JPH07256764A - 紫外線硬化型画像形成シ−トの製造方法 - Google Patents
紫外線硬化型画像形成シ−トの製造方法Info
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- JPH07256764A JPH07256764A JP6055572A JP5557294A JPH07256764A JP H07256764 A JPH07256764 A JP H07256764A JP 6055572 A JP6055572 A JP 6055572A JP 5557294 A JP5557294 A JP 5557294A JP H07256764 A JPH07256764 A JP H07256764A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
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Abstract
(57)【要約】
【目的】充分な凹凸深さや高さを有し、且つ、解像性に
優れた画像が得られる、紫外線硬化型画像形成シ−ト
を、容易に短時間で製造する方法を提供することにあ
る。 【構成】ビニルモノマー混合物100重量部、光反応性
ビニル化合物0.1〜300重量部および光重合開始剤
0.01〜20重量部からなる光重合性樹脂組成物を支
持体に塗工し、波長400〜600nmの光を照射し光
硬化層を形成する紫外線硬化型画像形成シ−トの製造方
法であって、上記ビニルモノマ−混合物が、水溶性もし
くはアルカリ可溶性単官能ビニルモノマ−5〜50重量
%とその他のビニルモノマ−50〜95重量%の混合物
であり、上記光反応性ビニル化合物が、波長400〜6
00nmの光ではラジカルを発生せず波長200nm以
上400nm未満の光でラジカルを発生する光反応性基
を有する化合物であり、上記光重合開始剤が波長400
〜600nmの光でラジカルを発生させる開始剤である
ことを特徴とする。
優れた画像が得られる、紫外線硬化型画像形成シ−ト
を、容易に短時間で製造する方法を提供することにあ
る。 【構成】ビニルモノマー混合物100重量部、光反応性
ビニル化合物0.1〜300重量部および光重合開始剤
0.01〜20重量部からなる光重合性樹脂組成物を支
持体に塗工し、波長400〜600nmの光を照射し光
硬化層を形成する紫外線硬化型画像形成シ−トの製造方
法であって、上記ビニルモノマ−混合物が、水溶性もし
くはアルカリ可溶性単官能ビニルモノマ−5〜50重量
%とその他のビニルモノマ−50〜95重量%の混合物
であり、上記光反応性ビニル化合物が、波長400〜6
00nmの光ではラジカルを発生せず波長200nm以
上400nm未満の光でラジカルを発生する光反応性基
を有する化合物であり、上記光重合開始剤が波長400
〜600nmの光でラジカルを発生させる開始剤である
ことを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、像様露光し、現像する
ことによって、立体的な文字や図形を得ることができる
紫外線硬化型画像形成シ−トの製造方法に関する。
ことによって、立体的な文字や図形を得ることができる
紫外線硬化型画像形成シ−トの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、表示盤や計器類の視認性を向上さ
せるために、その文字や図形等の画像を立体化したり、
フルカラー化したりする要求が高まってきている。
せるために、その文字や図形等の画像を立体化したり、
フルカラー化したりする要求が高まってきている。
【0003】文字や図形等の画像を立体化する方法とし
ては、従来から、厚肉印刷する方法、ホットスタンピン
グによる凹凸を転写する方法、射出成形法等がある。し
かしながら、上記厚肉印刷方法では、着肉量の制限があ
り、凹凸の深さや高さが充分ではない。
ては、従来から、厚肉印刷する方法、ホットスタンピン
グによる凹凸を転写する方法、射出成形法等がある。し
かしながら、上記厚肉印刷方法では、着肉量の制限があ
り、凹凸の深さや高さが充分ではない。
【0004】上記ホットスタンピングによる凹凸を転写
する方法では、転写される部分の厚みが大きくなるとそ
の部分の温度上昇に時間がかかり、量産性に乏しく、射
出成形法では、量産性に優れるが、細い凹凸を形成する
ことができず文字や図形等の解像性に乏しく、また、射
出成形用金型を作製する費用が高いという問題がある。
する方法では、転写される部分の厚みが大きくなるとそ
の部分の温度上昇に時間がかかり、量産性に乏しく、射
出成形法では、量産性に優れるが、細い凹凸を形成する
ことができず文字や図形等の解像性に乏しく、また、射
出成形用金型を作製する費用が高いという問題がある。
【0005】上記の欠点を改善した方法として、アルカ
リ可溶性バインダー、多官能モノマーおよび光重合開始
剤からなる光重合性樹脂組成物を、溶剤により支持体に
塗工し、乾燥し、得られた光重合性塗膜をネガマスクを
介して露光し、未露光部を溶解現像する方法が、特開平
5−60582号公報に開示されている。
リ可溶性バインダー、多官能モノマーおよび光重合開始
剤からなる光重合性樹脂組成物を、溶剤により支持体に
塗工し、乾燥し、得られた光重合性塗膜をネガマスクを
介して露光し、未露光部を溶解現像する方法が、特開平
5−60582号公報に開示されている。
【0006】しかし、上記方法では、得られる凹凸深さ
や高さ、文字や図形等の解像性、露光し、凹凸を形成す
る工程では量産性にも優れるが、光重合性塗膜を製造す
るのに時間がかかり量産性が低いという欠点がある。
や高さ、文字や図形等の解像性、露光し、凹凸を形成す
る工程では量産性にも優れるが、光重合性塗膜を製造す
るのに時間がかかり量産性が低いという欠点がある。
【0007】これは、充分な凹凸深さや高さを得るため
に、光重合性塗膜を厚くする(60μmを越える)と、
内部まで乾燥させるには長い乾燥時間が必要になるため
である。
に、光重合性塗膜を厚くする(60μmを越える)と、
内部まで乾燥させるには長い乾燥時間が必要になるため
である。
【0008】また、温度を上げて、乾燥時間を短縮しよ
うとすると、表面の乾燥の方が速いので、表面粘度が高
くなり内部からの溶剤の蒸発が阻害され、内部は未乾燥
の状態となりやすく、内部に気泡を生じやすい。
うとすると、表面の乾燥の方が速いので、表面粘度が高
くなり内部からの溶剤の蒸発が阻害され、内部は未乾燥
の状態となりやすく、内部に気泡を生じやすい。
【0009】また、あらかじめ塗膜を形成し、乾燥され
た60μm程度より薄い塗膜を張り合わせて製造する方
法では、製造に要する時間、製造工程が煩雑になるた
め、量産性が低くなる。
た60μm程度より薄い塗膜を張り合わせて製造する方
法では、製造に要する時間、製造工程が煩雑になるた
め、量産性が低くなる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記欠点に
鑑みてなされたもので、その目的とするところは、充分
な凹凸深さや高さを有し、且つ、解像性に優れた画像が
得られる、紫外線硬化型画像形成シ−トを、容易に短時
間で製造する方法を提供することにある。
鑑みてなされたもので、その目的とするところは、充分
な凹凸深さや高さを有し、且つ、解像性に優れた画像が
得られる、紫外線硬化型画像形成シ−トを、容易に短時
間で製造する方法を提供することにある。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明で用いられるビニ
ルモノマ−混合物は、水溶性もしくはアルカリ可溶性単
官能ビニルモノマ−と前記以外の単官能ビニルモノマ−
(以下「その他のビニルモノマ−」という。)との混合
物である。
ルモノマ−混合物は、水溶性もしくはアルカリ可溶性単
官能ビニルモノマ−と前記以外の単官能ビニルモノマ−
(以下「その他のビニルモノマ−」という。)との混合
物である。
【0012】上記水溶性もしくはアルカリ可溶性単官能
ビニルモノマ−は、分子中にエチレン性2重結合を1個
のみ有し、且つそのモノマーの重合体が水溶性またはア
ルカリ水溶液可溶性を示すものであって、例えば、分子
内にエチレン性2重結合1個とカルボキシル基(無水
物)、水酸基、シアノ基、アミド基または水素原子がア
ルキル基で置換されたアミド基、ピロリドン基、ピロ−
ル基、インド−ル基等の極性基を有するビニルモノマ−
が挙げられる。
ビニルモノマ−は、分子中にエチレン性2重結合を1個
のみ有し、且つそのモノマーの重合体が水溶性またはア
ルカリ水溶液可溶性を示すものであって、例えば、分子
内にエチレン性2重結合1個とカルボキシル基(無水
物)、水酸基、シアノ基、アミド基または水素原子がア
ルキル基で置換されたアミド基、ピロリドン基、ピロ−
ル基、インド−ル基等の極性基を有するビニルモノマ−
が挙げられる。
【0013】上記極性基を有するビニルモノマ−として
は、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイ
ン酸(無水物)、フマル酸、イタコン酸、カルボキシエ
チル(メタ)アクリレート等の不飽和カルボン酸系モノ
マー;アリルアルコール、ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレ−ト、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ−ト等
のヒドロキシアルキルアクリレート系モノマー;(メ
タ)アクリル酸アミド、N−置換(メタ)アクリル酸ア
ミド、N,N−ジ置換(メタ)アクリル酸アミド、(メ
タ)アクリル酸アミノアルキル、(メタ)アクリル酸
(N−置換)アミノアルキル、(メタ)アクリル酸
(N,N−ジ置換)アミノアルキル、等の(メタ)アク
リル酸アミド系モノマー、N−ビニルピロリドン、N−
ビニルピロール、N−ビニルインドールなどのN−ビニ
ルモノマ−;(メタ)アクリロニトリル等があげられ、
これらは、単独で用いても、2種以上が併用されてもよ
い。
は、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸、マレイ
ン酸(無水物)、フマル酸、イタコン酸、カルボキシエ
チル(メタ)アクリレート等の不飽和カルボン酸系モノ
マー;アリルアルコール、ヒドロキシエチル(メタ)ア
クリレ−ト、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレ−ト等
のヒドロキシアルキルアクリレート系モノマー;(メ
タ)アクリル酸アミド、N−置換(メタ)アクリル酸ア
ミド、N,N−ジ置換(メタ)アクリル酸アミド、(メ
タ)アクリル酸アミノアルキル、(メタ)アクリル酸
(N−置換)アミノアルキル、(メタ)アクリル酸
(N,N−ジ置換)アミノアルキル、等の(メタ)アク
リル酸アミド系モノマー、N−ビニルピロリドン、N−
ビニルピロール、N−ビニルインドールなどのN−ビニ
ルモノマ−;(メタ)アクリロニトリル等があげられ、
これらは、単独で用いても、2種以上が併用されてもよ
い。
【0014】本発明で用いられる水溶性もしくはアルカ
リ可溶性単官能ビニルモノマ−としては、上記極性基を
有するビニルモノマ−のなかでも、重合体のガラス転移
点(Tg)が、室温より高くなるような組成にすること
が好ましく、重合反応速度の観点から、メタクリル系よ
りアクリル系の不飽和カルボン酸系モノマー、ピロリド
ン基を有する極性基を有するビニルモノマ−を使用する
ことが好ましく、例えば、アクリル酸、アクリル酸アミ
ド、ヒドロキシエチルアクリレ−ト、N−ビニルピロリ
ドン等が挙げられる。
リ可溶性単官能ビニルモノマ−としては、上記極性基を
有するビニルモノマ−のなかでも、重合体のガラス転移
点(Tg)が、室温より高くなるような組成にすること
が好ましく、重合反応速度の観点から、メタクリル系よ
りアクリル系の不飽和カルボン酸系モノマー、ピロリド
ン基を有する極性基を有するビニルモノマ−を使用する
ことが好ましく、例えば、アクリル酸、アクリル酸アミ
ド、ヒドロキシエチルアクリレ−ト、N−ビニルピロリ
ドン等が挙げられる。
【0015】本発明で用いられるビニルモノマ−混合物
を構成するその他のビニルモノマ−は、分子中にエチレ
ン性2重結合を1個のみ有し、カルボンキシル基(無水
物)、水酸基、シアノ基、アミド基またはアルキル基で
置換されたアミド基、ピロリドン基、ピロ−ル基、イン
ド−ル基等の極性基を有しないビニルモノマ−が挙げら
れる。
を構成するその他のビニルモノマ−は、分子中にエチレ
ン性2重結合を1個のみ有し、カルボンキシル基(無水
物)、水酸基、シアノ基、アミド基またはアルキル基で
置換されたアミド基、ピロリドン基、ピロ−ル基、イン
ド−ル基等の極性基を有しないビニルモノマ−が挙げら
れる。
【0016】上記極性基を有しないビニルモノマ−とし
ては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)ア
クリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メ
タ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチ
ル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸
−2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、
(メタ)アクリル酸−2−クロルエチル、α−クロル
(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸フェニ
ル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸
ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸ボルニル、
(メタ)アクリル酸イソボルニルなどの(メタ)アクリ
ル酸エステル系モノマー;酢酸ビニル、プロピオン酸ビ
ニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニルなどのカルボン酸ビ
ニルエステル系モノマー;スチレン、o−メチルスチレ
ン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、α−メ
チルスチレン、p−エチルスチレン、2,4−ジメチル
スチレン、p−ヘキシルスチレン、p−オクチルスチレ
ン、p−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン、
3,4−ジメチルクロルスチレンなどのスチレン系モノ
マー;α−ビニルナフタレンまたは置換ビニルナフタレ
ンなどのビニルナフタレン系モノマー;C5 〜C30及び
それ以上のα−オレフィン系モノマー;臭化ビニルのよ
うなハロゲン化ビニル系モノマー;ビニルメチルエーテ
ル、ビニルエチルエーテルなどのビニルエーテル系モノ
マー;ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトンなどの
ビニルケトン系モノマー;アリルクロライドのようなア
リル系モノマーなどが挙げられ、これらは、単独で用い
ても、2種以上を併用してもよい。また、得られる重合
体のガラス転移点(Tg)が、室温より高くなるような
組成にすることが好ましい。
ては、例えば、(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)ア
クリル酸エチル、(メタ)アクリル酸プロピル、(メ
タ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸イソブチ
ル、(メタ)アクリル酸オクチル、(メタ)アクリル酸
−2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸ラウリル、
(メタ)アクリル酸−2−クロルエチル、α−クロル
(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸フェニ
ル、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸
ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸ボルニル、
(メタ)アクリル酸イソボルニルなどの(メタ)アクリ
ル酸エステル系モノマー;酢酸ビニル、プロピオン酸ビ
ニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニルなどのカルボン酸ビ
ニルエステル系モノマー;スチレン、o−メチルスチレ
ン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、α−メ
チルスチレン、p−エチルスチレン、2,4−ジメチル
スチレン、p−ヘキシルスチレン、p−オクチルスチレ
ン、p−メトキシスチレン、p−フェニルスチレン、
3,4−ジメチルクロルスチレンなどのスチレン系モノ
マー;α−ビニルナフタレンまたは置換ビニルナフタレ
ンなどのビニルナフタレン系モノマー;C5 〜C30及び
それ以上のα−オレフィン系モノマー;臭化ビニルのよ
うなハロゲン化ビニル系モノマー;ビニルメチルエーテ
ル、ビニルエチルエーテルなどのビニルエーテル系モノ
マー;ビニルメチルケトン、ビニルエチルケトンなどの
ビニルケトン系モノマー;アリルクロライドのようなア
リル系モノマーなどが挙げられ、これらは、単独で用い
ても、2種以上を併用してもよい。また、得られる重合
体のガラス転移点(Tg)が、室温より高くなるような
組成にすることが好ましい。
【0017】本発明で用いられるビニルモノマ−混合物
を構成するその他のビニルモノマ−は、上記カルボンキ
シル基(無水物)、水酸基、シアノ基、アミド基または
アルキル置換アミド基、ピロリドン基、ピロ−ル基、イ
ンド−ル基等の極性基を有しないビニルモノマ−の中で
も、紫外線硬化型画像形成用シ−トを製造(光照射)す
る際の重合反応速度の観点から(メタ)アクリル系モノ
マー、カルボン酸ビニルエステル系モノマーが好まし
く、より好ましくは、メタクリル系よりアクリル系モノ
マーである。
を構成するその他のビニルモノマ−は、上記カルボンキ
シル基(無水物)、水酸基、シアノ基、アミド基または
アルキル置換アミド基、ピロリドン基、ピロ−ル基、イ
ンド−ル基等の極性基を有しないビニルモノマ−の中で
も、紫外線硬化型画像形成用シ−トを製造(光照射)す
る際の重合反応速度の観点から(メタ)アクリル系モノ
マー、カルボン酸ビニルエステル系モノマーが好まし
く、より好ましくは、メタクリル系よりアクリル系モノ
マーである。
【0018】本発明で用いられるビニルモノマ−混合物
は、前記水溶性もしくはアルカリ可溶性単官能ビニルモ
ノマ−の添加量が、少なくなると、得られる紫外線硬化
型画像形成シ−トの現像性に乏しく、(深い凹や高い凸
が形成できない。)多くなると紫外線硬化型画像形成シ
−トを使用して得られる表示盤のような製品の耐湿性が
低下悪化するため、5〜50重量%、上記その他のビニ
ルモノマ−95〜5重量%からなる。より好ましくは、
15〜30重量%からなる。
は、前記水溶性もしくはアルカリ可溶性単官能ビニルモ
ノマ−の添加量が、少なくなると、得られる紫外線硬化
型画像形成シ−トの現像性に乏しく、(深い凹や高い凸
が形成できない。)多くなると紫外線硬化型画像形成シ
−トを使用して得られる表示盤のような製品の耐湿性が
低下悪化するため、5〜50重量%、上記その他のビニ
ルモノマ−95〜5重量%からなる。より好ましくは、
15〜30重量%からなる。
【0019】本発明で用いられる波長400〜600n
mの光ではラジカルを発生せず波長200以上400n
m未満の光でラジカルを発生する光反応性ビニル化合物
は、波長200以上400nm未満の光でラジカルを発
生し、同強度の波長400〜600nmの光では、ラジ
カル発生速度に、約100倍以上の差がある光反応性ビ
ニル化合物のことをいう。
mの光ではラジカルを発生せず波長200以上400n
m未満の光でラジカルを発生する光反応性ビニル化合物
は、波長200以上400nm未満の光でラジカルを発
生し、同強度の波長400〜600nmの光では、ラジ
カル発生速度に、約100倍以上の差がある光反応性ビ
ニル化合物のことをいう。
【0020】上記ラジカル発生速度は、ビニルモノマ−
の2重結合の減少速度を指し、ガスクロマトグラフィー
や赤外線吸収スペクトルでの測定から算出される。
の2重結合の減少速度を指し、ガスクロマトグラフィー
や赤外線吸収スペクトルでの測定から算出される。
【0021】上記光反応性ビニル化合物は、分子内にエ
チレン性2重結合を1個のみ有し、波長400〜600
nmでは、ビニルモノマ−としてラジカル重合性を有
し、且つ、波長200以上400nm未満の光で開裂し
たり、水素を引き抜いたりしてラジカルを発生し、高分
子化合物を架橋させたり、架橋点になったりする光反応
性基を、分子中に1個以上有する。
チレン性2重結合を1個のみ有し、波長400〜600
nmでは、ビニルモノマ−としてラジカル重合性を有
し、且つ、波長200以上400nm未満の光で開裂し
たり、水素を引き抜いたりしてラジカルを発生し、高分
子化合物を架橋させたり、架橋点になったりする光反応
性基を、分子中に1個以上有する。
【0022】すなわち、上記光反応性ビニル化合物は、
(共)重合性光重合開始剤といえるもので、波長400
〜600nmの光を照射し、紫外線硬化型画像形成シ−
トを製造する際には、単に単官能共重合性ビニルモノマ
ーのとして作用し光硬化層を形成し、次いで、ネガマス
クを介して、波長200以上400nm未満を含む光で
像様露光する際には、ラジカルを発生し架橋剤として作
用し光硬化層を架橋し硬化する。
(共)重合性光重合開始剤といえるもので、波長400
〜600nmの光を照射し、紫外線硬化型画像形成シ−
トを製造する際には、単に単官能共重合性ビニルモノマ
ーのとして作用し光硬化層を形成し、次いで、ネガマス
クを介して、波長200以上400nm未満を含む光で
像様露光する際には、ラジカルを発生し架橋剤として作
用し光硬化層を架橋し硬化する。
【0023】上記光反応性ビニル化合物は、前記水溶性
もしくはアルカリ可溶性単官能ビニルモノマーおよび/
またはその他のビニルモノマ−と波長400〜600n
mの光では反応せず、200以上400nm未満の光で
反応しラジカルを発生する開裂型や水素引き抜き型の光
重合開始剤を1個以上反応させて得られる。
もしくはアルカリ可溶性単官能ビニルモノマーおよび/
またはその他のビニルモノマ−と波長400〜600n
mの光では反応せず、200以上400nm未満の光で
反応しラジカルを発生する開裂型や水素引き抜き型の光
重合開始剤を1個以上反応させて得られる。
【0024】上記反応としては、ウレタン化のような付
加反応、エステル化のような縮合反応等が挙げられる。
加反応、エステル化のような縮合反応等が挙げられる。
【0025】上記水溶性もしくはアルカリ可溶性単官能
ビニルモノマーとしては、例えば、カルボンキシル基、
水酸基等を有するビニルモノマーが、次にあげる様な光
重合開始剤と反応させることが容易になるので、好まし
い。
ビニルモノマーとしては、例えば、カルボンキシル基、
水酸基等を有するビニルモノマーが、次にあげる様な光
重合開始剤と反応させることが容易になるので、好まし
い。
【0026】上記光重合開始剤としては、開裂型では、
モノクロロアセトフェノン、ジクロロアセトフェノン、
トリクロロアセトフェノンなどのクロロアセトフェノン
類;ジメトキシアセトフェノン、ジエトキシアセトフェ
ノンなどのジアルコキシアセトフェノン類;1−フェニ
ル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、
4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル(2−ヒドロ
キシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトンなどのヒドロキシアセトフェノン
類;ベンゾインブチルエ−テル、ベンゾインプロピルエ
−テルなどのベンゾインエーテル類;ベンジルジメチル
ケタ−ル、ベンジルジエチルケタ−ルなどのベンジルジ
アルキルケタール類が挙げられ、水素引き抜き型では、
ベンゾイル安息香酸、ヒドロキシベンゾフェノンなどの
ベンゾフェノン類が挙げられる。
モノクロロアセトフェノン、ジクロロアセトフェノン、
トリクロロアセトフェノンなどのクロロアセトフェノン
類;ジメトキシアセトフェノン、ジエトキシアセトフェ
ノンなどのジアルコキシアセトフェノン類;1−フェニ
ル−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、
4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル(2−ヒドロ
キシ−2−プロピル)ケトン、1−ヒドロキシシクロヘ
キシルフェニルケトンなどのヒドロキシアセトフェノン
類;ベンゾインブチルエ−テル、ベンゾインプロピルエ
−テルなどのベンゾインエーテル類;ベンジルジメチル
ケタ−ル、ベンジルジエチルケタ−ルなどのベンジルジ
アルキルケタール類が挙げられ、水素引き抜き型では、
ベンゾイル安息香酸、ヒドロキシベンゾフェノンなどの
ベンゾフェノン類が挙げられる。
【0027】上記光重合開始剤としては、α−アミノア
セトフェノン類;アシルホスフィンオキシド類;ジメチ
ルチオキサントン、ジエチルチオキサントンなどのチオ
キサントン類;N,N−ジアルキルベンゾフェノンのよ
うなミヒラーケトン類;カンファ−キノン、ベンジル、
アントラキノンなどのジカルボニル化合物は、400n
m以上の光で反応しラジカルを発生するので使用できな
い。
セトフェノン類;アシルホスフィンオキシド類;ジメチ
ルチオキサントン、ジエチルチオキサントンなどのチオ
キサントン類;N,N−ジアルキルベンゾフェノンのよ
うなミヒラーケトン類;カンファ−キノン、ベンジル、
アントラキノンなどのジカルボニル化合物は、400n
m以上の光で反応しラジカルを発生するので使用できな
い。
【0028】上記光反応性ビニル化合物としては、例え
ば、分子構造式(1)で示される開裂型のα−アリルベ
ンゾイン、分子構造式(1)〜(3)のヒドロキシアセ
トフェノン誘導体、分子構造式(4)〜(6)の水素引
き抜き型のベンゾフェノン誘導体、分子構造式(7)の
開裂型と水素引き抜き型の光反応性基を有する複合型の
ものが挙げられる。
ば、分子構造式(1)で示される開裂型のα−アリルベ
ンゾイン、分子構造式(1)〜(3)のヒドロキシアセ
トフェノン誘導体、分子構造式(4)〜(6)の水素引
き抜き型のベンゾフェノン誘導体、分子構造式(7)の
開裂型と水素引き抜き型の光反応性基を有する複合型の
ものが挙げられる。
【0029】
【化1】
【0030】
【化2】
【0031】
【化3】
【0032】
【化4】
【0033】
【化5】
【0034】
【化6】
【0035】
【化7】
【0036】上記分子構造式(2)〜(5)中でXは
(CH2 )2 を示す。
(CH2 )2 を示す。
【0037】上記光反応性ビニル化合物の添加量は、少
なくなると、得られた紫外線硬化型画像形成シ−トを使
用して画像を得る際、露光部の架橋度が低くなり、現像
した時画像(凸)の高さが低くなり、多くなると、架橋
度が高くなりすぎて、得られた画像の屈曲性に欠け、ク
ラックが生じたり、露光部の周辺部の未露光部まで硬化
する(線太り)ため、前記ビニルモノマ−の混合物10
0重量部に対して、0.1〜300重量部であり、好ま
しくは、5〜50重量部である。
なくなると、得られた紫外線硬化型画像形成シ−トを使
用して画像を得る際、露光部の架橋度が低くなり、現像
した時画像(凸)の高さが低くなり、多くなると、架橋
度が高くなりすぎて、得られた画像の屈曲性に欠け、ク
ラックが生じたり、露光部の周辺部の未露光部まで硬化
する(線太り)ため、前記ビニルモノマ−の混合物10
0重量部に対して、0.1〜300重量部であり、好ま
しくは、5〜50重量部である。
【0038】本発明で用いられる波長400〜600n
mの光で反応しラジカルを発生する光重合開始剤は、ビ
ニルモノマ−混合物と光反応性ビニル化合物の光重合を
開始させ、水溶性またはアルカリ可溶性の線状高分子が
得られるものであればよく、例えば、2−メチル−1−
(4−メチルチオフェニル)−2−モルホリノ−プロパ
ン−1−オンのようなα−アミノアセトフェノン類;
2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィ
ンオキシドのようなホスフィンオキシド類などの開裂型
光重合開始剤、ジエチルチオキサントンのようなチオキ
サントン類;N,N−ジアクリルベンゾフェノンのよう
なミヒラ−ケトン類;カンファ−キノン、ベンジル、ア
ンスラキノン等のジカルボニル化合物等の水素引き抜き
型光重合開始剤が挙げられ、中でも、開裂型光重合開始
剤が、上記線状高分子を架橋させる望ましくない副反応
を起こすおそれが少ないので好ましい。
mの光で反応しラジカルを発生する光重合開始剤は、ビ
ニルモノマ−混合物と光反応性ビニル化合物の光重合を
開始させ、水溶性またはアルカリ可溶性の線状高分子が
得られるものであればよく、例えば、2−メチル−1−
(4−メチルチオフェニル)−2−モルホリノ−プロパ
ン−1−オンのようなα−アミノアセトフェノン類;
2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィ
ンオキシドのようなホスフィンオキシド類などの開裂型
光重合開始剤、ジエチルチオキサントンのようなチオキ
サントン類;N,N−ジアクリルベンゾフェノンのよう
なミヒラ−ケトン類;カンファ−キノン、ベンジル、ア
ンスラキノン等のジカルボニル化合物等の水素引き抜き
型光重合開始剤が挙げられ、中でも、開裂型光重合開始
剤が、上記線状高分子を架橋させる望ましくない副反応
を起こすおそれが少ないので好ましい。
【0039】上記光重合開始剤の添加量は、少なくなる
と、紫外線硬化型画像形成シ−トを製造する光重合反応
速度が遅くなり、多くなると、上記線状高分子の平均分
子量が小さくなり、得られる紫外線硬化型画像形成シ−
トを使用して得られる画像の屈曲性に欠け、クラックが
生じたり、現像により溶解するようになるため、上記ビ
ニルモノマ−混合物と光反応性ビニル化合物100重量
部に対して、0.01〜20重量部であり、好ましく
は、0.1〜10重量部である。
と、紫外線硬化型画像形成シ−トを製造する光重合反応
速度が遅くなり、多くなると、上記線状高分子の平均分
子量が小さくなり、得られる紫外線硬化型画像形成シ−
トを使用して得られる画像の屈曲性に欠け、クラックが
生じたり、現像により溶解するようになるため、上記ビ
ニルモノマ−混合物と光反応性ビニル化合物100重量
部に対して、0.01〜20重量部であり、好ましく
は、0.1〜10重量部である。
【0040】本発明で用いられる光重合性樹脂組成物
は、上述の基本構成であるが、必要に応じて、上記線状
高分子の平均分子量を調節するためにドデシルメルカプ
タンのような鎖長調整剤(連鎖移動剤);光重合反応速
度を大きくするために脂肪族アミンのような光重合開始
助剤;光重合樹脂組成物に溶剤を加え塗工液とする際に
塗工液の粘度を調整するための高分子量アクリルゴムな
どの増粘剤;可塑剤、紫外線吸収剤、熱重合禁止剤等の
添加剤;顔料、導電性粉体、炭酸カルシウムなどの充填
剤を添加してもよい。
は、上述の基本構成であるが、必要に応じて、上記線状
高分子の平均分子量を調節するためにドデシルメルカプ
タンのような鎖長調整剤(連鎖移動剤);光重合反応速
度を大きくするために脂肪族アミンのような光重合開始
助剤;光重合樹脂組成物に溶剤を加え塗工液とする際に
塗工液の粘度を調整するための高分子量アクリルゴムな
どの増粘剤;可塑剤、紫外線吸収剤、熱重合禁止剤等の
添加剤;顔料、導電性粉体、炭酸カルシウムなどの充填
剤を添加してもよい。
【0041】本発明の紫外線硬化型画像形成シ−トの製
造は、前記光重合性樹脂組成物を支持体に塗工し、波長
400〜600nmの光を照射し、光硬化層を形成する
ことによって得られる。
造は、前記光重合性樹脂組成物を支持体に塗工し、波長
400〜600nmの光を照射し、光硬化層を形成する
ことによって得られる。
【0042】上記支持体としては、例えば、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポ
リメチルメタクリレ−ト、セロハン等のフィルム、これ
らのフィルムの延伸されたもの、アニーリング処理され
たもの、金属箔、紙、プラスチックなどがコートされた
コート紙などが挙げられる。
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレ−ト、ポ
リメチルメタクリレ−ト、セロハン等のフィルム、これ
らのフィルムの延伸されたもの、アニーリング処理され
たもの、金属箔、紙、プラスチックなどがコートされた
コート紙などが挙げられる。
【0043】上記支持体は、紫外線硬化型画像形成シ−
トを使用して得られる製品に残存しても良い場合は、光
硬化層との密着性をあげるためにコロナ放電処理やプラ
ズマ処理を行うことが好ましい。
トを使用して得られる製品に残存しても良い場合は、光
硬化層との密着性をあげるためにコロナ放電処理やプラ
ズマ処理を行うことが好ましい。
【0044】上記支持体は、紫外線硬化型画像形成シ−
トの光硬化層または光硬化層を露光、現像して得られる
画像層を他の基盤、例えば、アクリル樹脂板、ポリカー
ボネート板等のプラスチックプレートに転写して用いる
場合は、シリコン系剥離剤やフッ素系剥離剤を塗布して
剥離処理されていることが好ましい。
トの光硬化層または光硬化層を露光、現像して得られる
画像層を他の基盤、例えば、アクリル樹脂板、ポリカー
ボネート板等のプラスチックプレートに転写して用いる
場合は、シリコン系剥離剤やフッ素系剥離剤を塗布して
剥離処理されていることが好ましい。
【0045】上記塗工は、上記光重合性樹脂組成物中に
溶存する酸素を除去または濃度を低くした状態で行うの
が好ましく、そのためには、例えば、光重合性樹脂組成
物および塗工雰囲気を窒素ガスなどの不活性ガスでパ−
ジするか、空気(酸素)と接触しないように工夫された
塗工装置を用いるか、あるいは、フェニルジイソデシル
ホスファイト、トリイソデシルホスファイトオクタン酸
第一錫などの酸素除去効果のある化合物を光重合性樹脂
組成物に添加することが好ましく、酸素除去効果のある
化合物の添加により、塗工雰囲気の酸素濃度がある程度
高くても充分光重合反応が進み光硬化層が形成される。
溶存する酸素を除去または濃度を低くした状態で行うの
が好ましく、そのためには、例えば、光重合性樹脂組成
物および塗工雰囲気を窒素ガスなどの不活性ガスでパ−
ジするか、空気(酸素)と接触しないように工夫された
塗工装置を用いるか、あるいは、フェニルジイソデシル
ホスファイト、トリイソデシルホスファイトオクタン酸
第一錫などの酸素除去効果のある化合物を光重合性樹脂
組成物に添加することが好ましく、酸素除去効果のある
化合物の添加により、塗工雰囲気の酸素濃度がある程度
高くても充分光重合反応が進み光硬化層が形成される。
【0046】上記光重合性樹脂組成物の塗工厚みは、薄
すくなると、光硬化層も薄くなり、得られる画像の凹凸
の視認性が低下し、厚くなると重合熱の問題や光が内部
まで透過せず支持体側が充分に硬化しない問題などが発
生するので、好ましくは0.1μ〜40mm、より好ま
しくは10μ〜20mm、さらに好ましくは80μ〜1
0mmである。
すくなると、光硬化層も薄くなり、得られる画像の凹凸
の視認性が低下し、厚くなると重合熱の問題や光が内部
まで透過せず支持体側が充分に硬化しない問題などが発
生するので、好ましくは0.1μ〜40mm、より好ま
しくは10μ〜20mm、さらに好ましくは80μ〜1
0mmである。
【0047】上記塗工は、塗膜厚みが大きい場合(30
0μm以上)や光重合性樹脂組成物の粘度が低い場合
(100cps以下)は、支持体の端に枠を設け型枠状
にして行われることが好ましい。
0μm以上)や光重合性樹脂組成物の粘度が低い場合
(100cps以下)は、支持体の端に枠を設け型枠状
にして行われることが好ましい。
【0048】上記光重合性組成物は、溶剤を加えてまた
は加えずに塗工液とすることができ、高分子量アクリル
ゴムを添加したり、波長400〜600nmの光を少量
照射して、予め単官能ビニルモノマ−成分の一部を光重
合させ増粘することができる。
は加えずに塗工液とすることができ、高分子量アクリル
ゴムを添加したり、波長400〜600nmの光を少量
照射して、予め単官能ビニルモノマ−成分の一部を光重
合させ増粘することができる。
【0049】上記波長400〜600nmの光を得るに
は、紫外線ランプに、400nm未満の光をカットする
ような紫外線遮弊フィルター、例えば、HOYA製カラ
ーフィルターガラス;シャープカットフィルター(無
色)L−42をつけるか、400〜600nmにのみ発
光スペクトル分布のある光源を用いる。
は、紫外線ランプに、400nm未満の光をカットする
ような紫外線遮弊フィルター、例えば、HOYA製カラ
ーフィルターガラス;シャープカットフィルター(無
色)L−42をつけるか、400〜600nmにのみ発
光スペクトル分布のある光源を用いる。
【0050】上記紫外線ランプとしては、通常、波長2
50〜450nm領域にスペクトル分布を持つものが用
いられ、例えば、比較的低い光強度を得るためにはケミ
カルランプ、ブラックライトランプ(東芝電材製)、比
較的高い光強度を得るのには低圧、高圧、超高圧水銀ラ
ンプ、メタルハライドランプ、マイクロウエ−ブ励起水
銀ランプ等が挙げられる。
50〜450nm領域にスペクトル分布を持つものが用
いられ、例えば、比較的低い光強度を得るためにはケミ
カルランプ、ブラックライトランプ(東芝電材製)、比
較的高い光強度を得るのには低圧、高圧、超高圧水銀ラ
ンプ、メタルハライドランプ、マイクロウエ−ブ励起水
銀ランプ等が挙げられる。
【0051】上記400〜600nmにのみ発光スペク
トル分布のある光源としては、通常の、蛍光灯や、さら
に強度の高い光を望む場合には、高強度蛍光灯タイプ、
例えば、フィリップス製;「TL/03」やガリウムタ
イプの無電極ランプ、例えば、Fusion製;V−B
ULBを用いることができる。
トル分布のある光源としては、通常の、蛍光灯や、さら
に強度の高い光を望む場合には、高強度蛍光灯タイプ、
例えば、フィリップス製;「TL/03」やガリウムタ
イプの無電極ランプ、例えば、Fusion製;V−B
ULBを用いることができる。
【0052】上記波長400〜600nm以下の光を照
射の方法としては、例えば、不活性ガスで置換されたボ
ックス内で石英ガラス、パイレックスガラス、ホウ酸ガ
ラスごしに行う方法、光重合性樹脂組成物の塗膜表面を
剥離性を有するポリエステルフィルムでカバ−し、空気
(酸素)との接触を防止して行う方法等が挙げられ、特
に後者の方法では、上記酸素除去効果のある化合物を添
加しておくことが好ましい。
射の方法としては、例えば、不活性ガスで置換されたボ
ックス内で石英ガラス、パイレックスガラス、ホウ酸ガ
ラスごしに行う方法、光重合性樹脂組成物の塗膜表面を
剥離性を有するポリエステルフィルムでカバ−し、空気
(酸素)との接触を防止して行う方法等が挙げられ、特
に後者の方法では、上記酸素除去効果のある化合物を添
加しておくことが好ましい。
【0053】上記400〜600nm以下の光を照射す
る際の、光強度は、低くなると光重合反応に時間がかか
り、高くなると得られる線状高分子の分子量が小さくな
り、得られる画像の屈曲性、柔軟性等が低下するので、
0.5〜200mW/cm2であり、好ましくは1〜1
50mW/cm2 、さらに好ましくは5〜120mW/
cm2 である。
る際の、光強度は、低くなると光重合反応に時間がかか
り、高くなると得られる線状高分子の分子量が小さくな
り、得られる画像の屈曲性、柔軟性等が低下するので、
0.5〜200mW/cm2であり、好ましくは1〜1
50mW/cm2 、さらに好ましくは5〜120mW/
cm2 である。
【0054】上記照射時間は、被照射体までの距離や光
源の電圧の調整によって変えられる光強度により適宜決
められるべきであるが、短かくなると光重合性樹脂組成
物中のエチレン性2重結合の光重合反応が進まず、塗膜
が液状のままで光硬化層が形成されず、長がくなると、
光重合熱で加熱されるので、光強度に応じて、1秒〜5
分程度が好ましく、より好ましくは、5秒から2分であ
る。
源の電圧の調整によって変えられる光強度により適宜決
められるべきであるが、短かくなると光重合性樹脂組成
物中のエチレン性2重結合の光重合反応が進まず、塗膜
が液状のままで光硬化層が形成されず、長がくなると、
光重合熱で加熱されるので、光強度に応じて、1秒〜5
分程度が好ましく、より好ましくは、5秒から2分であ
る。
【0055】上記照射方法は、同一の光強度で照射を行
っても良いが、時間とともに光強度を変えて照射するこ
とにより、重合体の物性をさらに精密に調整することも
できる。
っても良いが、時間とともに光強度を変えて照射するこ
とにより、重合体の物性をさらに精密に調整することも
できる。
【0056】上記照射は、光重合性樹脂組成物中のエチ
レン性2重結合の反応が進まないと、塗膜が光硬化せ
ず、光硬化層が形成できないので、30モル%以上反応
を反応させることが好ましい。
レン性2重結合の反応が進まないと、塗膜が光硬化せ
ず、光硬化層が形成できないので、30モル%以上反応
を反応させることが好ましい。
【0057】上記30モル%以上反応したかどうかは、
赤外線吸収スペクトルを測定したり、ガスクロマトグラ
フによりエチレン性2重結合の残存量を算出し確認する
ことができる。
赤外線吸収スペクトルを測定したり、ガスクロマトグラ
フによりエチレン性2重結合の残存量を算出し確認する
ことができる。
【0058】上記光照射により、前記光重合開始剤が、
ビニルモノマ−混合物、光反応性ビニル化合物の重合開
始させ、光重合性樹脂組成物から線状高分子を形成し、
光硬化層が形成され紫外線硬化型画像形成シ−トが得ら
れる。
ビニルモノマ−混合物、光反応性ビニル化合物の重合開
始させ、光重合性樹脂組成物から線状高分子を形成し、
光硬化層が形成され紫外線硬化型画像形成シ−トが得ら
れる。
【0059】上記紫外線硬化型画像形成シ−トは、それ
を使用するまで表面を保護したり、使用時像様露光する
際の酸素阻害を防止する目的で、シリコン離形剤で剥離
処理されたポリエチレンテレフタレ−トフィルムやポリ
エチレンフィルム等の保護フィルムを、その表面にラミ
ネートすることも可能である。この保護フィルムの厚さ
は、像様露光する際、このフィルム側から、このフィル
ム上にネガマスクをおいて露光する場合、画像の太りを
防止するために、薄い方がよく、1μ〜38μが好まし
い。
を使用するまで表面を保護したり、使用時像様露光する
際の酸素阻害を防止する目的で、シリコン離形剤で剥離
処理されたポリエチレンテレフタレ−トフィルムやポリ
エチレンフィルム等の保護フィルムを、その表面にラミ
ネートすることも可能である。この保護フィルムの厚さ
は、像様露光する際、このフィルム側から、このフィル
ム上にネガマスクをおいて露光する場合、画像の太りを
防止するために、薄い方がよく、1μ〜38μが好まし
い。
【0060】本発明の紫外線硬化型画像形成シ−トの製
造方法で得られた紫外線硬化型画像形成シ−トは、所定
の画像ができるようにあらかじめ作製したネガマスクを
介して、波長200以上400nm未満の光で光硬化層
を像様露光し、露光部を硬化し、水またはアルカリ水溶
液で未露光部を溶解現像し、画像を得るために用いる。
造方法で得られた紫外線硬化型画像形成シ−トは、所定
の画像ができるようにあらかじめ作製したネガマスクを
介して、波長200以上400nm未満の光で光硬化層
を像様露光し、露光部を硬化し、水またはアルカリ水溶
液で未露光部を溶解現像し、画像を得るために用いる。
【0061】上記波長200以上400nm未満の光強
度は、被照射体までの距離や光源の電圧の調整によって
変え、低くなると硬化に時間がかかったり、充分硬化せ
ず、現像性が低下し、高くなると、発熱が多くなり、画
像の画線が太ったり(未照射部まで硬化する。)するの
で、0.5〜200mW/cm2 が好ましく、より好ま
しくは1〜150mW/cm2 、さらに好ましくは5〜
120mW/cm2 である。
度は、被照射体までの距離や光源の電圧の調整によって
変え、低くなると硬化に時間がかかったり、充分硬化せ
ず、現像性が低下し、高くなると、発熱が多くなり、画
像の画線が太ったり(未照射部まで硬化する。)するの
で、0.5〜200mW/cm2 が好ましく、より好ま
しくは1〜150mW/cm2 、さらに好ましくは5〜
120mW/cm2 である。
【0062】上記照射時間は、短くなると、硬化せず現
像性が低下し、長くなると、発熱が多くなり、画像の画
線が太るので、光強度に応じて、0.1秒〜5分が好ま
しく、より好ましくは5秒〜2分である。
像性が低下し、長くなると、発熱が多くなり、画像の画
線が太るので、光強度に応じて、0.1秒〜5分が好ま
しく、より好ましくは5秒〜2分である。
【0063】上記光源としては、波長250〜450n
m領域にスペクトル分布を持つ紫外線ランプが用いられ
るが、例えば、比較的低い光強度を得るためにはケミカ
ルランプ、ブラックライトラ、比較的高い光強度を得る
のには低圧、高圧、超高圧水銀ランプ、メタルハライド
ランプ、マイクロウエ−ブ励起水銀ランプ等が挙げられ
る。
m領域にスペクトル分布を持つ紫外線ランプが用いられ
るが、例えば、比較的低い光強度を得るためにはケミカ
ルランプ、ブラックライトラ、比較的高い光強度を得る
のには低圧、高圧、超高圧水銀ランプ、メタルハライド
ランプ、マイクロウエ−ブ励起水銀ランプ等が挙げられ
る。
【0064】上記現像は、保護フィルムがある場合、保
護フィルムを剥離した後に、現像液として、例えば、炭
酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化アンモニウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水溶液を
用いて行う。
護フィルムを剥離した後に、現像液として、例えば、炭
酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化アンモニウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどの水溶液を
用いて行う。
【0065】上記現像液には、現像能力を高めるなどの
ために、メタノール、エタノール、プロパノール、ベン
ジルアルコールなどの水溶性の有機溶媒を、加えること
が好ましい。
ために、メタノール、エタノール、プロパノール、ベン
ジルアルコールなどの水溶性の有機溶媒を、加えること
が好ましい。
【0066】上記現像に使用される現像装置は、スプレ
ー式の現像装置や、ブラシ式の現像装置が使用可能で、
現像温度は、低くなると、現像能力が低下し、高くなる
と画像として残るべき部分までも溶解されるため、5〜
80℃とするのが好ましく、より好ましくは25〜40
℃である。
ー式の現像装置や、ブラシ式の現像装置が使用可能で、
現像温度は、低くなると、現像能力が低下し、高くなる
と画像として残るべき部分までも溶解されるため、5〜
80℃とするのが好ましく、より好ましくは25〜40
℃である。
【0067】現像時間は、光硬化層の厚さ、現像装置、
現像温度で異なるが、短くなると、未露光部が充分に溶
解除去できず、長くなると画像部が損傷を受けるので、
10秒〜15分が好ましい。
現像温度で異なるが、短くなると、未露光部が充分に溶
解除去できず、長くなると画像部が損傷を受けるので、
10秒〜15分が好ましい。
【0068】上記で得られる画像は、例えば、接着剤を
設けた基盤に転写したり、または、本発明で用いられる
紫外線硬化型画像形成シ−トを画像を得る前に、基盤に
転写して、次いで上記と同様にして基盤に画像を形成す
ることもできる。
設けた基盤に転写したり、または、本発明で用いられる
紫外線硬化型画像形成シ−トを画像を得る前に、基盤に
転写して、次いで上記と同様にして基盤に画像を形成す
ることもできる。
【0069】
【実施例】次に、本発明の実施例を説明する。尚、以下
「部」とあるのは「重量部」を意味する。
「部」とあるのは「重量部」を意味する。
【0070】(実施例1) (光重合性樹脂組成物の調製) 次の組成により光重合性樹脂組成物を調製した。 アクリル酸イソボルニル(以下「IBA」という。) :60部 アクリル酸2−エチルヘキシル(以下「2EHA」という。) :15部 アクリル酸(以下「AA」という。) :25部 分子構造式(2)で示される光反応性ビニル化合物 :10部 (以下「化合物(2)という。メルク社試作品ZLI−3331) 2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド (BASF製;ルシリンTPO(LucirinTPO) :0.5部 ドデシルメルカプタン(以下「DMP」という。) :0.10部 高分子量アクリルゴム(重量平均分子量250万) (日本合成ゴムPS−250) :3部
【0071】(光重合性樹脂組成物の塗膜形成)上記光
重合性樹脂組成物を塗工液とし、窒素により脱酸素後、
易接着処理されたポリエチレンテレフタレ−トフィルム
(厚さ25μm:帝人テトロンフィルムHPJタイプ)
に、膜厚800μmで塗工し、光重合性樹脂組成物の塗
膜を形成した。 (光硬化層の形成、紫外線硬化型画像形成シ−トの作
成)上記塗膜を、窒素ガスで置換されたボックス内で、
波長400nm未満の光をカットする紫外線遮蔽フィル
ター(HOYA製;L−42)を通して高圧水銀ランプ
で光強度10mW/cm2 で15秒間光照射を行った。
重合性樹脂組成物を塗工液とし、窒素により脱酸素後、
易接着処理されたポリエチレンテレフタレ−トフィルム
(厚さ25μm:帝人テトロンフィルムHPJタイプ)
に、膜厚800μmで塗工し、光重合性樹脂組成物の塗
膜を形成した。 (光硬化層の形成、紫外線硬化型画像形成シ−トの作
成)上記塗膜を、窒素ガスで置換されたボックス内で、
波長400nm未満の光をカットする紫外線遮蔽フィル
ター(HOYA製;L−42)を通して高圧水銀ランプ
で光強度10mW/cm2 で15秒間光照射を行った。
【0072】上記で得られた紫外線硬化型画像形成シ−
トは、ポリスチレン換算重量平均分子量(以下「MW 」
という。)18.1万、赤外線吸収スペクトルより算出
された未反応エチレン性2重結合(以下「残存2重結
合」という。)が35モル%であった。
トは、ポリスチレン換算重量平均分子量(以下「MW 」
という。)18.1万、赤外線吸収スペクトルより算出
された未反応エチレン性2重結合(以下「残存2重結
合」という。)が35モル%であった。
【0073】上記紫外線硬化型画像形成シ−トの光硬化
層に、剥離処理されたポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルム(厚さ25μm:帝人テトロンフィルムS35タイ
プ)をラミネートし、その上に解像性の評価用ネガマス
クを重ね、超高圧水銀ランプにより照射エネルギ−30
0mJ/cm2 で照射し、次いで、剥離処理されたポリ
エチレンテレフタレ−トフィルムを剥離した後、25℃
の1.0重量%の炭酸水素ナトリウム水溶液で、8分間
スプレー現像を行い、得られた画像について下記の方法
で解像性を評価した。
層に、剥離処理されたポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルム(厚さ25μm:帝人テトロンフィルムS35タイ
プ)をラミネートし、その上に解像性の評価用ネガマス
クを重ね、超高圧水銀ランプにより照射エネルギ−30
0mJ/cm2 で照射し、次いで、剥離処理されたポリ
エチレンテレフタレ−トフィルムを剥離した後、25℃
の1.0重量%の炭酸水素ナトリウム水溶液で、8分間
スプレー現像を行い、得られた画像について下記の方法
で解像性を評価した。
【0074】上記解像性の評価用ネガマスクは、非シャ
ドウ部(光が透過する部分)およびシャドウ部(光が透
過しない部分)がL字型でL字型の線幅が、50〜10
00μmまで50μm毎に設けられているものを用い
た。
ドウ部(光が透過する部分)およびシャドウ部(光が透
過しない部分)がL字型でL字型の線幅が、50〜10
00μmまで50μm毎に設けられているものを用い
た。
【0075】(画像の解像性評価方法)上記画像の非シ
ャドウ部から得られた凸のL字型のうち、画像の揺らぎ
等が無く評価用ネガマスクのL字型を忠実に再現してい
る凸のL字型の上記線幅の内最小線幅(ア)と、シャド
ウ部から得られた凹のL字型のうち、現像されていない
部分が無く評価用ネガマスクのL字型を忠実に再現して
いる凹のL字型の上記線幅の内最小線幅(イ)とをそれ
ぞれ決定し、(ア)と(イ)の内で大きい値の方を解像
度として解像性を評価した。従って上記解像度の小さい
方が解像性に優れていることになる。
ャドウ部から得られた凸のL字型のうち、画像の揺らぎ
等が無く評価用ネガマスクのL字型を忠実に再現してい
る凸のL字型の上記線幅の内最小線幅(ア)と、シャド
ウ部から得られた凹のL字型のうち、現像されていない
部分が無く評価用ネガマスクのL字型を忠実に再現して
いる凹のL字型の上記線幅の内最小線幅(イ)とをそれ
ぞれ決定し、(ア)と(イ)の内で大きい値の方を解像
度として解像性を評価した。従って上記解像度の小さい
方が解像性に優れていることになる。
【0076】上記画像の解像性評価方法では、紫外線硬
化型画像形成シ−トから画像を得るために現像すると
き、解像性の評価用ネガマスクを忠実に再現する程、露
光部が現像液で溶解除去されず、未露光部が溶解除去さ
れることになる。その時上記(ア)(イ)とも、ほぼ同
じ小さな値になる。解像性の評価用ネガマスクを忠実に
再現しなくなると、露光部が現像液で溶解除去されやす
くなったり、未露光部が溶解除去され難くなったりする
ため上記(ア)(イ)のいずれかが大きくなり、解像度
は大きくなり、解像性は低下することになる。
化型画像形成シ−トから画像を得るために現像すると
き、解像性の評価用ネガマスクを忠実に再現する程、露
光部が現像液で溶解除去されず、未露光部が溶解除去さ
れることになる。その時上記(ア)(イ)とも、ほぼ同
じ小さな値になる。解像性の評価用ネガマスクを忠実に
再現しなくなると、露光部が現像液で溶解除去されやす
くなったり、未露光部が溶解除去され難くなったりする
ため上記(ア)(イ)のいずれかが大きくなり、解像度
は大きくなり、解像性は低下することになる。
【0077】上記画像の解像性評価方法では、現像液で
露光部および未露光部が共に溶解除去され易くなると
(ア)(イ)共に小さな値となり解像性に優れることに
なるが、その場合は、解像性の評価用ネガマスクを忠実
に再現していないとした。
露光部および未露光部が共に溶解除去され易くなると
(ア)(イ)共に小さな値となり解像性に優れることに
なるが、その場合は、解像性の評価用ネガマスクを忠実
に再現していないとした。
【0078】(実施例2)実施例1のIBA65部を7
5部に、2EHAを用いなかった以外は、同様にしてM
W 15.1万、残存2重結合40モル%の光硬化層を形
成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、画像を形
成し、解像性を評価した。
5部に、2EHAを用いなかった以外は、同様にしてM
W 15.1万、残存2重結合40モル%の光硬化層を形
成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、画像を形
成し、解像性を評価した。
【0079】(実施例3)実施例1のIBA65部を7
0部に、2EHA15部を10部に、AA25部を20
部とした以外は、同様にしてMW 17.3万、残存2重
結合38モル%の光硬化層を形成した紫外線硬化型画像
形成シ−トを作成し、画像を形成し、解像性を評価し
た。
0部に、2EHA15部を10部に、AA25部を20
部とした以外は、同様にしてMW 17.3万、残存2重
結合38モル%の光硬化層を形成した紫外線硬化型画像
形成シ−トを作成し、画像を形成し、解像性を評価し
た。
【0080】(実施例4)実施例1の化合物(2)を分
子構造式(4)で示される光反応性ビニル化合物(以下
「化合物(4)」という。)とした以外は、同様にして
MW 17.5万、残存2重結合41モル%の光硬化層を
形成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、画像を
形成し、解像性を評価した。
子構造式(4)で示される光反応性ビニル化合物(以下
「化合物(4)」という。)とした以外は、同様にして
MW 17.5万、残存2重結合41モル%の光硬化層を
形成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、画像を
形成し、解像性を評価した。
【0081】(化合物(4)の調製)化合物(4)は、
遮光した状態で2−ヒドロキシエチルアクリレ−ト11
6g(1モル)をメチルエチルケトン(MEK)100
0gに溶解し、触媒としてジブチルチンジラウレ−ト
0.3g、熱重合禁止剤としてヒドロキノン0.01g
を加え、更に、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン224g
(1モル)を加え、MEKの沸点温度で、1時間攪拌し
た後、MEKを留去し、調製した。
遮光した状態で2−ヒドロキシエチルアクリレ−ト11
6g(1モル)をメチルエチルケトン(MEK)100
0gに溶解し、触媒としてジブチルチンジラウレ−ト
0.3g、熱重合禁止剤としてヒドロキノン0.01g
を加え、更に、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ル−(2−ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン224g
(1モル)を加え、MEKの沸点温度で、1時間攪拌し
た後、MEKを留去し、調製した。
【0082】(実施例5)実施例1のIBA65部を7
5部に、2EHAを用いずに、化合物(2)を化合物
(4)とした以外は、同様にしてMW 14.8万、残存
2重結合34モル%の光硬化層を形成した紫外線硬化型
画像形成シ−トを作成し、画像を形成し、解像性を評価
した。
5部に、2EHAを用いずに、化合物(2)を化合物
(4)とした以外は、同様にしてMW 14.8万、残存
2重結合34モル%の光硬化層を形成した紫外線硬化型
画像形成シ−トを作成し、画像を形成し、解像性を評価
した。
【0083】(実施例6)実施例1のIBA65部を7
0部に、2EHA15部を10部に、化合物(2)を化
合物(4)とした以外は、同様にしてMW 17.9万、
残存2重結合37モル%の光硬化層を形成した紫外線硬
化型画像形成シ−トを作成し、画像を形成し、解像性を
評価した。
0部に、2EHA15部を10部に、化合物(2)を化
合物(4)とした以外は、同様にしてMW 17.9万、
残存2重結合37モル%の光硬化層を形成した紫外線硬
化型画像形成シ−トを作成し、画像を形成し、解像性を
評価した。
【0084】(実施例7)実施例1のIBA65部を7
3部に、2EHA15部を10部に、AA25部を10
部に、化合物(2)を化合物(4)とした以外は、同様
にしてMW 18.9万、残存2重結合38モル%の光硬
化層を形成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、
画像を形成し、解像性を評価した。
3部に、2EHA15部を10部に、AA25部を10
部に、化合物(2)を化合物(4)とした以外は、同様
にしてMW 18.9万、残存2重結合38モル%の光硬
化層を形成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、
画像を形成し、解像性を評価した。
【0085】(実施例8)実施例1のIBA65部を5
0部に、2EHA15部を10部に、AA25部を40
部に、化合物(2)を化合物(4)とした以外は、同様
にしてMW 17.5万、残存2重結合37モル%の光硬
化層を形成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、
画像を形成し、解像性を評価した。
0部に、2EHA15部を10部に、AA25部を40
部に、化合物(2)を化合物(4)とした以外は、同様
にしてMW 17.5万、残存2重結合37モル%の光硬
化層を形成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、
画像を形成し、解像性を評価した。
【0086】(実施例9)実施例1の化合物(2)10
部を化合物(4)3部とした以外は、同様にしてMW 1
7.7万、残存2重結合40モル%の光硬化層を形成し
た紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、画像を形成
し、解像性を評価した。
部を化合物(4)3部とした以外は、同様にしてMW 1
7.7万、残存2重結合40モル%の光硬化層を形成し
た紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、画像を形成
し、解像性を評価した。
【0087】(実施例10)実施例1の化合物(2)1
0部を化合物(4)90部とした以外は、同様にしてM
W 19.5万、残存2重結合41モル%の光硬化層を形
成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、画像を形
成し、解像性を評価した。
0部を化合物(4)90部とした以外は、同様にしてM
W 19.5万、残存2重結合41モル%の光硬化層を形
成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、画像を形
成し、解像性を評価した。
【0088】(実施例11)実施例1のルシリンTPO
0.5部を0.05部に、化合物(2)を化合物(4)
とし、照射時間15秒を25秒とした以外は、同様にし
てMW 21.5万、残存2重結合38モル%の光硬化層
を形成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、画像
を形成し、解像性を評価した。
0.5部を0.05部に、化合物(2)を化合物(4)
とし、照射時間15秒を25秒とした以外は、同様にし
てMW 21.5万、残存2重結合38モル%の光硬化層
を形成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、画像
を形成し、解像性を評価した。
【0089】(実施例12)実施例1のルシリンTPO
0.5部を15部に、化合物(2)を化合物(4)と
し、照射時間15秒を10秒とした以外は、同様にして
MW 15.0万、残存2重結合34モル%の光硬化層を
形成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、画像を
形成し、解像性を評価した。
0.5部を15部に、化合物(2)を化合物(4)と
し、照射時間15秒を10秒とした以外は、同様にして
MW 15.0万、残存2重結合34モル%の光硬化層を
形成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、画像を
形成し、解像性を評価した。
【0090】(比較例1)実施例1のIBA65部を1
8部に、2EHA15部を7部に、AA25部を75部
にした以外は、同様にしてMW 20.1万、残存2重結
合30モル%の光硬化層を形成した紫外線硬化型画像形
成シ−トを作成し、画像を形成し、解像性を評価した。
8部に、2EHA15部を7部に、AA25部を75部
にした以外は、同様にしてMW 20.1万、残存2重結
合30モル%の光硬化層を形成した紫外線硬化型画像形
成シ−トを作成し、画像を形成し、解像性を評価した。
【0091】(比較例2)実施例1のIBA65部を2
5部に、2EHA15部を22部に、AA25部を3部
にした以外は、同様にしてMW 17.5万、残存2重結
合38モル%の光硬化層を形成した紫外線硬化型画像形
成シ−トを作成し、画像を形成し、解像性を評価した。
5部に、2EHA15部を22部に、AA25部を3部
にした以外は、同様にしてMW 17.5万、残存2重結
合38モル%の光硬化層を形成した紫外線硬化型画像形
成シ−トを作成し、画像を形成し、解像性を評価した。
【0092】(比較例3)実施例1の化合物(2)10
部を化合物(2)500部にした以外は、同様にしてM
W 22.1万、残存2重結合30モル%の光硬化層を形
成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、画像を形
成し、解像性を評価した。
部を化合物(2)500部にした以外は、同様にしてM
W 22.1万、残存2重結合30モル%の光硬化層を形
成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、画像を形
成し、解像性を評価した。
【0093】(比較例4)実施例1の化合物(2)10
部を化合物(2)0.01部にした以外は、同様にして
MW 17.0万、残存2重結合35モル%の光硬化層を
形成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、画像を
形成し、解像性を評価した。
部を化合物(2)0.01部にした以外は、同様にして
MW 17.0万、残存2重結合35モル%の光硬化層を
形成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作成し、画像を
形成し、解像性を評価した。
【0094】(比較例5)実施例1のルシリンTPO
0.5部を40部に、照射時間15秒を5秒にした以外
は、同様にしてMW 8.4万、残存2重結合20モル%
の光硬化層を形成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作
成し、画像を形成し、解像性を評価した。
0.5部を40部に、照射時間15秒を5秒にした以外
は、同様にしてMW 8.4万、残存2重結合20モル%
の光硬化層を形成した紫外線硬化型画像形成シ−トを作
成し、画像を形成し、解像性を評価した。
【0095】(比較例6)実施例1のルシリンTPO
0.5部を0.001部に、照射時間15秒を60秒に
した以外は、同様にしてMW 23.2万、残存2重結合
74モル%の光硬化層を形成した紫外線硬化型画像形成
シ−トを作成し、画像を形成し、解像性を評価した。
0.5部を0.001部に、照射時間15秒を60秒に
した以外は、同様にしてMW 23.2万、残存2重結合
74モル%の光硬化層を形成した紫外線硬化型画像形成
シ−トを作成し、画像を形成し、解像性を評価した。
【0096】(比較例7)下記組成を混合し組成物を得
た。 IBA :60部 2EHA :15部 AA :25部 過酸化ベンゾイル :0.02部 ドデシルメルカプタン(以下「DMP」という。):0.10部 酢酸エチル :300部 次いで、上記組成物を窒素雰囲気下で、70℃に保ちな
がら、重合させ、MW 18.0万の樹脂組成物とし、こ
の樹脂組成物にトリメチロールプロパントリアクリレー
ト65部と、光重合開始剤としてベンジルジメチルケタ
ール1.5部を加え、光重合性樹脂組成物を得た。
た。 IBA :60部 2EHA :15部 AA :25部 過酸化ベンゾイル :0.02部 ドデシルメルカプタン(以下「DMP」という。):0.10部 酢酸エチル :300部 次いで、上記組成物を窒素雰囲気下で、70℃に保ちな
がら、重合させ、MW 18.0万の樹脂組成物とし、こ
の樹脂組成物にトリメチロールプロパントリアクリレー
ト65部と、光重合開始剤としてベンジルジメチルケタ
ール1.5部を加え、光重合性樹脂組成物を得た。
【0097】上記光重合性組成物を易接着処理されたポ
リエチレンテレフタレ−トフィルム(厚さ25μm;帝
人製テトロンフィルムHPJタイプ)に、膜厚80μm
で塗工し、80℃で120秒間乾燥させ、次いで、その
上に、あらかじめ、剥離処理されたポリエチレンテレフ
タレ−トフィルム(厚さ25μm;帝人製テトロンフィ
ルムS35タイプ)の剥離処理面に、膜厚80μmで塗
工し、80℃で120秒間乾燥させたものを、9枚ラミ
ネートした。ラミネ−トは、ラミネートする毎に、剥離
処理されたポリエチレンテレフタレ−トフィルムを剥離
して行い、紫外線硬化型画像形成シ−トを得た。(総製
造時間は、1,200秒であった。)。
リエチレンテレフタレ−トフィルム(厚さ25μm;帝
人製テトロンフィルムHPJタイプ)に、膜厚80μm
で塗工し、80℃で120秒間乾燥させ、次いで、その
上に、あらかじめ、剥離処理されたポリエチレンテレフ
タレ−トフィルム(厚さ25μm;帝人製テトロンフィ
ルムS35タイプ)の剥離処理面に、膜厚80μmで塗
工し、80℃で120秒間乾燥させたものを、9枚ラミ
ネートした。ラミネ−トは、ラミネートする毎に、剥離
処理されたポリエチレンテレフタレ−トフィルムを剥離
して行い、紫外線硬化型画像形成シ−トを得た。(総製
造時間は、1,200秒であった。)。
【0098】上記で得られた紫外線硬化型画像形成シ−
トに、剥離処理されたポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルム(厚さ25μm:帝人テトロンフィルムS35タイ
プ)の処理面が接するようにをラミネートし、その上に
解像性の評価用ネガマスクを重ね、それを介して超高圧
水銀ランプにより照射エネルギ−300mJ/cm2で
光照射し、剥離処理されたポリエチレンテレフタレ−ト
フィルムを剥離した後、25℃の1.0wt%の炭酸水
素ナトリウム水溶液で、8分間スプレー現像を行い、画
像を得た。
トに、剥離処理されたポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルム(厚さ25μm:帝人テトロンフィルムS35タイ
プ)の処理面が接するようにをラミネートし、その上に
解像性の評価用ネガマスクを重ね、それを介して超高圧
水銀ランプにより照射エネルギ−300mJ/cm2で
光照射し、剥離処理されたポリエチレンテレフタレ−ト
フィルムを剥離した後、25℃の1.0wt%の炭酸水
素ナトリウム水溶液で、8分間スプレー現像を行い、画
像を得た。
【0099】(比較例8)比較例1と同様にして、光重
合性樹脂組成物を作成し、この光重合性樹脂組成物を易
接着処理されたポリエチレンテレフタレ−トフィルム
(厚さ25μm:帝人製テトロンフィルムHPJタイ
プ)に、膜厚800μmに塗工し、80℃で1200秒
間乾燥し、紫外線硬化型画像形成シ−トを得ようとした
が、光重合性樹脂組成物の塗膜の内部に発泡がかなりあ
り、また、表面は乾燥しているものの、内部は乾燥不十
分であったので、その後の評価は行わなかった。
合性樹脂組成物を作成し、この光重合性樹脂組成物を易
接着処理されたポリエチレンテレフタレ−トフィルム
(厚さ25μm:帝人製テトロンフィルムHPJタイ
プ)に、膜厚800μmに塗工し、80℃で1200秒
間乾燥し、紫外線硬化型画像形成シ−トを得ようとした
が、光重合性樹脂組成物の塗膜の内部に発泡がかなりあ
り、また、表面は乾燥しているものの、内部は乾燥不十
分であったので、その後の評価は行わなかった。
【0100】実施例1〜12、比較例1〜8までの光重
合性樹脂組成物の構成成分、光重合性樹脂組成物の塗
膜、塗工条件、光硬化層形成条件および実施例1〜1
2、比較例1〜7までの画像の解像性の評価を表1に示
した。
合性樹脂組成物の構成成分、光重合性樹脂組成物の塗
膜、塗工条件、光硬化層形成条件および実施例1〜1
2、比較例1〜7までの画像の解像性の評価を表1に示
した。
【0101】
【表1】
【0102】
【発明の効果】本発明の紫外線硬化型画像形成シ−トの
製造方法は、上述の通り、ビニルモノマ−の混合物、波
長400〜600nmの光では反応せず波長200nm
以上400nm未満の光で反応しラジカルを発生する光
反応性基を分子中に1個以上有する光反応性ビニル化合
物および波長400〜600nmの光で反応しラジカル
を発生する光重合開始剤からなる光重合性樹脂組成物を
支持体に塗工し、得られる塗膜を波長400〜600n
m以下の光を照射し光硬化層を形成してなるので、解像
性に優れた、充分な厚さの紫外線硬化型画像形成シ−ト
を、短時間で製造でき、得られる紫外線硬化型画像形成
シ−トからは、表示用に用いることができる立体的な文
字や図形を形成できる。
製造方法は、上述の通り、ビニルモノマ−の混合物、波
長400〜600nmの光では反応せず波長200nm
以上400nm未満の光で反応しラジカルを発生する光
反応性基を分子中に1個以上有する光反応性ビニル化合
物および波長400〜600nmの光で反応しラジカル
を発生する光重合開始剤からなる光重合性樹脂組成物を
支持体に塗工し、得られる塗膜を波長400〜600n
m以下の光を照射し光硬化層を形成してなるので、解像
性に優れた、充分な厚さの紫外線硬化型画像形成シ−ト
を、短時間で製造でき、得られる紫外線硬化型画像形成
シ−トからは、表示用に用いることができる立体的な文
字や図形を形成できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // B29K 105:24
Claims (1)
- 【請求項1】ビニルモノマー混合物100重量部、光反
応性ビニル化合物0.1〜300重量部および光重合開
始剤0.01〜20重量部からなる光重合性樹脂組成物
を支持体に塗工し、波長400〜600nmの光を照射
して光硬化層を形成する紫外線硬化型画像形成シ−トの
製造方法であって、上記ビニルモノマ−混合物が、水溶
性もしくはアルカリ可溶性単官能ビニルモノマ−5〜5
0重量%と前記以外の単官能ビニルモノマ−50〜95
重量%の混合物であり、上記光反応性ビニル化合物が、
波長400〜600nmの光ではラジカルを発生せず波
長200nm以上400nm未満の光でラジカルを発生
する光反応性基を有する化合物であり、上記光重合開始
剤が波長400〜600nmの光でラジカルを発生する
開始剤であることを特徴とする紫外線硬化型画像形成シ
−トの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6055572A JPH07256764A (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | 紫外線硬化型画像形成シ−トの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6055572A JPH07256764A (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | 紫外線硬化型画像形成シ−トの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07256764A true JPH07256764A (ja) | 1995-10-09 |
Family
ID=13002443
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6055572A Pending JPH07256764A (ja) | 1994-03-25 | 1994-03-25 | 紫外線硬化型画像形成シ−トの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07256764A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008507619A (ja) * | 2004-07-26 | 2008-03-13 | ストラタシス・インコーポレイテッド | 三次元造形用の可溶性材料および工程 |
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1994
- 1994-03-25 JP JP6055572A patent/JPH07256764A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008507619A (ja) * | 2004-07-26 | 2008-03-13 | ストラタシス・インコーポレイテッド | 三次元造形用の可溶性材料および工程 |
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