JPH0725463A - 粉体移送プロセス装置の制御装置 - Google Patents

粉体移送プロセス装置の制御装置

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Publication number
JPH0725463A
JPH0725463A JP16767593A JP16767593A JPH0725463A JP H0725463 A JPH0725463 A JP H0725463A JP 16767593 A JP16767593 A JP 16767593A JP 16767593 A JP16767593 A JP 16767593A JP H0725463 A JPH0725463 A JP H0725463A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas filter
output signal
pressure
gas
reactor
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP16767593A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuko Takeshita
和子 竹下
Susumu Kono
進 河野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Filing date
Publication date
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Priority to JP16767593A priority Critical patent/JPH0725463A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ガス抜き時の破損を防止する。 【構成】 リアクター1からガスフィルター2に、粉体
またはミストをガスと共に搬送する配管6には、バルブ
Cv値がCv1 ,Cv2 ,Cv3 となっている遮断弁
3,4,5を並列設置する。圧力計8で検出した圧力を
増幅器11で増幅して設定流入流量FMAX が得られ、圧
力計8,9の信号を関数発生器10で処理して流入流量
Fが得られ、除算器4にてFMAX をFで除算してバルブ
Cv設定値CvMAX を求める。CvMAX とCv1 ,Cv
2 ,Cv3 を比較器13,14,15で比較し、論理積
回路16,17,18を介して遮断弁3,4,5の開閉
制御をする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、粉体移送プロセス装置
の制御装置に関し、ガス抜き時の装置の破損を防止する
ようにしたものである。
【0002】
【従来の技術】従来の粉体移送プロセス装置を、図2を
基に説明する。リアクター1には粉体またはミストがガ
スとともに充填されている。ガスフィルター2は、リア
クター1からガスを抜き出すときに、ガスと同伴して搬
送される粉体またはミストを除去するものである。リア
クター1とガスフィルター2は配管6により連結され、
配管6には流量調節弁23及び流量計25が備えられて
いる。流量計25で検出した信号は流量調節計24に送
られる。ガスフィルター2を通過してきたガスは配管7
を通して排出されるようになっている。
【0003】リアクター1からガスを抜くときには、流
量調節計24は、流量計25で検出した流量を基に、ガ
スフィルター2に流入するガス流量が一定となるよう
に、流量調節弁23の開度を調整していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで上記従来技術
では、ガスフィルター2への流入流量を一定に保つだけ
であるため、ガスフィルターの圧力が大きく変動する場
合には、ガスフィルター2内の許容通過速度を越えてし
まい、ガスフィルター2内に備えた濾布の破損を招く恐
れがあるという問題点があった。
【0005】本発明は、上記従来技術に鑑み、ガスフィ
ルターの圧力が大きく変動してもガスフィルターの濾布
の破損を招くことなく安全に粉体移送プロセス装置を作
動させる制御装置を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の構成は、バルブ開閉によるバッチ処理により移送さ
れた粉体またはミストが、ガスと共に充填されているリ
アクターと、前記リアクターからガスを抜き出す時にガ
スに同伴して搬送される粉体またはミストを除去するガ
スフィルターを備えた粉体移送プロセス装置において、
リアクター圧力を検出するリアクター圧力計と、ガスフ
ィルター圧力を検出するガスフィルター圧力計と、前記
2つの圧力計の出力信号を入力としてガスフィルタ流入
流量を出力する関数発生器と、前記ガスフィルター圧力
計の出力信号を増幅してガスフィルター設定流入流量を
示す信号を出力する増幅器と、前記増幅器の出力信号を
前記関数発生器の出力信号で割り算してバルブ流量係数
の設定値を出力する除算器と、前記除算器の出力信号を
入力信号とする複数個の比較器と、前記比較器からの出
力信号と粉体移送開始信号を入力信号とする複数個の論
理積回路と、前記リアクターと前記ガスフィルターとを
結ぶ流路に並列に設けられると共にバルブ流量係数の値
が互いに異なっており前記論理回路からの出力信号をO
N/OFF開度信号とする複数個の遮断弁と、を具備し
てなることを特徴とする。
【0007】
【作用】本発明は上記のように構成されるので次の作用
を有する。すなわち、ガスフィルターに付設されたガス
フィルター圧力計の出力信号に応じ増幅器にてガスフィ
ルター濾布許容通過速度を越えないような適正なガスフ
ィルター設定流入流量が求められる。ガスフィルター圧
力計の出力とリアクター圧力計の出力を入力とした関数
発生器からの出力信号で、前記増幅器出力信号を割り算
する除算器によりガスフィルター流入流量に対応したバ
ルブ流量係数の設定値が求められる。バルブ流量係数の
設定値に対応して比較器,論理積回路で算出された出力
信号が遮断弁のON/OFF信号となる。ガスフィルタ
ー圧力変動に伴って、ガスフィルター濾布許容通過速度
以内に抑えるべくバルブ流量係数の設定値が変化するた
め、リアクターからの過剰な流入流量によるガスフィル
ター濾布の破損を生じるという事態を起こさない。
【0008】
【実施例】以下、本発明をその実施例に基づき説明す
る。なお従来技術と同一部分には同一符号を示す。図1
に示すように本発明では、従来装置の流量調整弁の替わ
りに、遮断弁3,4,5を有し、リアクター1の圧力を
検出するリアクター圧力計9と、ガスフィルター2の圧
力を検出するガスフィルター圧力計8と、関数発生器1
0、増幅器11、除算器12、比較器13,14,15
及び論理積回路16,17,18を備えている。そして
遮断弁3,4,5は並列になって配管6に設置されてお
り、これらのバルブ流量係数(Cv)の値はCv1 ,C
2 ,Cv3 となっている。
【0009】ガスフィルター設定流入流量とガスフィル
ター圧力の関係式は次式(1)で表される。ここでF
MAX は濾布通過速度を許容範囲内に抑えることができる
ガスフィルター設定流入流量である。
【0010】
【数1】
【0011】一方、ガスフィルター流入流量Fは次式
(2)で示すように、リアクター圧力P1 、ガスフィル
ター圧力P2 、バルブCv値から決まる。
【0012】
【数2】
【0013】上式においてF=FMAX とすれば、濾布通
過速度を許容範囲内に抑えることが保障できる。
【0014】すなわちF=FMAX となるようなバルブC
v値(CvMAX =FMAX /f(P1,P2 ))で制御す
る事で、濾布通過速度を許容範囲内に抑えて安定した運
転が可能となる。
【0015】上記の制御方法を次に示す。増幅器11に
おいてガスフィルター圧力計8の出力信号を入力として
定数kを掛け算した結果が、ガスフィルター濾布通過速
度が一定となる設定流入流量FMA X となる。
【0016】次に関数発生器10においてリアクター圧
力計9、ガスフィルター圧力計8の出力信号を入力とし
た関数f(P1 ,P2 )を求める。前記増幅器11の出
力信号のFMAX を、前記関数発生器10の出力信号f
(P1 ,P2 )で割り算する除算器12で、バルブCv
の設定値CvMAX を算出する。 CvMAX =FMAX /f(P1 ,P2
【0017】各比較器13,14,15においてバルブ
Cvの設定値CvMAX と各遮断弁3,4,5のバルブC
v値の大小を次に示すように比較し条件が成立すれば出
力信号=1を発生する。 Cv1 <CvMAX の時、比較器Aの出
力=1 Cv2 <CvMAX −Cv1 の時、比較器Bの出
力=1 Cv3 <CvMAX −Cv1 −Cv2 の時、比較器Cの出
力=1 ここでCv1 ,Cv2 ,Cv3 は遮断弁3,4,5のバ
ルブCv値である。
【0018】各比較器13,14,15から出力信号と
粉体移送開始信号19(移送開始の時、開始信号=1)
で論理積回路16,17,18において論理積をとる。
各論理積出力信号の出力信号=1の時ON信号になり遮
断弁3,4,5は全開になる。各論理積出力信号の出力
信号=0の時OFF信号になり遮断弁3,4,5は全閉
となる。
【0019】上記に示すようにガスフィルター2の仕様
から決まっている濾布通過許容速度vとガスフィルター
断面積Aが与えられると、ガスフィルター設定流入流量
MA X はガスフィルター圧力P2 に比例して求められ
る。
【0020】これにより圧力計8からの出力信号である
ガスフィルター圧力が時時刻々と変動するに伴って、ガ
スフィルター設定流入流量FMAX も時間的に変化させる
事ができる。ガスフィルター2の圧力が低いときは設定
流入流量FMAX は小さくなり関数発生器10からの出力
であるf(P1 ,P2 )は大きくなるため除算器12か
ら出力されるCv設定値CvMAX は小さくなる。
【0021】例えば、移送開始信号がONで遮断弁3が
ON、遮断弁4,遮断弁5がOFFの状態においてガス
フィルター圧力P2 が大きくなると、Cv設定値(Cv
MAX)が大きくなってCv2 <CvMAX −Cv1 となり
遮断弁4はOFF→ONとなる。
【0022】このように、バルブCv設定値以下で遮断
弁3,4,5のON/OFF信号を切り替えていく事が
できるため過剰なガスフィルター流入流量になることを
防止し、濾布通過速度を許容範囲内に抑える事ができ
る。
【0023】
【発明の効果】以上のように、本発明の制御装置を適用
することにより、リアクター圧力の変化に応じたガスフ
ィルター圧力を設定する事で、ガスフィルター設定流入
流量とバルブ流量係数(Cv)の設定値の変化が可能と
なり、ガスフィルターの濾布通過速度を許容範囲内に抑
える事が可能となり、ガスフィルターの破損を招く恐れ
があるという問題点が解決できた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す構成図である。
【図2】従来例を示す構成図である。
【符号の説明】
1 リアクター 2 ガスフィルター 3,4,5 遮断弁 6,7 配管 8 圧力計 9 圧力計 10 関数発生器 11 増幅器 12 除算器 13,14,15 比較器 16,17,18 論理積回路

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 バルブ開閉によるバッチ処理により移送
    された粉体またはミストが、ガスと共に充填されている
    リアクターと、前記リアクターからガスを抜き出す時に
    ガスに同伴して搬送される粉体またはミストを除去する
    ガスフィルターを備えた粉体移送プロセス装置におい
    て、 リアクター圧力を検出するリアクター圧力計と、 ガスフィルター圧力を検出するガスフィルター圧力計
    と、 前記2つの圧力計の出力信号を入力としてガスフィルタ
    流入流量を出力する関数発生器と、 前記ガスフィルター圧力計の出力信号を増幅してガスフ
    ィルター設定流入流量を示す信号を出力する増幅器と、 前記増幅器の出力信号を前記関数発生器の出力信号で割
    り算してバルブ流量係数の設定値を出力する除算器と、 前記除算器の出力信号を入力信号とする複数個の比較器
    と、 前記比較器からの出力信号と粉体移送開始信号を入力信
    号とする複数個の論理積回路と、 前記リアクターと前記ガスフィルターとを結ぶ流路に並
    列に設けられると共にバルブ流量係数の値が互いに異な
    っており前記論理回路からの出力信号をON/OFF開
    度信号とする複数個の遮断弁と、 を具備してなることを特徴とする粉体移送プロセス装置
    の制御装置。
JP16767593A 1993-07-07 1993-07-07 粉体移送プロセス装置の制御装置 Withdrawn JPH0725463A (ja)

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JP16767593A JPH0725463A (ja) 1993-07-07 1993-07-07 粉体移送プロセス装置の制御装置

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JP16767593A JPH0725463A (ja) 1993-07-07 1993-07-07 粉体移送プロセス装置の制御装置

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JPH0725463A true JPH0725463A (ja) 1995-01-27

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ID=15854141

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JP16767593A Withdrawn JPH0725463A (ja) 1993-07-07 1993-07-07 粉体移送プロセス装置の制御装置

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JP (1) JPH0725463A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7563343B2 (en) 2002-11-29 2009-07-21 Fujitsu Microelectronics Limited Film lamination apparatus and method and a manufacturing method of a semiconductor apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7563343B2 (en) 2002-11-29 2009-07-21 Fujitsu Microelectronics Limited Film lamination apparatus and method and a manufacturing method of a semiconductor apparatus

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Effective date: 20001003