JPH072714B2 - 5−フルオロニコチン酸誘導体およびその塩 - Google Patents
5−フルオロニコチン酸誘導体およびその塩Info
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- JPH072714B2 JPH072714B2 JP61173489A JP17348986A JPH072714B2 JP H072714 B2 JPH072714 B2 JP H072714B2 JP 61173489 A JP61173489 A JP 61173489A JP 17348986 A JP17348986 A JP 17348986A JP H072714 B2 JPH072714 B2 JP H072714B2
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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Description
【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、一般式 [式中、R1は水素原子またはカルボキシル保護基を;R
2aはシクロアルキル基またはハロゲン原子、ヒドロキシ
ル基、C1-4アルコキシ基、アリール基、シアノ基および
カルボキシル基から選ばれる一つ以上の基で置換されて
いてもよいアルキル基を;R4は置換基を有してもよいピ
ロリジニルまたはピペラジニル基を示す。] で表わされる1,4−ジヒドロ−4−オキソナフチリジン
誘導体およびその塩の重要な中間体である一般式 [式中、R1は前記と同じ意味を有し、R2は水素原子、シ
クロアルキル基またはハロゲン原子、ヒドロキシル基、
C1-4アルコキシ基、アリール基、シアノ基およびカルボ
キシル基から選ばれる一つ以上の基で置換されていても
よいアルキル基を;およびR3は水素原子またはヒドロキ
シ保護基を示す。」 で表わされる5−フルオロニコチン酸誘導体およびその
塩に関する。
2aはシクロアルキル基またはハロゲン原子、ヒドロキシ
ル基、C1-4アルコキシ基、アリール基、シアノ基および
カルボキシル基から選ばれる一つ以上の基で置換されて
いてもよいアルキル基を;R4は置換基を有してもよいピ
ロリジニルまたはピペラジニル基を示す。] で表わされる1,4−ジヒドロ−4−オキソナフチリジン
誘導体およびその塩の重要な中間体である一般式 [式中、R1は前記と同じ意味を有し、R2は水素原子、シ
クロアルキル基またはハロゲン原子、ヒドロキシル基、
C1-4アルコキシ基、アリール基、シアノ基およびカルボ
キシル基から選ばれる一つ以上の基で置換されていても
よいアルキル基を;およびR3は水素原子またはヒドロキ
シ保護基を示す。」 で表わされる5−フルオロニコチン酸誘導体およびその
塩に関する。
[従来の技術] 一般式[I]で表わされる1,4−ジヒドロ−4−オキソ
ナフチリジン誘導体およびその塩のうち、1−エチル−
6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−7−(1
−ピペラジニル)−1,8−ナフチリジン−3−カルボン
酸(一般名:エノキサシン)、7−(3−アミノ−1−
ピロリジニル)−1−シクロプロピル−6−フルオロ−
1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−
カルボン酸などが、緑膿菌を含む各種グラム陰性菌に対
して優れた抗菌力を有する化合物としてそれぞれ特開昭
55-83785号、同60-28978号において示されている。
ナフチリジン誘導体およびその塩のうち、1−エチル−
6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−7−(1
−ピペラジニル)−1,8−ナフチリジン−3−カルボン
酸(一般名:エノキサシン)、7−(3−アミノ−1−
ピロリジニル)−1−シクロプロピル−6−フルオロ−
1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−
カルボン酸などが、緑膿菌を含む各種グラム陰性菌に対
して優れた抗菌力を有する化合物としてそれぞれ特開昭
55-83785号、同60-28978号において示されている。
[発明が解決しようとする問題点] しかしながら、これらの化合物を製造する方法として
は、各種の方法がすでに開示されているが、一般式[I
I]で表わされる新規な5−フルオロニコチン酸誘導体
またはその塩を経由する方法は全く知られていない。
は、各種の方法がすでに開示されているが、一般式[I
I]で表わされる新規な5−フルオロニコチン酸誘導体
またはその塩を経由する方法は全く知られていない。
[問題点を解決するための手段] かかる状況下において、本発明者らは鋭意研究した結
果、一般式[II]で表わされる5−フルオロニコチン酸
誘導体およびその塩を見出し、本発明を完成するに至っ
た。
果、一般式[II]で表わされる5−フルオロニコチン酸
誘導体およびその塩を見出し、本発明を完成するに至っ
た。
本発明の目的は、一般式[I]で表わされる1,4−ジヒ
ドロ−4−オキソナフチリジン誘導体またはその塩を製
造するための重要な中間体である一般式[II]で表わさ
れる5−フルオロニコチン酸誘導体およびその塩を提供
することにある。
ドロ−4−オキソナフチリジン誘導体またはその塩を製
造するための重要な中間体である一般式[II]で表わさ
れる5−フルオロニコチン酸誘導体およびその塩を提供
することにある。
以下、本発明を詳細に説明する。
本明細書中で、R1で示されるカルボキシル保護基として
は、たとえば、通常当該分野で使用されるアルキル基、
ベンジル基、ピバロイルオキシメチル基、トリメチルシ
リル基などおよび特開昭59-80665号などに記載された通
常のカルボキシル基の保護基が挙げられる。
は、たとえば、通常当該分野で使用されるアルキル基、
ベンジル基、ピバロイルオキシメチル基、トリメチルシ
リル基などおよび特開昭59-80665号などに記載された通
常のカルボキシル基の保護基が挙げられる。
R2およびR2aにおけるシクロアルキル基としては、たと
えば、シクロプロピルなどのC3〜6シクロアルキル基が
挙げられ、R2およびR2aにおけるアルキル基としては、
たとえば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチルなどの直鎖または分枝状C1〜4アルキル
基が挙げられる。R2およびR2aにおけるアルキル基の置
換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子およびヨウ素原子などが、C1-4アルコキ
シ基としては、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、
イソプロポキシおよびn−ブトキシなどが、アリール基
としては、フェニルおよびナフチルなどが挙げられる。
上記したヒドロキシル基またはカルボキシル基は保護基
を有していてもよく、カルボキシル保護基としては、R1
で挙げたと同様の保護基が挙げられる。また、ヒドロキ
シ保護基としては、後述するR3のヒドロキシ保護基で挙
げると同様の保護基が挙げられる。
えば、シクロプロピルなどのC3〜6シクロアルキル基が
挙げられ、R2およびR2aにおけるアルキル基としては、
たとえば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピ
ル、n−ブチルなどの直鎖または分枝状C1〜4アルキル
基が挙げられる。R2およびR2aにおけるアルキル基の置
換基としてのハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素
原子、臭素原子およびヨウ素原子などが、C1-4アルコキ
シ基としては、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、
イソプロポキシおよびn−ブトキシなどが、アリール基
としては、フェニルおよびナフチルなどが挙げられる。
上記したヒドロキシル基またはカルボキシル基は保護基
を有していてもよく、カルボキシル保護基としては、R1
で挙げたと同様の保護基が挙げられる。また、ヒドロキ
シ保護基としては、後述するR3のヒドロキシ保護基で挙
げると同様の保護基が挙げられる。
また、R3におけるヒドロキシ保護基としては、たとえ
ば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、ブ
チル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ドデ
シルなどのアルキル基;メタンスルホニル、エタンスル
ホニル、1−メチルエタンスルホニル、1,1−ジメチル
エタンスルホニルなどのアルカンスルホニル基;ベンゼ
ンスルホニル、ナフタレンスルホニルなどのアレーンス
ルホニル基;ジメトキシホスフィニル、ジエトキシホス
フィニル、ジプロポキシホスフィニル、ジブトキシホス
フィニルなどのジアルコキシホスフィニル基;ジフェノ
キシホスフィニルなどのジアリールオキシホスフィニル
基が挙げられる。これらのヒドロキシ保護基は、たとえ
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など
のハロゲン原子;ニトロ基;メチル、エチル、n−プロ
ピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−
ブチル、tert−ブチルなどのC1〜4アルキル基;メトキ
シ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−
ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブト
キシなどのC1〜4アルコキシ基などから選ばれる一つ以
上の置換基で置換されていてもよい。
ば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、ブ
チル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ドデ
シルなどのアルキル基;メタンスルホニル、エタンスル
ホニル、1−メチルエタンスルホニル、1,1−ジメチル
エタンスルホニルなどのアルカンスルホニル基;ベンゼ
ンスルホニル、ナフタレンスルホニルなどのアレーンス
ルホニル基;ジメトキシホスフィニル、ジエトキシホス
フィニル、ジプロポキシホスフィニル、ジブトキシホス
フィニルなどのジアルコキシホスフィニル基;ジフェノ
キシホスフィニルなどのジアリールオキシホスフィニル
基が挙げられる。これらのヒドロキシ保護基は、たとえ
ば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子など
のハロゲン原子;ニトロ基;メチル、エチル、n−プロ
ピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−
ブチル、tert−ブチルなどのC1〜4アルキル基;メトキ
シ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−
ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブト
キシなどのC1〜4アルコキシ基などから選ばれる一つ以
上の置換基で置換されていてもよい。
R4におけるピロリジニルおよびピペラジニル基における
置換基としては、アルキル基、たとえば、メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブ
チル、sec−ブチル、tert−ブチルなどの直鎖または分
枝鎖C1〜4アルキル基;アミノ基;アミノアルキル基、
たとえば、アミノメチル、2−アミノエチル、3−アミ
ノプロピルなどのアミノC1〜4アルキル基;ヒドロキシ
アルキル基、たとえば、ヒドロキシメチル、2−ヒドロ
キシエチル、3−ヒドロキシプロピルなどのヒドロキシ
−C1〜4アルキル基;ヒドロキシル基;アルケニル基、
たとえば、ビニル、アリルなどのC2〜4アルケニル基;
アシル基、たとえば、ホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリルなどのC1〜4アシル基;アルキルアミノ
基、たとえば、メチルアミノ、エチルアミノ、n−プロ
ピルアミノ、イソプロピルアミノなどのC1〜4アルキル
アミノ基;ジアルキルアミノ基、たとえば、ジメチルア
ミノ、ジエチルアミノ、ジ−n−プロピルアミノ、メチ
ルエチルアミノなどのジ−C1〜4アルキルアミノ基;シ
アノ基;オキソ基;アルアルキルアミノ基、たとえば、
ベンジルアミノ、フェネチルアミノなどのアル−C1〜4
アルキルアミノ基;アシルアミノ基、たとえば、ホルミ
ルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチ
リルアミノなどのC1〜4アシルアミノ基;アルコキシカ
ルボニル基、たとえば、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、n−プロポキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニルなどのC1〜4アルコキシカルボニル基;N−
アシル−N−アルキルアミノ基、たとえば、上記と同様
のアルキルアミノ基の窒素原子がアシル基、たとえば、
アセチル、プロピオニル、ブチリルなどのC1〜4アシル
基で置換されているN−アシル−N−アルキルアミノ基
などから選ばれる1つ以上の置換基で置換されていても
よい。
置換基としては、アルキル基、たとえば、メチル、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブ
チル、sec−ブチル、tert−ブチルなどの直鎖または分
枝鎖C1〜4アルキル基;アミノ基;アミノアルキル基、
たとえば、アミノメチル、2−アミノエチル、3−アミ
ノプロピルなどのアミノC1〜4アルキル基;ヒドロキシ
アルキル基、たとえば、ヒドロキシメチル、2−ヒドロ
キシエチル、3−ヒドロキシプロピルなどのヒドロキシ
−C1〜4アルキル基;ヒドロキシル基;アルケニル基、
たとえば、ビニル、アリルなどのC2〜4アルケニル基;
アシル基、たとえば、ホルミル、アセチル、プロピオニ
ル、ブチリルなどのC1〜4アシル基;アルキルアミノ
基、たとえば、メチルアミノ、エチルアミノ、n−プロ
ピルアミノ、イソプロピルアミノなどのC1〜4アルキル
アミノ基;ジアルキルアミノ基、たとえば、ジメチルア
ミノ、ジエチルアミノ、ジ−n−プロピルアミノ、メチ
ルエチルアミノなどのジ−C1〜4アルキルアミノ基;シ
アノ基;オキソ基;アルアルキルアミノ基、たとえば、
ベンジルアミノ、フェネチルアミノなどのアル−C1〜4
アルキルアミノ基;アシルアミノ基、たとえば、ホルミ
ルアミノ、アセチルアミノ、プロピオニルアミノ、ブチ
リルアミノなどのC1〜4アシルアミノ基;アルコキシカ
ルボニル基、たとえば、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、n−プロポキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニルなどのC1〜4アルコキシカルボニル基;N−
アシル−N−アルキルアミノ基、たとえば、上記と同様
のアルキルアミノ基の窒素原子がアシル基、たとえば、
アセチル、プロピオニル、ブチリルなどのC1〜4アシル
基で置換されているN−アシル−N−アルキルアミノ基
などから選ばれる1つ以上の置換基で置換されていても
よい。
R4がアミノ基またはイミノ基を有する場合、通常当該分
野で使用される保護基、たとえば、ホルミル、アセチ
ル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルな
どの特開昭59-80665号公報などに記載された通常のアミ
ノ基およびイミノ基の保護基などで保護されていてもよ
い。また、R4がヒドロキシル基を有する場合、R3で挙げ
たと同様のヒドロキシ保護基で保護されていてもよい。
野で使用される保護基、たとえば、ホルミル、アセチ
ル、エトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニルな
どの特開昭59-80665号公報などに記載された通常のアミ
ノ基およびイミノ基の保護基などで保護されていてもよ
い。また、R4がヒドロキシル基を有する場合、R3で挙げ
たと同様のヒドロキシ保護基で保護されていてもよい。
また、一般式[I]および[II]の化合物の塩として
は、通常知られているアミノ基、イミノ基などの塩基性
基またはカルボキシル基、ヒドロキシル基などの酸性基
における塩が挙げられる。
は、通常知られているアミノ基、イミノ基などの塩基性
基またはカルボキシル基、ヒドロキシル基などの酸性基
における塩が挙げられる。
塩基性基における塩としては、たとえば、塩酸、硫酸な
どの鉱酸との塩;シュウ酸、クエン酸、トリフルオロ酢
酸などの有機カルボン酸との塩;メタンスルホン酸、p
−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸などのス
ルホン酸との塩を、酸性基における塩としては、たとえ
ば、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属との塩;
カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属との
塩;アンモニウム塩;プロカイン、ジベンジルアミン、
N,N−ジベンジルエチレンジアミン、トリエチルアミ
ン、ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N−メチルピ
ペリジン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミンな
どの含窒素有機塩基との塩を挙げることができる。
どの鉱酸との塩;シュウ酸、クエン酸、トリフルオロ酢
酸などの有機カルボン酸との塩;メタンスルホン酸、p
−トルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸などのス
ルホン酸との塩を、酸性基における塩としては、たとえ
ば、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属との塩;
カルシウム、マグネシウムなどのアルカリ土類金属との
塩;アンモニウム塩;プロカイン、ジベンジルアミン、
N,N−ジベンジルエチレンジアミン、トリエチルアミ
ン、ピリジン、N,N−ジメチルアニリン、N−メチルピ
ペリジン、ジエチルアミン、ジシクロヘキシルアミンな
どの含窒素有機塩基との塩を挙げることができる。
つぎに、本発明化合物の製造法について詳説する。
本発明化合物は、たとえば、つぎの製造ルートに従って
製造することができる。
製造することができる。
[式中、R1、R2およびR3は前記したと同様の意味を有
し、Zは脱離基を示す。] また、一般式[IIa]、[III]および[IV]の化合物の
塩としては、一般式[I]および[II]の化合物の塩で
説明したと同様の塩が挙げられる。
し、Zは脱離基を示す。] また、一般式[IIa]、[III]および[IV]の化合物の
塩としては、一般式[I]および[II]の化合物の塩で
説明したと同様の塩が挙げられる。
Zの脱離基としては、たとえば、塩素原子、臭素原子な
どのハロゲン原子;ヒドロキシル基;アセトキシなどの
アシルオキシ基;メタンスルホニルオキシなどのアルカ
ンスルホニルオキシ基;ベンゼンスルホニルオキシなど
のアレーンスルホニルオキシ基;ジメトキシホスフィニ
ルオキシ、ジエトキシホスフィニルオキシなどのジアル
コキシホスフィニルオキシ基;ジフェノキシホスフィニ
ルオキシなどのジアリールオキシホスフィニルオキシ基
などが挙げられる。
どのハロゲン原子;ヒドロキシル基;アセトキシなどの
アシルオキシ基;メタンスルホニルオキシなどのアルカ
ンスルホニルオキシ基;ベンゼンスルホニルオキシなど
のアレーンスルホニルオキシ基;ジメトキシホスフィニ
ルオキシ、ジエトキシホスフィニルオキシなどのジアル
コキシホスフィニルオキシ基;ジフェノキシホスフィニ
ルオキシなどのジアリールオキシホスフィニルオキシ基
などが挙げられる。
一般式[IIa]の化合物またはその塩は、縮合剤の存在
下または不存在下、一般式[III]の化合物またはその
塩に、一般式[IV]の化合物またはその塩を反応させる
ことによって得ることができる。
下または不存在下、一般式[III]の化合物またはその
塩に、一般式[IV]の化合物またはその塩を反応させる
ことによって得ることができる。
本反応を溶媒中で行う場合、使用される溶媒としては、
反応に悪影響を与えないものであれば特に限定されない
が、具体的には、水;メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール、ブタノール、エチレングリコール、メチル
セロソルブなどのアルコール類;ベンゼン、トルエンな
どの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルム、
ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、アニソール、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジメチルセロソルブなどのエ
ーテル類;アセトニトリルなどのニトリル類;アセト
ン、メチルエチルケトンなどのケトン類;酢酸メチル、
酢酸エチルなどのエステル類;N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類;ジメ
チルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ
る。これらの溶媒を2種類もしくはそれ以上混合して使
用してもよい。
反応に悪影響を与えないものであれば特に限定されない
が、具体的には、水;メタノール、エタノール、イソプ
ロパノール、ブタノール、エチレングリコール、メチル
セロソルブなどのアルコール類;ベンゼン、トルエンな
どの芳香族炭化水素類;塩化メチレン、クロロホルム、
ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素類;テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン、アニソール、ジエチレングリ
コールジメチルエーテル、ジメチルセロソルブなどのエ
ーテル類;アセトニトリルなどのニトリル類;アセト
ン、メチルエチルケトンなどのケトン類;酢酸メチル、
酢酸エチルなどのエステル類;N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類;ジメ
チルスルホキシドなどのスルホキシド類などが挙げられ
る。これらの溶媒を2種類もしくはそれ以上混合して使
用してもよい。
縮合剤としては、たとえば、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム、カリウムtert−ブトキシド、水酸化ナトリウ
ム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムメトキシド、カリウムエトキシドなどが挙げられ
る。
カリウム、カリウムtert−ブトキシド、水酸化ナトリウ
ム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カ
リウムメトキシド、カリウムエトキシドなどが挙げられ
る。
本反応において、一般式[IV]の化合物またはその塩の
使用量は、特に限定されないが、通常、一般式[III]
の化合物またはその塩に対して等モル以上、好ましくは
1.0〜3.0倍モルである。
使用量は、特に限定されないが、通常、一般式[III]
の化合物またはその塩に対して等モル以上、好ましくは
1.0〜3.0倍モルである。
また、本反応は通常0〜150℃、好ましくは15〜100℃
で、5分〜30時間実施すればよい。
で、5分〜30時間実施すればよい。
つぎに、一般式[II]の化合物またはその塩は、一般式
[IIa]の化合物またはその塩を自体公知の保護形成反
応に付すことにより得ることができる。
[IIa]の化合物またはその塩を自体公知の保護形成反
応に付すことにより得ることができる。
以上説明した一般式[II]の化合物が保護基を有する場
合は、所望により、公知方法で保護基を脱離させ、それ
ぞれ対応する遊離の化合物へ導くことができる。また、
一般式[II]の化合物が遊離の化合物である場合は、所
望により、自体公知の塩形成反応または保護形成反応に
付して、それぞれ対応する化合物の塩または保護基を有
する化合物へ導くことができる。
合は、所望により、公知方法で保護基を脱離させ、それ
ぞれ対応する遊離の化合物へ導くことができる。また、
一般式[II]の化合物が遊離の化合物である場合は、所
望により、自体公知の塩形成反応または保護形成反応に
付して、それぞれ対応する化合物の塩または保護基を有
する化合物へ導くことができる。
つぎに、上で説明した製造法の原料である一般式[II
I]または[IV]の化合物もしくはそれらの塩の製造法
について説明する。
I]または[IV]の化合物もしくはそれらの塩の製造法
について説明する。
一般式[III]の化合物またはその塩は、ジャスタス・
リービッヒ・アナレーン・シミー(J.Liebigs Ann.Che
m.)第1895〜1908頁、1977年および米国特許第4241072
号に記載の方法に準じて得られる。また、一般式[IV]
の化合物またはその塩は、ブレタン・ド・ラ・ソシエテ
・シミク・ドゥ・フランス(Bull.Soc.Chim.Fr.)第116
5〜1169頁、1975年および日本薬学会第105年会講演要旨
集、第523頁、1985年に記載の方法に従って製造するこ
とができる。
リービッヒ・アナレーン・シミー(J.Liebigs Ann.Che
m.)第1895〜1908頁、1977年および米国特許第4241072
号に記載の方法に準じて得られる。また、一般式[IV]
の化合物またはその塩は、ブレタン・ド・ラ・ソシエテ
・シミク・ドゥ・フランス(Bull.Soc.Chim.Fr.)第116
5〜1169頁、1975年および日本薬学会第105年会講演要旨
集、第523頁、1985年に記載の方法に従って製造するこ
とができる。
以上説明したそれぞれの反応によって得られる一般式
[III]または[IV]の化合物もしくはそれらの塩は、
常法によって単離または分離することができる。また単
離または分離することなくつぎの反応に使用することも
できる。
[III]または[IV]の化合物もしくはそれらの塩は、
常法によって単離または分離することができる。また単
離または分離することなくつぎの反応に使用することも
できる。
このようにして得られた一般式[II]の化合物またはそ
の塩は、たとえば、次に示すルートによって一般式
[I]の化合物またはその塩へ誘導することができる。
の塩は、たとえば、次に示すルートによって一般式
[I]の化合物またはその塩へ誘導することができる。
[式中、R1、R2、R2a、R3およびR4は前記と同じ意味を
有し、R1aはR1と同様のカルボキシル保護基を、Xは塩
素原子、臭素原子などのハロゲン原子を示す。] 一般式[V]、[VI]、[VII]、[VIII]、[IX]、
[X]、および[XI]の化合物の塩としては、一般式
[I]および[II]の化合物の塩において説明したと同
様の塩が挙げられる。
有し、R1aはR1と同様のカルボキシル保護基を、Xは塩
素原子、臭素原子などのハロゲン原子を示す。] 一般式[V]、[VI]、[VII]、[VIII]、[IX]、
[X]、および[XI]の化合物の塩としては、一般式
[I]および[II]の化合物の塩において説明したと同
様の塩が挙げられる。
この反応ルート中、一般式[V]の化合物またはその塩
から一般式[VI]の化合物またはその塩におけるR3O-に
相当する基がハロゲン原子である化合物へと同時に導く
ことができる。この場合、R3O-に相当する基がハロゲン
原子である一般式[VII]の化合物またはその塩および
一般式[VIII]の化合物またはその塩を経由して一般式
[I]の化合物またはその塩へと導くことができる。
から一般式[VI]の化合物またはその塩におけるR3O-に
相当する基がハロゲン原子である化合物へと同時に導く
ことができる。この場合、R3O-に相当する基がハロゲン
原子である一般式[VII]の化合物またはその塩および
一般式[VIII]の化合物またはその塩を経由して一般式
[I]の化合物またはその塩へと導くことができる。
なお、一般式[VI]または[X]の化合物もしくはそれ
らの塩は、一般式[V]の化合物またはその塩とN,N−
ジ置換ホルムアミド類から導かれるビルスマイヤー試薬
を反応させることによって得ることができる。
らの塩は、一般式[V]の化合物またはその塩とN,N−
ジ置換ホルムアミド類から導かれるビルスマイヤー試薬
を反応させることによって得ることができる。
本反応を溶媒中で行う場合、使用される溶媒としては、
反応に悪影響を与えないものであれば特に限定されない
が、具体的には、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化
水素類;塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン
などのハロゲン化炭化水素類;N,N−ジメチルホルムアミ
ドなどのホルムアミド類などが挙げられる。これらの溶
媒を2種類もしくはそれ以上混合して使用してもよい。
また、N,N−ジ置換ホルムアミド類から導かれるビルス
マイヤー試薬が溶液の場合、それを溶媒として使用して
もよい。
反応に悪影響を与えないものであれば特に限定されない
が、具体的には、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化
水素類;塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン
などのハロゲン化炭化水素類;N,N−ジメチルホルムアミ
ドなどのホルムアミド類などが挙げられる。これらの溶
媒を2種類もしくはそれ以上混合して使用してもよい。
また、N,N−ジ置換ホルムアミド類から導かれるビルス
マイヤー試薬が溶液の場合、それを溶媒として使用して
もよい。
本反応において、N,N−ジ置換ホルムアミド類から導か
れるビルスマイヤー試薬の使用量は、一般式[V]の化
合物またはその塩に対して等モル以上、好ましくは2.0
〜5.0倍モルである。この反応は通常0〜150℃、好まし
くは0〜90℃で、5分〜30時間実施すればよい。
れるビルスマイヤー試薬の使用量は、一般式[V]の化
合物またはその塩に対して等モル以上、好ましくは2.0
〜5.0倍モルである。この反応は通常0〜150℃、好まし
くは0〜90℃で、5分〜30時間実施すればよい。
N,N−ジ置換ホルムアミド類から導かれるビルスマイヤ
ー試薬はN,N−ジ置換ホルムアミド類に、ビルスマイヤ
ー試薬を調製する際に通常用いられている無機または有
機ハロゲン化物を等モル反応させることにより得られ、
このN,N−ジ置換ホルムアミド類から導かれるビルスマ
イヤー試薬の調製は通常0〜25℃で、5分〜1時間実施
すればよい。
ー試薬はN,N−ジ置換ホルムアミド類に、ビルスマイヤ
ー試薬を調製する際に通常用いられている無機または有
機ハロゲン化物を等モル反応させることにより得られ、
このN,N−ジ置換ホルムアミド類から導かれるビルスマ
イヤー試薬の調製は通常0〜25℃で、5分〜1時間実施
すればよい。
また、N,N−ジ置換ホルムアミド類から導かれるビルス
マイヤー試薬は反応系内で調製することもできる。
マイヤー試薬は反応系内で調製することもできる。
N,N−ジ置換ホルムアミド類としては、たとえば、N,N−
ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、
N,N−ジブチルホルムアミドなどのN,N−ジアルキルホル
ムアミド類;N−メチルホルムアニリドなどのN−アルキ
ル−N−アリールホルムアミド類;N,N−ジフェニルホル
ムアミドなどのN,N−ジアリールホルムアミド類;N−ホ
ルミルピロリジン、N−ホルミルピペリジン、N−ホル
ミルモルホリン、N−ホルミルチオモルホリンなどの窒
素原子の他に酸素原子または硫黄原子を有していてもよ
いN−ホルミル含窒素飽和複素環類などが挙げられる。
ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、
N,N−ジブチルホルムアミドなどのN,N−ジアルキルホル
ムアミド類;N−メチルホルムアニリドなどのN−アルキ
ル−N−アリールホルムアミド類;N,N−ジフェニルホル
ムアミドなどのN,N−ジアリールホルムアミド類;N−ホ
ルミルピロリジン、N−ホルミルピペリジン、N−ホル
ミルモルホリン、N−ホルミルチオモルホリンなどの窒
素原子の他に酸素原子または硫黄原子を有していてもよ
いN−ホルミル含窒素飽和複素環類などが挙げられる。
無機または有機ハロゲン化物としては、ビルスマイヤー
試薬を調製する上で通常知られているものが挙げられ、
無機ハロゲン化物としては、たとえば、オキシ塩化リ
ン、オキシ臭化リン、三塩化リン、三臭化リン、五塩化
リンなどのリンハロゲン化物;塩化チオニル、臭化チオ
ニル、塩化スルフリルなどのイオウハロゲン化物など
が、有機ハロゲン化物としては、たとえば、ホスゲン、
ジホスゲン、クロロ炭酸エチルなどの炭酸ハロゲン化
物;オキサリルクロリドなどのシュウ酸ハロゲン化物;
ジブロモトリフェニルホスホランなどの有機リンハロゲ
ン化物が挙げられる。
試薬を調製する上で通常知られているものが挙げられ、
無機ハロゲン化物としては、たとえば、オキシ塩化リ
ン、オキシ臭化リン、三塩化リン、三臭化リン、五塩化
リンなどのリンハロゲン化物;塩化チオニル、臭化チオ
ニル、塩化スルフリルなどのイオウハロゲン化物など
が、有機ハロゲン化物としては、たとえば、ホスゲン、
ジホスゲン、クロロ炭酸エチルなどの炭酸ハロゲン化
物;オキサリルクロリドなどのシュウ酸ハロゲン化物;
ジブロモトリフェニルホスホランなどの有機リンハロゲ
ン化物が挙げられる。
これらの反応条件はこれに限定されるものでなく、反応
試剤により適宜選択される。
試剤により適宜選択される。
また、上記の一般式[II]、[V]〜[IX]の化合物ま
たはその塩におけるR3がヒドロキシ保護基である場合
は、常法に従って保護基を脱離させてもよい。さらに、
一般式[I]、[II]、[VI]〜[X]の化合物におけ
るR1がカルボキシル保護基である場合も常法に従って保
護基を脱離させることができる。一方、一般式[II]、
[V]〜[IX]の化合物またはその塩におけるR3が水素
原子である場合、ジアゾアルカン、硫酸ジアルキル、ハ
ロゲン化アルキルなどのアルキル化剤を用いてR3がアル
キル基である化合物;アルカンスルホニルハロゲニド、
アレーンスルホニルハロゲニド、アルカンスルホン酸無
水物、アレーンスルホン酸無水物などのスルホニル化剤
を用いてR3がアルカンスルホニルまたはアレーンスルホ
ニル基である化合物;ジアルキルリン酸ハロゲニド、ジ
アニールリン酸ハロゲニドなどのリン酸化剤を用いてR3
がジアルコキシホスフィニルまたはジアリールオキシホ
スフィニル基である化合物に、適宜脱酸剤を使用するこ
とによって誘導することができる。
たはその塩におけるR3がヒドロキシ保護基である場合
は、常法に従って保護基を脱離させてもよい。さらに、
一般式[I]、[II]、[VI]〜[X]の化合物におけ
るR1がカルボキシル保護基である場合も常法に従って保
護基を脱離させることができる。一方、一般式[II]、
[V]〜[IX]の化合物またはその塩におけるR3が水素
原子である場合、ジアゾアルカン、硫酸ジアルキル、ハ
ロゲン化アルキルなどのアルキル化剤を用いてR3がアル
キル基である化合物;アルカンスルホニルハロゲニド、
アレーンスルホニルハロゲニド、アルカンスルホン酸無
水物、アレーンスルホン酸無水物などのスルホニル化剤
を用いてR3がアルカンスルホニルまたはアレーンスルホ
ニル基である化合物;ジアルキルリン酸ハロゲニド、ジ
アニールリン酸ハロゲニドなどのリン酸化剤を用いてR3
がジアルコキシホスフィニルまたはジアリールオキシホ
スフィニル基である化合物に、適宜脱酸剤を使用するこ
とによって誘導することができる。
[実施例] つぎに、本発明を実施例および参考例を挙げて説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。
が、本発明はこれに限定されるものではない。
実施例1 N−エチルアミジノ酢酸エチルエステルの塩酸塩500mg
をエタノール5mlに溶解させ、氷冷下でナトリウムエト
キシド(純度85%)225mgおよびα−ホルミル−α−フ
ルオロ酢酸エチルエステルのナトリウム塩800mgを加
え、室温で10時間反応させた後、減圧下に溶媒を留去す
る。得られた残留物に酢酸エチル10ml、ジエチルエーテ
ル10mlおよび水20mlを加え、2N塩酸でpH2.0に調整した
後、析出結晶を濾取し、水1mlおよびジエチルエーテル1
mlで順次洗浄すれば、融点230〜232℃を示す2−エチル
アミノ−5−フルオロ−6−ヒドロキシニコチン酸エチ
ルエステル360mg(収率61.4%)を得る。これを酢酸エ
チルで再結晶すれば、融点234〜235℃を示す結晶を得
る。
をエタノール5mlに溶解させ、氷冷下でナトリウムエト
キシド(純度85%)225mgおよびα−ホルミル−α−フ
ルオロ酢酸エチルエステルのナトリウム塩800mgを加
え、室温で10時間反応させた後、減圧下に溶媒を留去す
る。得られた残留物に酢酸エチル10ml、ジエチルエーテ
ル10mlおよび水20mlを加え、2N塩酸でpH2.0に調整した
後、析出結晶を濾取し、水1mlおよびジエチルエーテル1
mlで順次洗浄すれば、融点230〜232℃を示す2−エチル
アミノ−5−フルオロ−6−ヒドロキシニコチン酸エチ
ルエステル360mg(収率61.4%)を得る。これを酢酸エ
チルで再結晶すれば、融点234〜235℃を示す結晶を得
る。
IR(KBr)cm-1;1685,1650 NMR(TFA-d1)δ値; 1.43(3H,t,J=7Hz),1.45(3H,t,J=7Hz), 3.53(2H,q,J=7Hz),4.41(2H,q,J=7Hz), 8.13(1H,d,J=11Hz) 実施例2 ギ酸エチル38.1gをトルエン100mlに溶解させ、ナトリウ
ムメトキシド(純度92.3%)6.01gを添加し、室温で10
分間攪拌した後、フルオロ酢酸エチル8.18gを加え、同
温度で5.5時間反応させる。一方、N−エチルアミジノ
酢酸エチルエステルの塩酸塩10.0gをメタノール200mlに
溶解させ、28%ナトリウムメトキシドのメタノール溶液
10.9gを添加し、室温で1.5時間反応させる。このメタノ
ール溶液を上記のトルエン溶液に加え、室温で10時間反
応させた後、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物
に酢酸エチル50ml、ジエチルエーテル50mlおよび水200m
lを加え、6N塩酸でpH3.0に調整した後、析出結晶を濾取
し、水10mlおよびジエチルエーテル10mlで順次洗浄すれ
ば、融点222〜226℃を示す2−エチルアミノ−5−フル
オロ−6−ヒドロキシニコチン酸メチルエステル8.02g
(収率72.9%)を得る。これを酢酸エチルで再結晶すれ
ば、融点227〜229℃を示す結晶を得る。
ムメトキシド(純度92.3%)6.01gを添加し、室温で10
分間攪拌した後、フルオロ酢酸エチル8.18gを加え、同
温度で5.5時間反応させる。一方、N−エチルアミジノ
酢酸エチルエステルの塩酸塩10.0gをメタノール200mlに
溶解させ、28%ナトリウムメトキシドのメタノール溶液
10.9gを添加し、室温で1.5時間反応させる。このメタノ
ール溶液を上記のトルエン溶液に加え、室温で10時間反
応させた後、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物
に酢酸エチル50ml、ジエチルエーテル50mlおよび水200m
lを加え、6N塩酸でpH3.0に調整した後、析出結晶を濾取
し、水10mlおよびジエチルエーテル10mlで順次洗浄すれ
ば、融点222〜226℃を示す2−エチルアミノ−5−フル
オロ−6−ヒドロキシニコチン酸メチルエステル8.02g
(収率72.9%)を得る。これを酢酸エチルで再結晶すれ
ば、融点227〜229℃を示す結晶を得る。
IR(KBr)cm-1;νc=0;1680,1640 NMR(TFA-d1)δ値; 1.44(3H,t,J=7Hz),3.57(2H,q,J=7Hz), 3.99(3H,s),8.16(1H,d,J=11Hz) 同様にして、つぎの化合物を得る。
2−シクロプロピルアミノ−5−フルオロ−6−ヒド
ロキシニコチン酸メチルエステル 収率;82.2% 融点;218〜220℃(再結溶媒;酢酸エチル) IR(KBr)cm-1;νc=0;1690,1660 NMR(TFA-d1)δ値; 0.55〜1.50(4H,m),2.55〜3.00(1H,m), 3.98(3H,s),8.08(1H,d,J=11Hz) 2−アミノ−5−フルオロ−6ヒドロキシニコチン酸
メチルエステル 収率;71.6% 融点;274〜280℃[再結溶媒;アセトン:エタノール=
1:1(容量比)] IR(KBr)cm-1;νc=0;1670 NMR(d6‐DMSO)δ値; 3.71(3H,s),7.13(2H,bs), 7.49(1H,d,J=12Hz),11.46(1H,bs) 実施例3 2−エチルアミノ−5−フルオロ−6−ヒドロキシニコ
チン酸エチルエステル150mgを酢酸エチル9mlに懸濁さ
せ、約40mgのジアゾメタンを含むジエチルエーテル溶液
を氷冷下に添加した後、室温で10分間反応させる。つい
で、反応液から発泡が生じなくなるまで酢酸を加えた
後、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラム
クロマトグラフィー[和光シリカゲルC-200,溶出溶媒;
ベンゼン:n−ヘキサン=2:1(容量比)]で精製すれ
ば、油状の2−エチルアミノ−5−フルオロ−6−メト
キシニコチン酸メチルエステル140mg(収率87.6%)を
得る。
ロキシニコチン酸メチルエステル 収率;82.2% 融点;218〜220℃(再結溶媒;酢酸エチル) IR(KBr)cm-1;νc=0;1690,1660 NMR(TFA-d1)δ値; 0.55〜1.50(4H,m),2.55〜3.00(1H,m), 3.98(3H,s),8.08(1H,d,J=11Hz) 2−アミノ−5−フルオロ−6ヒドロキシニコチン酸
メチルエステル 収率;71.6% 融点;274〜280℃[再結溶媒;アセトン:エタノール=
1:1(容量比)] IR(KBr)cm-1;νc=0;1670 NMR(d6‐DMSO)δ値; 3.71(3H,s),7.13(2H,bs), 7.49(1H,d,J=12Hz),11.46(1H,bs) 実施例3 2−エチルアミノ−5−フルオロ−6−ヒドロキシニコ
チン酸エチルエステル150mgを酢酸エチル9mlに懸濁さ
せ、約40mgのジアゾメタンを含むジエチルエーテル溶液
を氷冷下に添加した後、室温で10分間反応させる。つい
で、反応液から発泡が生じなくなるまで酢酸を加えた
後、減圧下に溶媒を留去する。得られた残留物をカラム
クロマトグラフィー[和光シリカゲルC-200,溶出溶媒;
ベンゼン:n−ヘキサン=2:1(容量比)]で精製すれ
ば、油状の2−エチルアミノ−5−フルオロ−6−メト
キシニコチン酸メチルエステル140mg(収率87.6%)を
得る。
IR(ニート)cm-1;νc=0;1685 NMR(CDCl3)δ値; 1.25(3H,t,J=7Hz),3.20〜3.75(2H,m), 3.81(3H,s),4.00(3H,s), 7.50〜8.1(m)(2H) 7.65(d,J=11Hz)(2H) 同様にして、つぎの化合物を得る。
2−アミノ−5−フルオロ−6−メトキシニコチン酸
メチルエステル 融点;114.5〜115℃(再結溶媒;エタノール) IR(KBr)cm-1;1685 NMR(d6‐DMSO)δ値; 3.83(3H,s),3.99(3H,s),7.20(2H,bs), 7.71(1H,d,J=12Hz) 実施例4 2−エチルアミノ−5−フルオロ−6−ヒドロキシニコ
チン酸メチルエステル5.00gをN,N−ジメチルホルムアミ
ド100mlに懸濁させ、炭酸カリウム3.87gおよび硫酸ジメ
チル3.53gを添加し、25℃で5.5時間反応させた後、酢酸
エチル150mlおよび水100mlを加える。有機層を分取し、
飽和食塩水100mlで3回洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残
留物をカラムクロマトグラフィー[メルクシリカゲル6
0、溶出溶媒;ベンゼン]で精製すれば、2−エチルア
ミノ−5−フルオロ−6−メトキシニコチン酸メチルエ
ステル4.70g(収率88.2%)を得る。この化合物の物性
は実施例3で得られたものと一致した。
メチルエステル 融点;114.5〜115℃(再結溶媒;エタノール) IR(KBr)cm-1;1685 NMR(d6‐DMSO)δ値; 3.83(3H,s),3.99(3H,s),7.20(2H,bs), 7.71(1H,d,J=12Hz) 実施例4 2−エチルアミノ−5−フルオロ−6−ヒドロキシニコ
チン酸メチルエステル5.00gをN,N−ジメチルホルムアミ
ド100mlに懸濁させ、炭酸カリウム3.87gおよび硫酸ジメ
チル3.53gを添加し、25℃で5.5時間反応させた後、酢酸
エチル150mlおよび水100mlを加える。有機層を分取し、
飽和食塩水100mlで3回洗浄した後、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去し、得られた残
留物をカラムクロマトグラフィー[メルクシリカゲル6
0、溶出溶媒;ベンゼン]で精製すれば、2−エチルア
ミノ−5−フルオロ−6−メトキシニコチン酸メチルエ
ステル4.70g(収率88.2%)を得る。この化合物の物性
は実施例3で得られたものと一致した。
同様にして、つぎの化合物を得る。
2−シクロプロピルアミノ−5−フルオロ−6−メト
キシニコチン酸メチルエステル 融点;52〜52.5℃(再結溶媒;メタノール) IR(KBr)cm-1;νc=0;1675 NMR(CDCl3)δ値; 0.30〜0.90(4H,m),2.50〜3.00(1H,m), 3.79(3H,s),4.04(3H,s),7.69(1H,d,J=11Hz), 7.96(1H,bs) 実施例5 2−エチルアミノ−5−フルオロ−6−メトキシニコチ
ン酸メチルエステル3.00gをメタノール30mlに溶解さ
せ、2N水酸化ナトリウム水溶液9.86mlを添加し、70℃で
2時間反応させた後、2N塩酸11.8mlを加えて析出結晶を
濾取し、水10mlで3回洗浄すれば、融点196〜197℃を示
す2−エチルアミノ−5−フルオロ−6−メトキシニコ
チン酸2.80g(収率99.4%)を得る。これをベンゼンで
再結晶すれば、融点197〜198℃を示す結晶を得る。
キシニコチン酸メチルエステル 融点;52〜52.5℃(再結溶媒;メタノール) IR(KBr)cm-1;νc=0;1675 NMR(CDCl3)δ値; 0.30〜0.90(4H,m),2.50〜3.00(1H,m), 3.79(3H,s),4.04(3H,s),7.69(1H,d,J=11Hz), 7.96(1H,bs) 実施例5 2−エチルアミノ−5−フルオロ−6−メトキシニコチ
ン酸メチルエステル3.00gをメタノール30mlに溶解さ
せ、2N水酸化ナトリウム水溶液9.86mlを添加し、70℃で
2時間反応させた後、2N塩酸11.8mlを加えて析出結晶を
濾取し、水10mlで3回洗浄すれば、融点196〜197℃を示
す2−エチルアミノ−5−フルオロ−6−メトキシニコ
チン酸2.80g(収率99.4%)を得る。これをベンゼンで
再結晶すれば、融点197〜198℃を示す結晶を得る。
IR(KBr)cm-1;νc=0;1665 NMR(d6‐DMSO)δ値; 1.27(3H,t,J=7Hz),3.47(2H,q,J=7Hz), 3.99(3H,s),7.73(1H,d,J=11Hz), 8.10(1H,bs) 同様にして、つぎの化合物を得る。
2−アミノ−5−フルオロ−6−メトキシニコチン酸 融点;215〜219℃(再結溶媒;酢酸エチル) IR(KBr)cm-1;νc=0;1680 NMR(d6‐DMSO)δ値; 3.93(3H,s),7.35(2H,bs), 7.75(1H,d,J=11Hz) 2−シクロプロピルアミノ−5−フルオロ−6−メト
キシニコチン酸 融点;180〜182.5℃(再結溶媒;ベンゼン) IR(KBr)cm-1;νc=0;1660 NMR(d6‐DMSO)δ値; 0.20〜1.00(4H,m),2.60〜3.10(1H,m), 4.00(3H,s),7.75(1H,d,J=11Hz),8.09(1H,bs) 参考例1 2−エチルアミノ−5−フルオロ−6−メトキシニコチ
ン酸500mgを無水テトラヒドロフラン25mlに溶解させ、1
0℃でN,N′−カルボニルジイミダゾール570mgを添加
し、室温で3時間反応させた後、エトキシカルボニル酢
酸のマグネシウム塩670mgを添加し、40〜50℃で5時間
反応させる。ついで、反応液に酢酸エチル25mlおよび水
15mlを加え、2N塩酸でpH3.0に調整する。有機層を分取
し、水15mlおよび飽和食塩水15mlで順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去
し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー[メル
クシリカゲル60、溶出溶媒;ベンゼン:n−ヘキサン=2:
1(容量比)]で精製すれば、油状の2−(2−エチル
アミノ−5−フルオロ−6−メトキシニコチノイル)酢
酸エチルエステル490mg(収率73.8%)を得る。
キシニコチン酸 融点;180〜182.5℃(再結溶媒;ベンゼン) IR(KBr)cm-1;νc=0;1660 NMR(d6‐DMSO)δ値; 0.20〜1.00(4H,m),2.60〜3.10(1H,m), 4.00(3H,s),7.75(1H,d,J=11Hz),8.09(1H,bs) 参考例1 2−エチルアミノ−5−フルオロ−6−メトキシニコチ
ン酸500mgを無水テトラヒドロフラン25mlに溶解させ、1
0℃でN,N′−カルボニルジイミダゾール570mgを添加
し、室温で3時間反応させた後、エトキシカルボニル酢
酸のマグネシウム塩670mgを添加し、40〜50℃で5時間
反応させる。ついで、反応液に酢酸エチル25mlおよび水
15mlを加え、2N塩酸でpH3.0に調整する。有機層を分取
し、水15mlおよび飽和食塩水15mlで順次洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去
し、得られた残留物をカラムクロマトグラフィー[メル
クシリカゲル60、溶出溶媒;ベンゼン:n−ヘキサン=2:
1(容量比)]で精製すれば、油状の2−(2−エチル
アミノ−5−フルオロ−6−メトキシニコチノイル)酢
酸エチルエステル490mg(収率73.8%)を得る。
IR(ニート)cm-1;νc=0;1735 NMR(CDCl3)δ値; 1.25(3H,t,J=7Hz),1.27(3H,t,J=7Hz), 3.20〜3.75(2H,m),3.78(2H,s), 3.99(3H,s),4.18(2H,q,J=7Hz), 7.49(1H,d,J=11Hz),8.80〜9.30(1H,m) 同様にして、つぎの化合物を得る。
2−(2−アミノ−5−フルオロ−6−メトキシニコ
チノイル)酢酸エチルエステル 融点;59.5〜60.5℃(再結溶媒;ジイソプロピルエーテ
ル) IR(KBr)cm-1;νc=0;1720 NMR(CDCl3)δ値; 1.27(3H,t,J=7Hz),3.80(2H,s),3.98(3H,s), 4.20(2H,q,J=7Hz),6.90(2H,bs), 7.52(1H,d,J=11Hz) 2−(2−シクロプロピルアミノ−5−フルオロ−6
−メトキシニコチノイル)酢酸エチルエステル(油状) IR(ニート)cm-1;νc=0;1740 NMR(CDCl3)δ値; 0.30〜1.00(4H,m),1.27(3H,t,J=7Hz), 2.60〜3.10(1H,m),3.78(2H,s),4.05(3H,s), 4.20(2H,q,J=7Hz),7.53(1H,d,J=11Hz), 9.10(1H,bs) 参考例2 2−(2−エチルアミノ−5−フルオロ−6−メトキシ
ニコチノイル)酢酸エチルエステル450mgをN,N′−ジメ
チルホルムアミド9mlに溶解させ、氷冷下、オキシ塩化
リン1.21gを添加し、室温で1時間反応させる。つい
で、50℃で10時間反応させた後、水36mlに加え、析出結
晶を濾取し、水1.5mlおよびジエチルエーテル1.5mlで順
次洗浄すれば、融点189〜192℃を示す7−クロロ−1−
エチル−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−
1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステル330
mg(収率69.8%)を得る。これを酢酸エチルで再結晶す
れば、融点191〜193℃を示す結晶を得る。
チノイル)酢酸エチルエステル 融点;59.5〜60.5℃(再結溶媒;ジイソプロピルエーテ
ル) IR(KBr)cm-1;νc=0;1720 NMR(CDCl3)δ値; 1.27(3H,t,J=7Hz),3.80(2H,s),3.98(3H,s), 4.20(2H,q,J=7Hz),6.90(2H,bs), 7.52(1H,d,J=11Hz) 2−(2−シクロプロピルアミノ−5−フルオロ−6
−メトキシニコチノイル)酢酸エチルエステル(油状) IR(ニート)cm-1;νc=0;1740 NMR(CDCl3)δ値; 0.30〜1.00(4H,m),1.27(3H,t,J=7Hz), 2.60〜3.10(1H,m),3.78(2H,s),4.05(3H,s), 4.20(2H,q,J=7Hz),7.53(1H,d,J=11Hz), 9.10(1H,bs) 参考例2 2−(2−エチルアミノ−5−フルオロ−6−メトキシ
ニコチノイル)酢酸エチルエステル450mgをN,N′−ジメ
チルホルムアミド9mlに溶解させ、氷冷下、オキシ塩化
リン1.21gを添加し、室温で1時間反応させる。つい
で、50℃で10時間反応させた後、水36mlに加え、析出結
晶を濾取し、水1.5mlおよびジエチルエーテル1.5mlで順
次洗浄すれば、融点189〜192℃を示す7−クロロ−1−
エチル−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−
1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエステル330
mg(収率69.8%)を得る。これを酢酸エチルで再結晶す
れば、融点191〜193℃を示す結晶を得る。
同様にして、つぎの化合物を得る。
7−クロロ−1−シクロプロピル−6−フルオロ−1,
4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カ
ルボン酸エチルエステル 融点;181〜183℃(再結溶媒;酢酸エチル) IR(KBr)cm-1;νc=0;1685 NMR(CDCl3)δ値; 0.7〜1.6(m)(7H),3.40〜3.90(1H,m) 1.41(t,J=7Hz)(7H),3.40〜3.90(1H,m), 4.39(2H,q,J=7Hz),8.40(1H,d,J=7Hz), 8.65(1H,s) 参考例3 2−(2−アミノ−5−フルオロ−6−メトキシニコチ
ノイル)酢酸エチルエステル350mgをN,N−ジメチルホル
ムアミド7mlに溶解させ、氷冷下、オキシ塩化リン1.05g
を滴下し、室温で5時間反応させた後、水30mlに加えて
析出結晶を濾取すれば、融点137〜138℃を示す4−クロ
ロ−6−フルオロ−7−メトキシ−1,8−ナフチリジン
−3−カルボン酸エチルエステル250mg(収率64.3%)
を得る。これをエタノールで再結晶すれば、融点138〜1
39℃を示す結晶を得る。
4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カ
ルボン酸エチルエステル 融点;181〜183℃(再結溶媒;酢酸エチル) IR(KBr)cm-1;νc=0;1685 NMR(CDCl3)δ値; 0.7〜1.6(m)(7H),3.40〜3.90(1H,m) 1.41(t,J=7Hz)(7H),3.40〜3.90(1H,m), 4.39(2H,q,J=7Hz),8.40(1H,d,J=7Hz), 8.65(1H,s) 参考例3 2−(2−アミノ−5−フルオロ−6−メトキシニコチ
ノイル)酢酸エチルエステル350mgをN,N−ジメチルホル
ムアミド7mlに溶解させ、氷冷下、オキシ塩化リン1.05g
を滴下し、室温で5時間反応させた後、水30mlに加えて
析出結晶を濾取すれば、融点137〜138℃を示す4−クロ
ロ−6−フルオロ−7−メトキシ−1,8−ナフチリジン
−3−カルボン酸エチルエステル250mg(収率64.3%)
を得る。これをエタノールで再結晶すれば、融点138〜1
39℃を示す結晶を得る。
IR(KBr)cm-1;νc=0;1725 NMR(CDCl3)δ値; 1.47(3H,t,J=7Hz),4.28(3H,s), 4.48(2H,q,J=7Hz),8.16(1H,d,J=11Hz), 9.23(1H,s) 参考例4 4−クロロ−6−フルオロ−7−メトキシ−1,8−ナフ
チリジン−3−カルボン酸エチルエステル200mgをエタ
ノール6.5mlに懸濁させ、濃塩酸0.14mlを添加し、加熱
還流下で1時間反応させた後、析出結晶を濾取すれば、
融点270.5〜272.5℃を示す6−フルオロ−1,4−ジヒド
ロ−7−メトキシ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−
3−カルボン酸エチルエステル155mg(収率82.9%)を
得る。これをN,N−ジメチルホルムアミドで再結晶すれ
ば、融点274〜275.5℃を示す結晶を得る。
チリジン−3−カルボン酸エチルエステル200mgをエタ
ノール6.5mlに懸濁させ、濃塩酸0.14mlを添加し、加熱
還流下で1時間反応させた後、析出結晶を濾取すれば、
融点270.5〜272.5℃を示す6−フルオロ−1,4−ジヒド
ロ−7−メトキシ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−
3−カルボン酸エチルエステル155mg(収率82.9%)を
得る。これをN,N−ジメチルホルムアミドで再結晶すれ
ば、融点274〜275.5℃を示す結晶を得る。
IR(KBr)cm-1;νc=0;1710 NMR(TFA-d1)δ値; 1.18(3H,t,J=7Hz),4.00(3H,s),4.31(2H,q,J=7H
z),7.93(1H,d,J=8Hz),8.85(1H,s) 参考例5 6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−7−メトキシ−4−オ
キソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエス
テル120mgをN,N−ジメチルホルムアミド3.6mlに懸濁さ
せ、ヨウ化エチル140mgおよび炭酸カリウム75mgを添加
し、75〜80℃で3時間反応させた後、反応液を酢酸エチ
ル10mlおよび水10mlの混合液に加える。有機層を分取
し、水5mlおよび飽和食塩水5mlで順次洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去
し、得られた結晶性物質にジイソプロピルエーテル1ml
を加えて結晶を濾取すれば、融点177〜178℃を示す1−
エチル−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−7−メトキシ
−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エ
チルエステル110mg(収率82.9%)を得る。これをクロ
ロホルムで再結晶すれば、融点177.5〜178℃を示す結晶
を得る。
z),7.93(1H,d,J=8Hz),8.85(1H,s) 参考例5 6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−7−メトキシ−4−オ
キソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エチルエス
テル120mgをN,N−ジメチルホルムアミド3.6mlに懸濁さ
せ、ヨウ化エチル140mgおよび炭酸カリウム75mgを添加
し、75〜80℃で3時間反応させた後、反応液を酢酸エチ
ル10mlおよび水10mlの混合液に加える。有機層を分取
し、水5mlおよび飽和食塩水5mlで順次洗浄した後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥させる。減圧下に溶媒を留去
し、得られた結晶性物質にジイソプロピルエーテル1ml
を加えて結晶を濾取すれば、融点177〜178℃を示す1−
エチル−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−7−メトキシ
−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボン酸エ
チルエステル110mg(収率82.9%)を得る。これをクロ
ロホルムで再結晶すれば、融点177.5〜178℃を示す結晶
を得る。
IR(KBr)cm-1;νc=0;1725,1675 NMR(CDCl3)δ値; 1.40(3H,t,J=7Hz),1.52(3H,t,J=7Hz), 4.16(3H,s),4.41(4H,q,J=7Hz), 8.28(1H,d,J=10Hz),8.50(1H,s) 参考例6 1−エチル−6−フルオロ−1,4−ジヒドロ−7−メト
キシ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボン
酸エチルエステル500mgをN,N−ジメチルホルムアミド10
mlに溶解させ、氷冷下、オキシ塩化リン520mgを添加
し、50℃で5時間反応させた後、水200mlに加えて析出
結晶を濾取し、水1.5mlおよびジイソプロピルエーテル
1.5mlで順次洗浄すれば、7−クロロ−1−エチル−6
−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチ
リジン−3−カルボン酸エチルエステル420mg(収率82.
8%)を得る。この化合物の物性は、参考例2で得られ
たものと一致した。
キシ−4−オキソ−1,8−ナフチリジン−3−カルボン
酸エチルエステル500mgをN,N−ジメチルホルムアミド10
mlに溶解させ、氷冷下、オキシ塩化リン520mgを添加
し、50℃で5時間反応させた後、水200mlに加えて析出
結晶を濾取し、水1.5mlおよびジイソプロピルエーテル
1.5mlで順次洗浄すれば、7−クロロ−1−エチル−6
−フルオロ−1,4−ジヒドロ−4−オキソ−1,8−ナフチ
リジン−3−カルボン酸エチルエステル420mg(収率82.
8%)を得る。この化合物の物性は、参考例2で得られ
たものと一致した。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小西 義憲 富山県高岡市佐加野(佐加野新町)1000− 72 (72)発明者 成田 弘和 富山県富山市奥田本町6−40 (72)発明者 高野 俊太郎 富山県富山市稲荷元町3丁目8−44 (72)発明者 才川 勇 富山県富山市大泉中町7−52 審査官 星野 紹英
Claims (1)
- 【請求項1】一般式 「式中、R1は、水素原子またはカルボキシル保護基を;
R2は、水素原子、シクロアルキル基またはハロゲン原
子、ヒドロキシル基、C1-4アルコキシ基、アリール基、
シアノ基およびカルボキシル基から選ばれる1つ以上の
基で置換されていてもよいアルキル基を;およびR3は、
水素原子またはヒドロキシ保護基を示す。」 で表わされる5−フルオロニコチン酸誘導体およびその
塩。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19313385 | 1985-09-03 | ||
JP60-193133 | 1985-09-03 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62149661A JPS62149661A (ja) | 1987-07-03 |
JPH072714B2 true JPH072714B2 (ja) | 1995-01-18 |
Family
ID=16302820
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61173489A Expired - Lifetime JPH072714B2 (ja) | 1985-09-03 | 1986-07-22 | 5−フルオロニコチン酸誘導体およびその塩 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH072714B2 (ja) |
-
1986
- 1986-07-22 JP JP61173489A patent/JPH072714B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62149661A (ja) | 1987-07-03 |
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