JPH07265816A

JPH07265816A - 洗浄方法および洗浄装置

Info

Publication number: JPH07265816A
Application number: JP8415894A
Authority: JP
Inventors: Hajime Takimoto; 肇滝本; Takeshi Yanagisawa; 剛柳沢
Original assignee: Olympus Optical Co Ltd
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1994-03-30
Filing date: 1994-03-30
Publication date: 1995-10-17

Abstract

(57)【要約】【目的】被洗浄物の最良な洗浄品質を得る。【構成】被洗浄物１１を、水系洗浄剤２，３により脱
脂するかまたは親水性溶剤を主成分とする準水系洗浄剤
により脱脂する（第１工程）。次に、水または純水４で
洗浄・リンスする（第２工程）。その後、イソプロピル
アルコール５で脱水する（第３工程）。しかる後、イソ
プロピルアルコールをシロキサンで置換する（第４工
程）。最終的に、温風乾燥機２０により１５０℃以下の
温風で乾燥する（第５工程）。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光学部品、電子部品等
の被洗浄物を洗浄する洗浄方法および洗浄装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、例えば光学素子等の洗浄において
は、非水系溶剤〜洗剤〜親水性溶剤〜フロンベーパーと
いった洗浄系をとるのが一般的であった。しかし、フロ
ンは周知の通り環境に及ぼす影響が大きく、世界的に全
廃の方向に進んでいる。そこで近年、このフロンを用い
た洗浄系の代替え法が各種提案されている。そのうち、
一つの可能な代替え洗浄法として、特許国際公開番号Ｗ
Ｏ９１／１３６９７号に開示された洗浄方法がある。

【０００３】この洗浄方法は、第１の洗浄工程におい
て、水切りあるいは洗浄剤として、低分子量シロキサン
若しくはイソパラフィン等の非水系洗浄剤を基調とする
基礎洗浄剤またはこれらと界面活性剤や親水性溶剤の洗
浄性能向上剤との混合物を用い、これを第２の洗浄工程
で更に低分子量シロキサンまたはイソパラフィン等を基
調とする基礎洗浄剤に浸漬した後、乾燥させるという方
法をとっている。そして、乾燥方法としては、６０℃以
下の温風乾燥またはパーフルオロカーボンのベーパー乾
燥を行い、付帯装置として、洗浄液中の水、オイルの比
重差分離、基礎洗浄剤のみの分離、再供給システムを提
案している。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術において
は、第１の工程（水切り・洗浄の工程）において、被洗
浄物を低分子量シロキサン若しくはイソパラフィン等の
非水系溶剤またはこれらと界面活性剤若しくは親水性溶
剤との混合物への浸漬を実施している。しかし、非水系
溶剤では第１工程前段の工程において被洗浄物に残留し
た水や界面活性剤をほとんど溶解しないため、水切り・
洗浄は効果的に行うことができず、第２の非水系の基礎
洗浄剤による洗浄工程に達した被洗浄物表面には水分等
が付着した状態になってしまう欠点があった。被洗浄物
表面に水分が残留した場合、次工程では化学的な溶解力
がないので、何らかの物理力を付与しないと水がきれな
い。しかし、化学的な溶解力に比べて物理力は比較的均
一性に欠けたり、ハードの使用条件に左右され易いた
め、精密な洗浄を達成させるためには問題があるのが現
状である。

【０００５】また、第１工程において界面活性剤等の洗
浄性能向上剤を非水系溶剤に混入させたものを使用した
場合、界面活性剤をリンスすることが第２の非水系溶剤
のみの工程においてはたいへん困難である。すなわち、
結果的に両者の場合とも、被洗浄物表面に残渣が残り易
く、特に外観品質を問題とする分野の洗浄では従来方法
の使用は不適当であった。

【０００６】さらに、上記従来技術においては、乾燥温
度が低いために、被洗浄物が温度に影響を受けやすいも
のの場合には有効である反面、一律に乾燥時間がかかる
という欠点があった。

【０００７】本発明は、かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので、請求項１〜３に係る発明は、被洗浄物の
最良な洗浄品質を得ることができる洗浄方法を提供する
ことを目的とする。請求項２に係る発明は、上記目的に
加え、第１工程において準水系洗浄剤を使用した場合、
一工程を省略することができる洗浄方法を提供すること
を目的とする。請求項３に係る発明は、上記目的に加
え、最も良好な洗浄効果が得られる洗浄方法を提供する
ことを目的とする。請求項４および５に係る発明は、そ
れぞれ請求項１および２に係る発明の洗浄方法を実施す
ることができる洗浄装置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１に係る発明は、光学部品、電子部品等の被
洗浄物を洗浄するにあたり、水系洗浄剤により脱脂する
かまたは親水性溶剤を主成分とする準水系洗浄剤により
脱脂する第１工程と、水または純水で洗浄・リンスする
第２工程と、イソプロピルアルコールで脱水する第３工
程と、イソプロピルアルコールをシロキサンで置換する
第４工程と、１５０℃以下の温風で乾燥する第５工程と
を設けることとした。

【０００９】請求項２に係る発明は、請求項１に係る洗
浄方法において、準水系洗浄剤を使用した場合、水また
は純水で洗浄・リンスする第２工程を省略して、直接イ
ソプロピルアルコールにより洗浄・リンスする工程に移
行し、その後前記第４工程および第５工程（事実上第３
工程および第４工程）を行うこととした。

【００１０】請求項３に係る発明は、請求項１または２
に係る洗浄方法において、シロキサンは直鎖状ポリジオ
ルガノシロキサンおよび環状ポリジオルガノシロキサン
から選択された少なくとも一種の低分子量ポリオルガノ
シロキサンであることを特徴とする。ここで、直鎖状ポ
リジオルガノシロキサンとしては、例えばオクタメチル
トリシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、デカメチ
ルテトラシロキサンが好ましく、環状ポリジオルガノシ
ロキサンとしては、例えばオクタメチルシクロテトラシ
ロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサンが好まし
い。

【００１１】請求項４に係る発明は、水系洗浄剤により
脱脂するかまたは親水性溶剤を主成分とする準水系洗浄
剤により脱脂する処理手段と、水または純水で洗浄・リ
ンスする処理手段と、イソプロピルアルコールで脱水す
る処理手段と、イソプロピルアルコールをシロキサンで
置換する処理手段と、１５０℃以下の温風で乾燥する乾
燥手段とを備えて洗浄装置を構成した。

【００１２】請求項５に係る発明は、親水性溶剤を主成
分とする準水系洗浄剤により脱脂する処理手段と、イソ
プロピルアルコールで洗浄・リンスする処理手段と、イ
ソプロピルアルコールをシロキサンで置換する処理手段
と、１５０℃以下の温風で乾燥する乾燥手段とを備えて
洗浄装置を構成した。

【００１３】

【作用】すなわち、請求項１に係る発明においては、被
洗浄物は、まず水系あるいは準水系洗浄液による脱脂の
後、水または純水による前工程液の洗浄・リンスを行
い、次にイソプロピルアルコール（以下、単に「ＩＰ
Ａ」という。）による水切りを行い、その後乾燥性の高
い非水系溶剤であるシロキサンに浸漬して、ＩＰＡをシ
ロキサンにより液置換し、最終的に温風乾燥する一連の
洗浄ラインにより処理が施される。

【００１４】ここで、第１および第２工程は、通常の付
着オイルや指紋等を脱脂しあるいは研磨剤を除去した
後、その洗浄液を洗浄・リンスするものである。また、
第３の工程にＩＰＡを用いることにより、本工程に被洗
浄物表面に付着して持ち込まれた水分はＩＰＡにより速
やかに溶解され、溶剤液中に均一に溶解分散することと
なる。したがって、水または純水を用いる第２工程を経
た被洗浄物でも第３工程のＩＰＡ浸漬を行えば、被洗浄
面の水分の残留は皆無となるため、第４工程でシロキサ
ンに浸漬した場合、表面のＩＰＡは完全にシロキサンで
置換され、均一に濡れることになる。この状態より、被
洗浄物を引き上げて温風乾燥処理すると、被洗浄面の水
分残りを原因とするシミの発生はなくなり、良好な洗浄
品質が得られる。

【００１５】また、洗浄の目的で第３工程に着目する
と、ＩＰＡを用いることによりその極性故に充分な脱脂
力が発揮される。つまり、被洗浄物に付着した汚れや第
１工程の洗浄液が、たとえ第３工程に持ち込まれたとし
ても、ＩＰＡの場合、非水系溶剤のシロキサンやイソパ
ラフィンを用いた場合と比べてその洗浄力が大きいの
で、次の第４工程に持ち込む汚れを皆無にできる。した
がって、最終に用いる非水系溶剤の寿命を延ばすことが
でき、仕上がりの洗浄品質を長期的に良好に保つことが
できる。

【００１６】例えば光学素子の洗浄に請求項１に係る発
明を適用する場合、第１工程（水系洗浄剤または準水系
洗浄剤による脱脂工程）で研磨剤、芯取り油、指紋等を
除去し、第２工程では水または純水による前記洗浄剤の
洗浄・リンスを行い、第３工程でＩＰＡによる水の置換
（脱水）を行い、第４工程でシロキサンによるＩＰＡの
置換を行い、第５工程で被洗浄物のダメージを考慮した
１５０℃以下の温度設定により温風乾燥を行うこととな
る。

【００１７】なお、第３工程のＩＰＡは、前述のように
水切りの目的で使用しているが、実際の洗浄ラインにお
いては水の持ち込みが多く、ＩＰＡの水分量の管理が必
要である。このため、生産量と持ち込み量よりＩＰＡの
交換時期を規定して使用するとよい。一方、次の第４工
程の非水系溶剤は再生装置を設けて品質の維持を行うと
よい。

【００１８】一方、請求項２に係る発明では、水または
純水による第２工程を省略することにより、ＩＰＡによ
る上記第３工程（事実上第２工程）は洗浄・リンスの工
程として作用することになる。それ以降の工程は請求項
１に係る発明と同様の作用である。

【００１９】

【実施例１】図１に示すような洗浄工程を設定し、洗浄
を行った。図１において、Ａ部は脱脂工程（第１工
程）、Ｂ部は洗浄・リンス工程（第２工程）、Ｃ部は脱
水工程（第３工程）、Ｄ部はＩＰＡとシロキサンとの置
換工程（第４工程）である。本実施例の洗浄装置は、１
１槽の処理槽１と温風乾燥機２０とから構成されてお
り、第１，２の処理槽１には界面活性剤２（オリンパス
ケミテック（株）製、水系洗浄液；ＥＥ−１１１０）、
第３，４の処理槽１にはアルカリ性界面活性剤３（オリ
ンパスケミテック（株）製、水系洗浄液；ＥＥ−１１２
０）を投入し、第５〜７の処理槽１では純水４の掛け流
し、第８，９の処理槽１にはＩＰＡ５、第１０，１１の
処理槽１には低分子量ポリシロキサン６（オリンパスケ
ミテック（株）製、水系洗浄液；ＥＥ−３１１０）を投
入した。

【００２０】上記低分子量ポリシロキサン６はオクタメ
チルトリシロキサンを主成分としたものを使用した。第
１〜９の処理槽１の底部にはすべて超音波振動子７を配
設し、純水以外はクローズドなポンプ８によるオーバー
フローの循環槽を用いた。９で示すのはフィルターであ
る。特に、第１０，１１の処理槽１には、循環過程にＩ
ＰＡ分離機１０を介装し、ＩＰＡ５（下層）と低分子量
ポリシロキサン６（上層）とを分離し、低分子量ポリシ
ロキサン６のみを再生することとした。

【００２１】超音波の周波数および出力は２８ＫＨZ お
よび６００Ｗとし、オーバーフローの流量は１０ｍｌ／
ｍｉｎとした。被洗浄物（洗浄サンプル）１１として光
学レンズを用い、これを揺動アーム１２の先端に取り付
けた三点支持のカゴにやとい洗浄を行った。三点支持の
カゴは図２および図３に示す。このカゴはロッド状のＳ
ＵＳ枠１３が被洗浄物１１の外周に３箇所から当接する
ことにより被洗浄物１１を支持するものであり、支持さ
れた被洗浄物１１の横移動を防ぐため、鋸歯状の固定用
部材（テフロン爪）１４が設けられている。本実施例に
おいて１カゴの洗浄レンズ数は６０個とした。また、温
風乾燥機２０は、図１に示すように、搬送ベルト２１に
より乾燥室２２内に被洗浄物１１を搬送し、乾燥室２２
の上下に設けたブロア２３によりヒータ２４で加熱した
温風を被洗浄物１１に吹き付けるものである。この温風
乾燥機２０には、温度制御装置を設け、温風を１５０℃
以下の所定温度となるように自動制御するとよい。

【００２２】洗浄時間は各処理槽１において１ｍｉｎと
し、超音波振動子７により超音波をかけながら揺動アー
ム１２で揺動を行った。揺動速度は、５０mmストローク
のところを、１ｓ／片道とした。各処理槽１における処
理を完了した後は、温風乾燥機２０により乾燥処理を行
った。

【００２３】上記第１〜５の洗浄工程により洗浄（乾
燥）し、その被洗浄物１１について蛍光灯下で目視評価
を実施した。その結果を表１に示す。本実施例の洗浄方
法によれば、洗浄品質はコーティングの前後において、
良好なレベルであった。なお、低分子量ポリシロキサン
６にヘキサジメチルシロキサンを使用しても本実施例と
同様の作用、効果を奏した。

【００２４】また、上記結果は市販のオクタメチルトリ
シロキサンのものであるが、更に純度を９９．９％と精
製したものの結果も同表１に示すが、不良率は０％とさ
らに良好となった。

【００２５】

【表１】

【００２６】

【実施例２】図４に示すような洗浄工程を設定し、洗浄
を行った。図４において、Ｅ部は脱脂工程（第１工
程）、Ｆ部は準水系溶剤とＩＰＡとの置換工程（第２工
程）、Ｇ部はＩＰＡとシロキサンとの置換工程（第３工
程）であり、図１と同一構成部分については同一符号を
もって示し、その説明は省略する。本実施例の洗浄装置
は、６槽の処理槽１と温風乾燥機２０とから構成されて
おり、第１，２の処理槽１には準水系洗浄液１５（オリ
ンパスケミテック（株）製、水系洗浄液；ＥＥ−２２１
０）、第３，４の処理槽１にはＩＰＡ５、第５，６の処
理槽１には低分子量ポリシロキサン６（オリンパスケミ
テック（株）製、水系洗浄液；ＥＥ−３１１０）を投入
した。第１〜４の処理槽１には超音波振動子７を配設し
た。処理槽１の構造はすべての槽において、クローズド
でポンプ８によるフィルター９を介した液循環を行って
いる。実施例１と同様に、ポンプ８により処理槽１に送
られた処理液はオーバーフローしてポンプ８に戻るよう
になっている。

【００２７】洗浄サンプルとして、１０mm×１０mmのア
ルミニウム、銅製のテストピースとスライドガラスを用
いた。洗浄時間は各槽共、１ｍｉｎとし、第１〜４の処
理層１のみ超音波をかけながら全槽で揺動を行い、実施
例１（実施例１の第２工程は除く）と同様にして、洗浄
（乾燥）した。

【００２８】洗浄性評価は洗浄上がりのサンプルを蛍光
灯下で、目視および顕微鏡による観察を実施した。その
結果を表２に示す。また、洗浄度のバロメータである接
触角を表３に示す。外観の観察結果は、表２に示す通り
シミの発生はなく、良好であった。

【００２９】

【表２】

【００３０】

【表３】

【００３１】本発明の効果を前述の従来技術との比較に
おいて検証すべく、その従来技術を実施したところ、前
記従来技術にあってはほとんどのレンズ（被洗浄物）に
シミ等が発生してしまった。そこで、上記実施例で使用
した洗浄液等を使用して独自に従来技術を想定し、実験
を行った。（比較例１）その従来技術を実施例１に対応させて検証
した結果を比較例１として図５に示す。洗浄装置は１１
槽の構成であり、第１，２の処理槽１には界面活性剤２
（前記水系洗浄液ＥＥ−１１１０）、第３，４の処理槽
１にはアルカリ性界面活性剤３（前記水系洗浄液ＥＥ−
１１２０）を投入し、第５〜７の処理槽１は純水４の掛
け流し、第８〜１１の処理槽１には低分子量ポリシロキ
サン６（前記非水系洗浄液ＥＥ−３１１０）を投入し
た。洗浄装置のＡ部は脱脂工程、Ｂ部は洗浄・リンス工
程、Ｃ部は水切り（脱水）工程である。第１０，１１の
処理槽１を除いて処理槽１にはすべて超音波振動子７を
配設し、クローズドなオーバーフローの循環槽を用い
た。図５中、１６は水分離機である。上記低分子量ポリ
シロキサン６としてオクタメチルシロキサンを主成分と
したものを使用した。洗浄サンプルとして、光学レンズ
を三点支持のカゴにやとい洗浄を行った。洗浄時間は各
槽１ｍｉｎで超音波をかけながら、第１〜９槽において
揺動を行った。乾燥は温風乾燥とした。なお、その他、
詳細な実験条件は実施例１と同様である。

【００３２】本比較例１で洗浄した被洗浄物について
も、実施例１と同様の評価を行い、その結果を実施例１
と共に表１に示した。本比較例１では、実施例１に比較
して不良品が多く発生した。

【００３３】（比較例２）従来技術を実施例２に対応さ
せて検証した結果を比較例２として図６に示す。洗浄装
置は６槽の構成であり、第１，２の処理槽１には準水洗
浄液１５（前記水系洗浄液ＥＥ−２２１０）、第３，４
の処理槽１にはイソパラフィン１７、第５，６の処理槽
１には低分子量ポリシロキサン６（前記水系洗浄液ＥＥ
−３１１０）を投入した。洗浄装置のＥ部は脱脂工程、
Ｆ部は準水系溶剤の置換工程である。第１〜４までの処
理槽１には超音波振動子７を配設した。処理槽１の構造
はすべての槽において、クローズドでポンプ８によるフ
ィルター９を介した液循環を行うこととした。液の流れ
はオーバーフローの形式である。図６中、１８は洗浄剤
分離機である。実験条件は全て実施例２に準ずる。洗浄
サンプルとして、１０mm×１０mmのアルミ、銅製のテス
トピースとスライドガラスを用いた。洗浄時間は各槽
共、１ｍｉｎとし、第１〜４槽のみ超音波をかけながら
全槽で揺動を行い洗浄した。

【００３４】本比較例２で洗浄した被洗浄物について
も、実施例２と同様の評価を行い、その結果を実施例２
と共に表２および表３に示した。本比較例２では、実施
例２に比較して接触角が大きく、シミの発生が顕著であ
った。

【００３５】（参考例）図７に示す３槽の簡易洗浄評価
装置を用いて、親水性溶剤と非水系溶剤の組み合わせに
より、水切り、乾燥性を調べた。第１の処理槽１は水の
掛け流しのオーバーフロー、第２の処理槽１は親水性溶
剤若しくは非水系溶剤またはそれらの組み合わせであ
り、クローズドなオーバーフローの循環系、第３の処理
槽１は非水系溶剤の再生装置付きのクローズドなオーバ
ーフロー槽である。第１，２槽には超音波振動子７を備
え付けた。洗浄サンプル（被洗浄物１１）はスライドガ
ラスおよびアルミの平板状のテストピースとした。シロ
キサンとして、ヘキサジメチルシロキサン、オクタトリ
メチルシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサ
ン、デカメチルシクロペンタシロキサンを用い、イソパ
ラフィンとして、ノナンを主成分とするものを用いた。
各槽液温は常温、オーバーフロー流速は１０ｍｌ／ｍｉ
ｎ、揺動速度は５０mmスクロークを１ｓ／片道とし、各
槽浸漬時間は１ｍｉｎとした。

【００３６】各槽、試験を行った液の組み合わせおよび
試験結果（外観目視評価）を表４に示す。この結果よ
り、水切りの効果は、ＩＰＡとシロキサンとの組み合わ
せの本発明の場合が良好であることがわかった。

【００３７】

【表４】

【００３８】以下に、非水系溶剤または準水系溶剤によ
る一次の脱脂である第１の工程を実施した後、水系洗浄
剤による二次の脱脂である第２の工程を実施し、その後
水または純水で洗浄・リンスをする第３工程を実施し、
次にイソプロピルアルコールで脱水する第４工程を実施
し、その後、イソプロピルアルコールをシロキサンで置
換する第５工程、最終的に被洗浄物を１５０℃以下の温
風で乾燥する第６工程よりなる洗浄方法および装置につ
いて説明する。

【００３９】この洗浄方法は、光学素子研磨加工後に残
るピッチあるいはその後の工程のために塗布する樹脂系
保護膜を除去する場合の洗浄工程として、有効な方法で
ある。レンズ等に付着した固形のピッチ、樹脂等は、水
系の洗浄工程のみでは除去できず、非水系または準水系
溶剤による脱脂工程が不可欠となる。この洗浄プロセス
は乳化ではなく、溶解である。被洗浄物と同等の溶解パ
ラメータを持つ溶剤の性質を利用し相溶させるのであ
る。次の工程は、水系洗浄液による前記溶剤の乳化の工
程〜水による洗浄剤のリンス〜ＩＰＡによる水の置換〜
乾燥性の高い非水系溶剤によるＩＰＡの置換〜温風によ
る乾燥といった一連の洗浄工程の流れをとる。つまり、
水系洗浄剤による二次の脱脂工程後の工程は請求項１に
係る発明の工程と同一であり、作用も同様である。この
工程を行うことにより、ピッチ等の固形付着物および指
紋、研磨剤、オイル等が一度に除去でき、仕上がり品質
もシミなく、良好にできる。

【００４０】次に、この洗浄方法を実施した具体例を図
８に基づいて説明する。図８に示すような洗浄工程を設
定し、洗浄を行った。洗浄装置は、１４槽の処理槽１と
温風乾燥機２０とから構成されており、第１〜３の処理
槽１には有機溶剤１９（オリンパスケミテック（株）
製、ＥＥ−４１１０）、第４〜７の処理槽１にはアルカ
リ性界面活性剤３（例えば前記ＥＥ−１１２０）、第８
〜１０の処理槽１には純水４の掛け流し、第１１，１２
の処理槽１にはＩＰＡ５、第１３，１４の処理槽１には
低分子量ポリシロキサン６（例えば前記ＥＥ−３１１
０）を投入した。ＥＥ−４１１０とは非水系テルペン炭
化水素系溶剤である。図８において、Ｈ部は一次脱脂工
程、Ｉ部は二次脱脂工程、Ｊ部は水洗・リンス工程、Ｋ
部は水切り工程、Ｌ部はＩＰＡ置換工程である。

【００４１】上記低分子量ポリシロキサン６としてヘキ
サジメチルシロキサンを主成分としたものを使用した。
第１３，１４槽を除く処理槽１にはすべて、超音波振動
子７を配設し、クローズドなオーバーフローの循環槽を
用いた。洗浄サンプルとして、研磨後のピッチ付きレン
ズを洗浄した。洗浄時間は各槽１ｍｉｎで超音波をかけ
ながら、第１〜１３槽において揺動を行った。シロキサ
ンによるＩＰＡ置換工程の後は、１５０℃以下で温風乾
燥を行った。

【００４２】本洗浄工程により洗浄し、洗浄上がりのレ
ンズに反射防止コートを施した。コート後のレンズを蛍
光灯下での目視による外観評価を実施したところ、外観
の評価においてシミの発生はなく、良好な結果であっ
た。

【００４３】ここで、上記２段階の脱脂工程を行う洗浄
方法において、ＩＰＡで脱水した後、その置換液とし
て、直鎖のヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルト
リシロキサン、環状のオクタメチルシクロテトラシロキ
サン、デカメチルシクロペンタシロキサンを用いれば、
特に有効である。また、シロキサンの純度を上がること
により、更に最良の洗浄仕上げ面が得られる。

【００４４】また、光学素子の芯取り加工等において、
付着した芯取り油を除去し、前記シロキサン浸漬の洗浄
レベルと同等の仕上がり品質を得る洗浄方法としては、
水系洗浄剤による脱脂または親水性溶剤を主成分といる
準水系洗浄剤による脱脂の第１工程の後、水または純水
で洗浄・リンスする第２工程を実施し、その後ＩＰＡで
脱水する第３工程を実施し、次にＩＰＡをイソパラフィ
ンで置換する第４工程を実施し、最終的に被洗浄物を１
５０℃以下の温風で乾燥する第５工程を実施する洗浄方
法がある。

【００４５】この洗浄方法によれば、シロキサン浸漬引
上げの工程と同様に、水系あるいは準水系洗浄剤による
芯取り油等の除去が成され、その後前記工程液の水によ
る置換を行い、ＩＰＡによる水の置換を経てイソパラフ
ィンによる浸漬引上げ〜乾燥により最終仕上げを行う。
イソパラフィンは乾燥性が良好なため、比較的短時間の
乾燥が達成できる利点がある。

【００４６】

【発明の効果】以上のように請求項１〜５に係る発明の
洗浄方法および洗浄装置によれば、水切り工程を充分に
し、被洗浄物の最終仕上がりが良好で安定した品質に仕
上げることができる。特に、請求項２に係る発明によれ
ば、一工程省略することができる。請求項３に係る発明
によれば、最も良好な洗浄効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の洗浄方法を示す工程図である。

【図２】同実施例１で用いたカゴを示す平面図である。

【図３】同実施例１で用いたカゴを示す側面図である。

【図４】実施例２の洗浄方法を示す工程図である。

【図５】比較例１の洗浄方法を示す工程図である。

【図６】比較例２の洗浄方法を示す工程図である。

【図７】簡易洗浄洗浄方法を示す工程図である。

【図８】本発明の変形例の洗浄方法を示す工程図であ
る。

【符号の説明】

１処理槽２界面活性剤３アルカリ性界面活性剤４純水５ＩＰＡ６低分子量ポリシロキサン１１被洗浄物１５準水系洗浄液

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】水系洗浄剤により脱脂するかまたは親水
性溶剤を主成分とする準水系洗浄剤により脱脂する第１
工程と、水または純水で洗浄・リンスする第２工程と、
イソプロピルアルコールで脱水する第３工程と、イソプ
ロピルアルコールをシロキサンで置換する第４工程と、
１５０℃以下の温風で乾燥する第５工程とからなる洗浄
方法。
【請求項２】親水性溶剤を主成分とする準水系洗浄剤
により脱脂する第１工程と、イソプロピルアルコールで
洗浄・リンスする第２工程と、イソプロピルアルコール
をシロキサンで置換する第３工程と、１５０℃以下の温
風で乾燥する第４工程とからなる洗浄方法。
【請求項３】請求項１または２に記載の洗浄方法にお
いて、シロキサンは直鎖状ポリジオルガノシロキサンお
よび環状ポリジオルガノシロキサンから選択された少な
くとも一種の低分子量ポリオルガノシロキサンであるこ
とを特徴とする洗浄方法。
【請求項４】水系洗浄剤により脱脂するかまたは親水
性溶剤を主成分とする準水系洗浄剤により脱脂する処理
手段と、水または純水で洗浄・リンスする処理手段と、
イソプロピルアルコールで脱水する処理手段と、イソプ
ロピルアルコールをシロキサンで置換する処理手段と、
１５０℃以下の温風で乾燥する乾燥手段とを備えたこと
を特徴とする洗浄装置。
【請求項５】親水性溶剤を主成分とする準水系洗浄剤
により脱脂する処理手段と、イソプロピルアルコールで
洗浄・リンスする処理手段と、イソプロピルアルコール
をシロキサンで置換する処理手段と、１５０℃以下の温
風で乾燥する乾燥手段とを備えたことを特徴とする洗浄
装置。