JPH08264146A - 透過電子顕微鏡 - Google Patents
透過電子顕微鏡Info
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- JPH08264146A JPH08264146A JP6554295A JP6554295A JPH08264146A JP H08264146 A JPH08264146 A JP H08264146A JP 6554295 A JP6554295 A JP 6554295A JP 6554295 A JP6554295 A JP 6554295A JP H08264146 A JPH08264146 A JP H08264146A
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- magnetic
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Abstract
(57)【要約】
【目的】試料に外部磁界を印加しても電子線照射位置、
および透過後の電子線偏向に影響を与えない透過電子顕
微鏡を提供する。 【構成】三つの磁界発生手段１ａ，１ｂ，１ｃを電子線
軌道７に沿って配置し、中央の磁界発生手段で試料４に
磁界を印加し、両側の磁界発生手段で試料４への印加磁
界の方向と逆向きに磁界を発生させる。 【効果】試料への磁界印加に伴う電子線の偏向を上下の
逆向き磁界により打ち消すため、電子線照射位置、およ
び透過後の偏向に影響を与えることなく試料への磁界印
加を行うことができる。
および透過後の電子線偏向に影響を与えない透過電子顕
微鏡を提供する。 【構成】三つの磁界発生手段１ａ，１ｂ，１ｃを電子線
軌道７に沿って配置し、中央の磁界発生手段で試料４に
磁界を印加し、両側の磁界発生手段で試料４への印加磁
界の方向と逆向きに磁界を発生させる。 【効果】試料への磁界印加に伴う電子線の偏向を上下の
逆向き磁界により打ち消すため、電子線照射位置、およ
び透過後の偏向に影響を与えることなく試料への磁界印
加を行うことができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は試料に外部磁界を印加で
きる手段を備えた電子顕微鏡、および磁界発生手段を備
えた試料ホルダに関する。
きる手段を備えた電子顕微鏡、および磁界発生手段を備
えた試料ホルダに関する。
【０００２】
【従来の技術】磁性薄膜に外部から磁界を加え、磁区構
造の変化，応答を直接観察することは、磁気記録装置な
どに使われる磁気ヘッドや記録媒体の磁気特性や物性を
知るために重要である。そのため、本質的に高分解能が
実現できる電子顕微鏡を磁性計測用に改造し、ミクロ領
域での磁気的状態の変化を観察する様々な研究が活発に
行われている。
造の変化，応答を直接観察することは、磁気記録装置な
どに使われる磁気ヘッドや記録媒体の磁気特性や物性を
知るために重要である。そのため、本質的に高分解能が
実現できる電子顕微鏡を磁性計測用に改造し、ミクロ領
域での磁気的状態の変化を観察する様々な研究が活発に
行われている。
【０００３】電子顕微鏡を使って試料の磁気的状態を観
察するには、試料位置でのレンズ磁界を小さくした上で
試料に所望の磁界を加える必要がある。なぜならば、通
常の電子顕微鏡は高い空間分解能を達成するために強磁
界レンズを使っており、この磁界のために試料の磁気状
態が破壊されてしまうからである。このため、磁性計測
用の電子顕微鏡では、試料位置での磁界が十分小さくな
るように磁気シールドを行ったり、磁界の影響の少ない
部分まで試料を移動させたりして強いレンズ磁界の影響
を回避している。
察するには、試料位置でのレンズ磁界を小さくした上で
試料に所望の磁界を加える必要がある。なぜならば、通
常の電子顕微鏡は高い空間分解能を達成するために強磁
界レンズを使っており、この磁界のために試料の磁気状
態が破壊されてしまうからである。このため、磁性計測
用の電子顕微鏡では、試料位置での磁界が十分小さくな
るように磁気シールドを行ったり、磁界の影響の少ない
部分まで試料を移動させたりして強いレンズ磁界の影響
を回避している。
【０００４】上述した電子顕微鏡で、試料に外部磁界を
印加するには、試料を保持する試料ホルダに磁界発生手
段を装着すればよい。具体的には、「フィジカ スター
タスソリディ（Physica Status Solidi）(a),第５７
巻，561−568頁，１９８０年」や「第６回 インタナシ
ョナル コングレス フォー エレクトロン マイクロ
スコピー（Sixth International Congress for Electro
n Microscopy）, Kyoto(1966)，615−616頁」に記述さ
れているように、試料位置に平行線、もしくはヘルムホ
ルツ型コイルを置き、これに変動電流を流すことで変動
磁界を試料に印加する方法が提案されている。また、
「アイイーイーイー トランザクションズオン マグネ
ティクス（IEEE Transactions on Magnetics), Vol.MAG
−17, 1181−1191頁, １９８１年」に示されているよう
に、コイルや平行線に定常電流を流すことによって、定
常磁界を試料に印加することもできる。
印加するには、試料を保持する試料ホルダに磁界発生手
段を装着すればよい。具体的には、「フィジカ スター
タスソリディ（Physica Status Solidi）(a),第５７
巻，561−568頁，１９８０年」や「第６回 インタナシ
ョナル コングレス フォー エレクトロン マイクロ
スコピー（Sixth International Congress for Electro
n Microscopy）, Kyoto(1966)，615−616頁」に記述さ
れているように、試料位置に平行線、もしくはヘルムホ
ルツ型コイルを置き、これに変動電流を流すことで変動
磁界を試料に印加する方法が提案されている。また、
「アイイーイーイー トランザクションズオン マグネ
ティクス（IEEE Transactions on Magnetics), Vol.MAG
−17, 1181−1191頁, １９８１年」に示されているよう
に、コイルや平行線に定常電流を流すことによって、定
常磁界を試料に印加することもできる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところが従来使用され
ていた透過電子顕微鏡では、発生した磁界によって入射
電子線も曲げられてしまい、試料観察位置および電子線
偏向角が変動してしまうという問題があった。詳述すれ
ば、試料上に発生している磁界によって、電子線が曲げ
られることにより試料上の照射位置が変化し、観察位置
が変化してしまう。また、試料透過後の電子線が試料下
の磁界に曲げられることにより、検出位置での電子線の
位置が変化する。
ていた透過電子顕微鏡では、発生した磁界によって入射
電子線も曲げられてしまい、試料観察位置および電子線
偏向角が変動してしまうという問題があった。詳述すれ
ば、試料上に発生している磁界によって、電子線が曲げ
られることにより試料上の照射位置が変化し、観察位置
が変化してしまう。また、試料透過後の電子線が試料下
の磁界に曲げられることにより、検出位置での電子線の
位置が変化する。
【０００６】特に、収束電子線を試料に透過させ、試料
に分布する磁気誘導によって起こる電子線の偏向量を検
出する位相差コントラスト法では、印加磁界による電子
線偏向が試料の磁気誘導による電子線偏向に重なってし
まい、区別できなくなってしまう。また、印加磁界が大
きい場合には、透過電子線が検出器外に逃げてしまい、
全く計測できなくなるという問題もある。
に分布する磁気誘導によって起こる電子線の偏向量を検
出する位相差コントラスト法では、印加磁界による電子
線偏向が試料の磁気誘導による電子線偏向に重なってし
まい、区別できなくなってしまう。また、印加磁界が大
きい場合には、透過電子線が検出器外に逃げてしまい、
全く計測できなくなるという問題もある。
【０００７】上述した問題点を図４（ｂ）を用いて説明
する。外部磁界２２を印加しない場合、電子線２０は中
心線２３に沿って進み、試料４を透過すると試料４の磁
気誘導と相互作用しローレンツ力によって偏向する。と
ころが、試料４に磁界２２を印加すると試料４の上下に
も磁界２２が発生し、この試料４外の磁界２２によって
も電子線２０が偏向させられる。電子線２０の経路は発
生している磁界２２の方向と大きさに依存して変化し、
電子線２０の試料４上の照射位置は変化する。また、試
料４透過後の電子線２０も偏向させられる。この磁界２
２による偏向と、試料４との相互作用による偏向は区別
できない。
する。外部磁界２２を印加しない場合、電子線２０は中
心線２３に沿って進み、試料４を透過すると試料４の磁
気誘導と相互作用しローレンツ力によって偏向する。と
ころが、試料４に磁界２２を印加すると試料４の上下に
も磁界２２が発生し、この試料４外の磁界２２によって
も電子線２０が偏向させられる。電子線２０の経路は発
生している磁界２２の方向と大きさに依存して変化し、
電子線２０の試料４上の照射位置は変化する。また、試
料４透過後の電子線２０も偏向させられる。この磁界２
２による偏向と、試料４との相互作用による偏向は区別
できない。
【０００８】本発明の目的は、電子線照射位置、および
透過後の電子線の偏向に影響を与えずに、試料に磁界を
印加することができる透過電子顕微鏡、およびその透過
電子顕微鏡に装着される試料ホルダを提供することにあ
る。
透過後の電子線の偏向に影響を与えずに、試料に磁界を
印加することができる透過電子顕微鏡、およびその透過
電子顕微鏡に装着される試料ホルダを提供することにあ
る。
【０００９】本発明の他の目的は、改良された試料ホル
ダの形状をコンパクトにすることにある。
ダの形状をコンパクトにすることにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は電子線軌道に垂直な向きの磁界を発生する
複数の手段を設け、電子線軌道に沿って並べた。
に、本発明は電子線軌道に垂直な向きの磁界を発生する
複数の手段を設け、電子線軌道に沿って並べた。
【００１１】また、他の目的を達成するために、試料ホ
ルダに備えた磁界発生手段に、試料を押さえる機能を持
たせた。
ルダに備えた磁界発生手段に、試料を押さえる機能を持
たせた。
【００１２】
【作用】本発明は、複数の磁界発生手段による磁界発生
領域を電子線軌道に沿って配置するという簡単な構成に
より、試料に入射する直前、および試料を透過した直後
に、試料に印加する磁界と逆向きに磁界を発生すること
が可能となり、試料に入射する電子線の偏向を打ち消す
ことができ、かつ、試料を透過した電子線の偏向を打ち
消すことができる。このため、電子線照射位置、および
透過後の電子線の偏向に影響を与えずに、試料に磁界を
印加することができる。
領域を電子線軌道に沿って配置するという簡単な構成に
より、試料に入射する直前、および試料を透過した直後
に、試料に印加する磁界と逆向きに磁界を発生すること
が可能となり、試料に入射する電子線の偏向を打ち消す
ことができ、かつ、試料を透過した電子線の偏向を打ち
消すことができる。このため、電子線照射位置、および
透過後の電子線の偏向に影響を与えずに、試料に磁界を
印加することができる。
【００１３】また、磁界発生手段自身により試料を押さ
える機能を持たせたため、新たに試料保持機構を設置す
る必要がなくなり、試料ホルダの形状を小さくすること
ができる。
える機能を持たせたため、新たに試料保持機構を設置す
る必要がなくなり、試料ホルダの形状を小さくすること
ができる。
【００１４】
【実施例】図１（ａ）は本発明による透過電子顕微鏡に
装着した磁界発生手段を備えた試料ホルダの先端部分を
示した第１実施例の横断面図であり、図１（ｂ）は平面
図である。
装着した磁界発生手段を備えた試料ホルダの先端部分を
示した第１実施例の横断面図であり、図１（ｂ）は平面
図である。
【００１５】図１（ａ）で、コイル２ａ，２ｂ，２ｃを
巻きつけたフェライト製のギャップ付き磁気コア１ａ，
１ｂ，１ｃを押さえ治具３ａ，３ｂにより試料台５上に
固定している。試料台５、および押さえ治具３ａ，３ｂ
は、たとえばリン青銅やセラミクスのような非磁性材料
で作られている。
巻きつけたフェライト製のギャップ付き磁気コア１ａ，
１ｂ，１ｃを押さえ治具３ａ，３ｂにより試料台５上に
固定している。試料台５、および押さえ治具３ａ，３ｂ
は、たとえばリン青銅やセラミクスのような非磁性材料
で作られている。
【００１６】フェライト製のギャップ付き磁気コア１ｂ
は、試料４にもっとも近く、試料に磁界を印加できるよ
うになっている。またこのギャップ付き磁気コア１ｂ
は、試料４を押さえるようになっている。外側にあるギ
ャップ付き磁気コア１ａ，１ｃには、ギャップ付き磁気
コア１ｂとは逆向きにコイル２ａ，２ｃが巻きつけられ
ている。それぞれ独立に巻きつけて独立に制御してもよ
いが、コイルに流す電流値が同じになるようにコイルの
巻数を巻いてあれば、直列にコイルをつないでもよい。
こうすると、電流を導入する端子の数を減らすことがで
き、また電流導入のタイミングをあわせる必要もない。
は、試料４にもっとも近く、試料に磁界を印加できるよ
うになっている。またこのギャップ付き磁気コア１ｂ
は、試料４を押さえるようになっている。外側にあるギ
ャップ付き磁気コア１ａ，１ｃには、ギャップ付き磁気
コア１ｂとは逆向きにコイル２ａ，２ｃが巻きつけられ
ている。それぞれ独立に巻きつけて独立に制御してもよ
いが、コイルに流す電流値が同じになるようにコイルの
巻数を巻いてあれば、直列にコイルをつないでもよい。
こうすると、電流を導入する端子の数を減らすことがで
き、また電流導入のタイミングをあわせる必要もない。
【００１７】図１（ｂ）は、図１（ａ）の平面図で、ギ
ャップ付き磁気コア１ａのギャップ部分に磁界が発生
し、試料４に磁界を印加できる。電子線をこのギャップ
の中を通過させることにより、試料４内の磁気状態を観
察することができる。
ャップ付き磁気コア１ａのギャップ部分に磁界が発生
し、試料４に磁界を印加できる。電子線をこのギャップ
の中を通過させることにより、試料４内の磁気状態を観
察することができる。
【００１８】本発明の透過電子顕微鏡に上述した試料ホ
ルダを装着し、電子線を通過させたときの電子線軌道の
様子を、図４（ａ）を用いて説明する。フェライト製の
ギャップ付き磁気コアに代表される磁界発生手段を２１
ａ，２１ｂ，２１ｃであらわしている。試料４に磁界を
印加する磁界発生手段２１ｂにより発生した磁界22ｂと
は逆向きに磁界２２ａ，２２ｃを発生できるよう、磁界
発生手段２１ａ，21ｃを上下に配置している。ここに電
子線２０が入射すると、まず磁界発生手段21ａにより偏
向させられる。本来電子線２０の偏向方向は磁界２２
ａ，２２ｂ，22ｃ方向と直交する方向であるが、図示の
都合上同じ方向に示してある。さらに進んで磁界発生手
段２１ｂによる磁界２２ｂによって逆向きに偏向させら
れる。磁界発生手段２１ａによる磁界２２ａは、磁界発
生手段２１ｂによる磁界２２ｂの試料４より上の部分を
打ち消すように発生させる。したがって、電子線２０の
試料４照射位置は、試料への印加磁界２２ｂによって変
化しない。さらに試料４透過後の電子線２０は、磁界２
２ｂの試料４より下の部分によって偏向させられる。こ
の偏向は、磁界発生手段２１ｃにより逆向きに偏向させ
られ、全体として磁界２２ｂによる偏向は全て打ち消さ
れる。磁界発生手段２１ａ，２１ｃにより発生する磁界
２２ａ，２２ｃの強さは、試料の位置によりそれぞれ変
化する。たとえば試料４位置が磁界発生手段２１ｂの中
心にあれば、逆向きの磁界２２ａ，22ｃの強さは、それ
ぞれ試料印加磁界２２ｂの半分でよい。磁界発生手段と
してフェライト製のギャップ付き磁気コアを使った場合
には、巻きつけるコイルの巻数を半分にすればよい。試
料４位置が磁界発生手段２１ｂの中心からずれている場
合は、それぞれ距離に対応してコイルの巻数を変える
か、コイルに流す電流を変化させればよい。
ルダを装着し、電子線を通過させたときの電子線軌道の
様子を、図４（ａ）を用いて説明する。フェライト製の
ギャップ付き磁気コアに代表される磁界発生手段を２１
ａ，２１ｂ，２１ｃであらわしている。試料４に磁界を
印加する磁界発生手段２１ｂにより発生した磁界22ｂと
は逆向きに磁界２２ａ，２２ｃを発生できるよう、磁界
発生手段２１ａ，21ｃを上下に配置している。ここに電
子線２０が入射すると、まず磁界発生手段21ａにより偏
向させられる。本来電子線２０の偏向方向は磁界２２
ａ，２２ｂ，22ｃ方向と直交する方向であるが、図示の
都合上同じ方向に示してある。さらに進んで磁界発生手
段２１ｂによる磁界２２ｂによって逆向きに偏向させら
れる。磁界発生手段２１ａによる磁界２２ａは、磁界発
生手段２１ｂによる磁界２２ｂの試料４より上の部分を
打ち消すように発生させる。したがって、電子線２０の
試料４照射位置は、試料への印加磁界２２ｂによって変
化しない。さらに試料４透過後の電子線２０は、磁界２
２ｂの試料４より下の部分によって偏向させられる。こ
の偏向は、磁界発生手段２１ｃにより逆向きに偏向させ
られ、全体として磁界２２ｂによる偏向は全て打ち消さ
れる。磁界発生手段２１ａ，２１ｃにより発生する磁界
２２ａ，２２ｃの強さは、試料の位置によりそれぞれ変
化する。たとえば試料４位置が磁界発生手段２１ｂの中
心にあれば、逆向きの磁界２２ａ，22ｃの強さは、それ
ぞれ試料印加磁界２２ｂの半分でよい。磁界発生手段と
してフェライト製のギャップ付き磁気コアを使った場合
には、巻きつけるコイルの巻数を半分にすればよい。試
料４位置が磁界発生手段２１ｂの中心からずれている場
合は、それぞれ距離に対応してコイルの巻数を変える
か、コイルに流す電流を変化させればよい。
【００１９】図２に本発明による透過電子顕微鏡に装着
した試料ホルダの第２実施例の横断面図を示す。これは
第１実施例におけるフェライト製のギャップ付き磁気コ
アを２段にしたものである。２段にすることによって、
試料４への電子線照射位置は変化するが、試料透過後の
電子線偏向は打ち消すことができる。試料４に印加する
磁界の大きさが小さい場合は電子線照射位置のずれは無
視できることがある。このような場合は第２実施例が有
効で、磁界印加試料ホルダの構成を簡単にできるという
特徴を持つ。
した試料ホルダの第２実施例の横断面図を示す。これは
第１実施例におけるフェライト製のギャップ付き磁気コ
アを２段にしたものである。２段にすることによって、
試料４への電子線照射位置は変化するが、試料透過後の
電子線偏向は打ち消すことができる。試料４に印加する
磁界の大きさが小さい場合は電子線照射位置のずれは無
視できることがある。このような場合は第２実施例が有
効で、磁界印加試料ホルダの構成を簡単にできるという
特徴を持つ。
【００２０】図３に磁界印加手段および試料保持手段と
して使うギャップ付き磁気コアの構成を示す。図３
（ａ）は横断面図、図３（ｂ）は平面図である。ギャッ
プ付き磁気コア１０の下部に非磁性スペーサ１１を付け
ている。これによりギャップ付き磁気コア１０と試料が
直接触れ合うことがなく、試料への磁気的カップリング
の影響を小さくすることができる。また、二つ重ねあわ
せたギャップ付き磁気コア１０が直接触れ合わないた
め、ギャップ付き磁気コア１０間の磁気抵抗を大きくす
ることができる。
して使うギャップ付き磁気コアの構成を示す。図３
（ａ）は横断面図、図３（ｂ）は平面図である。ギャッ
プ付き磁気コア１０の下部に非磁性スペーサ１１を付け
ている。これによりギャップ付き磁気コア１０と試料が
直接触れ合うことがなく、試料への磁気的カップリング
の影響を小さくすることができる。また、二つ重ねあわ
せたギャップ付き磁気コア１０が直接触れ合わないた
め、ギャップ付き磁気コア１０間の磁気抵抗を大きくす
ることができる。
【００２１】本実施例では、サイドエントリ型試料ホル
ダについて説明したが、トップエントリ型試料ホルダで
も同様の構成をとる。
ダについて説明したが、トップエントリ型試料ホルダで
も同様の構成をとる。
【００２２】また本実施例では、フェライト製のギャッ
プ付き磁気コアとコイルを使って磁界を発生する場合の
説明を行ったが、磁気コアの材質はフェライトに限られ
るものではない。たとえば、高い周波数で磁界を変化さ
せる場合は、スピネル型酸化物磁性体，ガーネット型酸
化物磁性体，マグネトプランバイト系酸化物磁性体等の
ような渦電流損失の少ない材料であればよく、低い周波
数で磁界を変化させる場合や定常磁界を発生させる場合
は、鉄やパーマロイのような透磁率の高い材料であれば
同様に利用できる。また、磁界を発生する方法は、空心
コイル，空洞共振器，ストリップ線共振器などによって
もよい。
プ付き磁気コアとコイルを使って磁界を発生する場合の
説明を行ったが、磁気コアの材質はフェライトに限られ
るものではない。たとえば、高い周波数で磁界を変化さ
せる場合は、スピネル型酸化物磁性体，ガーネット型酸
化物磁性体，マグネトプランバイト系酸化物磁性体等の
ような渦電流損失の少ない材料であればよく、低い周波
数で磁界を変化させる場合や定常磁界を発生させる場合
は、鉄やパーマロイのような透磁率の高い材料であれば
同様に利用できる。また、磁界を発生する方法は、空心
コイル，空洞共振器，ストリップ線共振器などによって
もよい。
【００２３】以上説明した透過電子顕微鏡では、磁界発
生手段を試料ホルダに備えているが、電子顕微鏡の試料
室に設置しても良い。
生手段を試料ホルダに備えているが、電子顕微鏡の試料
室に設置しても良い。
【００２４】また、以上説明した透過電子顕微鏡の磁界
発生手段は、それぞれ同一形状のもので構成することが
可能である。同一形状であると製造コストが少なくてす
むという利点があり、さらには発生磁界が均一になるた
め振り戻しを行う精度が高くなる。
発生手段は、それぞれ同一形状のもので構成することが
可能である。同一形状であると製造コストが少なくてす
むという利点があり、さらには発生磁界が均一になるた
め振り戻しを行う精度が高くなる。
【００２５】図５は本発明による透過電子顕微鏡により
磁気計測を行ったときの電子線軌道を示す図である。図
示した磁性計測方法は、走査透過電子顕微鏡の位相差コ
ントラスト法である。図中の磁界発生部は、３段の磁界
発生手段により構成されており、これを略示している。
電子源３１より放出された電子線２０は照射レンズ３４
により試料４上に収束される。試料４には、制御回路３
９により制御された電流源３８から磁界発生手段に電流
を導入して磁界を印加している。試料４を透過する電子
線２０は、試料４の磁気誘導によりローレンツ力を受け
偏向させられる。この偏向とは別に印加磁界によっても
偏向させられるが、逆向きの磁界により振り戻され印加
磁界の影響は打ち消されてしまう。したがって、偏向は
試料４の磁気誘導によるものだけになる。試料透過後の
電子線２０は拡大レンズ３５により拡大されて検出器３
６に入射する。検出器３６により検出された電子線２０
の偏向は、演算回路３７により電気信号に変えられる。
走査像を得るためには、走査コイル３３により電子線２
０を走査し、表示装置に表示する。以上、試料４に磁界
を印加した場合でも、試料４の磁気誘導だけによる偏向
を検出し、画像化することができた。
磁気計測を行ったときの電子線軌道を示す図である。図
示した磁性計測方法は、走査透過電子顕微鏡の位相差コ
ントラスト法である。図中の磁界発生部は、３段の磁界
発生手段により構成されており、これを略示している。
電子源３１より放出された電子線２０は照射レンズ３４
により試料４上に収束される。試料４には、制御回路３
９により制御された電流源３８から磁界発生手段に電流
を導入して磁界を印加している。試料４を透過する電子
線２０は、試料４の磁気誘導によりローレンツ力を受け
偏向させられる。この偏向とは別に印加磁界によっても
偏向させられるが、逆向きの磁界により振り戻され印加
磁界の影響は打ち消されてしまう。したがって、偏向は
試料４の磁気誘導によるものだけになる。試料透過後の
電子線２０は拡大レンズ３５により拡大されて検出器３
６に入射する。検出器３６により検出された電子線２０
の偏向は、演算回路３７により電気信号に変えられる。
走査像を得るためには、走査コイル３３により電子線２
０を走査し、表示装置に表示する。以上、試料４に磁界
を印加した場合でも、試料４の磁気誘導だけによる偏向
を検出し、画像化することができた。
【００２６】本実施例の透過電子顕微鏡によれば、磁界
発生手段にオフセット磁界を発生させることもできるた
め、電子線軌道を平行に移動できる。
発生手段にオフセット磁界を発生させることもできるた
め、電子線軌道を平行に移動できる。
【００２７】以上の実施例は、試料に電界を印加する透
過電子顕微鏡でも同様の構成で実現できることは容易に
類推できる。この場合、磁界発生手段の代わりに電界発
生手段を装着すればよい。
過電子顕微鏡でも同様の構成で実現できることは容易に
類推できる。この場合、磁界発生手段の代わりに電界発
生手段を装着すればよい。
【００２８】
【発明の効果】本発明によれば、電子線の照射位置が動
かず、しかも透過後の電子線の偏向にも影響を与えず
に、試料に磁界を印加することができる。また、磁界印
加手段およびこの磁界印加手段を保持する手段によって
試料を保持するため、試料ホルダをコンパクトにするこ
とができる。
かず、しかも透過後の電子線の偏向にも影響を与えず
に、試料に磁界を印加することができる。また、磁界印
加手段およびこの磁界印加手段を保持する手段によって
試料を保持するため、試料ホルダをコンパクトにするこ
とができる。
【図１】本発明による透過電子顕微鏡に装着した試料ホ
ルダの第１実施例を示す説明図。
ルダの第１実施例を示す説明図。
【図２】本発明による透過電子顕微鏡に装着した試料ホ
ルダの第２実施例を示す断面図。
ルダの第２実施例を示す断面図。
【図３】本発明による透過電子顕微鏡の磁界発生手段で
あるギャップ付き磁気コアの説明図。
あるギャップ付き磁気コアの説明図。
【図４】本発明による透過電子顕微鏡の電子線軌道、お
よび従来の透過電子顕微鏡による電子線軌道の説明図。
よび従来の透過電子顕微鏡による電子線軌道の説明図。
【図５】本発明による透過電子顕微鏡のブロック図。
１ａ，１ｂ，１ｃ…フェライト製のギャップ付き磁気コ
ア、２ａ，２ｂ，２ｃ…コイル、３ａ，３ｂ…押さえ治
具、４…試料、５…試料台、６…ボール、７…電子線軌
道。
ア、２ａ，２ｂ，２ｃ…コイル、３ａ，３ｂ…押さえ治
具、４…試料、５…試料台、６…ボール、７…電子線軌
道。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 黒田 勝広 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内
Claims (10)
- 【請求項１】薄膜試料に電子線を透過させ、前記薄膜試
料の内部の構造を観察する透過電子顕微鏡において、前
記薄膜試料の近傍に磁界を発生する手段を複数備え、前
記磁界発生手段による磁界発生領域を電子線軌道に沿っ
て並べたことを特徴とする透過電子顕微鏡。 - 【請求項２】請求項１において、前記磁界発生手段によ
る磁界発生領域を電子線軌道に沿って３段配置し、外側
２段の前記磁界発生手段と内側１段の前記磁界発生手段
による発生磁界が互いに逆向きになるようにした透過電
子顕微鏡。 - 【請求項３】請求項１において、前記磁界発生複数の手
段をそれぞれ同一形状とした透過電子顕微鏡。 - 【請求項４】請求項１，２または３において、前記磁界
発生手段が、ギャップ付き磁気コアと、これに巻きつけ
たコイル、およびこのコイルに電流を導入する手段から
構成された透過電子顕微鏡。 - 【請求項５】請求項４において、前記磁界発生手段であ
るギャップ付き磁気コアが、透磁率が高く、渦電流損失
の少ない材料で構成された透過電子顕微鏡。 - 【請求項６】請求項１から５のいずれかに記載の前記磁
界発生手段を備えた透過電子顕微鏡の試料ホルダ。 - 【請求項７】電子顕微鏡等に用いられる磁界発生手段を
備えた試料ホルダにおいて、磁界発生手段、およびこの
磁界発生手段を保持する手段によって、試料を押さえ、
保持することを特徴とする磁界印加試料ホルダ。 - 【請求項８】請求項７において、前記磁界発生手段がギ
ャップ付き磁気コアとこれに巻きつけたコイルにより構
成され、前記ギャップ付き磁気コア、および前記ギャッ
プ付き磁気コアを固定する台によって、試料を押さえ、
保持する磁界印加試料ホルダ。 - 【請求項９】請求項８において、前記磁界発生手段であ
るギャップ付き磁気コアの一部に、非磁性材料で形成さ
れた薄膜を備えた磁界印加試料ホルダ。 - 【請求項１０】請求項７，８または９において、前記磁
界印加試料ホルダを備えた透過電子顕微鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6554295A JPH08264146A (ja) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | 透過電子顕微鏡 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6554295A JPH08264146A (ja) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | 透過電子顕微鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08264146A true JPH08264146A (ja) | 1996-10-11 |
Family
ID=13290016
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6554295A Pending JPH08264146A (ja) | 1995-03-24 | 1995-03-24 | 透過電子顕微鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08264146A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002080218A1 (fr) | 2001-03-29 | 2002-10-10 | Japan Science And Technology Corporation | Systeme d'observation d'un echantillon avec application d'un champ magnetique |
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-
1995
- 1995-03-24 JP JP6554295A patent/JPH08264146A/ja active Pending
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| EP4145487A4 (en) * | 2020-05-27 | 2023-10-11 | Ningbo Institute of Materials Technology & Engineering, Chinese Academy of Sciences | MAGNETIC FIELD GENERATION DEVICE, AND TRANSMISSION ELECTRON MICROSCOPE SAMPLE ROD ALLOWING THE APPLICATION OF A MAGNETIC FIELD |
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