JPH07261177A - 二段式基材の下方表面への薄被膜の適用方法 - Google Patents
二段式基材の下方表面への薄被膜の適用方法Info
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- JPH07261177A JPH07261177A JP7022623A JP2262395A JPH07261177A JP H07261177 A JPH07261177 A JP H07261177A JP 7022623 A JP7022623 A JP 7022623A JP 2262395 A JP2262395 A JP 2262395A JP H07261177 A JPH07261177 A JP H07261177A
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-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/133711—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by organic films, e.g. polymeric films
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D—PROCESSES FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05D1/00—Processes for applying liquids or other fluent materials
- B05D1/40—Distributing applied liquids or other fluent materials by members moving relatively to surface
- B05D1/42—Distributing applied liquids or other fluent materials by members moving relatively to surface by non-rotary members
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- Liquid Crystal (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明により一般に、二段式基材、特に微小
リブ付基材のリブ間へ被膜を適用する方法に関し、およ
び更に特に整合層を液晶表示へ適用する方法にを提供す
る。 【構成】 本発明は、薄い被膜(16)を二段式基材(10)の
下方位置に適用する方法に関する。その方法は、以下の
段階から成る。液状被膜(16)、例えば整合層として有用
な材料を、二段式基材(10)、例えば液晶表示パネル上に
適用する。二段式基材は頂上が平坦なリブ(12)または突
起の頂上が同一平面上にありさえすればその他の突起を
有してもよい。レベリング装置、例えばドクターブレー
ドを、二段式基材の上方表面を交差して移動し、液状被
膜を上方表面から除去するが下方表面上には残る。液状
被膜を、例えば乾燥およびキュアーにより硬化および収
縮し、非常に均一な硬化被膜(16)、例えば二段式基材の
下方表面の整合層となる。
リブ付基材のリブ間へ被膜を適用する方法に関し、およ
び更に特に整合層を液晶表示へ適用する方法にを提供す
る。 【構成】 本発明は、薄い被膜(16)を二段式基材(10)の
下方位置に適用する方法に関する。その方法は、以下の
段階から成る。液状被膜(16)、例えば整合層として有用
な材料を、二段式基材(10)、例えば液晶表示パネル上に
適用する。二段式基材は頂上が平坦なリブ(12)または突
起の頂上が同一平面上にありさえすればその他の突起を
有してもよい。レベリング装置、例えばドクターブレー
ドを、二段式基材の上方表面を交差して移動し、液状被
膜を上方表面から除去するが下方表面上には残る。液状
被膜を、例えば乾燥およびキュアーにより硬化および収
縮し、非常に均一な硬化被膜(16)、例えば二段式基材の
下方表面の整合層となる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は一般に、二段式基材、特
に微小リブ付基材のリブ間へ被膜を適用する方法に関
し、および更に特に整合層を液晶表示へ適用する方法に
関する。
に微小リブ付基材のリブ間へ被膜を適用する方法に関
し、および更に特に整合層を液晶表示へ適用する方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】基材への被膜の既知の付着方法には、し
ごき被覆(die coating)、ナイフエッジまたはノッチ付
バー被覆、スピン被覆、吹付被覆、グラビアロール被覆
およびスクリーン印刷が挙げられる。従来のしごき被覆
技術は約25μm以上の湿潤厚さに対してのみ適用可能で
あり、ナイフエッジまたはノッチ付バー被覆技術は約75
μm以上の湿潤厚さに対してのみ適する。微細構造表
面、即ち約100μm以下のサイズ領域内の構造を有する表
面上のへのスピン被覆により、微細構造および液体輻流
分布の相互作用による被膜の欠陥および不均一な被膜厚
さとなる。吹付被覆により、非常に薄い被膜内が部分的
に不均一性となり、オーバースプレー(overspray)によ
り選択的な被覆プロセスを妨害する。従来のグラビアロ
ール被覆は一般に、湿潤厚さの薄い層では可能である
が、選択的被覆パターンには適用できない。スクリーン
被覆によりパターン付き層を生成し得るが、微細構造と
のスクリーン位置合せ(registration)が不安定であり、
この技術は一般に25μm厚以下の湿潤層には適用できな
い。
ごき被覆(die coating)、ナイフエッジまたはノッチ付
バー被覆、スピン被覆、吹付被覆、グラビアロール被覆
およびスクリーン印刷が挙げられる。従来のしごき被覆
技術は約25μm以上の湿潤厚さに対してのみ適用可能で
あり、ナイフエッジまたはノッチ付バー被覆技術は約75
μm以上の湿潤厚さに対してのみ適する。微細構造表
面、即ち約100μm以下のサイズ領域内の構造を有する表
面上のへのスピン被覆により、微細構造および液体輻流
分布の相互作用による被膜の欠陥および不均一な被膜厚
さとなる。吹付被覆により、非常に薄い被膜内が部分的
に不均一性となり、オーバースプレー(overspray)によ
り選択的な被覆プロセスを妨害する。従来のグラビアロ
ール被覆は一般に、湿潤厚さの薄い層では可能である
が、選択的被覆パターンには適用できない。スクリーン
被覆によりパターン付き層を生成し得るが、微細構造と
のスクリーン位置合せ(registration)が不安定であり、
この技術は一般に25μm厚以下の湿潤層には適用できな
い。
【０００３】極薄の均一被膜を微細構造二段式基材の下
方表面、例えばその基材のリッジ間に適用し得ることが
望ましい。液晶表示装置(LCD)において、整合層をLCDパ
ネル上の隣接するリッジ間の領域に適用することが望ま
しい。その整合層は、装置の必要電気光学応答となる液
晶内の分子配向を低減する。LCDの全領域に渡る光学的
性能のためには、約0.2μm以下、好ましくは約0.1μmの
均一層厚さが必要である。
方表面、例えばその基材のリッジ間に適用し得ることが
望ましい。液晶表示装置(LCD)において、整合層をLCDパ
ネル上の隣接するリッジ間の領域に適用することが望ま
しい。その整合層は、装置の必要電気光学応答となる液
晶内の分子配向を低減する。LCDの全領域に渡る光学的
性能のためには、約0.2μm以下、好ましくは約0.1μmの
均一層厚さが必要である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】従って、本発明により、
薄い非常に均一な被膜を二段式基材の下方位置に適用す
る方法を提供する。その方法は、以下の段階から成る。
液状被膜、例えば整合層として有用な材料を、二段式基
材、例えばLCDパネル上に適用する。二段式基材は頂上
が平坦なリブまたは突起の頂上が同一平面上にありさえ
すればその他の突起を有してもよい。次いで、レベリン
グ装置、例えばドクターブレードを、二段式基材の上方
表面を交差して移動し、液状被膜を上方表面から除去す
るが下方表面上には残る。最後に、液状被膜を、例えば
乾燥およびキュアーにより硬化および収縮し、非常に均
一な硬化被膜、例えば二段式基材の下方表面の整合層と
なる。
薄い非常に均一な被膜を二段式基材の下方位置に適用す
る方法を提供する。その方法は、以下の段階から成る。
液状被膜、例えば整合層として有用な材料を、二段式基
材、例えばLCDパネル上に適用する。二段式基材は頂上
が平坦なリブまたは突起の頂上が同一平面上にありさえ
すればその他の突起を有してもよい。次いで、レベリン
グ装置、例えばドクターブレードを、二段式基材の上方
表面を交差して移動し、液状被膜を上方表面から除去す
るが下方表面上には残る。最後に、液状被膜を、例えば
乾燥およびキュアーにより硬化および収縮し、非常に均
一な硬化被膜、例えば二段式基材の下方表面の整合層と
なる。
【０００５】本発明の二段式基材10の側面概略図を図１
に示す。基材10は、多数の方形の頂上が平坦なリッジ
（またはリブ）12を有する。リッジ12の頂上は同一平面
上にあり、二段式基材10の上方表面を限定する。リッジ
12間の領域は、二段式基材10の下方表面を限定する。要
すれば、任意の被膜または被膜14を、基材10のリッジ12
間（および/またはリッジの頂上）に適用してもよい。
に示す。基材10は、多数の方形の頂上が平坦なリッジ
（またはリブ）12を有する。リッジ12の頂上は同一平面
上にあり、二段式基材10の上方表面を限定する。リッジ
12間の領域は、二段式基材10の下方表面を限定する。要
すれば、任意の被膜または被膜14を、基材10のリッジ12
間（および/またはリッジの頂上）に適用してもよい。
【０００６】本発明の方法は基材10上に液状被膜16を適
用することにより始まり、図２に示すようにリッジ12お
よびリッジ間の領域を被膜で完全に被覆する。被膜16
を、グラビアロール、ドクターブレード、ナイフエッジ
またはその他の従来の方法により適用してもよい。
用することにより始まり、図２に示すようにリッジ12お
よびリッジ間の領域を被膜で完全に被覆する。被膜16
を、グラビアロール、ドクターブレード、ナイフエッジ
またはその他の従来の方法により適用してもよい。
【０００７】次いで、レベリング装置、例えばドクター
ブレード(表示せず)を基材10に交差して、リッジ12の頂
上と接触するのに十分な力で移動する一方、図３に示す
ようにリッジ間の被膜16が残る。リッジ12の高さによ
り、リッジ12間の基材10上の被膜16の湿潤厚さを決定
し、その湿潤被膜の表面張力によりリッジ間の被膜中に
僅かなメニスカス(meniscus)を形成する。
ブレード(表示せず)を基材10に交差して、リッジ12の頂
上と接触するのに十分な力で移動する一方、図３に示す
ようにリッジ間の被膜16が残る。リッジ12の高さによ
り、リッジ12間の基材10上の被膜16の湿潤厚さを決定
し、その湿潤被膜の表面張力によりリッジ間の被膜中に
僅かなメニスカス(meniscus)を形成する。
【０００８】最後に、図４に示すように、被膜16の厚さ
を乾燥または硬化により減少する。初期湿潤被膜16が低
百分率固形分を有するのであれば、溶剤除去により被膜
厚さを減じる。初期湿潤被膜16が高百分率固形分を有せ
ば、硬化中に収縮が起こり被膜厚さを減じる。
を乾燥または硬化により減少する。初期湿潤被膜16が低
百分率固形分を有するのであれば、溶剤除去により被膜
厚さを減じる。初期湿潤被膜16が高百分率固形分を有せ
ば、硬化中に収縮が起こり被膜厚さを減じる。
【０００９】基材10を、プラスチック、ガラス、金属ま
たはセラミックを含む可撓性または硬質材料から作製し
てもよい。また、基材10は、液晶表示装置を含む１対の
パネルの片方であってもよい。リッジ12は好ましくは、
１〜100μm、より好ましくは１〜10μmの範囲の高さ；
１μm〜１mm、より好ましくは１〜100μmの範囲の幅；
および１μm〜10mm、より好ましくは100μm〜１mmの範
囲の間隙；を有する。
たはセラミックを含む可撓性または硬質材料から作製し
てもよい。また、基材10は、液晶表示装置を含む１対の
パネルの片方であってもよい。リッジ12は好ましくは、
１〜100μm、より好ましくは１〜10μmの範囲の高さ；
１μm〜１mm、より好ましくは１〜100μmの範囲の幅；
および１μm〜10mm、より好ましくは100μm〜１mmの範
囲の間隙；を有する。
【００１０】任意の被膜または被膜14、例えばインジウ
ム錫酸化物(ITO)は、透明および電気伝導性であっても
よく、好ましくは約１nm〜１μmの範囲内の乾燥厚でな
ければならない。更に、被膜16が転写接着剤であるな
ら、被膜14は表面改質層、例えばプライマーまたは剥離
層であってもよい。
ム錫酸化物(ITO)は、透明および電気伝導性であっても
よく、好ましくは約１nm〜１μmの範囲内の乾燥厚でな
ければならない。更に、被膜16が転写接着剤であるな
ら、被膜14は表面改質層、例えばプライマーまたは剥離
層であってもよい。
【００１１】被膜16は、LCD内の整合層に有用な材料、
例えばポリイミド類またはナイロン類を含み、液状とし
て被覆し得る材料であってもよい。例えば、被膜16はス
ラリーまたは接着剤、例えば転写接着剤であってもよ
い。被膜16は、湿潤被覆厚さを過剰溶剤の除去により乾
燥被覆厚さまで減じるなら、好ましくは約１〜25％、よ
り好ましくは約１〜10％の範囲の固形分であるべきであ
る。被膜16が硬化過程中に収縮するなら、100％以下の
より高い百分率固形分の材料を用いてもよい。被膜16を
少なくともリッジの高さと同様の厚さで適用すべきであ
るが、好ましくはリッジ上に適用すべきである。硬化被
膜16は、好ましくは10μm以下、より好ましくは１μm以
下、なおより好ましくは0.1μm以下、および最も好まし
くは0.05μmの厚さを有する。
例えばポリイミド類またはナイロン類を含み、液状とし
て被覆し得る材料であってもよい。例えば、被膜16はス
ラリーまたは接着剤、例えば転写接着剤であってもよ
い。被膜16は、湿潤被覆厚さを過剰溶剤の除去により乾
燥被覆厚さまで減じるなら、好ましくは約１〜25％、よ
り好ましくは約１〜10％の範囲の固形分であるべきであ
る。被膜16が硬化過程中に収縮するなら、100％以下の
より高い百分率固形分の材料を用いてもよい。被膜16を
少なくともリッジの高さと同様の厚さで適用すべきであ
るが、好ましくはリッジ上に適用すべきである。硬化被
膜16は、好ましくは10μm以下、より好ましくは１μm以
下、なおより好ましくは0.1μm以下、および最も好まし
くは0.05μmの厚さを有する。
【００１２】被膜16を、レベリング装置をリッジの長さ
に沿って移動することにより、リッジ12の頂上から除去
してもよい。好ましいレベリング装置には、好ましくは
プラスチック、エラストマーまたは金属製の可撓性また
は硬質ブレードが挙げられる。
に沿って移動することにより、リッジ12の頂上から除去
してもよい。好ましいレベリング装置には、好ましくは
プラスチック、エラストマーまたは金属製の可撓性また
は硬質ブレードが挙げられる。
【００１３】硬化被膜16は、好ましくは湿潤厚さの約25
％以下およびより好ましくは10％以下の厚さを有する。
被膜16の厚さの均一性は10％以上変化してはならない。
％以下およびより好ましくは10％以下の厚さを有する。
被膜16の厚さの均一性は10％以上変化してはならない。
【００１４】本発明では好ましい態様に関して開示する
が、本発明の意図および範囲を逸脱することなく、形状
または詳細を変更してもよいものと当業者間では解釈さ
れる。例えば、本発明ではリッジを有する基材に関して
開示したが、本発明を失しつて基に平坦な上方表面を有
するどんな二段式基材に適用してもよい。リッジを方形
形状で互いに平行であるとして開示したが、それらは勾
配付きまたは湾曲した側壁を有し、互いに平行である必
要はない。二段式基材をリッジを有する基材と開示した
が、二段式基材には、頂上が同一平面上にある多数の突
起を含むつもりである。
が、本発明の意図および範囲を逸脱することなく、形状
または詳細を変更してもよいものと当業者間では解釈さ
れる。例えば、本発明ではリッジを有する基材に関して
開示したが、本発明を失しつて基に平坦な上方表面を有
するどんな二段式基材に適用してもよい。リッジを方形
形状で互いに平行であるとして開示したが、それらは勾
配付きまたは湾曲した側壁を有し、互いに平行である必
要はない。二段式基材をリッジを有する基材と開示した
が、二段式基材には、頂上が同一平面上にある多数の突
起を含むつもりである。
【００１５】ここで、本発明を以下の非限定的例により
更に説明する。全測定値は近似値である。
更に説明する。全測定値は近似値である。
【００１６】
【実施例】高さ4.5μm、幅30μmおよび間隙290μmの多
数の平行リッジを有する二段式可撓性ポリオレフィン基
材を、リッジおよびリッジ間の間隙を完全に覆うよう
に、ポリイミド整合層材料の２％固形分溶液を用いて被
覆した。次いで、可撓性プラスチック製レベリングブレ
ードを用いて、過剰の被覆溶液をリッジ頂上から除去し
た。その被膜を、120℃で１時間加熱乾燥した。硬化被
膜厚さは0.09μm(4.5μm×0.02)であり、厚さの変動は1
0％以下であった。
数の平行リッジを有する二段式可撓性ポリオレフィン基
材を、リッジおよびリッジ間の間隙を完全に覆うよう
に、ポリイミド整合層材料の２％固形分溶液を用いて被
覆した。次いで、可撓性プラスチック製レベリングブレ
ードを用いて、過剰の被覆溶液をリッジ頂上から除去し
た。その被膜を、120℃で１時間加熱乾燥した。硬化被
膜厚さは0.09μm(4.5μm×0.02)であり、厚さの変動は1
0％以下であった。
【図１】 本発明の二段式基材の概略側面図である。
【図２】 本発明に従って被膜で被覆した図１の二段式
基材の概略側面図である。
基材の概略側面図である。
【図３】 本発明に従ってその被膜をリッジ頂上から除
去した後の図２の二段式基材の概略側面図である。
去した後の図２の二段式基材の概略側面図である。
【図４】 本発明に従ってその被膜を硬化および収縮し
た後の図３の二段式基材の概略側面図である。
た後の図３の二段式基材の概略側面図である。
10 … 基材 12 … リッジ 14 … 被膜 16 … 被膜
フロントページの続き (72)発明者 ロバート・ポール・ウエンズ アメリカ合衆国55144−1000ミネソタ州セ ント・ポール、スリーエム・センター（番 地の表示なし)
Claims (1)
- 【請求項１】 10％以下の固形分を含有し、液晶表示装
置内の整合層としての用途に適する液状被膜(16)を、多
数の平行で頂上が平坦なリッジ(12)を有する液晶表示パ
ネル上に適用し、該パネルがリッジ間に供給された透明
の電気伝導性被膜(14)を有すること；二段式基材のリッ
ジの頂上にあるレベリング装置を、リッジの長手方向に
沿って移動し、リッジ間の液状被膜を除去せずにリッジ
頂上の液状被膜を除去すること；および残った被膜(16)
を乾燥またはキュアーすることによって硬化および収縮
させ、これにより、リッジ間の液晶表示パネル上に整合
層を提供すること；から成る整合層(16)を液晶表示パネ
ルへ適用する方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US198895 | 1988-05-26 | ||
| US08/198,895 US5378494A (en) | 1994-02-18 | 1994-02-18 | Method of applying a thin coating on the lower surface of a bilevel substrate |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07261177A true JPH07261177A (ja) | 1995-10-13 |
Family
ID=22735320
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7022623A Pending JPH07261177A (ja) | 1994-02-18 | 1995-02-10 | 二段式基材の下方表面への薄被膜の適用方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5378494A (ja) |
| JP (1) | JPH07261177A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6077560A (en) * | 1997-12-29 | 2000-06-20 | 3M Innovative Properties Company | Method for continuous and maskless patterning of structured substrates |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62198825A (ja) * | 1986-02-27 | 1987-09-02 | Nec Corp | 液晶表示パネル |
| JPH01121819A (ja) * | 1987-11-06 | 1989-05-15 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 液晶素子 |
| JPH0439603A (ja) * | 1990-06-05 | 1992-02-10 | Fujitsu Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
| JPH0553120A (ja) * | 1991-08-27 | 1993-03-05 | Nippon Petrochem Co Ltd | 液晶用配向膜の製法 |
| JPH05264982A (ja) * | 1992-01-16 | 1993-10-15 | Minnesota Mining & Mfg Co <3M> | 液晶表示素子及び装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US1494630A (en) * | 1923-06-01 | 1924-05-20 | Charles L Reizenstein | Method of ornamenting glassware |
| US3941901A (en) * | 1974-02-15 | 1976-03-02 | Hoffmann-La Roche Inc. | Surface alignment method for liquid crystal cells and production of polarizers therefor |
| US4261650A (en) * | 1978-12-18 | 1981-04-14 | International Business Machines Corporation | Method for producing uniform parallel alignment in liquid crystal cells |
| US4235525A (en) * | 1979-05-07 | 1980-11-25 | Beckman Instruments, Inc. | Liquid crystal display cell having a light field background |
| DE3902255A1 (de) * | 1989-01-26 | 1990-08-02 | Nokia Unterhaltungselektronik | Verfahren und vorrichtung zum herstellen einer fluessigkristallzelle |
| JP3015434B2 (ja) * | 1989-09-29 | 2000-03-06 | 株式会社東芝 | 液晶配向膜、その製造方法及びそれを用いた液晶表示素子 |
| US5077157A (en) * | 1989-11-24 | 1991-12-31 | Copytele, Inc. | Methods of fabricating dual anode, flat panel electrophoretic displays |
-
1994
- 1994-02-18 US US08/198,895 patent/US5378494A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-02-10 JP JP7022623A patent/JPH07261177A/ja active Pending
Patent Citations (5)
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5378494A (en) | 1995-01-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050329 |