JPH07260913A - 磁気特性測定装置及び磁気ひずみ測定装置 - Google Patents
磁気特性測定装置及び磁気ひずみ測定装置Info
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- JPH07260913A JPH07260913A JP7652894A JP7652894A JPH07260913A JP H07260913 A JPH07260913 A JP H07260913A JP 7652894 A JP7652894 A JP 7652894A JP 7652894 A JP7652894 A JP 7652894A JP H07260913 A JPH07260913 A JP H07260913A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 高精細に磁気特性の測定を行える磁気特性測
定装置を提供する。 【構成】 円筒状に巻回される磁界発生用のコイル2の
内部空間に磁性体試料3を配置し、コイル2に正弦波状
電流を流して正弦波状交番磁界を発生させ、その交番磁
界により磁性体試料3に発生する磁気ひずみを、変位計
6を用いて直接的に測定する。磁界空間内に磁界検出用
コイル5を設け、このコイル5に誘起される電圧の平均
値を求め、その平均値をオフセットとして磁界発生用コ
イル2に印加する電圧から除去する。これにより、オフ
セットのない無歪みの正弦波状磁界を発生し、正確な磁
気特性を測定する。
定装置を提供する。 【構成】 円筒状に巻回される磁界発生用のコイル2の
内部空間に磁性体試料3を配置し、コイル2に正弦波状
電流を流して正弦波状交番磁界を発生させ、その交番磁
界により磁性体試料3に発生する磁気ひずみを、変位計
6を用いて直接的に測定する。磁界空間内に磁界検出用
コイル5を設け、このコイル5に誘起される電圧の平均
値を求め、その平均値をオフセットとして磁界発生用コ
イル2に印加する電圧から除去する。これにより、オフ
セットのない無歪みの正弦波状磁界を発生し、正確な磁
気特性を測定する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、円筒状に導体の線材
を巻回して構成する磁界発生用コイルを用いた磁気特性
測定装置及びこれを用いた磁気ひずみ測定装置に関す
る。
を巻回して構成する磁界発生用コイルを用いた磁気特性
測定装置及びこれを用いた磁気ひずみ測定装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】鉄、鋼などの磁性体は、定常状態では、
その最小磁石である針状磁区は不規則に配列されてい
て、磁性を示さないが、この磁性体が磁界に置かれる
と、針状磁区が磁界の方向に沿って整列することにより
磁性体が磁化されて磁石になる。このとき、磁性体に
は、磁気ひずみが生じることが知られている。したがっ
て、磁性体が交番磁界に置かれると、磁気ひずみのた
め、磁性体が振動をすることになる。この磁性体の磁気
ひずみによる振動は、次のようにして生じると考えられ
ている。
その最小磁石である針状磁区は不規則に配列されてい
て、磁性を示さないが、この磁性体が磁界に置かれる
と、針状磁区が磁界の方向に沿って整列することにより
磁性体が磁化されて磁石になる。このとき、磁性体に
は、磁気ひずみが生じることが知られている。したがっ
て、磁性体が交番磁界に置かれると、磁気ひずみのた
め、磁性体が振動をすることになる。この磁性体の磁気
ひずみによる振動は、次のようにして生じると考えられ
ている。
【0003】磁性体の磁化は、これが置かれる磁界の方
向に応じて変わる。このため、磁性体を、図18Aに示
すような交番磁界中に置くと、この交番磁界の繰り返し
周波数の2倍の繰り返しで、磁性体の磁化の方向が反転
する。この磁化の方向の反転の際、それぞれ針状磁区1
01は、図18Bに示すようにして回転して、その磁極
を反転する。
向に応じて変わる。このため、磁性体を、図18Aに示
すような交番磁界中に置くと、この交番磁界の繰り返し
周波数の2倍の繰り返しで、磁性体の磁化の方向が反転
する。この磁化の方向の反転の際、それぞれ針状磁区1
01は、図18Bに示すようにして回転して、その磁極
を反転する。
【0004】図18Bから理解されるように、この針状
磁区の反転に伴い、針状磁区が横位置のときと、縦位置
のときが生じるが、針状磁区は、磁性体の最小組織(結
晶)と考えられるので、これらの位置変化により、磁性
体にひずみが生じると考えられる。磁区の回転は、磁界
が交番することにより生じるので、交番磁界に置かれた
磁性体の磁気ひずみは、交番磁界の繰り返し周波数の2
倍の周波数を基本とする振動ひずみとなる。
磁区の反転に伴い、針状磁区が横位置のときと、縦位置
のときが生じるが、針状磁区は、磁性体の最小組織(結
晶)と考えられるので、これらの位置変化により、磁性
体にひずみが生じると考えられる。磁区の回転は、磁界
が交番することにより生じるので、交番磁界に置かれた
磁性体の磁気ひずみは、交番磁界の繰り返し周波数の2
倍の周波数を基本とする振動ひずみとなる。
【0005】従来、この磁性体の磁気ひずみを測定する
方法としては、次のような方法が用いられていた。すな
わち、この方法は、図19に示すように、磁性体を偏平
薄型にして作成した試料102の表面に、傾斜を持たせ
た鏡103を貼り、この鏡付きの試料を、円筒状に導体
線材を巻回したコイル(ソレノイドコイル)107の内
部空間内の置く。そして、このコイル107の両端間に
は、交番信号発生器108からの正弦波状交番電圧をア
ンプ109を介して供給する。これにより、コイル10
7には、正弦波状交番電流が流れ、コイル107の円柱
状内部空間内には、ソレノイドコイルの中心線方向であ
って、図示の方向及びその逆方向の交番磁界φが生じ
る。
方法としては、次のような方法が用いられていた。すな
わち、この方法は、図19に示すように、磁性体を偏平
薄型にして作成した試料102の表面に、傾斜を持たせ
た鏡103を貼り、この鏡付きの試料を、円筒状に導体
線材を巻回したコイル(ソレノイドコイル)107の内
部空間内の置く。そして、このコイル107の両端間に
は、交番信号発生器108からの正弦波状交番電圧をア
ンプ109を介して供給する。これにより、コイル10
7には、正弦波状交番電流が流れ、コイル107の円柱
状内部空間内には、ソレノイドコイルの中心線方向であ
って、図示の方向及びその逆方向の交番磁界φが生じ
る。
【0006】この状態で、試料102に張り付けられて
いる鏡103に対して光源104から光ビーム105を
照射し、その反射光を受光部106で受光して、試料1
02の磁気ひずみ振動の大きさを測定する。その測定原
理は、図19に示すように、試料102に貼着された鏡
103にビーム105が入射したとき、その反射光は、
磁気ひずみ量に応じた広がり角θを有することを利用す
るものである。
いる鏡103に対して光源104から光ビーム105を
照射し、その反射光を受光部106で受光して、試料1
02の磁気ひずみ振動の大きさを測定する。その測定原
理は、図19に示すように、試料102に貼着された鏡
103にビーム105が入射したとき、その反射光は、
磁気ひずみ量に応じた広がり角θを有することを利用す
るものである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の磁気
ひずみのような磁性体試料の特性を測定する場合、その
測定がどのような磁気的条件でなされたかを考慮する必
要がある。例えば、磁気ひずみは、磁界−磁気ひずみ特
性、あるいは磁束密度−磁気ひずみ特性として測定す
る。また、磁性体試料自身の透磁率やヒステリシス特性
などの磁気的特性性を合わせて測定するようにするのが
一般的である。
ひずみのような磁性体試料の特性を測定する場合、その
測定がどのような磁気的条件でなされたかを考慮する必
要がある。例えば、磁気ひずみは、磁界−磁気ひずみ特
性、あるいは磁束密度−磁気ひずみ特性として測定す
る。また、磁性体試料自身の透磁率やヒステリシス特性
などの磁気的特性性を合わせて測定するようにするのが
一般的である。
【0008】このため、測定時に磁性体試料に印加され
ている磁界及び磁束密度を検知する必要がある。磁界
は、アンプ109の出力電圧を抵抗により電流変換する
ことにより、コイル107に流れる電流を検知して求め
ることもできるが、試料の近傍の空間の磁界をより正確
に検出するには、磁性体試料近傍の空間において、磁束
φに鎖交する断面を有するコア(空芯も含む)にコイル
を巻回して、この磁界検出用コイルに誘起される起電力
から検知するようにする方がよい。また、磁性体試料1
02の部分の磁束密度を知るためには、磁性体試料10
2を、その巻回空間に含むようにソレノイド状に巻回し
たコイルを設け、そのコイルに誘起される起電力から検
知することができる。
ている磁界及び磁束密度を検知する必要がある。磁界
は、アンプ109の出力電圧を抵抗により電流変換する
ことにより、コイル107に流れる電流を検知して求め
ることもできるが、試料の近傍の空間の磁界をより正確
に検出するには、磁性体試料近傍の空間において、磁束
φに鎖交する断面を有するコア(空芯も含む)にコイル
を巻回して、この磁界検出用コイルに誘起される起電力
から検知するようにする方がよい。また、磁性体試料1
02の部分の磁束密度を知るためには、磁性体試料10
2を、その巻回空間に含むようにソレノイド状に巻回し
たコイルを設け、そのコイルに誘起される起電力から検
知することができる。
【0009】ところが、このように、磁界検出用コイル
を設けて、その誘起起電力から磁界を検出する場合に、
得られた磁界は正弦波状交番信号にならず、検出した磁
束密度を縦軸に取り、磁界を横軸に取って作成するヒス
テリシスループが縦軸及び横軸を対称軸として対称には
ならないことを、この発明の発明者は発見した。
を設けて、その誘起起電力から磁界を検出する場合に、
得られた磁界は正弦波状交番信号にならず、検出した磁
束密度を縦軸に取り、磁界を横軸に取って作成するヒス
テリシスループが縦軸及び横軸を対称軸として対称には
ならないことを、この発明の発明者は発見した。
【0010】発明者は、その理由を追及したところ、コ
イル107に供給される界磁電流が、正しく正弦波状交
番電流になっておらず、ひずみを有し、このため、直流
オフセットが界磁電流に含まれていることを突き止め
た。このようにコイル107に供給される界磁電流が、
正しく正弦波状交番電流になっていない時には、磁気ひ
ずみの測定などの磁気的な測定を正確に行うことができ
ないものである。
イル107に供給される界磁電流が、正しく正弦波状交
番電流になっておらず、ひずみを有し、このため、直流
オフセットが界磁電流に含まれていることを突き止め
た。このようにコイル107に供給される界磁電流が、
正しく正弦波状交番電流になっていない時には、磁気ひ
ずみの測定などの磁気的な測定を正確に行うことができ
ないものである。
【0011】この問題を解決するには、交番信号発生器
108からひずみのない正弦波状交番信号を得ればよい
が、交番信号発生器108からこのような信号を得るこ
とは一般に困難である。また、仮に正確な正弦波状交番
信号を交番信号発生器108から得ることができたとし
ても、その後段のアンプ109を無歪みアンプの構成と
することは困難であり、コイル107に無歪みの正弦波
状交番電流を流すことは非常に困難である。
108からひずみのない正弦波状交番信号を得ればよい
が、交番信号発生器108からこのような信号を得るこ
とは一般に困難である。また、仮に正確な正弦波状交番
信号を交番信号発生器108から得ることができたとし
ても、その後段のアンプ109を無歪みアンプの構成と
することは困難であり、コイル107に無歪みの正弦波
状交番電流を流すことは非常に困難である。
【0012】この発明は、以上の欠点を除去した磁気特
性測定装置を提供することを第1の目的とする。
性測定装置を提供することを第1の目的とする。
【0013】また、この発明は、第1の目的を達成した
磁気特性測定装置を用いて、従来よりさらに小さい磁気
ひずみを正確に測定できるようにする磁気ひずみ測定装
置を提供することを第2の目的とする。
磁気特性測定装置を用いて、従来よりさらに小さい磁気
ひずみを正確に測定できるようにする磁気ひずみ測定装
置を提供することを第2の目的とする。
【0014】すなわち、磁性体の磁気ひずみによる振動
は、モータや変圧器において、うなり音となって現れた
りして、種々の不都合を生じる。このため、できるだ
け、この磁気ひずみが小さい材料が望まれており、その
開発が進んでいる。そして、最近では、磁気ひずみの量
が、1m当たり、10-7〜10-9m程度にまで、押さえ
られた材料の誕生の可能性が出てきている。
は、モータや変圧器において、うなり音となって現れた
りして、種々の不都合を生じる。このため、できるだ
け、この磁気ひずみが小さい材料が望まれており、その
開発が進んでいる。そして、最近では、磁気ひずみの量
が、1m当たり、10-7〜10-9m程度にまで、押さえ
られた材料の誕生の可能性が出てきている。
【0015】ところで、磁性体材料のこのような磁気ひ
ずみの小ささは、その磁気ひずみの大きさを測定するこ
とにより確認しなければならない。そのためには、その
ような極く小さい磁気ひずみの測定ができなければなら
ない。しかしながら、従来の装置では、磁性体試料の1
m当たりについて、最小、10-7m程度までの磁気ひず
みの測定は可能であるが、それより、小さい磁気ひずみ
は正確に測定することができなかった。
ずみの小ささは、その磁気ひずみの大きさを測定するこ
とにより確認しなければならない。そのためには、その
ような極く小さい磁気ひずみの測定ができなければなら
ない。しかしながら、従来の装置では、磁性体試料の1
m当たりについて、最小、10-7m程度までの磁気ひず
みの測定は可能であるが、それより、小さい磁気ひずみ
は正確に測定することができなかった。
【0016】また、試料102に張り付けた鏡103か
らの光の反射を受光する方式であるため、試料102
は、しっかりと固定することが困難である。このため、
例えば偏平薄型に切り出した試料の偏平面方向の磁気ひ
ずみを測定しようとする場合に、試料の厚み方向の磁気
ひずみの影響を受けて、試料が横ゆれなどを生じてしま
い、小さい磁気ひずみの測定を不能にしている。
らの光の反射を受光する方式であるため、試料102
は、しっかりと固定することが困難である。このため、
例えば偏平薄型に切り出した試料の偏平面方向の磁気ひ
ずみを測定しようとする場合に、試料の厚み方向の磁気
ひずみの影響を受けて、試料が横ゆれなどを生じてしま
い、小さい磁気ひずみの測定を不能にしている。
【0017】しかも、試料102をしっかりと固定しな
い状態で試料102に鏡103を張り付けるため、試料
102に生じる磁気ひずみに、張り付けられた鏡103
の分の影響が生じ、これも正確な、より小さい磁気ひず
みを測定するための支障となっていた。
い状態で試料102に鏡103を張り付けるため、試料
102に生じる磁気ひずみに、張り付けられた鏡103
の分の影響が生じ、これも正確な、より小さい磁気ひず
みを測定するための支障となっていた。
【0018】さらには、図19に示す従来例の場合、試
料102の張り付けた鏡103に、コイル107の外部
にある光源104からの光を照射し、その反射光を、コ
イル107の外部に設けられる受光素子106で受光す
るようにしなければならないため、コイル107には、
試料102の近傍において、線材を巻回せずに光を導く
ための空間を設けなければならない。このため、コイル
107の巻回方向に生じる交番磁界が、試料102の近
傍で不均一となり、正確な磁気ひずみを測定するために
重要となる試料近傍の磁気特性環境を所期のものとなる
ように整えることが困難であった。
料102の張り付けた鏡103に、コイル107の外部
にある光源104からの光を照射し、その反射光を、コ
イル107の外部に設けられる受光素子106で受光す
るようにしなければならないため、コイル107には、
試料102の近傍において、線材を巻回せずに光を導く
ための空間を設けなければならない。このため、コイル
107の巻回方向に生じる交番磁界が、試料102の近
傍で不均一となり、正確な磁気ひずみを測定するために
重要となる試料近傍の磁気特性環境を所期のものとなる
ように整えることが困難であった。
【0019】以上のように、この発明は、上記第1の目
的を達成して、試料近傍の交番磁界のひずみを除去する
と共に、磁性体試料の磁気ひずみによる変位を、直接的
に測定することができるようにすることにより、従来よ
りさらに小さい磁気ひずみを正確に測定できるようにす
る磁気ひずみ測定装置を提供することを第2の目的とす
る。
的を達成して、試料近傍の交番磁界のひずみを除去する
と共に、磁性体試料の磁気ひずみによる変位を、直接的
に測定することができるようにすることにより、従来よ
りさらに小さい磁気ひずみを正確に測定できるようにす
る磁気ひずみ測定装置を提供することを第2の目的とす
る。
【0020】
【課題を解決するための手段】この発明による磁気特性
測定装置は、後述の実施例の参照符号を対応させると、
円筒状に導体の線材が巻回されて構成される磁界発生用
の第1のコイルと、この第1のコイルの内部空間に交番
磁界を生じさせるために、この第1のコイルに供給する
交番信号を発生する交番信号発生器と、上記第1のコイ
ルの内部空間内に、磁性体試料を配置するための試料保
持部材と、上記試料の近傍に配置され、上記第1のコイ
ルによる発生磁界を検出するための第2のコイルと、上
記第2のコイルに得られる誘起電圧の平均値を求める平
均値算出手段と、上記交番信号発生器と上記第1のコイ
ルとの間に設けられ、上記平均値算出手段からの平均値
出力を上記交番信号からオフセットとして除去するオフ
セット除去手段とを備えることを特徴とする。
測定装置は、後述の実施例の参照符号を対応させると、
円筒状に導体の線材が巻回されて構成される磁界発生用
の第1のコイルと、この第1のコイルの内部空間に交番
磁界を生じさせるために、この第1のコイルに供給する
交番信号を発生する交番信号発生器と、上記第1のコイ
ルの内部空間内に、磁性体試料を配置するための試料保
持部材と、上記試料の近傍に配置され、上記第1のコイ
ルによる発生磁界を検出するための第2のコイルと、上
記第2のコイルに得られる誘起電圧の平均値を求める平
均値算出手段と、上記交番信号発生器と上記第1のコイ
ルとの間に設けられ、上記平均値算出手段からの平均値
出力を上記交番信号からオフセットとして除去するオフ
セット除去手段とを備えることを特徴とする。
【0021】また、この発明による上記ひずみ測定装置
は、円筒状に導体の線材が巻回されて構成される磁界発
生用の第1のコイルと、この第1のコイルの内部空間に
交番磁界を生じさせるために、この第1のコイルに供給
する交番信号を発生する交番信号発生器と、磁性体試料
を挟んで保持する1対の非磁性体板を備え、上記磁性体
試料の挟持された面の方向が、上記第1のコイルの巻回
方向と一致する状態で、上記磁界発生用の第1のコイル
により囲まれる空間内のほぼ中央部であって、かつ、上
記第1のコイルの巻回方向のほぼ中央部に、上記磁性体
試料を配置するための試料保持部材と、上記試料の近傍
の磁気特性を検出するために、上記1対の非磁性体板の
上記試料を挟持する部分の周囲において、上記試料保持
部材に対して固定される第2のコイルと、上記第2のコ
イルに得られる誘起電圧の平均値を求める平均値算出手
段と、上記交番信号発生器と上記第1のコイルとの間に
設けられ、上記平均値算出手段からの平均値出力を上記
交番信号からオフセットとして除去するオフセット除去
手段と、上記試料保持部材の1対の非磁性体板間の上記
磁性体試料の端面あるいはこの端面に取り付けられた反
射板に光ビームを照射し、その反射光から、上記磁性体
試料の上記端面の変位を検出する光変位計とを備え、上
記第2のコイルに得られる誘起電圧出力と、上記光変位
計の出力信号とから、上記磁性体試料の近傍の磁気特性
と、その磁気特性条件下で上記磁性体試料に生じる磁気
ひずみの量との関係を求めるようにしたことを特徴とす
る。
は、円筒状に導体の線材が巻回されて構成される磁界発
生用の第1のコイルと、この第1のコイルの内部空間に
交番磁界を生じさせるために、この第1のコイルに供給
する交番信号を発生する交番信号発生器と、磁性体試料
を挟んで保持する1対の非磁性体板を備え、上記磁性体
試料の挟持された面の方向が、上記第1のコイルの巻回
方向と一致する状態で、上記磁界発生用の第1のコイル
により囲まれる空間内のほぼ中央部であって、かつ、上
記第1のコイルの巻回方向のほぼ中央部に、上記磁性体
試料を配置するための試料保持部材と、上記試料の近傍
の磁気特性を検出するために、上記1対の非磁性体板の
上記試料を挟持する部分の周囲において、上記試料保持
部材に対して固定される第2のコイルと、上記第2のコ
イルに得られる誘起電圧の平均値を求める平均値算出手
段と、上記交番信号発生器と上記第1のコイルとの間に
設けられ、上記平均値算出手段からの平均値出力を上記
交番信号からオフセットとして除去するオフセット除去
手段と、上記試料保持部材の1対の非磁性体板間の上記
磁性体試料の端面あるいはこの端面に取り付けられた反
射板に光ビームを照射し、その反射光から、上記磁性体
試料の上記端面の変位を検出する光変位計とを備え、上
記第2のコイルに得られる誘起電圧出力と、上記光変位
計の出力信号とから、上記磁性体試料の近傍の磁気特性
と、その磁気特性条件下で上記磁性体試料に生じる磁気
ひずみの量との関係を求めるようにしたことを特徴とす
る。
【0022】
【作用】上記の構成のこの発明の磁気特性測定装置にお
いては、第2のコイルの誘起起電力(電圧)の平均値が
求められ、直流オフセットが検知される。そして、この
直流オフセットが、オフセット除去回路において、第1
のコイルの両端に印加される電圧から除去される。この
結果、第1のコイルに印加される交番電流は、その直流
オフセットによる歪み分が除去されるようになり、第2
のコイルに誘起される電圧は、直流オフセットのない電
圧となるように収束する。したがって、磁気特性を正確
に測定することが可能になる。
いては、第2のコイルの誘起起電力(電圧)の平均値が
求められ、直流オフセットが検知される。そして、この
直流オフセットが、オフセット除去回路において、第1
のコイルの両端に印加される電圧から除去される。この
結果、第1のコイルに印加される交番電流は、その直流
オフセットによる歪み分が除去されるようになり、第2
のコイルに誘起される電圧は、直流オフセットのない電
圧となるように収束する。したがって、磁気特性を正確
に測定することが可能になる。
【0023】また、上記の構成のこの発明の磁気ひずみ
測定装置においては、以上のようにして、磁性体試料に
印加される磁界は補正されてひずみが軽減されているか
ら、より正確な磁気特性条件下において、磁気ひずみ測
定が行われ、従来よりもさらに精細な磁気ひずみの測定
が行われる。
測定装置においては、以上のようにして、磁性体試料に
印加される磁界は補正されてひずみが軽減されているか
ら、より正確な磁気特性条件下において、磁気ひずみ測
定が行われ、従来よりもさらに精細な磁気ひずみの測定
が行われる。
【0024】その上、この発明による磁気ひずみ測定装
置においては、磁性体試料3は、1対の非磁性体板3
1、32により挟持され、その方向の変位が制限された
状態で、第1のコイル2内の交番磁界が生じる空間内に
配置される。交番磁界により、磁性体試料3は、1対の
非磁性体板31、32により挟持された面の方向、つま
り第1のコイル2の巻回方向に磁気ひずみによる変位を
生じ、その端面は、その磁気ひずみによる変位に応じた
振動を呈する。
置においては、磁性体試料3は、1対の非磁性体板3
1、32により挟持され、その方向の変位が制限された
状態で、第1のコイル2内の交番磁界が生じる空間内に
配置される。交番磁界により、磁性体試料3は、1対の
非磁性体板31、32により挟持された面の方向、つま
り第1のコイル2の巻回方向に磁気ひずみによる変位を
生じ、その端面は、その磁気ひずみによる変位に応じた
振動を呈する。
【0025】光変位計6は、第1のコイル2の巻回方向
の空間から、試料3の端面または反射板3tに光ビーム
を照射し、その反射光を利用して、試料3の端面の振動
変位量に応じた出力信号を得る。したがって、この発明
においては、磁性体試料3の磁気ひずみのみを正確に測
定することができ、精細に磁気ひずみの測定が行われ
る。
の空間から、試料3の端面または反射板3tに光ビーム
を照射し、その反射光を利用して、試料3の端面の振動
変位量に応じた出力信号を得る。したがって、この発明
においては、磁性体試料3の磁気ひずみのみを正確に測
定することができ、精細に磁気ひずみの測定が行われ
る。
【0026】
【実施例】以下、この発明の一実施例を、図を参照しな
がら説明する。図1は、磁気ひずみ測定装置の実施例の
機構部の機械的構成及び信号処理系の全体を示してい
る。この図1に示した磁気ひずみ測定装置の機構部の機
械的構成は、原理的構成を示しており、その詳細な構成
例は、図2に示す通りである。図2Aは、この例の測定
装置の機構部の平面図(一部は、断面として示してあ
る)、図2Bは、この例の測定装置の機構部の側面図
(一部は、断面として示してある)である。
がら説明する。図1は、磁気ひずみ測定装置の実施例の
機構部の機械的構成及び信号処理系の全体を示してい
る。この図1に示した磁気ひずみ測定装置の機構部の機
械的構成は、原理的構成を示しており、その詳細な構成
例は、図2に示す通りである。図2Aは、この例の測定
装置の機構部の平面図(一部は、断面として示してあ
る)、図2Bは、この例の測定装置の機構部の側面図
(一部は、断面として示してある)である。
【0027】先ず、図1において、1は中空円筒の二重
ガラス管である。このガラス管1は、同心円筒状のガラ
ス壁がその管軸方向の端部において連結された形状を有
している。このガラス管1の外周には、その管軸方向の
両端部を除く部分において、交番磁界発生用のコイル2
が、ソレノイドコイル状に巻回される。そして、ガラス
管1内の円柱状空間内のほぼ中央位置には、磁性体試料
3が置かれる。
ガラス管である。このガラス管1は、同心円筒状のガラ
ス壁がその管軸方向の端部において連結された形状を有
している。このガラス管1の外周には、その管軸方向の
両端部を除く部分において、交番磁界発生用のコイル2
が、ソレノイドコイル状に巻回される。そして、ガラス
管1内の円柱状空間内のほぼ中央位置には、磁性体試料
3が置かれる。
【0028】ところで、従来、上述のような磁気ひずみ
測定装置においては、交番磁界を発生させるコイル2
は、磁性体試料3が収容される空間内に、コイル巻回方
向に平行な磁束を発生させるようにすることが、印加磁
束と磁気ひずみとの関係を正確に測定するために重要で
ある。
測定装置においては、交番磁界を発生させるコイル2
は、磁性体試料3が収容される空間内に、コイル巻回方
向に平行な磁束を発生させるようにすることが、印加磁
束と磁気ひずみとの関係を正確に測定するために重要で
ある。
【0029】しかしながら、ソレノイドコイルの場合、
図19に示したように、その内部空間のコイル巻回方向
の中央部では、磁束φは平行になっているが、コイル両
端近傍においては、反磁界の影響を受けるため、図示の
ように、曲線状になってしまい、平行磁束にならない。
図19に示したように、その内部空間のコイル巻回方向
の中央部では、磁束φは平行になっているが、コイル両
端近傍においては、反磁界の影響を受けるため、図示の
ように、曲線状になってしまい、平行磁束にならない。
【0030】このため、従来は、磁界発生用のソレノイ
ドコイルの巻回方向の長さを、磁性体試料の長さに対し
て十分に長くして、磁性体試料の部分では、磁束は、す
べて平行磁束になるようにしている。しかし、このよう
に、磁界発生用のコイルの巻回方向の長さを長くする
と、磁気ひずみ測定装置が大型化してしまう問題があ
る。
ドコイルの巻回方向の長さを、磁性体試料の長さに対し
て十分に長くして、磁性体試料の部分では、磁束は、す
べて平行磁束になるようにしている。しかし、このよう
に、磁界発生用のコイルの巻回方向の長さを長くする
と、磁気ひずみ測定装置が大型化してしまう問題があ
る。
【0031】ところで、磁界発生用の円筒状コイルの両
端付近の磁束の流れを調査すると、磁束が描く曲線は、
指数関数曲線的に変化することが分かった。そこで、こ
の例の磁界発生用のコイル2は、図3に示すように、多
層巻きとされ、コイル巻回方向の単位長さ当たりの巻き
数が、コイルの巻回方向の中心から、巻回方向の両端部
に近付くにしたがってほぼ指数関数(エクスポネンシャ
ル)曲線的に増加するように構成されている。なお、コ
イルの巻回方向の中心付近では、コイル巻回方向の単位
長さ当たりの巻き数は均一でもよい。
端付近の磁束の流れを調査すると、磁束が描く曲線は、
指数関数曲線的に変化することが分かった。そこで、こ
の例の磁界発生用のコイル2は、図3に示すように、多
層巻きとされ、コイル巻回方向の単位長さ当たりの巻き
数が、コイルの巻回方向の中心から、巻回方向の両端部
に近付くにしたがってほぼ指数関数(エクスポネンシャ
ル)曲線的に増加するように構成されている。なお、コ
イルの巻回方向の中心付近では、コイル巻回方向の単位
長さ当たりの巻き数は均一でもよい。
【0032】これにより、コイル2に交番電流を流した
時に発生するガラス管1内の管軸方向の磁束は、ガラス
管1の管軸方向の一方の端部から他方の端部にまで渡っ
てほぼ平行にすることができる。つまり、コイル2の両
端部においても、反磁界の影響を軽減してほぼ平行磁束
とすることができる。
時に発生するガラス管1内の管軸方向の磁束は、ガラス
管1の管軸方向の一方の端部から他方の端部にまで渡っ
てほぼ平行にすることができる。つまり、コイル2の両
端部においても、反磁界の影響を軽減してほぼ平行磁束
とすることができる。
【0033】そして、この例の場合、試料3は、偏平矩
形の薄板状とされ、厚さ、幅、長さが予め求められてい
る。この試料3は、その板面方向がガラス管1の管軸方
向と一致する状態で、後述する試料保持手段30により
保持されて、ガラス管1内に置かれる。
形の薄板状とされ、厚さ、幅、長さが予め求められてい
る。この試料3は、その板面方向がガラス管1の管軸方
向と一致する状態で、後述する試料保持手段30により
保持されて、ガラス管1内に置かれる。
【0034】交番磁界発生用のコイル2の両端間には、
交番信号発生器11からの正弦波状交番電圧がアンプ1
2を介して供給される。これにより、コイル2には、交
番電流iが流れ、ガラス管内1の円柱状空間内に管軸方
向の交番磁界が生じる。この場合、アンプ12は差動ア
ンプであり、交番信号発生器11からの正弦波状交番電
圧は、その一方の入力端子に供給される。そして、アン
プ12の他方の入力端子には、後述するオフセット電圧
ODが供給されて、一方の入力端子に供給される正弦波
状交番電圧の直流オフセットが除去されるようになる。
交番信号発生器11からの正弦波状交番電圧がアンプ1
2を介して供給される。これにより、コイル2には、交
番電流iが流れ、ガラス管内1の円柱状空間内に管軸方
向の交番磁界が生じる。この場合、アンプ12は差動ア
ンプであり、交番信号発生器11からの正弦波状交番電
圧は、その一方の入力端子に供給される。そして、アン
プ12の他方の入力端子には、後述するオフセット電圧
ODが供給されて、一方の入力端子に供給される正弦波
状交番電圧の直流オフセットが除去されるようになる。
【0035】ところで、コイル2には、比較的大きな電
流iを流すために、発熱が生じる。そこで、この例の装
置においては、ガラス管1の2重壁内に冷却水を流すこ
とにより、過度の発熱を防止するようにしている。
流iを流すために、発熱が生じる。そこで、この例の装
置においては、ガラス管1の2重壁内に冷却水を流すこ
とにより、過度の発熱を防止するようにしている。
【0036】この冷却水を流す構成にするため、ガラス
管1には、その管軸方向の一端側の一部から突出するよ
うに、開口部1aが設けられると共に、管軸方向の他端
側の、前記開口部1aの位置に対して180度角間隔隔
てた位置にも、その部分から突出するように開口部1b
が設けられている。そして、このガラス管1は、図示の
ように、開口部1aが上方、開口部1bが下方になる状
態で横位置に置かれ、開口部1aから冷却水が注入され
る。冷却水は、ガラス管1内のすべての部分を巡って開
口部1bから排水される。
管1には、その管軸方向の一端側の一部から突出するよ
うに、開口部1aが設けられると共に、管軸方向の他端
側の、前記開口部1aの位置に対して180度角間隔隔
てた位置にも、その部分から突出するように開口部1b
が設けられている。そして、このガラス管1は、図示の
ように、開口部1aが上方、開口部1bが下方になる状
態で横位置に置かれ、開口部1aから冷却水が注入され
る。冷却水は、ガラス管1内のすべての部分を巡って開
口部1bから排水される。
【0037】ところで、試料3の磁気ひずみを測定する
場合、この試料3の近傍の磁界あるいは試料3を通る磁
束(磁束密度)を知り、その磁束あるいは磁界の磁気特
性条件下において発生する磁気ひずみとして測定する必
要がある。そこで、試料3の近傍の磁気特性を測定する
ため、コイルブロックCBが設けられる。
場合、この試料3の近傍の磁界あるいは試料3を通る磁
束(磁束密度)を知り、その磁束あるいは磁界の磁気特
性条件下において発生する磁気ひずみとして測定する必
要がある。そこで、試料3の近傍の磁気特性を測定する
ため、コイルブロックCBが設けられる。
【0038】このコイルブロックCBは、この例では、
後述するように、試料3を通る磁束を測定するためのさ
ぐりコイル4と、試料3のできるだけ近傍の磁界を測定
するための補正コイル5とからなる。詳細な構成は、後
述する。
後述するように、試料3を通る磁束を測定するためのさ
ぐりコイル4と、試料3のできるだけ近傍の磁界を測定
するための補正コイル5とからなる。詳細な構成は、後
述する。
【0039】以上の構成において、コイル2に交番電流
iを流すと、ガラス管1の管軸方向に交番磁界が誘起さ
れ、この交番磁界により、磁性体試料3には、前述した
ように、電流iの周波数の2倍の周波数で振動する磁気
ひずみが生じる。この場合、試料3は、偏平矩形の薄い
板であるので、この磁気ひずみは、板面方向(管軸方
向)の伸び縮みとして現れる。すなわち、試料3の厚み
部分の端面は、管軸方向に、試料3の伸び縮みに応じて
振動変位する。
iを流すと、ガラス管1の管軸方向に交番磁界が誘起さ
れ、この交番磁界により、磁性体試料3には、前述した
ように、電流iの周波数の2倍の周波数で振動する磁気
ひずみが生じる。この場合、試料3は、偏平矩形の薄い
板であるので、この磁気ひずみは、板面方向(管軸方
向)の伸び縮みとして現れる。すなわち、試料3の厚み
部分の端面は、管軸方向に、試料3の伸び縮みに応じて
振動変位する。
【0040】この例においては、試料3の前記端面の変
位を光変位計を用いて測定することにより、試料3の磁
気ひずみを直接的に測定する。光を用いて変位を測定す
るので、電磁気的影響がほとんどない。この例において
は、変位を容易にピックアップできるように、試料3の
端面には微小な反射板3tが取り付けられている。この
反射板3tは、例えばチタンからなり、試料3の変位に
対する影響が少ない薄い板状のものであって、鏡面仕上
げされて構成されている。
位を光変位計を用いて測定することにより、試料3の磁
気ひずみを直接的に測定する。光を用いて変位を測定す
るので、電磁気的影響がほとんどない。この例において
は、変位を容易にピックアップできるように、試料3の
端面には微小な反射板3tが取り付けられている。この
反射板3tは、例えばチタンからなり、試料3の変位に
対する影響が少ない薄い板状のものであって、鏡面仕上
げされて構成されている。
【0041】図1において、6は光変位計を示し、6a
はその光プローブである。光プローブ6aは、非磁性体
で構成されている。この例の光変位計6は、プローブ6
aから光ビーム7を出射すると共に、反射光をこのプロ
ーブ6aで受光して得る。プローブ6aから出射された
光ビームは、この例では試料3の端面の反射板3tに照
射される。光変位計6は、その反射板3tからの反射光
をプローブ6aを介して受光して、その反射板3tの変
位を電圧変化に変換して出力信号Vλとして得る。
はその光プローブである。光プローブ6aは、非磁性体
で構成されている。この例の光変位計6は、プローブ6
aから光ビーム7を出射すると共に、反射光をこのプロ
ーブ6aで受光して得る。プローブ6aから出射された
光ビームは、この例では試料3の端面の反射板3tに照
射される。光変位計6は、その反射板3tからの反射光
をプローブ6aを介して受光して、その反射板3tの変
位を電圧変化に変換して出力信号Vλとして得る。
【0042】次に、図2〜図5をも参照して、以上説明
した機構部分のさらに詳細な構成について説明する。な
お、図4は、図1のA−A断面図、図5は機構部の中央
部の拡大断面図である。
した機構部分のさらに詳細な構成について説明する。な
お、図4は、図1のA−A断面図、図5は機構部の中央
部の拡大断面図である。
【0043】図2に示すように、ガラス管1の外側は、
ベークライト製の円筒状の筐体7に覆われている。この
筐体7は、ベース部材8に固定されている。ガラス管1
の冷却水の出入口1a、1bは、筐体7の外側に導出さ
れている。また、筐体7の管軸方向の両端部には、試料
3の出入りのためと、コイルブロックCBからのコイル
線材の端部を導出するためと、光変位計6のプローブ6
aを挿入するために、開口部が設けられている。
ベークライト製の円筒状の筐体7に覆われている。この
筐体7は、ベース部材8に固定されている。ガラス管1
の冷却水の出入口1a、1bは、筐体7の外側に導出さ
れている。また、筐体7の管軸方向の両端部には、試料
3の出入りのためと、コイルブロックCBからのコイル
線材の端部を導出するためと、光変位計6のプローブ6
aを挿入するために、開口部が設けられている。
【0044】磁性体試料3は、試料保持部材30により
保持される。すなわち、図2及び図5に示すように、こ
の例の場合、磁性体試料3は、細長い偏平薄板状とされ
ており、同様に細長い薄板状に構成された1対の非磁性
体板31及び32により挟まれて保持される。この非磁
性体板31及び32は、磁性体試料3を確実に保持でき
るように、できるだけ重量の重い方がよく、この例で
は、アルミナ磁器が用いられている。
保持される。すなわち、図2及び図5に示すように、こ
の例の場合、磁性体試料3は、細長い偏平薄板状とされ
ており、同様に細長い薄板状に構成された1対の非磁性
体板31及び32により挟まれて保持される。この非磁
性体板31及び32は、磁性体試料3を確実に保持でき
るように、できるだけ重量の重い方がよく、この例で
は、アルミナ磁器が用いられている。
【0045】この例の場合、非磁性体板31、32の寸
法は、それぞれ、例えば、厚さ×幅×長さ=2(mm)
×31(mm)×277(mm)とされている。また、
試料3の寸法は、例えば、厚さ×幅×長さ=1(mm)
×30(mm)×280(mm)とされている。つま
り、試料3は、非磁性体板31、32より若干長く、そ
の分がプローブ6a側に突き出すようになされており、
その突き出した部分の端面が磁気ひずみにより変位す
る。このため、この端面に反射板3tが取り付けられ
る。
法は、それぞれ、例えば、厚さ×幅×長さ=2(mm)
×31(mm)×277(mm)とされている。また、
試料3の寸法は、例えば、厚さ×幅×長さ=1(mm)
×30(mm)×280(mm)とされている。つま
り、試料3は、非磁性体板31、32より若干長く、そ
の分がプローブ6a側に突き出すようになされており、
その突き出した部分の端面が磁気ひずみにより変位す
る。このため、この端面に反射板3tが取り付けられ
る。
【0046】さらに、コイル2の巻回方向の長さは、約
390mmとされ、ガラス管1の外径は、40mm、長
さは400mmとされている。また、コイル2の線材の
太さは、例えば直径が0.5mmとされ、巻き数は、全
体で1500〜2000回とされている。
390mmとされ、ガラス管1の外径は、40mm、長
さは400mmとされている。また、コイル2の線材の
太さは、例えば直径が0.5mmとされ、巻き数は、全
体で1500〜2000回とされている。
【0047】対の非磁性体板31、32の長さ方向の一
端側は、保持アーム33により固定される。この場合、
保持アーム33は、非磁性体板31、32を、試料3を
挟んだ状態で、例えば捩子などにより固定する。対の非
磁性体板31、32の長さ方向の、反射板3tが取り付
けられる他端側は固定されず、測定状態においては、筐
体7あるいはベース8に固定されている保持台34の上
に載置される。捩子を緩めて、保持アーム33による対
の非磁性体板31、32の固定保持を解除し、試料3の
交換ができる。
端側は、保持アーム33により固定される。この場合、
保持アーム33は、非磁性体板31、32を、試料3を
挟んだ状態で、例えば捩子などにより固定する。対の非
磁性体板31、32の長さ方向の、反射板3tが取り付
けられる他端側は固定されず、測定状態においては、筐
体7あるいはベース8に固定されている保持台34の上
に載置される。捩子を緩めて、保持アーム33による対
の非磁性体板31、32の固定保持を解除し、試料3の
交換ができる。
【0048】保持アーム33は、試料3をガラス管1の
外に出して、交換等するために、保持アーム受け台35
に対して、ガラス管1の管軸方向に沿って水平方向に摺
動自在に係合されている。保持アーム33と、保持アー
ム受け台35との摺動は、非常に軽快に行えるようにさ
れており、摺動後は、捩子などにより、保持アーム33
が受け台35に固定される。
外に出して、交換等するために、保持アーム受け台35
に対して、ガラス管1の管軸方向に沿って水平方向に摺
動自在に係合されている。保持アーム33と、保持アー
ム受け台35との摺動は、非常に軽快に行えるようにさ
れており、摺動後は、捩子などにより、保持アーム33
が受け台35に固定される。
【0049】保持アーム受け台35は、重量の大きい部
材で構成され、この例ではステンレス製とされている。
そして、水平方向の移動距離をより大きくするため、保
持アーム受け台35も、ベース8に対して、保持アーム
33と同じ方向に摺動自在に取り付けられており、捩子
などにより固定できるように構成されている。取っ手3
6は、保持アーム受け台35の摺動を行う時に使用され
る。
材で構成され、この例ではステンレス製とされている。
そして、水平方向の移動距離をより大きくするため、保
持アーム受け台35も、ベース8に対して、保持アーム
33と同じ方向に摺動自在に取り付けられており、捩子
などにより固定できるように構成されている。取っ手3
6は、保持アーム受け台35の摺動を行う時に使用され
る。
【0050】この場合、非磁性体板31、32による挾
持状態では、磁性体試料3は、その板面方向(ガラス管
1の管軸方向)には磁気ひずみによる伸縮が自在とな
る。しかし、非磁性体板31、32により挾持されてい
るため、磁性体試料3の厚み方向には、その伸縮が制限
されるようにされている。
持状態では、磁性体試料3は、その板面方向(ガラス管
1の管軸方向)には磁気ひずみによる伸縮が自在とな
る。しかし、非磁性体板31、32により挾持されてい
るため、磁性体試料3の厚み方向には、その伸縮が制限
されるようにされている。
【0051】次に、コイルブロックCBの構成について
説明する。さぐりコイル4は、試料3を流れる磁束変化
(dφ/dt;tは時間)を検出するためのコイルであ
って、このコイル4に誘起される電圧から磁束密度Bを
求めるものである。このさぐりコイル4は、ガラス管1
の管軸方向を巻回方向とするソレノイドコイル状に巻回
され、ガラス管1内の空間に試料3を設置したとき、試
料3は、このコイル4のほぼ巻回中心に位置する状態と
されるものである。このコイル4は、図1のA−A断面
図である図4と、主要部分の拡大図の図5に示すよう
に、非磁性体例えばマイラーからなる中空筒状ボビン4
1に巻回され、測定状態では、試料3がボビン41の中
空部内に挿入される状態となる。
説明する。さぐりコイル4は、試料3を流れる磁束変化
(dφ/dt;tは時間)を検出するためのコイルであ
って、このコイル4に誘起される電圧から磁束密度Bを
求めるものである。このさぐりコイル4は、ガラス管1
の管軸方向を巻回方向とするソレノイドコイル状に巻回
され、ガラス管1内の空間に試料3を設置したとき、試
料3は、このコイル4のほぼ巻回中心に位置する状態と
されるものである。このコイル4は、図1のA−A断面
図である図4と、主要部分の拡大図の図5に示すよう
に、非磁性体例えばマイラーからなる中空筒状ボビン4
1に巻回され、測定状態では、試料3がボビン41の中
空部内に挿入される状態となる。
【0052】ボビン41の大きさは、その中空部の断面
積が、試料3を挟持した非磁性体板31、32の断面積
より若干大きく選定され、試料3の交換に支障が生じな
いようにされている。そして、ボビン41は、非磁性体
板31、32の一方、例えば板31の長さ方向のほぼ中
央位置に、接着などにより固定される。このさぐりコイ
ル4は、例えば、直径が0.15mmの導体の線材が、
巻回長さ31mmとして、30回程度、ボビン41に巻
回されて構成される。
積が、試料3を挟持した非磁性体板31、32の断面積
より若干大きく選定され、試料3の交換に支障が生じな
いようにされている。そして、ボビン41は、非磁性体
板31、32の一方、例えば板31の長さ方向のほぼ中
央位置に、接着などにより固定される。このさぐりコイ
ル4は、例えば、直径が0.15mmの導体の線材が、
巻回長さ31mmとして、30回程度、ボビン41に巻
回されて構成される。
【0053】また、試料3のできるだけ近傍の磁界を測
定するための補正コイル5は、例えばマイラーなどの非
磁性体材料をコア51、52として、線材が巻回されて
構成され、さぐりコイル4の外周部分に固定される。こ
の例では、この補正コイル5は、図3に示すように、さ
ぐりコイル4の外周部分の、試料3の上方と、下方とに
おいて、それぞれコア51、52に線材が巻回されたも
のが直列に接続されて構成されている。
定するための補正コイル5は、例えばマイラーなどの非
磁性体材料をコア51、52として、線材が巻回されて
構成され、さぐりコイル4の外周部分に固定される。こ
の例では、この補正コイル5は、図3に示すように、さ
ぐりコイル4の外周部分の、試料3の上方と、下方とに
おいて、それぞれコア51、52に線材が巻回されたも
のが直列に接続されて構成されている。
【0054】この補正コイル5の巻回方向も、ガラス管
1の管軸方向に一致している。また、コア51、52の
断面積は、予め定められた値Aとされている。この補正
コイル5としては、例えば、直径が0.07〜0.15
mmの導体の線材が、巻回長さ29mmとして、160
〜200回程度巻回されている。なお、補正コイル5
は、非磁性体のコアに線材を巻回したものではなく、空
心であってもよい。
1の管軸方向に一致している。また、コア51、52の
断面積は、予め定められた値Aとされている。この補正
コイル5としては、例えば、直径が0.07〜0.15
mmの導体の線材が、巻回長さ29mmとして、160
〜200回程度巻回されている。なお、補正コイル5
は、非磁性体のコアに線材を巻回したものではなく、空
心であってもよい。
【0055】なお、図2に示すように、コイルブロック
CBからのコイル4及び5のリード線端部4L、5L
は、ガラス管1の内部から筐体7とガラス管1の外壁と
の間の空間に導かれて、筐体7の外部に設けられる出力
端子と接続されている筐体7の内部端子に接続されてい
る。
CBからのコイル4及び5のリード線端部4L、5L
は、ガラス管1の内部から筐体7とガラス管1の外壁と
の間の空間に導かれて、筐体7の外部に設けられる出力
端子と接続されている筐体7の内部端子に接続されてい
る。
【0056】以上のように構成された磁気ひずみ測定装
置により、磁性体試料3の磁気ひずみを実際に測定する
前に、この例においては、磁性体試料3のガラス管1内
での管軸方向の設置位置が、ガラス管1に巻回されたコ
イル2の巻回方向の電気的中央位置と、試料3の管軸方
向の中央(電気的中央)位置とが一致するような位置と
なるような操作がなされる。電気的中央位置に一致して
いないときには、交番磁界により試料3自身が管軸方向
に位置を変更移動する状態になり、磁気ひずみのみを正
しく測定することができないからである。
置により、磁性体試料3の磁気ひずみを実際に測定する
前に、この例においては、磁性体試料3のガラス管1内
での管軸方向の設置位置が、ガラス管1に巻回されたコ
イル2の巻回方向の電気的中央位置と、試料3の管軸方
向の中央(電気的中央)位置とが一致するような位置と
なるような操作がなされる。電気的中央位置に一致して
いないときには、交番磁界により試料3自身が管軸方向
に位置を変更移動する状態になり、磁気ひずみのみを正
しく測定することができないからである。
【0057】すなわち、磁性体試料3が、例えば多結晶
構造である場合には、磁区を構成する結晶は、種々の大
きさを有しており、磁界内に試料が置かれて磁性を呈す
るように磁区が整列したときに、その磁区の大きさの違
いから、電気的中央位置と、試料の物理的中央位置とが
一致しないのが一般的である。このため、物理的な中央
位置に寸法精度で、位置合わせをしても、電気的中央位
置にならない。
構造である場合には、磁区を構成する結晶は、種々の大
きさを有しており、磁界内に試料が置かれて磁性を呈す
るように磁区が整列したときに、その磁区の大きさの違
いから、電気的中央位置と、試料の物理的中央位置とが
一致しないのが一般的である。このため、物理的な中央
位置に寸法精度で、位置合わせをしても、電気的中央位
置にならない。
【0058】また、コイル2に巻きむらがあったりする
とコイル巻回方向の物理的中央位置と電気的中央位置と
は一致しない。特に、この例の場合には、光変位計6の
プローブ6aの先端と試料3の端面の反射板3tとの間
の間隙を、筐体7に設けられた除き窓7Wから見ること
ができるように、コイル2の対応する部分は、隙間を空
けるように巻線するため、コイル2の物理的中央位置
と、電気的中央位置とは、一致しない。このことは、前
述した従来の鏡による方法の場合も同様である。
とコイル巻回方向の物理的中央位置と電気的中央位置と
は一致しない。特に、この例の場合には、光変位計6の
プローブ6aの先端と試料3の端面の反射板3tとの間
の間隙を、筐体7に設けられた除き窓7Wから見ること
ができるように、コイル2の対応する部分は、隙間を空
けるように巻線するため、コイル2の物理的中央位置
と、電気的中央位置とは、一致しない。このことは、前
述した従来の鏡による方法の場合も同様である。
【0059】そこで、この例では、非磁性体板31、3
2で試料3を挾んだ状態で保持アーム33に固定し、ガ
ラス管1内のほぼ物理的中央位置に配置した後、実際の
測定を開始する前に、所定の電流、例えば図6Aに示す
ような正の電流+isあるいは図6Bに示すような負の
電流−isをコイル2に流す。このとき、保持アーム3
3を受け台35に固定する捩子は緩めておき、受け台3
5に対して保持アーム33が摺動自在となるようにして
おく。
2で試料3を挾んだ状態で保持アーム33に固定し、ガ
ラス管1内のほぼ物理的中央位置に配置した後、実際の
測定を開始する前に、所定の電流、例えば図6Aに示す
ような正の電流+isあるいは図6Bに示すような負の
電流−isをコイル2に流す。このとき、保持アーム3
3を受け台35に固定する捩子は緩めておき、受け台3
5に対して保持アーム33が摺動自在となるようにして
おく。
【0060】この場合に、位置合わせのためにコイル2
に供給する電流の大きさは、磁気ひずみを測定する場合
のような大電流である必要はなく、試料3を保持する保
持部材30を移動させることができる程度の値であれば
よく、例えば200mAとされる。また、その電流の供
給時間は、例えば10m秒程度でよい。
に供給する電流の大きさは、磁気ひずみを測定する場合
のような大電流である必要はなく、試料3を保持する保
持部材30を移動させることができる程度の値であれば
よく、例えば200mAとされる。また、その電流の供
給時間は、例えば10m秒程度でよい。
【0061】上記のように、正あるいは負の電流isを
流すと、試料3は、その電気的中央位置とコイル2の中
央位置とが一致するように、当該一致する位置を中央に
振動移動しようとする。
流すと、試料3は、その電気的中央位置とコイル2の中
央位置とが一致するように、当該一致する位置を中央に
振動移動しようとする。
【0062】上述したように、保持アーム33と、保持
アーム受け台35との摺動が非常に軽快に行えるように
されているため、受け台35にアーム33が固定されて
なければ、この試料3自身の動きに応じて、保持アーム
33を含めて試料3を挾んだ対の非磁性板31、32が
左右に振動移動し、所定時間後、試料3の電気的中央位
置とコイル2の中央位置とが一致する位置で動きを停止
する。この所定時間の経過後、保持アーム33を捩子に
より受け台35に固定する。
アーム受け台35との摺動が非常に軽快に行えるように
されているため、受け台35にアーム33が固定されて
なければ、この試料3自身の動きに応じて、保持アーム
33を含めて試料3を挾んだ対の非磁性板31、32が
左右に振動移動し、所定時間後、試料3の電気的中央位
置とコイル2の中央位置とが一致する位置で動きを停止
する。この所定時間の経過後、保持アーム33を捩子に
より受け台35に固定する。
【0063】こうして、磁性体試料3の電気的中央位置
を、コイル2の電気的中央位置に合わせることができ
る。
を、コイル2の電気的中央位置に合わせることができ
る。
【0064】次に、この例では、実際の測定の開始前
に、光変位計6と、試料3との間の距離を、光変位計6
の出力変化と、試料3及び光変位計6のプローブ6a間
の距離変化とが直線性を有する状態の位置となるように
調整すると共に、光変位計6の直流オフセット除去を行
う。
に、光変位計6と、試料3との間の距離を、光変位計6
の出力変化と、試料3及び光変位計6のプローブ6a間
の距離変化とが直線性を有する状態の位置となるように
調整すると共に、光変位計6の直流オフセット除去を行
う。
【0065】光変位計6は、一般に、光を照射させたと
きの、反射光の強度変化から光照射された部位の変位を
測定するものである。反射光の強度は、光変位計6のプ
ローブ6aと測定対象部位との距離の自乗に反比例する
が、変位の測定を正確に行うためには、光変位計6の光
電変換出力特性として、直線性が良好な部分を使用する
必要がある。
きの、反射光の強度変化から光照射された部位の変位を
測定するものである。反射光の強度は、光変位計6のプ
ローブ6aと測定対象部位との距離の自乗に反比例する
が、変位の測定を正確に行うためには、光変位計6の光
電変換出力特性として、直線性が良好な部分を使用する
必要がある。
【0066】すなわち、図7Aに示すように、試料3の
変位(伸び、縮み)を測定するときに、光変位計6の光
プローブ6aの先端部と試料3の測定端面との間の距離
に対する光変位計の出力(静的な出力電圧SE)は、一
般に図7Aの曲線aに示すようなものとなる。
変位(伸び、縮み)を測定するときに、光変位計6の光
プローブ6aの先端部と試料3の測定端面との間の距離
に対する光変位計の出力(静的な出力電圧SE)は、一
般に図7Aの曲線aに示すようなものとなる。
【0067】この図7Aに示すように、光変位計6の静
的な出力電圧SEは、プローブ6aの先端が試料3の測
定端面(当該端面に反射板が取り付けられている場合に
は、その反射板)に接した時点で0ボルトとなり、プロ
ーブ6aの先端が試料端面から離れるにしたがって増大
し、最大100ボルトに達する。ここまでを前縁とい
う。さらにプローブ6aの先端が試料端面から遠ざかる
と減少し、0ボルトに戻る。この暫時に下がる区間を後
縁という。
的な出力電圧SEは、プローブ6aの先端が試料3の測
定端面(当該端面に反射板が取り付けられている場合に
は、その反射板)に接した時点で0ボルトとなり、プロ
ーブ6aの先端が試料端面から離れるにしたがって増大
し、最大100ボルトに達する。ここまでを前縁とい
う。さらにプローブ6aの先端が試料端面から遠ざかる
と減少し、0ボルトに戻る。この暫時に下がる区間を後
縁という。
【0068】この例の場合、0ボルトから100ボルト
というように、非常に大きい範囲の静的出力電圧を得る
ような光変位計を用いなければならないのは、この程度
の静的直流電圧範囲にしないと、非常に微小な磁気ひず
みを光変位計6の出力として検出できないからである。
というように、非常に大きい範囲の静的出力電圧を得る
ような光変位計を用いなければならないのは、この程度
の静的直流電圧範囲にしないと、非常に微小な磁気ひず
みを光変位計6の出力として検出できないからである。
【0069】この光変位計6の静的出力電圧SEにおい
て、試料の変位を測定するのに最適な直線性を保持でき
る領域は、電圧値で40〜60ボルト程度の範囲であ
り、光変位計6のプローブ6aの先端と試料3の端面、
この例では端面の反射板3tとの距離が、この直線性の
良い部分となるように調整される。光変位計6の出力と
して使用する直線性が良好となる部分は、前縁と後縁の
どちらを用いてもよい。
て、試料の変位を測定するのに最適な直線性を保持でき
る領域は、電圧値で40〜60ボルト程度の範囲であ
り、光変位計6のプローブ6aの先端と試料3の端面、
この例では端面の反射板3tとの距離が、この直線性の
良い部分となるように調整される。光変位計6の出力と
して使用する直線性が良好となる部分は、前縁と後縁の
どちらを用いてもよい。
【0070】光変位計6の出力は、この直線性の良い部
分の直流電圧(例えば50ボルト)に、図7Aで曲線b
の振動波形として示す磁気ひずみによる交流的変化分が
重畳されるものとなる。光変位計6の出力は、(直流分
+変化分)=(約50ボルト±変化分の電圧)となるた
め、試料の伸び、縮みの変位振動が微小で、光変位計6
の出力としての変化が例えば数百mボルトと小さいと、
上記の直流分のために変化分の測定が困難になる。
分の直流電圧(例えば50ボルト)に、図7Aで曲線b
の振動波形として示す磁気ひずみによる交流的変化分が
重畳されるものとなる。光変位計6の出力は、(直流分
+変化分)=(約50ボルト±変化分の電圧)となるた
め、試料の伸び、縮みの変位振動が微小で、光変位計6
の出力としての変化が例えば数百mボルトと小さいと、
上記の直流分のために変化分の測定が困難になる。
【0071】この場合の直流分はオフセット電圧と呼ば
れ、この発明の磁気ひずみ測定装置のような微小な変位
を測定する場合には、測定の支障となるので、この直流
オフセット電圧は除去する必要がある。
れ、この発明の磁気ひずみ測定装置のような微小な変位
を測定する場合には、測定の支障となるので、この直流
オフセット電圧は除去する必要がある。
【0072】光変位計6の上記の位置調整と、オフセッ
ト調整のために、この例においては、光変位計6は、図
2に示すように、摺動移動部材60に取り付けられてい
る。摺動移動部材60は、マイクロメータ61を備え、
このマイクロメータ61を調整することにより、そのメ
ータに示される距離だけ、プローブ6aの先端が、ガラ
ス管1の管軸方向に摺動移動できるように構成されてい
る。
ト調整のために、この例においては、光変位計6は、図
2に示すように、摺動移動部材60に取り付けられてい
る。摺動移動部材60は、マイクロメータ61を備え、
このマイクロメータ61を調整することにより、そのメ
ータに示される距離だけ、プローブ6aの先端が、ガラ
ス管1の管軸方向に摺動移動できるように構成されてい
る。
【0073】また、この例においては、図1に示すよう
に、光変位計6の出力側には、オフセット除去回路60
0が設けられている。このオフセット除去回路600の
一実施例を、図8に示す。
に、光変位計6の出力側には、オフセット除去回路60
0が設けられている。このオフセット除去回路600の
一実施例を、図8に示す。
【0074】すなわち、この例では、光変位計6の直流
オフセット電圧を含む出力は、直流オフセット電圧除去
用の減算回路を構成する差動アンプ601の正側入力端
子(非反転入力端子)に入力される。また、この差動ア
ンプ601の負側入力端子(反転入力端子)にオフセッ
ト電圧発生器としてのアナログ直流信号発生器605か
らのオフセット電圧が供給されて、正側入力端子に入力
された信号から減算される。この結果、差動アンプ60
1の出力として、変位計6の光電変換出力から直流オフ
セット電圧が除去された出力信号Vλ(図7Aの波形c
参照)が得られる。
オフセット電圧を含む出力は、直流オフセット電圧除去
用の減算回路を構成する差動アンプ601の正側入力端
子(非反転入力端子)に入力される。また、この差動ア
ンプ601の負側入力端子(反転入力端子)にオフセッ
ト電圧発生器としてのアナログ直流信号発生器605か
らのオフセット電圧が供給されて、正側入力端子に入力
された信号から減算される。この結果、差動アンプ60
1の出力として、変位計6の光電変換出力から直流オフ
セット電圧が除去された出力信号Vλ(図7Aの波形c
参照)が得られる。
【0075】アナログ直流電圧発生器605からのオフ
セット電圧は、次のようにして設定される。すなわち、
差動アンプ601の出力に対して直流電圧弁別回路60
2が設けられ、この弁別回路602で、減算回路601
の出力中の直流電圧が弁別される。弁別された電圧の値
は、電圧計603によって表示される。そして、直流電
圧弁別回路602で弁別された直流電圧は、スイッチ6
04を介してアナログ直流信号発生器605に供給され
る。このアナログ直流信号発生器605からは、弁別さ
れた直流電圧と等しい直流電圧がオフセット電圧として
出力され、差動アンプ601の負側入力端子に供給され
る。
セット電圧は、次のようにして設定される。すなわち、
差動アンプ601の出力に対して直流電圧弁別回路60
2が設けられ、この弁別回路602で、減算回路601
の出力中の直流電圧が弁別される。弁別された電圧の値
は、電圧計603によって表示される。そして、直流電
圧弁別回路602で弁別された直流電圧は、スイッチ6
04を介してアナログ直流信号発生器605に供給され
る。このアナログ直流信号発生器605からは、弁別さ
れた直流電圧と等しい直流電圧がオフセット電圧として
出力され、差動アンプ601の負側入力端子に供給され
る。
【0076】このスイッチ604は、光変位計6を、出
力の上記前縁の部分で使用するか、上記後縁の部分で使
用するかを定めるときは、減算回路601の出力端から
負側入力端までのループを「断」としておく必要がある
からである。
力の上記前縁の部分で使用するか、上記後縁の部分で使
用するかを定めるときは、減算回路601の出力端から
負側入力端までのループを「断」としておく必要がある
からである。
【0077】以上のようなオフセット除去回路600を
用いてオフセット設定及び除去をしながら、出力の直線
性の良い位置になるように、光変位計6の位置を、マイ
クロメータ61を用いて調整する。この例の場合には、
図7Aに示すように、距離変位に対して出力変位が大き
い前縁の直線性の良い部分を使用する。
用いてオフセット設定及び除去をしながら、出力の直線
性の良い位置になるように、光変位計6の位置を、マイ
クロメータ61を用いて調整する。この例の場合には、
図7Aに示すように、距離変位に対して出力変位が大き
い前縁の直線性の良い部分を使用する。
【0078】すなわち、実際の測定に先立ち、マイクロ
メータ61を操作して、プローブ6aの先端を、試料3
の端面の反射板3tに近付けてゆく。電圧計603で減
算回路601の出力電圧をチェックすると、光変位計6
の光電変換出力電圧は、次第に上昇し、最大に達する。
さらに近付けて行くと出力電圧は減少してゆく。この減
少してゆく途中で測定を行う。光電変換出力の振幅変化
と距離変化の直線性が良くなった時点、例えば50ボル
トとなった時点で、スイッチ604をオンにする。
メータ61を操作して、プローブ6aの先端を、試料3
の端面の反射板3tに近付けてゆく。電圧計603で減
算回路601の出力電圧をチェックすると、光変位計6
の光電変換出力電圧は、次第に上昇し、最大に達する。
さらに近付けて行くと出力電圧は減少してゆく。この減
少してゆく途中で測定を行う。光電変換出力の振幅変化
と距離変化の直線性が良くなった時点、例えば50ボル
トとなった時点で、スイッチ604をオンにする。
【0079】すると、直流電圧弁別回路602で、減算
回路601の出力中の直流成分が弁別され、電圧計60
3にその電圧値が表示されると共に、その電圧値の直流
電圧がアナログ直流信号発生器605から発生し、減算
回路601に供給され、減算回路601の出力からオフ
セット電圧が除去されて、磁気ひずみ変位分の信号Vλ
のみが得られる。
回路601の出力中の直流成分が弁別され、電圧計60
3にその電圧値が表示されると共に、その電圧値の直流
電圧がアナログ直流信号発生器605から発生し、減算
回路601に供給され、減算回路601の出力からオフ
セット電圧が除去されて、磁気ひずみ変位分の信号Vλ
のみが得られる。
【0080】なお、以上の例では、減算回路601は光
変位計6の外部に設けたが、内部に設けても良い。ま
た、オフセット除去回路600の全体を光変位計6の内
部に設けても良い。
変位計6の外部に設けたが、内部に設けても良い。ま
た、オフセット除去回路600の全体を光変位計6の内
部に設けても良い。
【0081】また、光変位計6がドリフト等が少ないも
のである場合には、マイクロメータ61による光変位計
のプローブ6aの先端の移動方向及び移動距離に連動し
て直流電圧を発生する直流電圧発生器を設け、その出力
をオフセット電圧として減算回路601の負側入力端子
に供給するようにしてもよい。
のである場合には、マイクロメータ61による光変位計
のプローブ6aの先端の移動方向及び移動距離に連動し
て直流電圧を発生する直流電圧発生器を設け、その出力
をオフセット電圧として減算回路601の負側入力端子
に供給するようにしてもよい。
【0082】この場合、予め、マイクロメータ61を操
作して、そのときに減算回路601の出力に現れる直流
電圧を、直流電圧発生器に記憶しておくようにすること
により、直流電圧発生器から目的のオフセット電圧を得
ることができる。なお、この場合にも、オフセット電圧
の差動アンプ601への供給路を断続することができる
のが望ましい。
作して、そのときに減算回路601の出力に現れる直流
電圧を、直流電圧発生器に記憶しておくようにすること
により、直流電圧発生器から目的のオフセット電圧を得
ることができる。なお、この場合にも、オフセット電圧
の差動アンプ601への供給路を断続することができる
のが望ましい。
【0083】以上のようにして、光変位計6の適正な位
置制御及び直流オフセット電圧の除去制御が行われた状
態において、光変位計6の校正を行う。この光変位計6
の校正は、光変位計6の出力が直線性のよい位置におい
て、マイクロメータ61を操作してプローブ6aの先端
を所定距離移動させたときに、出力電圧が幾らになるか
を検知して行う。例えば、200μm移動させたとき、
出力がaボルトであれば、1μm移動させたときには、
a/200ボルトになるという具合に校正を行う。
置制御及び直流オフセット電圧の除去制御が行われた状
態において、光変位計6の校正を行う。この光変位計6
の校正は、光変位計6の出力が直線性のよい位置におい
て、マイクロメータ61を操作してプローブ6aの先端
を所定距離移動させたときに、出力電圧が幾らになるか
を検知して行う。例えば、200μm移動させたとき、
出力がaボルトであれば、1μm移動させたときには、
a/200ボルトになるという具合に校正を行う。
【0084】なお、光変位計6としては、細く絞ったビ
ームよりも太いビームスポット径の光ビームを用いる。
ビームを微細に絞ったものを使用する場合には、ビーム
が照射される面に存在する凹凸も、ひずみとして検出し
てしまうおそれがあるからである。
ームよりも太いビームスポット径の光ビームを用いる。
ビームを微細に絞ったものを使用する場合には、ビーム
が照射される面に存在する凹凸も、ひずみとして検出し
てしまうおそれがあるからである。
【0085】以上のように、試料3と磁界発生用コイル
2との電気的中央位置の位置合わせと、光変位計6の校
正を終了した後、コイル2に、周波数が、例えば50H
z、200Hz、400Hz、実効値が約1A程度の交
番電流iを流す。すると、ガラス管1の管軸方向に交番
磁界が誘起され、この交番磁界により、磁性体試料3に
は、前述したように、電流iの周波数の2倍の周波数で
振動する磁気ひずみが生じる。この場合、この磁気ひず
みは、試料3の板面方向(管軸方向)の伸び縮みとして
現れ、試料3の端面に取り付けられた反射板3tが管軸
方向に磁気ひずみに応じて変位する。光変位計6は、そ
の反射板3tからの反射光をプローブ6aを介して受光
して、試料3の端面の振動変位を電圧変化に変換し、オ
フセット除去回路600からその変化分だけを出力信号
Vλとして得る。
2との電気的中央位置の位置合わせと、光変位計6の校
正を終了した後、コイル2に、周波数が、例えば50H
z、200Hz、400Hz、実効値が約1A程度の交
番電流iを流す。すると、ガラス管1の管軸方向に交番
磁界が誘起され、この交番磁界により、磁性体試料3に
は、前述したように、電流iの周波数の2倍の周波数で
振動する磁気ひずみが生じる。この場合、この磁気ひず
みは、試料3の板面方向(管軸方向)の伸び縮みとして
現れ、試料3の端面に取り付けられた反射板3tが管軸
方向に磁気ひずみに応じて変位する。光変位計6は、そ
の反射板3tからの反射光をプローブ6aを介して受光
して、試料3の端面の振動変位を電圧変化に変換し、オ
フセット除去回路600からその変化分だけを出力信号
Vλとして得る。
【0086】また、さぐりコイル4の両端4a、4b間
には、交番磁界によりボビン41内を通る磁束φの変化
に応じた電圧VBが得られる。ボビン41内を通る磁束
は、ボビン内の試料3を除く部分を通る磁束と、試料3
を通る磁束との和からなっている。
には、交番磁界によりボビン41内を通る磁束φの変化
に応じた電圧VBが得られる。ボビン41内を通る磁束
は、ボビン内の試料3を除く部分を通る磁束と、試料3
を通る磁束との和からなっている。
【0087】さらに、補正コイル5の両端5a、5b間
には、コア51、52の断面積Aの和の空間の部分の磁
束変化に応じた電圧VHが得られる。コア51、52は
非磁性体であり、電圧VHは、このコア51、52部分
の空間の磁界に対応したものとなる。
には、コア51、52の断面積Aの和の空間の部分の磁
束変化に応じた電圧VHが得られる。コア51、52は
非磁性体であり、電圧VHは、このコア51、52部分
の空間の磁界に対応したものとなる。
【0088】オフセット除去回路600からの出力信号
Vλと、さぐりコイル4及び補正コイル5に得られる電
圧VB及びVHは、それぞれシグナルコンディショナー
21において、増幅されると共に、不要な高域成分及び
低域成分が除去される。
Vλと、さぐりコイル4及び補正コイル5に得られる電
圧VB及びVHは、それぞれシグナルコンディショナー
21において、増幅されると共に、不要な高域成分及び
低域成分が除去される。
【0089】このシグナルコンディショナー21で変位
出力Vλ、電圧VB、電圧VHを上記のようにして処理
した結果の出力信号Sλ、SB、SHは、A/Dコンバ
ータ22に供給されて、デジタル信号Dλ、DB、DH
に変換され、バッファメモリ23に、一時蓄えられる。
このメモリ23に蓄えられたデジタル信号Dλ、DB、
DHは、平均化回路24に供給される。
出力Vλ、電圧VB、電圧VHを上記のようにして処理
した結果の出力信号Sλ、SB、SHは、A/Dコンバ
ータ22に供給されて、デジタル信号Dλ、DB、DH
に変換され、バッファメモリ23に、一時蓄えられる。
このメモリ23に蓄えられたデジタル信号Dλ、DB、
DHは、平均化回路24に供給される。
【0090】この平均化回路24は、トリガタイミング
を基準にした平均を求める処理を行う。この例の場合に
は、交番信号発生器11からの交番信号が、トリガ発生
器13に供給されて、交番信号に同期したトリガ信号T
Gがこれより得られ、このトリガ信号TGが平均化回路
24に供給される。
を基準にした平均を求める処理を行う。この例の場合に
は、交番信号発生器11からの交番信号が、トリガ発生
器13に供給されて、交番信号に同期したトリガ信号T
Gがこれより得られ、このトリガ信号TGが平均化回路
24に供給される。
【0091】平均化回路24では、交番信号に同期した
このトリガ信号TGによりトリガされて、各デジタル信
号の平均化処理が行われる。平均化回路24の各入力信
号には、交番信号に同期した目的の変位や電圧以外のノ
イズ成分も含まれるが、この平均化処理により、交番信
号に同期した成分以外の不必要なノイズ成分が除去され
る。
このトリガ信号TGによりトリガされて、各デジタル信
号の平均化処理が行われる。平均化回路24の各入力信
号には、交番信号に同期した目的の変位や電圧以外のノ
イズ成分も含まれるが、この平均化処理により、交番信
号に同期した成分以外の不必要なノイズ成分が除去され
る。
【0092】図9Aは、平均化回路24の入力時の光変
位計6の出力信号であり、図9Bは、その平均化処理後
の出力信号Eλである。また、図9Cは、同じタイムス
ケールにおける、さぐりコイル4からの電圧VBの平均
化処理出力EBの一例である。補正コイル5からの電圧
VHの平均化処理出力EHも、同様にして、ノイズ除去
され、電流iに応じた正弦波状波形となる。
位計6の出力信号であり、図9Bは、その平均化処理後
の出力信号Eλである。また、図9Cは、同じタイムス
ケールにおける、さぐりコイル4からの電圧VBの平均
化処理出力EBの一例である。補正コイル5からの電圧
VHの平均化処理出力EHも、同様にして、ノイズ除去
され、電流iに応じた正弦波状波形となる。
【0093】こうして、平均化回路24において、ノイ
ズ除去された各出力Eλ、EB、EHは、マイコンで構
成される信号処理回路25に供給され、試料3の近傍の
空間の磁界H、試料3の部分の磁束密度B、これら磁界
H及びBの条件下における試料3の磁気ひずみλが求め
られる。
ズ除去された各出力Eλ、EB、EHは、マイコンで構
成される信号処理回路25に供給され、試料3の近傍の
空間の磁界H、試料3の部分の磁束密度B、これら磁界
H及びBの条件下における試料3の磁気ひずみλが求め
られる。
【0094】すなわち、コイル5の誘起起電力からから
得られる平均化電圧EHは、コア51、52が占める空
間部分の磁束の変化(dφ/dt:tは時間)に応じた
ものであり、これを積分することによりコア51、52
が占める空間部分を通る磁束φが求められる。コア5
1、52の部分の断面積は、既知であるので、この磁束
φから、試料3の近傍の空間の磁束密度Baが求めら
れ、さらに、空間の透磁率は約1であるので、H≒Ba
となり、試料3の近傍の磁界Hが求められる。
得られる平均化電圧EHは、コア51、52が占める空
間部分の磁束の変化(dφ/dt:tは時間)に応じた
ものであり、これを積分することによりコア51、52
が占める空間部分を通る磁束φが求められる。コア5
1、52の部分の断面積は、既知であるので、この磁束
φから、試料3の近傍の空間の磁束密度Baが求めら
れ、さらに、空間の透磁率は約1であるので、H≒Ba
となり、試料3の近傍の磁界Hが求められる。
【0095】また、出力EBから試料3を通る磁束が求
められ、試料3の断面積から試料3の部分の磁束密度B
が求められる。すなわち、出力EBは、ボビン41内の
空間部分を通る磁束の変化と考えることができる。ボビ
ン41内の磁束は、試料3の透磁率が非常に大きいの
で、試料3の部分(断面積は既知)にほぼ集中する。試
料3の断面積は、既知であるから、試料3の部分の磁束
密度Bを求めることができる。また、磁界Hと、この磁
束密度Bとから、試料3の透磁率μを求めることができ
る。
められ、試料3の断面積から試料3の部分の磁束密度B
が求められる。すなわち、出力EBは、ボビン41内の
空間部分を通る磁束の変化と考えることができる。ボビ
ン41内の磁束は、試料3の透磁率が非常に大きいの
で、試料3の部分(断面積は既知)にほぼ集中する。試
料3の断面積は、既知であるから、試料3の部分の磁束
密度Bを求めることができる。また、磁界Hと、この磁
束密度Bとから、試料3の透磁率μを求めることができ
る。
【0096】図10は、この信号処理回路25の演算処
理の流れを機能ブロックで表現した図である。以下、こ
の図10を参照しながら信号処理回路25の演算処理を
説明する。
理の流れを機能ブロックで表現した図である。以下、こ
の図10を参照しながら信号処理回路25の演算処理を
説明する。
【0097】この信号処理回路25では、平均化回路2
4からの電圧EHが、H補正手段201に供給されると
共に、平均化回路24からの電圧EBがB−H補正定数
算出手段211に供給される。これらの手段201及び
211は、コイル4とコイル5との間の相互誘導による
電圧EH及び電圧EBについての波形補正を行う。
4からの電圧EHが、H補正手段201に供給されると
共に、平均化回路24からの電圧EBがB−H補正定数
算出手段211に供給される。これらの手段201及び
211は、コイル4とコイル5との間の相互誘導による
電圧EH及び電圧EBについての波形補正を行う。
【0098】すなわち、コイル4及びコイル5には、前
述したように、コイル2に交番電流iが流れることによ
り発生する交番磁界によって起電力が誘起され、これに
よりそれぞれのコイル4、5に電流が流れる。このた
め、これらのコイル4及び5間においても、電磁誘導が
生じる。この相互誘導のため、電圧EHにはコイル4に
流れる電流による誘導成分が乗る。
述したように、コイル2に交番電流iが流れることによ
り発生する交番磁界によって起電力が誘起され、これに
よりそれぞれのコイル4、5に電流が流れる。このた
め、これらのコイル4及び5間においても、電磁誘導が
生じる。この相互誘導のため、電圧EHにはコイル4に
流れる電流による誘導成分が乗る。
【0099】図11Aは、コイル5により検出される磁
界を示し、これは電流iをコイル2に供給したことによ
り発生する正弦波状磁界成分301に、コイル4により
検出される磁束密度Bに対応した成分302が重畳され
た状態のものとなる。この成分302は、図11Bの波
形303に示す磁束密度Bの検出出力とは逆相である
が、磁束密度Bと相似波形を有している。B−H補正定
数算出手段211は、磁束密度Bが成分302に等しい
振幅となるようにするための乗算係数K1を平均化出力
電圧EBから算出し、その乗算係数を磁束密度の検出出
力に乗算した値に対応した補正信号CsをH補正手段2
01に供給する。
界を示し、これは電流iをコイル2に供給したことによ
り発生する正弦波状磁界成分301に、コイル4により
検出される磁束密度Bに対応した成分302が重畳され
た状態のものとなる。この成分302は、図11Bの波
形303に示す磁束密度Bの検出出力とは逆相である
が、磁束密度Bと相似波形を有している。B−H補正定
数算出手段211は、磁束密度Bが成分302に等しい
振幅となるようにするための乗算係数K1を平均化出力
電圧EBから算出し、その乗算係数を磁束密度の検出出
力に乗算した値に対応した補正信号CsをH補正手段2
01に供給する。
【0100】値K1は、コイル5の巻き数及びコア5
1、52の断面積、コイル4の巻き数及び巻回部分の断
面積などに基づいて求めることができる。
1、52の断面積、コイル4の巻き数及び巻回部分の断
面積などに基づいて求めることができる。
【0101】H補正手段201では、この補正信号Cs
が電圧EHに加算されて、成分302が相殺されて除去
される。この結果、H補正手段201からは、図11C
に示すような正弦波状成分301のみからなる電圧EH
1が得られる。この電圧EH1は、平均値算出手段20
2に供給される。
が電圧EHに加算されて、成分302が相殺されて除去
される。この結果、H補正手段201からは、図11C
に示すような正弦波状成分301のみからなる電圧EH
1が得られる。この電圧EH1は、平均値算出手段20
2に供給される。
【0102】この平均値算出手段202は、冒頭で述べ
たように、コイル2に供給される電流iは、一般に歪み
に伴うオフセットを有するため、電圧EH1も、直流オ
フセットを有するものとなってしまうので、その直流オ
フセット分を補償するために設けられている。すなわ
ち、平均値算出手段202では、H補正手段201から
の電圧EH1の直流オフセット電圧ODが算出される。
この直流オフセット電圧ODは、図1に示した差動アン
プ12の他方の入力端子に供給される。これにより、磁
界発生用コイル2に供給される電流iの直流オフセット
分が除去されるようにフィードバック制御がかかる。
たように、コイル2に供給される電流iは、一般に歪み
に伴うオフセットを有するため、電圧EH1も、直流オ
フセットを有するものとなってしまうので、その直流オ
フセット分を補償するために設けられている。すなわ
ち、平均値算出手段202では、H補正手段201から
の電圧EH1の直流オフセット電圧ODが算出される。
この直流オフセット電圧ODは、図1に示した差動アン
プ12の他方の入力端子に供給される。これにより、磁
界発生用コイル2に供給される電流iの直流オフセット
分が除去されるようにフィードバック制御がかかる。
【0103】こうして、平均値算出手段202からは、
直流オフセットのない正弦波状磁界に応じた出力電圧E
H2が得られる。この電圧EH2は定数乗算手段203
に供給され、電圧値から磁界の値(ケスラー)への変換
が行われる。
直流オフセットのない正弦波状磁界に応じた出力電圧E
H2が得られる。この電圧EH2は定数乗算手段203
に供給され、電圧値から磁界の値(ケスラー)への変換
が行われる。
【0104】この定数乗算手段203の出力は、積分手
段204に供給され、前述した磁束変化分を積分するこ
とにより、磁界Hが求められる。この積分手段204
は、図12に示すように、FFT(ファースト・フーリ
エ・トランスファー)手段2041と、1/jω(ただ
し、ω=2πf)の乗算手段2042と、IFFT(イ
ンバートFFT=逆FFT)手段2043とが縦続接続
されて構成される。
段204に供給され、前述した磁束変化分を積分するこ
とにより、磁界Hが求められる。この積分手段204
は、図12に示すように、FFT(ファースト・フーリ
エ・トランスファー)手段2041と、1/jω(ただ
し、ω=2πf)の乗算手段2042と、IFFT(イ
ンバートFFT=逆FFT)手段2043とが縦続接続
されて構成される。
【0105】この積分手段204の出力信号は、補正曲
線算出手段205に供給される。この補正曲線算出手段
205は、積分手段204でFFT方式の積分を行う場
合には、積分出力の平均値が例えば図13に示すように
漸減あるいは漸増するような傾斜を有してしまうので、
その傾斜分に対応した低周波数の成分を補正曲線として
求めるものである。この補正曲線算出手段205からの
補正曲線成分は、減算手段206に供給され、積分手段
204の積分出力から減算されて除去され、図14に示
すようにされる。
線算出手段205に供給される。この補正曲線算出手段
205は、積分手段204でFFT方式の積分を行う場
合には、積分出力の平均値が例えば図13に示すように
漸減あるいは漸増するような傾斜を有してしまうので、
その傾斜分に対応した低周波数の成分を補正曲線として
求めるものである。この補正曲線算出手段205からの
補正曲線成分は、減算手段206に供給され、積分手段
204の積分出力から減算されて除去され、図14に示
すようにされる。
【0106】しかし、図14に示す減算手段206の出
力は、漸増あるいは漸減の傾向は除去されたものとなる
が、直流オフセットは残留する。この減算手段206の
出力中の直流オフセットは、直流キャンセル手段207
において除去される。こうして、この直流キャンセル手
段207から試料3の近傍の空間の磁界Hの検出値出力
が得られる。
力は、漸増あるいは漸減の傾向は除去されたものとなる
が、直流オフセットは残留する。この減算手段206の
出力中の直流オフセットは、直流キャンセル手段207
において除去される。こうして、この直流キャンセル手
段207から試料3の近傍の空間の磁界Hの検出値出力
が得られる。
【0107】また、平均値回路24からの電圧EBは、
前述したB−H補正定数算出手段211において、コイ
ル5からの誘導による影響を除去した後、定数乗算手段
212に供給され、電圧値が磁束変化の単位系の値、す
なわち、dφ/dtの値に変換された後、積分手段21
3に供給されて、磁束密度Bが求められる。この積分手
段213は、上述の積分手段204と全く同様に、FF
T手段と、1/jωの乗算手段と、逆FFT手段とが縦
続接続されて構成される。
前述したB−H補正定数算出手段211において、コイ
ル5からの誘導による影響を除去した後、定数乗算手段
212に供給され、電圧値が磁束変化の単位系の値、す
なわち、dφ/dtの値に変換された後、積分手段21
3に供給されて、磁束密度Bが求められる。この積分手
段213は、上述の積分手段204と全く同様に、FF
T手段と、1/jωの乗算手段と、逆FFT手段とが縦
続接続されて構成される。
【0108】この積分手段213の出力信号は、補正曲
線算出手段214に供給され、前述の磁界の検出の場合
と同様にして、積分手段213の積分出力の漸減あるい
は漸増するような傾斜に対応した低周波数の成分が補正
曲線として求められる。そして、この補正曲線算出手段
214からの補正曲線成分は、補正曲線算出手段205
とは逆極性となっているので、加算手段215に供給さ
れ、積分手段213の積分出力に加算されて除去され
る。さらに、この加算手段215の残留直流オフセット
は、直流キャンセル手段216において除去される。こ
うして、この直流キャンセル手段216から試料3の部
分の磁束密度Bの検出値出力が得られる。
線算出手段214に供給され、前述の磁界の検出の場合
と同様にして、積分手段213の積分出力の漸減あるい
は漸増するような傾斜に対応した低周波数の成分が補正
曲線として求められる。そして、この補正曲線算出手段
214からの補正曲線成分は、補正曲線算出手段205
とは逆極性となっているので、加算手段215に供給さ
れ、積分手段213の積分出力に加算されて除去され
る。さらに、この加算手段215の残留直流オフセット
は、直流キャンセル手段216において除去される。こ
うして、この直流キャンセル手段216から試料3の部
分の磁束密度Bの検出値出力が得られる。
【0109】また、平均化回路24からの出力Eλから
は、磁気ひずみλが求められる。すなわち、電圧Eλは
定数乗算手段221に供給されて、前述した光変位計6
の校正に対応した定数等が乗算されて、電圧値からひず
み値に変換される。この定数乗算手段221の出力は、
デジタルスムーシング処理手段222を通じて補正曲線
算出手段223に供給されると共に、加算手段224に
供給され、さらに、補正曲線算出手段223の出力が加
算手段224に供給され、この加算手段224から磁気
ひずみλの検出値出力が得られる。
は、磁気ひずみλが求められる。すなわち、電圧Eλは
定数乗算手段221に供給されて、前述した光変位計6
の校正に対応した定数等が乗算されて、電圧値からひず
み値に変換される。この定数乗算手段221の出力は、
デジタルスムーシング処理手段222を通じて補正曲線
算出手段223に供給されると共に、加算手段224に
供給され、さらに、補正曲線算出手段223の出力が加
算手段224に供給され、この加算手段224から磁気
ひずみλの検出値出力が得られる。
【0110】そして、直流キャンセル手段207及び2
16からの磁界H及び磁束密度Bの検出値と、加算手段
224からの磁気ひずみλとが出力装置26に供給され
る。そして、この出力装置26においては、磁界Hと磁
束密度Bとの関係、磁界Hと磁気ひずみλとの関係、磁
束密度Bと磁気ひずみλとの関係が、図10に示すよう
に、その一方がX軸、他方がY軸としてCRTディスプ
レイに表示される。また、磁界H、磁束密度B、ひずみ
λの、各値がそれぞれ表示される。さらに、ユーザーの
操作などにより、プリンターによりこれらの関係のグラ
フや、各値が記録紙に出力される。
16からの磁界H及び磁束密度Bの検出値と、加算手段
224からの磁気ひずみλとが出力装置26に供給され
る。そして、この出力装置26においては、磁界Hと磁
束密度Bとの関係、磁界Hと磁気ひずみλとの関係、磁
束密度Bと磁気ひずみλとの関係が、図10に示すよう
に、その一方がX軸、他方がY軸としてCRTディスプ
レイに表示される。また、磁界H、磁束密度B、ひずみ
λの、各値がそれぞれ表示される。さらに、ユーザーの
操作などにより、プリンターによりこれらの関係のグラ
フや、各値が記録紙に出力される。
【0111】図15Aは、求められた磁界Hと、磁束密
度Bとを示し、図15Bは、両者の関係を示すいわゆる
磁気ヒステリシス曲線である。図16Aは、磁界Hと磁
気ひずみλの波形をそれぞれ示し、図16Bは、両者の
関係、つまり磁界−磁気ひずみ(H−λ)の関係を示し
ている。図15及び図16は、交番電流として、200
Hz、0.6Aの電流を、コイル2に流して、新規な珪
素綱板の磁気ひずみを測定した場合である。
度Bとを示し、図15Bは、両者の関係を示すいわゆる
磁気ヒステリシス曲線である。図16Aは、磁界Hと磁
気ひずみλの波形をそれぞれ示し、図16Bは、両者の
関係、つまり磁界−磁気ひずみ(H−λ)の関係を示し
ている。図15及び図16は、交番電流として、200
Hz、0.6Aの電流を、コイル2に流して、新規な珪
素綱板の磁気ひずみを測定した場合である。
【0112】同様に、図17Aは、磁束密度Bと磁気ひ
ずみλの波形をそれぞれ示し、図17Bは、両者の関
係、つまり磁束密度−磁気ひずみ(B−λ)の関係を示
している。この図の例では、400Hz、1.12Aの
交番電流をコイル2に流している。
ずみλの波形をそれぞれ示し、図17Bは、両者の関
係、つまり磁束密度−磁気ひずみ(B−λ)の関係を示
している。この図の例では、400Hz、1.12Aの
交番電流をコイル2に流している。
【0113】この発明の発明者による、上記の磁性体材
料の上記ひずみの測定の結果、この発明によれば、試料
が1mであるとき、10-9mまでの磁気ひずみの測定が
可能であることが判明した。
料の上記ひずみの測定の結果、この発明によれば、試料
が1mであるとき、10-9mまでの磁気ひずみの測定が
可能であることが判明した。
【0114】なお、以上の例は、磁気ひずみ測定装置の
場合の実施例であるが、この発明は、界磁コイルにより
正弦波状磁界を発生させ、この正弦波状磁界内で種々の
磁気的測定をする場合のすべてに適用可能である。
場合の実施例であるが、この発明は、界磁コイルにより
正弦波状磁界を発生させ、この正弦波状磁界内で種々の
磁気的測定をする場合のすべてに適用可能である。
【0115】
【発明の効果】以上説明したように、この発明において
は、磁界発生コイルに交番電流を流して交番磁界を発生
し、この交番磁界中に試料を配置して磁気特性を測定す
る装置において、この交番磁界に応じた電圧を得る磁界
検出コイルを設け、この磁界検出コイルに得られる電圧
の平均値をオフセットとして、磁界発生コイルに供給す
る交番電流より除去するようにしたので、常に、正確な
交番磁界で測定を行うことができる。
は、磁界発生コイルに交番電流を流して交番磁界を発生
し、この交番磁界中に試料を配置して磁気特性を測定す
る装置において、この交番磁界に応じた電圧を得る磁界
検出コイルを設け、この磁界検出コイルに得られる電圧
の平均値をオフセットとして、磁界発生コイルに供給す
る交番電流より除去するようにしたので、常に、正確な
交番磁界で測定を行うことができる。
【0116】また、試料近傍の磁界を検出する第2のコ
イルに、試料を通る磁束密度を検出する第3のコイルか
ら相互誘導される成分を除去した後、この第2のコイル
の平均値をオフセットとして第1のコイルに印加する電
圧から除去するようにしたので、より正確な磁気的空間
内で試料の磁気的特性を測定することができる。そし
て、このような正確な交番磁界中において、試料の磁気
ひずみを測定するようにしたので、従来より正確で、精
細な磁気ひずみ測定をすることができる。
イルに、試料を通る磁束密度を検出する第3のコイルか
ら相互誘導される成分を除去した後、この第2のコイル
の平均値をオフセットとして第1のコイルに印加する電
圧から除去するようにしたので、より正確な磁気的空間
内で試料の磁気的特性を測定することができる。そし
て、このような正確な交番磁界中において、試料の磁気
ひずみを測定するようにしたので、従来より正確で、精
細な磁気ひずみ測定をすることができる。
【0117】また、この発明の磁気ひずみ測定装置は、
従来の磁気ひずみ測定装置のように、鏡を用いて磁気ひ
ずみを間接的に測定するのではなく、例えば光変位計な
どを用いて直接的に磁気ひずみを試料の端面の変位とし
て測定するようにした装置であり、この発明の光変位計
の直流オフセット除去装置を用いることにより、より高
精細に磁気ひずみを測定することができる。
従来の磁気ひずみ測定装置のように、鏡を用いて磁気ひ
ずみを間接的に測定するのではなく、例えば光変位計な
どを用いて直接的に磁気ひずみを試料の端面の変位とし
て測定するようにした装置であり、この発明の光変位計
の直流オフセット除去装置を用いることにより、より高
精細に磁気ひずみを測定することができる。
【0118】また、この発明の磁気ひずみ測定装置は、
従来の、試料に鏡を張り付ける方法のように、試料に余
分なものを付け加えることはしないので、この点でも、
より高精度の磁気ひずみの測定が可能になる。
従来の、試料に鏡を張り付ける方法のように、試料に余
分なものを付け加えることはしないので、この点でも、
より高精度の磁気ひずみの測定が可能になる。
【0119】また、磁性体試料を非磁性体からなる対の
板で挟んで保持するようにしたので、磁性体試料自身の
位置変動や、測定目的の変位方向以外の変位を制限する
ことができ、この点でも測定精度を向上させることがで
きる。
板で挟んで保持するようにしたので、磁性体試料自身の
位置変動や、測定目的の変位方向以外の変位を制限する
ことができ、この点でも測定精度を向上させることがで
きる。
【図1】この発明による磁気ひずみ測定装置の一実施例
の構成を示す図である。
の構成を示す図である。
【図2】この発明による磁気ひずみ測定装置の一実施例
の機構部の構成例を示す図である。
の機構部の構成例を示す図である。
【図3】この発明による磁界発生装置の一実施例の要部
の構成を説明するための図である。
の構成を説明するための図である。
【図4】図1の例の要部の構成を詳細に説明するための
図である。
図である。
【図5】図1の例の要部の構成の拡大断面図である。
【図6】この発明の磁気ひずみ測定装置において、測定
開始前に磁界発生用コイルに供給する電流の一例を説明
するための図である。
開始前に磁界発生用コイルに供給する電流の一例を説明
するための図である。
【図7】光変位計の出力特性を説明するための図であ
る。
る。
【図8】この発明による光変位計の直流オフセット電圧
除去回路の一実施例のブロック図である。
除去回路の一実施例のブロック図である。
【図9】この発明による磁気ひずみ測定装置の一実施例
の各部の出力信号波形の例を示す図である。
の各部の出力信号波形の例を示す図である。
【図10】図1の実施例の信号処理回路24の機能ブロ
ック図である。
ック図である。
【図11】図10の動作を説明するための図である。
【図12】図10に用いられる積分手段の構成例を示す
図である。
図である。
【図13】図10の動作を説明するための図である。
【図14】図10の動作を説明するための図である。
【図15】この発明による磁気ひずみ測定装置で求めら
れた磁界と磁束密度の波形及びその関係の一例を示す図
である。
れた磁界と磁束密度の波形及びその関係の一例を示す図
である。
【図16】この発明による磁気ひずみ測定装置で求めら
れた磁界と磁気ひずみの波形及びその関係の一例を示す
図である。
れた磁界と磁気ひずみの波形及びその関係の一例を示す
図である。
【図17】この発明による磁気ひずみ測定装置で求めら
れた磁束密度と磁気ひずみの波形及びその関係の一例を
示す図である。
れた磁束密度と磁気ひずみの波形及びその関係の一例を
示す図である。
【図18】磁気ひずみの発生メカニズムを説明するため
の図である。
の図である。
【図19】従来の磁気ひずみ測定装置の一例を説明する
ための図である。
ための図である。
1 ガラス管 2 交番磁界発生用のコイル 3 磁性体試料 4 さぐりコイル 5 補正コイル 6 光変位計 6a 光プローブ 11 交番信号発生器 12 オフセット除去用アンプ 13 トリガ信号発生器 22 A/Dコンバータ 23 バッファメモリ 24 平均化回路 25 信号処理回路 30 試料保持部材 41 ボビン 31、32 非磁性体板 51、52 コア 61 マイクロメータ 601 減算回路 602 直流電圧弁別回路 604 アナログ直流信号発生器
Claims (4)
- 【請求項1】 円筒状に導体の線材が巻回されて構成さ
れる磁界発生用の第1のコイルと、 この第1のコイルの内部空間に交番磁界を生じさせるた
めに、この第1のコイルに供給する交番信号を発生する
交番信号発生器と、 上記第1のコイルの内部空間内に、磁性体試料を配置す
るための試料保持部材と、 上記試料の近傍に配置され、上記第1のコイルによる発
生磁界を検出するための第2のコイルと、 上記第2のコイルに得られる誘起電圧の平均値を求める
平均値算出手段と、 上記交番信号発生器と上記第1のコイルとの間に設けら
れ、上記平均値算出手段からの平均値出力を上記交番信
号からオフセットとして除去するオフセット除去手段と
を備える磁気特性測定装置。 - 【請求項2】 円筒状に導体の線材が巻回されて構成さ
れる磁界発生用の第1のコイルと、 この第1のコイルの内部空間に交番磁界を生じさせるた
めに、この第1のコイルに供給する交番信号を発生する
交番信号発生器と、 上記第1のコイルの内部空間内に、磁性体試料を配置す
るための試料保持部材と、 上記試料の近傍に配置され、上記第1のコイルによる発
生磁界を検出するための第2のコイルと、 上記試料の部分の磁束密度を検出するための第3のコイ
ルと、 上記第3のコイルに得られる誘起電圧に基づいて上記第
2のコイルの誘起電圧を補正する補正手段と、 上記補正手段からの上記第2のコイルの誘起電圧の平均
値を求める平均値算出手段と、 上記交番信号発生器と上記第1のコイルとの間に設けら
れ、上記平均値算出手段からの平均値出力を上記交番信
号からオフセットとして除去するオフセット除去手段と
を備える磁気特性測定装置。 - 【請求項3】 円筒状に導体の線材が巻回されて構成さ
れる磁界発生用の第1のコイルと、 この第1のコイルの内部空間に交番磁界を生じさせるた
めに、この第1のコイルに供給する交番信号を発生する
交番信号発生器と、 上記第1のコイルの内部空間内に、磁性体試料を配置す
るための試料保持部材と、 上記試料の近傍に配置され、上記第1のコイルによる発
生磁界を検出するための第2のコイルと、 上記第2のコイルに得られる誘起電圧の平均値を求める
平均値算出手段と、 上記交番信号発生器と上記第1のコイルとの間に設けら
れ、上記平均値算出手段からの平均値出力を上記交番信
号からオフセットとして除去するオフセット除去手段
と、 上記磁性体試料の磁気ひずみによる変位を求める磁気ひ
ずみ検出手段とを備え、 上記第2のコイルに得られる上記誘起電圧出力と、上記
磁気ひずみ検出手段の出力信号とから、上記磁性体試料
の近傍の磁気特性と、その磁気特性条件下で上記磁性体
試料に生じる磁気ひずみの量との関係を求めるようにし
た磁気ひずみ測定装置。 - 【請求項4】 円筒状に導体の線材が巻回されて構成さ
れる磁界発生用の第1のコイルと、 この第1のコイルの内部空間に交番磁界を生じさせるた
めに、この第1のコイルに供給する交番信号を発生する
交番信号発生器と、 磁性体試料を挟んで保持する1対の非磁性体板を備え、
上記磁性体試料の挟持された面の方向が、上記第1のコ
イルの巻回方向と一致する状態で、上記磁界発生用の第
1のコイルにより囲まれる空間内のほぼ中央部であっ
て、かつ、上記第1のコイルの巻回方向のほぼ中央部
に、上記磁性体試料を配置するための試料保持部材と、 上記試料の近傍の磁気特性を検出するために、上記1対
の非磁性体板の上記試料を挟持する部分の周囲におい
て、上記試料保持部材に対して固定される第2のコイル
と、 上記第2のコイルに得られる上記交番磁界に応じた誘起
電圧の平均値を求める平均値算出手段と、 上記交番信号発生器と上記第1のコイルとの間に設けら
れ、上記平均値算出手段からの平均値出力を上記交番信
号からオフセットとして除去するオフセット除去手段
と、 上記試料保持部材の1対の非磁性体板間の上記磁性体試
料の端面あるいはこの端面に取り付けられた反射板に光
ビームを照射し、その反射光から、上記磁性体試料の上
記端面の変位を検出する光変位計とを備え、 上記第2のコイルに得られる誘起電圧出力と、上記光変
位計の出力信号とから、上記磁性体試料の近傍の磁気特
性と、その磁気特性条件下で上記磁性体試料に生じる磁
気ひずみの量との関係を求めるようにした磁気ひずみ測
定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7652894A JPH07260913A (ja) | 1994-03-23 | 1994-03-23 | 磁気特性測定装置及び磁気ひずみ測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7652894A JPH07260913A (ja) | 1994-03-23 | 1994-03-23 | 磁気特性測定装置及び磁気ひずみ測定装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26316994A Division JPH07260914A (ja) | 1994-10-03 | 1994-10-03 | 磁気特性測定装置及び磁気ひずみ測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07260913A true JPH07260913A (ja) | 1995-10-13 |
Family
ID=13607791
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7652894A Pending JPH07260913A (ja) | 1994-03-23 | 1994-03-23 | 磁気特性測定装置及び磁気ひずみ測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07260913A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6308367B1 (en) | 1997-11-12 | 2001-10-30 | Gillette Canada Company | Toothbrush |
-
1994
- 1994-03-23 JP JP7652894A patent/JPH07260913A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6308367B1 (en) | 1997-11-12 | 2001-10-30 | Gillette Canada Company | Toothbrush |
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