手段等の故障、清掃等のメンテナンス時に、保持手段や液処理部へ少なくともケーシングの側面からアクセスが可能であり、また、必要に応じてケーシングの前面からもアクセス可能であることから、作業性が向上して作業時間が短縮され、奥部や細部の処置を丁寧に行うことが可能となる。
【００１６】
また、本発明の液処理装置では、作業員や清掃機械等は、例えば、液処理中に処理チャンバからケーシング内に処理液が漏洩したり、被処理体が回転時に破損する等の事故が生じた場合や、定期的なメンテナンスの際に、ケーシングの内部に少なくとも側面からアクセスが可能であり、また、必要に応じて前面からもアクセス可能であることから、ケーシングの床面等の清掃等の作業性が向上して作業時間が短縮され、また、安全に作業を行うことが可能となり、奥部や細部の処置を丁寧に行うことが可能となる。こうして、ケーシング内部の環境を良好に保持することも可能となる。このことは、結果的に被処理体へのパーティクル等の付着量を低減させ、品質を高めるものでもある。なお、スライド式チャンバを用いることで、このような作業性はより高いものとなる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、添付図面を参照して、本発明の液処理装置について、その一実施形態である半導体ウエハ（ウエハ）の洗浄処理装置を例として具体的に説明することとする。
【００１８】
図１は洗浄処理装置１の斜視図であり、図２はその平面図である。図１および図２に示されるように、洗浄処理装置１は、ウエハＷを収納可能な容器であるキャリアＣの搬入出が行われるイン・アウトポート（容器搬入出部）２と、ウエハＷに対して洗浄処理を実施する洗浄処理ユニット（洗浄処理室）３と、洗浄処理ユニット３の下方に洗浄処理ユニット３と隔離して設けられたウエハ受渡部９（図１・２に図示せず、後に参照する図３参照）と、ウエハ受渡部９とイン・アウトポート２との間に設けられ、ウエハ受渡部９に対してキャリアＣの搬入出を行うキャリア中継部４を備えている。
【００１９】
また、洗浄処理装置１は、キャリアＣを洗浄するキャリア洗浄ユニット５と、複数のキャリアＣをストックするキャリアストックユニット６と、電源ユニット７と、洗浄処理ユニット３へ送液する所定の処理液を貯蔵したケミカルタンクボックス８を備えている。
【００２０】
イン・アウトポート２は、４個のキャリアＣを載置可能な載置台１０と、キャリアＣの配列方向に沿って形成された搬送路１１に沿って移動可能であり、載置台１０のキャリアＣをキャリア中継部４に搬送し、逆にキャリア中継部４に載置されたキャリアＣを載置台１０に搬送する第１キャリア搬送機構１２を有している。キャリアＣ内には、例えば２６枚のウエハＷが収納可能となっており、キャリアＣはウエハＷの面が鉛直に配列されるようにして載置台１０上に載置されている。
【００２１】
キャリア洗浄ユニット５はキャリア洗浄槽１６を有しており、ウエハ受渡部９においてウエハＷが取り出されて空になったキャリアＣが第１キャリア搬送機構１２および後述する第２キャリア搬送機構１７を用いて搬送され、洗浄されるようになっている。
【００２２】
また、キャリアストックユニット６は、洗浄前のウエハＷが収納されたキャリアＣや洗浄前のウエハＷが取り出されて空になったキャリアＣを一時的に待機させたり、洗浄後のウエハＷを収納するための空のキャリアＣを予め待機させるためのものであり、上下方向に複数のキャリアＣがストック可能となっている。キャリアストックユニット６は、キャリアストックユニット６内の所定のキャリアＣを載置台１０に載置したり、その中の所定の位置にキャリアＣをストックしたりするためのキャリア移動機構を内蔵している。
【００２３】
次に、キャリア中継部４、ウエハ受渡部９、洗浄処理ユニット３について、図１・２に加え、図３〜図５を参照しながら説明する。ここで、洗浄処理ユニット３に配設される処理チャンバ２６としては、外側チャンバ２６ａと外側チャンバ２６ａ内に収納可能な内側チャンバ２６ｂからなる二重構造チャンバを例として用いることとする。
【００２４】
図３はキャリア中継部４、ウエハ受渡部９、洗浄処理ユニット３の配置構成を示す断面図、図４および図５は洗浄処理ユニット３に配設された処理チャンバ２６の構成を示す断面図であり、図４は内側チャンバ２６ｂを外側チャンバ２６ａの外部に出した状態（このような状態における内側チャンバ２６ｂの位置を「退避位置」ということとする）、図５は外側チャンバ２６ａの内部に内側チャンバ２６ｂを配置した状態（このような状態における内側チャンバ２６ｂの位置を「処理位置」ということとする）を示しており、図３では外側チャンバ２６ａと内側チャンバ２６ｂの両方が退避位置にある状態が示されている。
【００２５】
キャリア中継部４にはステージ１３が設けられており、ステージ１３上に第２キャリア搬送機構１７が配設されている。第２キャリア搬送機構１７は、キャリアＣを載置・保持可能であって、図示しない伸縮機構によってウエハ受渡部９との間で進退可能であるアーム１７ａを有しており、アーム１７ａには、後述するウエハ保持部材４１とウエハ保持部材４１を支持する支持棒４２が貫通できるように、中央部に図示しない孔部が形成されている。
【００２６】
また、キャリア搬送機構１７は、アーム１７ａに載置されたキャリアＣの向きを１８０°変えることが可能な図示しない反転機構を有している。この反転機構は、載置台１０上のキャリアＣを第１キャリア搬送機構１２のキャリア搬送アームを回転させてアーム１７ａ上に載置したときには、アーム１７ａ上のキャリアＣの向きは載置台１０上に載置されていた向きとは逆向きとなるため、キャリアＣの向きを戻すために用いられる。また、この反転機構は逆にアーム１７ａから載置台１０へキャリアＣを戻す際にも同様に使用される。
【００２７】
キャリア中継部４とウエハ受渡部９との間には仕切壁１４が設けられており、仕切壁１４には、キャリアＣおよびアーム１７ａを搬入出するためにキャリアＣおよびアーム１７ａが通過可能なキャリア搬送口１４ａが形成され、キャリア搬送口１４ａは、キャリア中継部４側において蓋体１５により開閉可能となっている。蓋体１５は、図３中に示した矢印Ｓ１で示すように水平方向と鉛直方向に移動可能となっており、蓋体１５を水平方向で移動させる図示しないエアーシリンダ等の移動／押付機構によってシール材１８を介して仕切壁１４に密着させることで、キャリア搬送口１４ａを密閉閉塞することが可能となっている。
【００２８】
ウエハ受渡部９には、ウエハＷを保持するウエハ保持部材４１と、鉛直に配置されウエハ保持部材４１を支持する支持棒４２と、支持棒４２を介してウエハ保持部材４１を昇降する図示しない昇降駆動機構とを有するウエハ受渡機構４０が配設されている。
【００２９】
例えば、キャリア中継部４から洗浄処理ユニット３へのウエハＷの搬送は、次のようにして行われる。まず、キャリア搬送口１４ａを開口してウエハＷが収納されたキャリアＣを保持したアーム１７ａをウエハ受渡部９の所定位置まで挿入し、この状態においてウエハ保持部材４１を上昇させてキャリアＣ内のウエハＷをウエハ保持部材４１に保持させた後、後述するウエハ搬送口１９ａを開口して、さらにウエハ保持部材４１を洗浄処理ユニット３まで押し上げ、処理チャンバ２６内に収納されたウエハＷの保持手段たるロータ２４にウエハＷを移し替える。次に、ウエハ保持部材４１を降下させてウエハ搬送口１９ａを閉口し、ウエハ保持部材４１がアーム１７ａよりも下方に移動したことを確認した後に、アーム１７ａを縮ませてキャリア中継部４に戻し、しかる後にキャリア搬送口１４ａを閉口する。
【００３０】
なお、ウエハＷを保持したウエハ保持部材４１を昇降させる際には、ラインセンサ４４が、ウエハＷの枚数の過不足や破損、垂直に保持されずに斜めに保持されている等のウエハＷの状態を監視し、異常がある場合には処理を中断し、または警報を発するようになっている。
【００３１】
洗浄処理ユニット３とウエハ受渡部９との間には仕切壁１９が設けられており、仕切壁１９にはウエハＷおよびウエハ保持部材４１が通過可能なようにウエハ搬送口１９ａが形成されている。ウエハ搬送口１９ａは、図３中に示した矢印Ｓ２で示されるように水平方向と鉛直方向に移動可能な蓋体２１により開閉可能となっている。蓋体２１は、図３中に示した矢印Ｓ２で示すように水平方向と鉛直方向に移動可能となっており、蓋体２１を鉛直方向で移動させる図示しなエアーシリンダ等の移動／押付機構によってシール材２２を介して仕切壁１９に密着させることで、ウエハ搬送口１９ａを密閉閉塞することが可能となっている。
【００３２】
ところで、上述したように、ウエハ受渡部９は洗浄処理ユニット３の下方に設けられ、ウエハＷは洗浄処理ユニット３とウエハ受渡部９との間を上下方向に移動する構造となっているが、ウエハＷの移動方向に制限はなく、例えば、側面（横）方向等からウエハＷが洗浄処理ユニット３内に搬入され、また洗浄処理ユニット３から搬出されるように構成してもよい。
【００３３】
次に、洗浄処理ユニット３について説明する。洗浄処理ユニット３は、例えば、ウエハＷのエッチング処理後にレジストマスク、エッチング残渣であるポリマー層等の除去、洗浄を行うために用いられる。洗浄処理ユニット３の外壁の１つである仕切壁２５には孔部２５ａが形成されており、孔部２５ａを貫通するようにして回転軸２３ａが水平に配設されている。
【００３４】
この回転軸２３ａには、洗浄処理ユニット３内においてロータ２４が取り付けられ、また、洗浄処理ユニット３外においてモータ２３が取り付けられており、モータ２３の回転駆動によりロータ２４を回転させることが可能となっている。なお、例えば、モータ２３はモータ固定治具２３ｂを用いて仕切壁２５に固定することができる。
【００３５】
回転軸２３ａは、また、円筒状の支持筒３２に囲繞されて支持されており、支持筒３２は第２垂直壁３４に取り付けられている。支持筒３２と回転軸２３ａとの間にはベアリング２８が設けられ、また、第２垂直壁３４と支持筒３２の先端部はラビリンスシール２９によりシールされており、回転軸２３ａの回転によって回転軸２３ａと支持筒３２との間隙で生ずるパーティクル等がロータ２４側へ拡散しない構造となっている。
【００３６】
支持筒３２のモータ２３側には、内側チャンバ２６ｂを係止する係止部材３３が設けられており、係止部材３３は仕切壁２５に固定されている。こうして、モータ２３は洗浄処理ユニット３の室内とは隔離されて配置されることとなり、モータ２３において発生するパーティクル等は洗浄処理ユニット３内に侵入することが防止され、これにより洗浄処理ユニット３の汚染が抑制される。
【００３７】
このように、洗浄処理ユニット３内が汚染され難い構造とすることで、洗浄処理ユニット３内の清掃やメンテナンスの負荷を低減することが可能となる。また、モータ２３は処理チャンバ２６から処理液が漏洩した場合にも処理液の影響を受けず、使用寿命を長く保つことが可能となる。
【００３８】
ロータ２４は、円盤７０ａ・７０ｂ間に係止部材７１ａ・７１ｂ・７２ａ・７２ｂが配設され、ウエハ保持部材７３ａ・７３ｂによって、鉛直にされた複数（例えば２６枚）のウエハＷを水平方向に配列した状態で、その内部に保持可能な構造を有している。円盤７０ｂは、例えば、回転軸２３ａに４本のネジ７６を用いて取り付けられており、モータ２３を回転させると、回転軸２３ａを介してロータ２４が内部に保持されたウエハＷとともに回転するようになっている。また、係止部材７１ａ・７１ｂ・７２ａ・７２ｂは、例えば、ネジ７４ａ・７４ｂを用いて円盤７０ａ・７０ｂと固定することができるようになっている。なお、図４および図５において、係止部材７１ｂ・７２ｂはそれぞれ係止部材７１ａ・７２ａの背面に位置し、また、ウエハ保持部材７３ｂはウエハ保持部材７３ａの背面に位置している。
【００３９】
ロータ２４を囲繞するように設けられた外側チャンバ２６ａは、筒状体６１ａと筒状体６１ａの端面に配設されたリング部材６２ａ・６２ｂを構成部材として有しており、筒状体６１ａはリング部材６２ａ側の外径がリング部材６２ｂ側の外径よりも大きくなるように構成されている。外側チャンバ２６ａは、図３に示した退避位置と図４に示した処理位置との間をスライド自在に配設されている。
【００４０】
一方、内側チャンバ２６ｂは、筒状体６１ａよりも外径が短い略円筒状の筒状体６１ｂと筒状体６１ｂの端面に配設されたリング部材６７ａ・６７ｂを構成部材に有しており、図３・図４に示した退避位置と図５に示した処理位置との間をスライド自在に構成されている。ウエハＷの搬入出時には、外側チャンバ２６ａと内側チャンバ２６ｂは、ともに図３に示すように退避位置に位置される。
【００４１】
なお、外側チャンバ２６ａが退避位置にあるときには、通常、内側チャンバ２６ｂが処理位置にあることはなく、退避位置にあるように制御される。これは外側チャンバ２６ａと内側チャンバ２６ｂを保持してスライドさせるスライド機構の構成と、内側チャンバ２６ｂの下部に配設された排液管６５ｃの存在により、干渉が生ずること等の理由による。
【００４２】
図４に示すように外側チャンバ２６ａが処理位置にあるときには、第１垂直壁３１の構成部材の１つであって洗浄処理ユニット３の外壁またはフレーム等に連結・固定して設けられた枠部材３１ｂとリング部材６２ａとの間がシール材６３ａを介してシールされ、また、リング部材６２ｂとリング部材６７ａとの間がシール材６３ｂを介してシールされた状態となる。なお、シール材６３ａは枠部材３１ｂに配設され、シール材６３ｂはリング部材６２ｂに配設されている。
【００４３】
図４に示すように内側チャンバ２６ｂが退避位置にあるときには、リング部材６７ａと第２垂直壁３４の端面との間がシール材６８ａを介してシールされ、かつ、リング部材６７ａとリング部材６２ｂとの間がシール材６３ｂを介してシールされる。また、リング部材６７ｂと係止部材３３との間がシール材６８ｂを介してシールされた状態となる。そして、内側チャンバ２６ｂを処理位置に移動させた場合には図５に示すように、リング部材６７ａと第１垂直壁３１を構成する部材の１つである蓋体３１ａにおいて水平に形成された部分との間がシール材６８ａを介してシールされ、リング部材６７ｂと第２垂直壁３４の端面との間がシール材６８ｂを介してシールされ、かつ、リング部材６７ｂとリング部材６２ｂとの間がシール材６３ｂを介してシールされた状態となる。なお、シール材６８ａはリング部材６７ａに配設され、シール材６８ｂはリング部材６７ｂに配設されている。
【００４４】
このように、シール材６３ａ・６３ｂ・６８ａ・６８ｂを介してリング部材６２ｂ等が配置されている部分はシール構造を有することから、図４に示すように、外側チャンバ２６ａが処理位置にあり、内側チャンバ２６ｂが退避位置にある場合には、第１垂直壁３１、第２垂直壁３４、筒状体６１ａ・リング部材６２ａ・６２ｂ・６７ａによって、密閉された処理空間５１が形成される。また、図５に示すように、外側チャンバ２６ａと内側チャンバ２６ｂがともに処理位置にある場合には、蓋体３１ａ、第２垂直壁３４、筒状体６１ｂ、リング部材６７ａ・６７ｂによって、密閉された処理空間５２が形成される。
【００４５】
筒状体６１ａの上部には、水平方向に配設された多数の処理液吐出口５３を有する処理液吐出ノズル５４が、ノズルケース５７に収納された状態で取り付けられており、処理液吐出ノズル５４には、ケミカルタンクボックス８等の処理液供給源から純水やＩＰＡ、各種薬液といった処理液やＮ２ガス等の乾燥ガスが供給されて、処理液吐出口５３からロータ２４に保持されたウエハＷに向かって吐出することができるようになっている。
【００４６】
また、筒状体６１ｂの上部には、水平方向に配設された多数の処理液吐出口５５を有する処理液吐出ノズル５６がノズルケース５８に収納された状態で取り付けられており、処理液吐出ノズル５６には、ケミカルタンクボックス８等の処理液供給源から各種薬液、純水、ＩＰＡといった処理液が供給され、処理液吐出口５５からロータ２４に保持されたウエハＷに向かって吐出可能となっている。これら処理液吐出ノズル５４・５６は、図３〜図５では、各１本のみ示されているが、それぞれを複数配設することも可能であり、また、必ずしも筒状体６１ａ・６１ｂの真上に設けなければならないものでもない。
【００４７】
筒状体６１ａの底部は、第１垂直壁３１側が低くなるように斜面状に形成されており、外側チャンバ２６ａによる処理空間５１において液処理を行う際に、処理液吐出ノズル５４から処理空間５１内に吐出された各種の処理液は、枠部材３１ｂの下部に形成された孔部６５ａとこの孔部６５ａに連通して設けられた排液管６５ｂを通して外部へ排出されるようになっている。
【００４８】
筒状体６１ａの下方には、外側チャンバ２６ａを処理位置と退避位置との間でスライドさせるときに、外側チャンバ２６ａ内から液垂れが生じた場合にも、この液を捕集することができる液受け６４ａ・６４ｂが設けられており、これにより、液垂れした処理液によって洗浄処理ユニット３内が汚染されることが防止される。外側チャンバ２６ａ内からの液垂れは高さの低いリング部材６２ａ側で生ずることから、リング部材６２ａの下方で液受け６４ａに捕集された処理液は液受け６４ｂに流れてドレインから排出される構造となっており、液受け６４ａからの処理液の排出口（図４において、液受け６４ａの右端）は、外側チャンバ２６ａのスライド可能な範囲で常に液受け６４ｂ上に位置するようになっている。
【００４９】
一方、筒状体６１ｂの下部には、底面を傾斜させた溝部６９が筒状体６１ｂから突出する形で形成されており、溝部６９の下側がリング部材６７ｂの下部に形成された排液口６６と連通し、さらに排液口６６には排液管６５ｃが接続されている。こうして、内側チャンバ２６ｂによる処理空間５２での液処理において、処理液吐出ノズル５６から吐出された各種の処理液は、溝部６９から排液口６６を通って排液管６５ｃに流れ込み、排出されるようになっている。
【００５０】
蓋体３１ａには２カ所に洗浄液吐出ノズル７９ａが設けられており、円盤７０ａにおいて蓋体３１ａに対向している面に所定の洗浄液を吐出して、洗浄処理を行うことができるようになっている。また、第２垂直壁３４には、円盤７０ｂにおいて第２垂直壁３４に対向している面の洗浄を行うための洗浄液吐出ノズル７９ｂが２カ所に設けられている。これらの洗浄液吐出ノズル７９ａ・７９ｂから吐出された洗浄液は、形成されている処理空間５１・５２に応じて、排液管６５ｂ・６５ｃのいずれか一方から排出される。
【００５１】
なお、蓋体３１ａに設けられた洗浄液吐出ノズル７９ａには、図示しない洗浄液供給管を簡便に脱着することができ、また、洗浄液吐出ノズル７９ａにも図示しない処理液供給管またはガス供給管を簡便に脱着することができる構造としておくと、蓋体３１ａの開閉作業を容易に行うことができ、好ましい。
【００５２】
また、洗浄液吐出ノズル７９ａ・７９ｂは、処理空間５１・５２へ雰囲気調整ガス、例えば、Ｎ２ガスやアルゴン（Ａｒ）ガス、二酸化炭素（ＣＯ２）ガス、酸素（Ｏ２）ガス等の種々のガスを供給する目的にも用いることができるようになっている。後述するように、こうして処理空間５１・５２に供給された雰囲気調整ガスは、蓋体３１ａに配設されたガス排気機構８０を用いて行われる。
【００５３】
続いて、外側チャンバ２６ａを例として、そのスライド機構について図６を参照しながら説明する。図６（ａ）はスライド機構９０と外側チャンバ２６ａを示した正面図、図６（ｂ）はその平面図である。スライド機構９０は、長手方向に延在する凸部９３ａが形成されているガイド９３、エアーシリンダ等の直線駆動機構９４、凸部９３ａと嵌合するように凹部９２ａが形成されており、直線駆動機構９４と連結されてガイド９３の長手方向に沿って移動する連結治具９２を有している。ガイド９３の長手方向端部は、例えば、洗浄処理ユニット３を形成するフレーム等に固定することができる。
【００５４】
また、直線駆動機構９４から発生するパーティクル等の拡散を防止するために、直線駆動機構９４にはシール構造を有するカバー９５ａが取り付けられており、凹部９２ａと凸部９３ａとの嵌合部から発生するパーティクル等の拡散を防止するために、シール材９５ｂがガイド９３に取り付けられている。
【００５５】
筒状体６１ａには筒状体保持治具９１が固定されており、筒状体保持治具９１はネジ９１ａによって連結治具９２に固定されている。こうして、直線駆動機構９４を駆動させることによって外側チャンバ２６ａをガイド９３の長手方向にスライドさせることができる。ガイド９３の一方にはストッパ９６ａ・９６ｂが設けられており、ストッパ９６ａは連結治具９２に当接して外側チャンバ２６ａを処理位置で位置決めし、ストッパ９６ｂは連結治具９２に設けられた当接部９２ｂと当接して外側チャンバ２６ａを退避位置で位置決めする。
【００５６】
なお、筒状体保持治具９１と連結治具９２との連結をネジ９１ａを用いた簡便な構造とすることにより、外側チャンバ２６ａを容易に連結治具９２から取り外すことが可能となる。筒状体保持治具９１と連結治具９２との連結は、ネジ９１ａに代えて、例えば、ピンや嵌め合い等によっても行うことができる。また、内側チャンバ２６ｂのスライド機構も、ガイドを外側チャンバ２６ａと内側チャンバ２６ｂとの間隙部に設ける等して、外側チャンバ２６ａのスライド機構９０と同様に構成することができる。
【００５７】
次に、第１垂直壁３１の構造について、図４・図５に加え、図７に示す第１垂直壁３１をキャリア中継部４側から見た斜視図を参照しながら詳細に説明する。第１垂直壁３１は、蓋体３１ａと枠部材３１ｂから構成され、蓋体３１ａにはガス排気機構８０が配設されている。
【００５８】
洗浄処理ユニット３を形成するフレームの一部であるフレーム７５ａと蓋体３１ａとを連結するように配設されたヒンジ機構８５を用いて、蓋体３１ａは枠部材３１ｂに形成された窓部３１ｃを開閉することができるようになっており、窓部３１ｃの近傍では蓋体３１ａを所定距離だけ水平方向に移動することが可能であるとともに、ヒンジ機構８５を中心とした回転駆動により、窓部３１ｃが全開した状態（図３〜図５において、各図左側から右側を見た場合に蓋体３１ａが窓部３１ｃを遮ることなく窓部３１ｃ全体が開口して見える状態）となる位置に退避させることが可能となっている。
【００５９】
また、蓋体３１ａは、フレーム７５ａと対向するように設けられたフレーム７５ｂに設けられた回転自在な固定治具７８を用い、ボルト７８ａにより蓋体３１ａを枠部材３１ｂに締め付けることで、蓋体３１ａを枠部材３１ｂに固定して、窓部３１ｃを密閉閉塞することができるようになっている。そして、数カ所において（図７では４カ所）ボルト７７を用いてより確実に蓋体３１ａを枠部材３１ｂに固定することができるようになっている。
【００６０】
蓋体３１ａに配設されたガス排気機構８０は、図４・図５に示される「排気１」および「排気２」の２系統のガス排気ラインを備えており、それぞれ処理空間５１・５２の雰囲気や使用薬液の種類によって使い分けられる。排気されるガスは処理空間５１・５２からパイプ部材８３・８４を通り、所定のガス排気ラインから排出されることとなるが、パイプ部材８３が配設されたパイプ保持部材８１は、蓋体３１ａにパイプ保持部材８１を固定しているピン８２を抜くことで、容易に蓋体３１ａから離隔することができ、このため、パイプ部材８３とパイプ部材８４とはシール性を保ちながらも脱着が容易な構造となっている。
【００６１】
こうして、窓部３１ｃの開閉のために蓋体３１ａを移動させなければならない場合に、ガス排気機構８０の配管等が蓋体３１ａの移動作業の妨げにならないように、簡単にガス排気機構８０を取り外して退避させることが可能となり、蓋体３１ａの移動を容易に行うことが可能となる。なお、逆に、パイプ保持部材８１は容易に窓部３１ｃを密閉閉塞した蓋体３１ａの所定位置に取り付けることが可能である。
【００６２】
続いて、洗浄処理ユニット３に配設されたその他の装置について説明する。洗浄処理ユニット３内には、内部での火災の発生を検知する火災センサ５０が配設されており、火災センサ５０が火災を検知すると図示しない消火機構から消火薬剤または消火ガスが噴射されるようになっている。このような火災は、例えば、ＩＰＡ等の可燃性溶媒を用いた処理中に回転しているウエハＷが破損等して周囲に飛散し、損傷を与えた場合等に発生するおそれがある。前述したように、ウエハ搬送口１９ａは蓋体２１を用いて密閉することができることから、洗浄処理ユニット３内での事故の影響は、他のユニットに及び難い構造となっている。
【００６３】
また、洗浄処理ユニット３の上部にはフィルターファンユニット（ＦＦＵ）２０が配設されており、清浄な空気が洗浄処理ユニット３内に送風される。また、仕切壁２５に設けられた排気口２７から排気されるようになっている。ここで、前述したように、ウエハ搬送口１９ａは蓋体２１により密閉され、仕切壁２５を貫通して配設された回転軸２３ａと仕切壁２５との間は密閉シールされていることから、洗浄処理ユニット３内の排気は、排気口２７からのみ行うことができるようになっており、これにより洗浄処理ユニット３内の雰囲気調整を容易に行うことができるようになっている。
【００６４】
次に、洗浄処理ユニット３に配設された処理チャンバ２６やロータ２４へのアクセス方法について説明する。図２中の矢印Ａ１で示したキャリア中継部４の側壁パネルは脱着可能となっており、作業員や作業機械、清掃機械等は、容易にキャリア中継部４の内部にアクセスできるようになっている。そして、キャリア中継部４と洗浄処理ユニット３とを仕切る側壁パネル１４ｂもまた脱着可能となっていることから、側壁パネル１４ｂを取り外すことにより、キャリア中継部４側（洗浄処理ユニット３の前面側）から洗浄処理ユニット３の内部にアクセスが可能となる。
【００６５】
側壁パネル１４ｂを取り外した状態では、蓋体３１ａを移動させて窓部３１ｃを開口させた状態とすることが可能となり、これによって、窓部３１ｃからロータ２４の円盤７０ａにアクセスし、例えば、ネジ７４ａの取り付け、取り外しを行うことが容易に可能となる。さらに、後述するように処理チャンバ２６の側面からのアクセスによってロータ２４の取り外しが容易であることから、ロータ２４を取り外した状態で外側チャンバ２６ａを処理位置に配置すると、窓部３１ｃを通して外側チャンバ２６ａ内部に容易にアクセスして、内部のメンテナンスを容易に行うことができる。もちろん、内側チャンバ２６ｂを処理位置に配置した場合も同様に、窓部３１ｃを通して内部のメンテナンスを容易に行うことが可能である。
【００６６】
洗浄処理装置１では、前述した処理チャンバ２６の前面からのアクセスに加えて、図２に矢印Ａ２に示した洗浄処理ユニット３の側壁パネルも脱着可能となっていることから、この側壁パネルを取り外すことによって、洗浄処理ユニット３の側面方向から容易に洗浄処理ユニット３の内部へアクセスすることが可能となっている。なお、この側壁パネルを取り外すことによって、側面方向からウエハ受渡機構４０にも容易にアクセスすることが可能である。
【００６７】
例えば、前述したように、ロータ２４はネジ７６を用いて回転軸２３ａに固定されていることから、ロータ２４の回転軸２３ａへの取り付け、回転軸２３ａからの取り外しは、外側チャンバ２６ａ・内側チャンバ２６ｂを退避位置に移動させて、洗浄処理ユニット３の側面からネジ７６にアクセスすることで、容易に行うことができる。
【００６８】
また、ウエハ受渡機構４０へもアクセスが可能であることから、ウエハ保持部材４１とロータ２４との間でのウエハＷの受渡位置の調整等も、側面方向から容易に行うことが可能であり、外側チャンバ２６ａ・内側チャンバ２６ｂの取り付け、取り外しや、外側チャンバ２６ａ・内側チャンバ２６ｂの外周面に配設された図３〜図５には図示していない各種の配管部材へのアクセスも、この側面方向から行うことが可能である。もちろん、これらの作業は、前述した洗浄処理ユニット３の前面方向からのアクセスによって、より容易に行うことができる。
【００６９】
このように、洗浄処理装置１は、洗浄処理ユニット３の前面と側面の２方向から洗浄処理ユニット３の内部へアクセスが容易な構造となっているために、一方からのアクセスでは作業が行えない場合と比較すると、メンテナンス性に特に優れた構造を有している。そして、洗浄処理ユニット３内での作業内容によって適宜好適なアクセス方向を選択することができるため、作業を効率よく進めることが可能である。さらに、こうして各種メンテナンスを行う場合には、細部にわたって丁寧な処理が可能となる。このような良好なメンテナンス性は、スライド式の処理チャンバ２６を用いることでより高められる。
【００７０】
なお、洗浄処理装置１は、複数の処理ユニットの組合せにより構成されていることから、例えば、洗浄処理ユニット３に隣接する電源ユニット７やケミカルタンクボックス８を移動させて、これらとの境界を構成している洗浄処理ユニット３の側壁パネルを取り外すことによっても、洗浄処理ユニット３の内部にアクセスすることが可能である。
【００７１】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明が上記実施の形態に限定されるものでないことはいうまでもなく、種々の変形が可能である。例えば、上記実施の形態では、外側チャンバ２６ａおよび内側チャンバ２６ｂの２つの処理チャンバによって処理を行う場合について説明したが、チャンバは３つ以上あってもよいし、１つでもよい。また、外側チャンバ２６ａおよび内側チャンバ２６ｂは、いずれを洗浄に、いずれを乾燥に用いても構わず、洗浄と乾燥の両方を連続して行う用途にも用いることができる。さらに、上記実施の形態では本発明を洗浄処理に適用した場合について示したが、これに限らず、所定の塗布液を塗布する塗布処理等の他の液処理、または液処理以外の処理、例えばＣＶＤ処理やエッチング処理等に適用することも可能である。さらにまた、半導体ウエハに適用した場合について示したが、これに限らず、液晶表示装置（ＬＣＤ）用基板等、他の基板の処理にも適用することができる。
【００７２】
【発明の効果】
上述の通り、本発明の液処理装置においては、作業員等は２方向から液処理室内にアクセスできるため、液処理室内での各種メンテナンスの作業性が向上して作業時間を短縮することが可能となるという効果が得られ、このような作業性の向上は、スライド式の処理チャンバを用いることで、より高められる。また、液処理室内の狭いスペースにおいて部品交換等を行わなければならない場合でも、２方向からのアクセスによりその作業を容易に行うことができるようになることから、作業のし難さから生ずる作業員の怪我や機械の損傷の発生が防止されるという効果を奏する。さらに、液処理室内での処理液の漏洩や破損事故の発生後の処置、定期的なメンテナンス等において、奥部や細部の処置を丁寧に行うことができるようになるため、液処理室内の環境を良好に保持することが可能となり、これにより、例えば、被処理体へのパーティクルの付着量が低減される等、被処理体の品質を高く保持することが可能となるという効果を奏する。なお、本発明の液処理装置においては液処理室に２方向からアクセス可能であるが、液処理装置のフットプリントを大きくするものではないという特徴を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液処理装置の一実施形態である洗浄処理装置の外観を示す斜視図。
【図２】図１記載の洗浄処理装置の平面図。
【図３】図１記載の洗浄処理装置におけるキャリア中継部、ウエハ受渡部、洗浄処理ユニットの構成を示す断面図。
【図４】図３に示した洗浄処理ユニットに配設された処理チャンバの断面図。
【図５】図３に示した洗浄処理ユニットに配設された処理チャンバの別の断面図。
【図６】処理チャンバを構成する外側チャンバのスライド機構を示す正面図（ａ）および断面図（ｂ）。
【図７】処理チャンバを構成する蓋体を示す斜視図。
【符号の説明】
１；洗浄処理装置
２；イン・アウトポート
３；洗浄処理ユニット
４；キャリア中継部
９；ウエハ受渡部
１４；仕切壁
１４ｂ；側壁パネル
２４；ロータ
２６ａ；外側チャンバ
２６ｂ；内側チャンバ
３１ａ；蓋体
５４・５６；処理液吐出ノズル
９０；スライド機構
Ｗ；半導体ウエハ（基板）
Ｃ；キャリア（収納容器）

Claims (17)

1. 側面から内部にアクセス可能に構成されたケーシングと、
   前記ケーシング内に設けられ、被処理体を回転可能に保持する保持手段と、
   保持手段に保持された被処理体に処理液を供給する処理液吐出ノズルと、
   前記ケーシング内に設けられ、ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で被処理体に対して液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能な筒状の処理チャンバと、
   前記処理チャンバを前記ガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、を具備し、
   前記処理チャンバを前記処理位置に位置させた状態で、被処理体を回転させながら被処理体に処理液を供給して液処理を行い、
   前記処理チャンバを前記退避位置に位置させた状態で、前記ケーシングの側面から前記保持手段へアクセス可能となることを特徴とする液処理装置。
2. 側面および前面から内部にアクセス可能に構成されたケーシングと、
   前記ケーシング内に設けられ、被処理体を回転可能に保持する保持手段と、
   保持手段に保持された被処理体に処理液を供給する処理液吐出ノズルと、
   前記ケーシング内に設けられ、ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で被処理体に対して液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能な筒状の処理チャンバと、
   前記処理チャンバを前記ガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、
   前記処理チャンバの前面を開閉可能な蓋体と、を具備し、
   前記処理チャンバを前記処理位置に位置させた状態で、被処理体を回転させながら被処理体に処理液を供給して液処理を行い、
   前記処理チャンバを前記退避位置に位置させた状態で、前記ケーシングの側面から前記保持手段へアクセス可能となり、前記蓋体を開いた状態で前記ケーシングの前面から前記保持手段へアクセス可能となることを特徴とする液処理装置。
3. 被処理体を回転可能に保持する保持手段と、前記保持手段に保持された被処理体に処理液を供給する処理液吐出ノズルと、ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で被処理体に液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能な筒状の処理チャンバと、前記処理チャンバを前記ガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、を有する液処理部と、
   前記液処理部を収容し、側面から内部にアクセス可能に構成されたケーシングと、
   前記被処理体を収納可能な容器の搬入出を行う容器搬入出部と、
   前記容器搬入出部と前記液処理部との間で被処理体を搬送する搬送機構と、
   前記容器搬入出部と前記液処理部とを仕切る壁部と、を具備し、
   前記処理チャンバを前記処理位置に位置させた状態で、被処理体を回転させながら被処理体に処理液を供給して液処理を行い、
   前記処理チャンバを前記退避位置に位置させた状態で、前記ケーシングの側面から前記保持手段へアクセス可能となることを特徴とする液処理装置。
4. 側面および前面から内部にアクセス可能に構成されたケーシングと、
   前記ケーシング内に設けられ、被処理体を回転可能に保持する保持手段と、前記保持手段に保持された被処理体に処理液を供給する処理液吐出ノズルと、前記ケーシング内に設けられ、前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う筒状の処理チャンバと、前記処理チャンバの前面を開閉可能な蓋体と、を有する液処理部と、
   前記被処理体を収納可能な容器の搬入出を行う容器搬入出部と、
   前記容器搬入出部と前記液処理部との間で被処理体を搬送する搬送機構と、
   前記容器搬入出部と前記液処理部との間を仕切る脱着可能な仕切り用側壁パネルと、を具備し、
   前記液処理部へは、前記ケーシングの側面から、および前記脱着可能な仕切り用側壁パネルを取り外し、かつ前記蓋体を開いた状態で前記容器搬入出部側からアクセス可能であることを特徴とする液処理装置。
5. 前記処理チャンバをガイドに沿ってスライドさせるスライド機構をさらに具備し、前記処理チャンバは、前記ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能であり、前記処理チャンバを退避位置に位置させることにより前記ケーシングの側面から前記保持手段へアクセス可能となることを特徴とする請求項４に記載の液処理装置。
6. 前記処理チャンバは外側チャンバと内側チャンバからなる二重構造を有することを特徴とする請求項１から請求項３、および請求項５のいずれか１項に記載の液処理装置。
7. 前記ケーシングは側壁パネルを有し、その少なくとも１枚は脱着可能であり、
   前記側壁パネルを取り外すことにより、前記ケーシングの側面から前記保持手段へアクセスが可能となることを特徴とする請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の液処理装置。
8. 被処理体を回転可能に保持する保持手段と、前記保持手段に保持された被処理体に処理液を供給する処理液吐出ノズルと、ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で被処理体の液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能な筒状の処理チャンバと、前記処理チャンバを前記ガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、を有する液処理部と、
   前記液処理部を収容し、側面から内部にアクセス可能に構成されたケーシングと、
   前記液処理部の下方に設けられ、上下方向の駆動により前記保持手段との間で被処理体の受渡を行う被処理体受渡機構が配設された被処理体受渡部と、を具備し、
   前記処理チャンバを前記処理位置に位置させた状態で、被処理体を回転させながら被処理体に処理液を供給して液処理を行い、
   前記処理チャンバを前記退避位置に位置させた状態で、前記ケーシングの側面から前記保持手段へアクセス可能となることを特徴とする液処理装置。
9. 被処理体を回転可能に保持する保持手段と、前記保持手段に保持された被処理体に処理液を供給する処理液吐出ノズルと、前記保持手段を囲繞してその中で被処理体に液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能な筒状の処理チャンバと、前記処理チャンバを前記ガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、前記処理チャンバの前面を開閉可能な蓋体と、を有する液処理部と、
   前記液処理部を収容し、側面から内部にアクセス可能に構成されたケーシングと、
   前記液処理部の下方に設けられ、上下方向の駆動により前記保持手段との間で被処理体の受渡を行う被処理体受渡機構が配設された被処理体受渡部と、を具備し、
   前記処理チャンバを前記処理位置に位置させた状態で、被処理体を回転させながら被処理体に処理液を供給して液処理を行い、
   前記処理チャンバを前記退避位置に位置させた状態で、前記ケーシングの側面から前記保持手段へアクセス可能となり、前記蓋体を開いた状態で前記ケーシングの前面から前記保持手段へアクセス可能となることを特徴とする液処理装置。
10. 被処理体を回転可能に保持する保持手段と、前記保持手段に保持された被処理体に処理液を供給する処理液吐出ノズルと、ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で被処理体に液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能な筒状の処理チャンバと、前記処理チャンバを前記ガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、を有する液処理部と、
    側面から内部にアクセス可能に構成されたケーシングと、
    前記液処理部の下方に設けられ、上下方向の駆動により前記保持手段との間で被処理体の受渡を行う被処理体受渡機構が配設された被処理体受渡部と、
    被処理体を収納可能な容器の搬入出を行う容器搬入出部と、
    前記被処理体受渡部と前記容器搬入出部との間に位置し、前記容器の載置が可能であり、かつ前記被処理体受渡部との間で前記容器の受渡を行う第１容器搬送機構が配設された容器中継部と、
    前記容器中継部と前記容器搬入出部との間で容器の搬送を行う第２容器搬送機構と、を具備し、
    前記処理チャンバを前記処理位置に位置させた状態で、被処理体を回転させながら被処理体に処理液を供給して液処理を行い、
    前記処理チャンバを前記退避位置に位置させた状態で、前記ケーシングの側面から前記保持手段へアクセス可能となることを特徴とする液処理装置。
11. 前記処理チャンバは外側チャンバと内側チャンバからなる二重構造を有することを特徴とする請求項８から請求項１０のいずれか１項に記載の液処理装置。
12. 前記処理チャンバの側面に対向する脱着可能な側壁パネルを有し、前記液処理部が配設されるケーシングを具備し、
    前記液処理部へ少なくとも前記脱着可能な側壁パネル方向からアクセス可能であることを特徴とする請求項８から請求項１１のいずれか１項に記載の液処理装置。
13. 前記ケーシングは側壁パネルを有し、その少なくとも１枚は脱着可能であり、
    前記側壁パネルを取り外すことにより、前記ケーシングの側面から前記保持手段へアクセスが可能となることを特徴とする請求項８から請求項１２のいずれか１項に記載の液処理装置。
14. 被処理体を回転可能に保持する保持手段と、前記保持手段に保持された被処理体に処理液を供給する処理液吐出ノズルと、ガイドに沿って、前記保持手段を囲繞してその中で液処理を行う処理位置と前記保持手段から退避した退避位置との間でスライド可能な筒状の処理チャンバと、前記処理チャンバを前記ガイドに沿ってスライドさせるスライド機構と、前記処理チャンバの前面を開閉可能な蓋体と、を有する液処理部と、
    側面および前面から内部にアクセス可能に構成されたケーシングと、
    前記液処理部の下方に設けられ、上下方向の駆動により前記液処理部との間で前記被処理体の受渡を行う被処理体受渡機構が配設された被処理体受渡部と、
    前記被処理体を収納可能な容器の搬入出を行う容器搬入出部と、
    前記被処理体受渡部と前記容器搬入出部との間に位置し、前記被処理体受渡部との間で容器の受渡を行う第１容器搬送機構が配設された容器中継部と、
    前記容器中継部と前記容器搬入出部との間で容器の搬送を行う第２容器搬送機構と、を具備し、
    前記ケーシングは、
    前記処理チャンバの側面に対向する脱着可能な第１側壁パネルと、
    前記液処理部と前記容器搬入出部とを仕切る脱着可能な第２側壁パネルと、を有し、
    前記処理チャンバを前記処理位置に位置させた状態で、被処理体を回転させながら被処理体に処理液を供給して液処理を行い、
    前記液処理部へは、前記第１側壁パネルを取り外して前記ケーシングの側面からアクセス可能であり、また前記第２側壁パネルを取り外し、前記蓋体を開いて前記ケーシングの前面からアクセス可能であることを特徴とする液処理装置。
15. 前記第２側壁パネルを取り外した状態においては、
    前記処理チャンバの前面を開閉する蓋体が、ヒンジ機構を用いた回転移動によって、前記第２側壁パネルの壁面に垂直な方向からの矢視において前記処理チャンバの前面が全開するように退避可能であることを特徴とする請求項１４に記載の液処理装置。
16. 前記保持手段を回転させる回転駆動機構が前記ケーシングの外部に配設され、前記保持手段と前記回転駆動機構を連結する回転軸が前記ケーシングの１側面を貫通して配設されていることを特徴とする請求項１４または請求項１５に記載の液処理装置。
17. 前記スライド機構と前記処理チャンバとは、ネジ止めもしくはピン止めまたは嵌め合いにより連結され、前記処理チャンバの脱着が容易となっていることを特徴とする請求項１から請求項３、および請求項５から請求項１６のいずれか１項に記載の液処理装置。

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