JPH0725685A - セラミックスの成形方法 - Google Patents
セラミックスの成形方法Info
- Publication number
- JPH0725685A JPH0725685A JP24672791A JP24672791A JPH0725685A JP H0725685 A JPH0725685 A JP H0725685A JP 24672791 A JP24672791 A JP 24672791A JP 24672791 A JP24672791 A JP 24672791A JP H0725685 A JPH0725685 A JP H0725685A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ceramics
- molybdenum silicide
- etching solution
- diameter
- ceramic
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/53—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone involving the removal of at least part of the materials of the treated article, e.g. etching, drying of hardened concrete
- C04B41/5338—Etching
- C04B41/5353—Wet etching, e.g. with etchants dissolved in organic solvents
Abstract
(57)【要約】
【構成】 所定形状に形成・焼成されたセラミックス１
０の所望の部分を、該セラミックスを溶解するエッチン
グ液１４に接触させ、前記セラミックス１０を腐食加工
することを特徴とするセラミックスの成形方法。 【効果】 セラミックス１０に加工の際の負担がかから
ず、脆いセラミックス１０であっても破損させることな
く容易に成形することができる。
０の所望の部分を、該セラミックスを溶解するエッチン
グ液１４に接触させ、前記セラミックス１０を腐食加工
することを特徴とするセラミックスの成形方法。 【効果】 セラミックス１０に加工の際の負担がかから
ず、脆いセラミックス１０であっても破損させることな
く容易に成形することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はセラミックスの成形方
法、特に腐食によるセラミックスの成形方法に関する。
法、特に腐食によるセラミックスの成形方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】粘土、シリカ、長石等を主原料とし、こ
れに種々の岩石、鉱物等を加え、高温で熱処理を施した
セラミックスからさらに開発が進められ、近年では原料
の選択と共に、その用途についても各種考えられてい
る。すなわち、セラミックスのうち、通常の価電子状態
にある酸化物セラミックスは、その殆どが絶縁体である
のに対し、非酸化物系セラミックスは半導体であり、こ
のような半導体であるセラミックスの電磁気特性を生か
し、各種素子あるいは部品として次第に多く用いられる
ようになっている。又、前記半導体セラミックスは熱的
性質においても高温耐性に選ぐれているためセラミック
スに電気を流し、発熱させる発熱体、特に高温で使用す
る発熱体としての利用に向けて開発が進められている。
れに種々の岩石、鉱物等を加え、高温で熱処理を施した
セラミックスからさらに開発が進められ、近年では原料
の選択と共に、その用途についても各種考えられてい
る。すなわち、セラミックスのうち、通常の価電子状態
にある酸化物セラミックスは、その殆どが絶縁体である
のに対し、非酸化物系セラミックスは半導体であり、こ
のような半導体であるセラミックスの電磁気特性を生か
し、各種素子あるいは部品として次第に多く用いられる
ようになっている。又、前記半導体セラミックスは熱的
性質においても高温耐性に選ぐれているためセラミック
スに電気を流し、発熱させる発熱体、特に高温で使用す
る発熱体としての利用に向けて開発が進められている。
【０００３】ところで、前述した高温で使用できる発熱
体、例えば大気中１６００度以上で使用できる発熱体と
してはランタンクロマイト、あるいはケイ化モリブデン
が一般に知られている。ところが、前記ランタンクロマ
イトは材料が高温において揮発してしまうため、小形で
長寿命の発熱体を得るのは非常に困難である。
体、例えば大気中１６００度以上で使用できる発熱体と
してはランタンクロマイト、あるいはケイ化モリブデン
が一般に知られている。ところが、前記ランタンクロマ
イトは材料が高温において揮発してしまうため、小形で
長寿命の発熱体を得るのは非常に困難である。
【０００４】一方、ケイ化モリブデンは発熱時に表面に
ＳｉＯ2被膜が形成されるためランタンクロマイトに比
べ寿命が著しく長いという利点がある反面、電気抵抗値
が低いため高温に発熱させるためには多量の電流が必要
となる欠点がある。そこで、従来は焼結した棒状のケイ
化モリブデンセラミックスの発熱部を機械加工で削る等
の工夫により細くして抵抗値を上げ、熱容量を減少させ
ていた。
ＳｉＯ2被膜が形成されるためランタンクロマイトに比
べ寿命が著しく長いという利点がある反面、電気抵抗値
が低いため高温に発熱させるためには多量の電流が必要
となる欠点がある。そこで、従来は焼結した棒状のケイ
化モリブデンセラミックスの発熱部を機械加工で削る等
の工夫により細くして抵抗値を上げ、熱容量を減少させ
ていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た棒状のケイ化モリブデンセラミックスの成形方法で
は、該ケイ化モリブデンセラミックスが脆いため、機械
加工による振動等の負担がかかると破損しやすく、ケイ
化モリブデンセラミックスの径を発熱効率の良い細さ、
例えば１mm以下に成形するのは困難であるという課題が
あった。
た棒状のケイ化モリブデンセラミックスの成形方法で
は、該ケイ化モリブデンセラミックスが脆いため、機械
加工による振動等の負担がかかると破損しやすく、ケイ
化モリブデンセラミックスの径を発熱効率の良い細さ、
例えば１mm以下に成形するのは困難であるという課題が
あった。
【０００６】ここで、前記棒状のケイ化モリブデンセラ
ミックスの発熱部の径を焼結する前にあらかじめ適正な
細さにしておけば焼結したケイ化モリブデンセラミック
スを機械加工する必要は生じない。しかし、通常発熱体
として使用するケイ化モリブデンセラミックスは、電線
と接続する電極部においては発熱による断線を防止する
ため径を太くして抵抗値を下げ、発熱部のみの径を細く
するという形状にしなければならない。さらに発熱効率
を良くするように実質的な発熱部長を大きくするため発
熱部に折曲げを設ける場合もある。そして、前述した形
状のケイ化モリブデンを焼結すると、前記径の太さが変
る電極部と発熱部の境目、及び折曲げ部において歪が生
じ、破損してしまうことがある。
ミックスの発熱部の径を焼結する前にあらかじめ適正な
細さにしておけば焼結したケイ化モリブデンセラミック
スを機械加工する必要は生じない。しかし、通常発熱体
として使用するケイ化モリブデンセラミックスは、電線
と接続する電極部においては発熱による断線を防止する
ため径を太くして抵抗値を下げ、発熱部のみの径を細く
するという形状にしなければならない。さらに発熱効率
を良くするように実質的な発熱部長を大きくするため発
熱部に折曲げを設ける場合もある。そして、前述した形
状のケイ化モリブデンを焼結すると、前記径の太さが変
る電極部と発熱部の境目、及び折曲げ部において歪が生
じ、破損してしまうことがある。
【０００７】本発明は前記従来技術の課題に鑑みなされ
たものであり、その目的は例えば発熱体として使用する
棒状のセラミックスの発熱部のみを適切な径の細さに、
破損することなく容易に加工できるセラミックスの成形
方法を提供することにある。
たものであり、その目的は例えば発熱体として使用する
棒状のセラミックスの発熱部のみを適切な径の細さに、
破損することなく容易に加工できるセラミックスの成形
方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明にかかるセラミックスの成形方法は、所定形状
に形成・焼結されたセラミックスの所望の部分を該セラ
ミックスを溶解するエッチング液に接触させ、前記セラ
ミックスを腐食加工することを特徴とする。
に本発明にかかるセラミックスの成形方法は、所定形状
に形成・焼結されたセラミックスの所望の部分を該セラ
ミックスを溶解するエッチング液に接触させ、前記セラ
ミックスを腐食加工することを特徴とする。
【０００９】
【作用】本発明にかかるセラミックスの成形方法は前述
したように、加工したい部分のみをエッチング液に接触
させるため、セラミックスに振動や圧力等の負担をかけ
ず、破損させることなく所望の形状に成形することがで
きる。
したように、加工したい部分のみをエッチング液に接触
させるため、セラミックスに振動や圧力等の負担をかけ
ず、破損させることなく所望の形状に成形することがで
きる。
【００１０】
【実施例】以下、図面に基づき本発明の好適な実施例を
説明する。図１には本発明の一実施例にかかるセラミッ
クスの成形方法が示されている。同図（Ａ）に示す発熱
体としてのケイ化モリブデンセラミックス１０は同一径
の棒状のＵ字型に形成・焼成されている。そして、前記
Ｕ字型のケイ化モリブデンセラミックス１０の両脚の先
端部分が電線と接続されるための電極部となり、該電極
部以外の部分が発熱部となる。
説明する。図１には本発明の一実施例にかかるセラミッ
クスの成形方法が示されている。同図（Ａ）に示す発熱
体としてのケイ化モリブデンセラミックス１０は同一径
の棒状のＵ字型に形成・焼成されている。そして、前記
Ｕ字型のケイ化モリブデンセラミックス１０の両脚の先
端部分が電線と接続されるための電極部となり、該電極
部以外の部分が発熱部となる。
【００１１】また、容器１２にはエッチング液１４とし
てのフッ化水素原液と硝酸原液を各５０w/w％で混合し
た混合液が満たされている。そして、同図（Ｂ）に示す
ように前記ケイ化モリブデンセラミックス１０の発熱部
を前記エッチング液１４に浸すと、エッチング液１４に
浸していた発熱部が腐食し、電極部の径に比べ発熱部の
径が細く成形される。
てのフッ化水素原液と硝酸原液を各５０w/w％で混合し
た混合液が満たされている。そして、同図（Ｂ）に示す
ように前記ケイ化モリブデンセラミックス１０の発熱部
を前記エッチング液１４に浸すと、エッチング液１４に
浸していた発熱部が腐食し、電極部の径に比べ発熱部の
径が細く成形される。
【００１２】そして、同図（Ｃ）に示すようにケイ化モ
リブデンセラミックス１０をエッチング液から取り出て
水洗し、発熱部の表面に付着し残っているエッチング液
１４を洗い落とす。
リブデンセラミックス１０をエッチング液から取り出て
水洗し、発熱部の表面に付着し残っているエッチング液
１４を洗い落とす。
【００１３】ここで、前記エッチング液１４に浸したケ
イ化モリブデンセラミックス１０の発熱部の腐食する度
合い、すなわち該発熱部の径の太さは、同図（Ｂ）に示
す発熱部をエッチング液１４に浸している時間、及びエ
ッチング液１４のフッ化水素原液と硝酸原液の混合液の
濃度によって決定される。すなわち、例えばφ０．５mm
のケイ化モリブデンセラミックス１０の発熱部をエッチ
ング液１４に浸しφ０．２mmに成形するには、表１に示
すような混合液濃度と時間の関係になる。
イ化モリブデンセラミックス１０の発熱部の腐食する度
合い、すなわち該発熱部の径の太さは、同図（Ｂ）に示
す発熱部をエッチング液１４に浸している時間、及びエ
ッチング液１４のフッ化水素原液と硝酸原液の混合液の
濃度によって決定される。すなわち、例えばφ０．５mm
のケイ化モリブデンセラミックス１０の発熱部をエッチ
ング液１４に浸しφ０．２mmに成形するには、表１に示
すような混合液濃度と時間の関係になる。
【表１】
【００１４】前記表１から明らかなように、φ０．５mm
のケイ化モリブデンセラミックス１０をφ０．２mmに成
形するには、混合液の濃度が８０％程度であることが好
適である。つまり混合液の濃度が１００％の場合、エッ
チング液１４に浸漬する時間は２〜３秒となるので、水
洗などの作業を考慮すると正確に２〜３秒に浸漬するの
は極めて困難であり、また混合液の濃度が６０％の場
合、エッチング液１４に浸す時間は約４５分となり効率
が悪いということになる。
のケイ化モリブデンセラミックス１０をφ０．２mmに成
形するには、混合液の濃度が８０％程度であることが好
適である。つまり混合液の濃度が１００％の場合、エッ
チング液１４に浸漬する時間は２〜３秒となるので、水
洗などの作業を考慮すると正確に２〜３秒に浸漬するの
は極めて困難であり、また混合液の濃度が６０％の場
合、エッチング液１４に浸す時間は約４５分となり効率
が悪いということになる。
【００１５】そして、前記エッチング液１４の混合液の
濃度と該エッチング液１４にケイ化モリブデンセラミッ
クス１０を浸漬している時間を調整することにより、発
熱部の径を所望の太さに加工することができる。
濃度と該エッチング液１４にケイ化モリブデンセラミッ
クス１０を浸漬している時間を調整することにより、発
熱部の径を所望の太さに加工することができる。
【００１６】以上のように成形されたケイ化モリブデン
セラミックス１０は腐食加工のため、機械加工による振
動や圧力などの負担がケイ化モリブデンセラミックス１
０にかからず、また焼結させてケイ化モリブデンセラミ
ックス１０を形成する時点では同一径であるため、焼結
の際に歪を生ずることがないので、破損することなく発
熱部の径を必要な細さまでに加工することができ、発熱
効率の良いケイ化モリブデンセラミックス１０を形成す
ることができる。
セラミックス１０は腐食加工のため、機械加工による振
動や圧力などの負担がケイ化モリブデンセラミックス１
０にかからず、また焼結させてケイ化モリブデンセラミ
ックス１０を形成する時点では同一径であるため、焼結
の際に歪を生ずることがないので、破損することなく発
熱部の径を必要な細さまでに加工することができ、発熱
効率の良いケイ化モリブデンセラミックス１０を形成す
ることができる。
【００１７】また、エッチング液１４に浸していない電
極部は当然腐食しないため、該電極部の径は変らず、抵
抗値が低いので、電気を流しても高温にはならず、電線
と電極部との接続部における断線も生じることがない。
極部は当然腐食しないため、該電極部の径は変らず、抵
抗値が低いので、電気を流しても高温にはならず、電線
と電極部との接続部における断線も生じることがない。
【００１８】なお、本発明にかかるセラミックスの成形
方法は、前述した発熱体としての棒状のケイ化モリブデ
ンセラミックス１０の成形以外にも、例えば板状に成形
されたセラミックスを腐食させたい部分を残してエッチ
ング液に溶けないもので被覆し、エッチング液に浸漬す
ることにより所望の形状にセラミックスを成形すること
ができる。
方法は、前述した発熱体としての棒状のケイ化モリブデ
ンセラミックス１０の成形以外にも、例えば板状に成形
されたセラミックスを腐食させたい部分を残してエッチ
ング液に溶けないもので被覆し、エッチング液に浸漬す
ることにより所望の形状にセラミックスを成形すること
ができる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように、本発明にかかるセ
ラミックスの成形方法によれば、セラミックスの所望の
部分をエッチング液で溶かす腐食加工であるため、該セ
ラミックスに加工の際の負担がかからず、脆いセラミッ
クスであっても破損させることなく容易に成形すること
ができる。
ラミックスの成形方法によれば、セラミックスの所望の
部分をエッチング液で溶かす腐食加工であるため、該セ
ラミックスに加工の際の負担がかからず、脆いセラミッ
クスであっても破損させることなく容易に成形すること
ができる。
【図１】図１は本発明の一実施例にかかるセラミックス
の成形方法の説明図である。
の成形方法の説明図である。
１０ ケイ化モリブデンセラミックス １４ エッチング液
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 宮崎 直 東京都八王子市石川町2967番地の５ 日本 分光工業株式会社内 (72)発明者 中川 威雄 神奈川県川崎市中原区市の坪222−４−146
Claims (1)
- 【請求項１】 所定形状に形成・焼成されたセラミック
スの所望の部分を、該セラミックスを溶解するエッチン
グ液に接触させ、前記セラミックスを腐食加工すること
を特徴とするセラミックスの成形方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24672791A JPH0725685A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | セラミックスの成形方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24672791A JPH0725685A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | セラミックスの成形方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0725685A true JPH0725685A (ja) | 1995-01-27 |
Family
ID=17152751
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24672791A Pending JPH0725685A (ja) | 1991-08-30 | 1991-08-30 | セラミックスの成形方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0725685A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014160673A (ja) * | 2014-04-30 | 2014-09-04 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | ＭｏＳｉ２製発熱体及び同発熱体の製造方法 |
-
1991
- 1991-08-30 JP JP24672791A patent/JPH0725685A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014160673A (ja) * | 2014-04-30 | 2014-09-04 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | ＭｏＳｉ２製発熱体及び同発熱体の製造方法 |
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