JPH11265218A - 自動流量／流量比変換データ校正装置及びガス供給装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 流量／流量比変換データを自動的に校正する
ことができるようにする。 【解決手段】 Ｈ２ガスの流量／流量比変換データを校
正する場合、流量コントローラ５５は、マスフローコン
トローラ４９に所定の目標値を指定する。また、流量コ
ントローラ５５と、Ｏ２ガス源４２と、マスフローコン
トローラ５０とは、流量コントローラ５５により指定さ
れたマスフローコントローラ４９の目標値に対応する流
量以下の流量のＯ２ガスをマスフローコントローラ４９
に供給する。そして、流量コントローラ５５は、マスフ
ローコントローラ４９に供給されたＯ２ガスの流量とこ
の流量のガスをマスフローコントローラ４９に供給した
ときのマスフローコントローラ４９の検出値とに基づい
て、Ｈ２ガスの流量／流量比変換データを校正する。Ｏ
２ガスの流量／流量比変換データの校正も同じようにし
てなされる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、自動ガス流量制御
装置を備えたガス供給装置において、流量／流量比変換
データを校正する自動流量／流量比変換データ校正装置
に関する。ここで、流量／流量比変換データとは、流量
で表されるガスの流量の目標値を、上記制御装置が制御
可能な最大流量に対する流量比で表される目標値に変換
するためのデータである。また、本発明は、この自動流
量／流量比変換データ校正装置を備えたガス供給装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体デバイスや液晶表示デバ
イス等の固体デバイスの基板に所定の処理を施す基板処
理装置においては、処理容器に処理用ガスやキャリアガ
ス等のガス（以下「使用ガス」という。）を供給するガ
ス供給装置が設けられている。

【０００３】このガス供給装置は、通常、ガス流路を流
れる使用ガスの流量を自動的に制御する自動ガス流量制
御装置を備えている。この自動ガス流量制御装置として
は、通常、マスフローコントローラが使用される。

【０００４】このマスフローコントローラは、使用ガス
の流量を検出し、この検出値とガス流量の目標値との偏
差が、例えば、零となるように、ガス流量を制御するよ
うになっている。このような構成によれば、ガス流量を
自動的に目標値に設定することができる。

【０００５】このマスフローコントローラにおいては、
ガス流量の目標値が、通常、流量ではなく、流量比で表
される。すなわち、マスフローコントローラの最大流量
（フルスケール）に対する目標流量の比で表される。一
方、作業者によって指定されるガス流量の目標値は流量
で表される。したがって、このマスフローコントローラ
を使用する場合は、流量で表される目標値を流量比で表
される目標値に変換する必要がある。

【０００６】この変換を行うためには、流量を流量比に
変換するための流量／流量比変換データが必要になる。
従来のガス供給装置では、この流量／流量比変換データ
として、マスフローコントローラのフルスケールを用い
るようになっていた。このような構成では、流量で表さ
れる目標値をフルスケールで割ることにより流量比で表
される目標値を得ることができる。

【０００７】図６は、上述した従来のガス供給装置を有
する基板処理装置の構成の一例を示すブロック図であ
る。

【０００８】図示の基板処理装置は、基板に所定の処理
を施すための処理容器１０と、この処理容器１０に使用
ガスを供給するためのガス供給装置２０とを有する。

【０００９】ガス供給装置２０は、例えば、Ｈ２ガスを
蓄えるためのＨ２ガス源２１と、Ｏ２ガスを蓄えるため
のＯ２ガス源２２と、Ｈ２ガス源２１に蓄えられたＨ２
ガスを処理容器１０に供給するための配管２３と、この
配管２３を遮断するためのエアバルブ２４と、Ｏ２ガス
源２２に蓄えられたＯ２ガスを処理容器１０に供給する
ための配管２５と、この配管２５を遮断するためのエア
バルブ２６とを有する。

【００１０】また、このガス供給装置２０は、Ｈ２ガス
源４１から配管２３を介して処理容器１０に供給される
Ｈ２ガスの流量を制御するマスフローコントローラ２７
と、Ｏ２ガス源２２から配管２５を介して処理容器１０
に供給されるＯ２ガスの流量を制御するマスフローコン
トローラ２８と、流量で表されるＨ２ガスとＯ２ガスの
目標値を流量比で表される目標値に変換するための流量
コントローラ２９とを有する。

【００１１】上述したような構成では、処理容器１０に
使用ガスを供給する場合、流量コントローラ２９によ
り、エアバルブ２４，２６が開かれる。これにより、Ｈ
２ガス源２１とＯ２ガス源２２とからそれぞれ配管２
３，２５を介して処理容器１０にＨ２ガスとＯ２ガスと
が供給される。

【００１２】この場合、処理容器１０に供給されるＨ２
ガスの流量は、マスフローコントローラ２７により制御
される。これにより、処理容器１０に供給されるＨ２ガ
スの流量（制御出力）は、作業者により指定された目標
値（流量で表される目標値）となるように制御される。
この制御は、次のようにして行われる。

【００１３】まず、作業者により指定された目標値は、
流量コントローラ２９によりマスフローコントローラ２
７のフルスケールに対する流量比で表される目標値に変
換される。この変換により得られた目標値はマスフロー
コントローラ２７に供給され、制御出力の検出値と比較
される。これにより、目標値と検出値との偏差が例えば
零となるように、処理容器１０に供給されるＨ２ガスの
流量が制御される。その結果、処理容器１０に供給され
るＨ２ガスの流量は、作業者により指定された目標値と
なるように制御される。

【００１４】同様に、処理容器１０に供給されるＯ２ガ
スの流量も、作業者により指定された目標値となるよう
にマスフローコントローラ２８により制御される。

【００１５】流量コントローラ２９からマスフローコン
トローラ２７，２８に供給されるＨ２ガスとＯ２ガスの
流量の目標値は、例えば、電圧信号で表される。

【００１６】これを具体例を使って説明する。今、目標
値の最大値を５（ボルト）の電圧信号で表すものとす
る。この場合、マスフローコントローラ２７，２８のフ
ルスケールを１０（リットル毎分）とし、作業者により
指定されるＨ２ガとＯ２ガスの目標値を５（リットル毎
分）とすると、流量コントローラ２９からマスフローコ
ントローラ２７，２８に供給される目標値は、２．５
（ボルト）の電圧信号で表される。また、フルスケール
を２０（リットル毎分）とし、作業者により指定される
Ｈ２ガスとＯ２ガスの目標値を５（リットル毎分）とす
ると、流量コントローラ２９からマスフローコントロー
ラ２７，２８に供給される目標値は、１．２５（ボル
ト）の電圧信号で表される。

【００１７】以上が、従来のガス供給装置２０を備えた
基板処理装置の構成である。

【００１８】ところで、上述したガス供給装置２０で
は、マスフローコントローラ２７，２８に故障等が発生
した場合、これらを交換しなければならないことがあ
る。このような場合、新しいマスフローコントローラ２
７，２８のフルスケールが古いマスフローコントローラ
２７，２８のフルスケールと異なることがある。このよ
うな場合、流量コントローラ２９に新しいマスフローコ
ントローラ２７，２８のフルスケールを登録し直さなけ
ればならない。

【００１９】また、上述したガス供給装置２０では、流
量コントローラ２９に故障等が発生した場合、これを交
換しなければならないことがある。このような場合、新
しい流量コントローラ２９にマスフローコントローラ２
７，２８のフルスケールを登録し直さなければならな
い。

【００２０】流量コントローラ２９にマスフローコント
ローラ２７，２８のフルスケールを登録し直す場合は、
従来のガス供給装置２０では、作業者が登録し直すよう
になっていた。

【００２１】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成では、作業者が誤って本来のフルスケールとは
異なるフルスケールを登録した場合、処理容器１０に作
業者が指定した目標値とは異なる流量のＨ２ガスやＯ２
ガスが供給されるという問題があった。

【００２２】これを式を使って説明すると、次のように
なる。今、マスフローコントローラ２７，２８の本来の
フルスケールをａとし、流量コントローラ２９に登録さ
れているフルスケールをｂとする。この場合、作業者に
より指定された目標値をｃとすると、流量コントローラ
２９により指定される目標値はｃ／ｂとなり、本来の目
標値ｃ／ａとは異なるものとなる。これにより、処理容
器１０に供給されるＨ２ガスとＯ２ガスの流量ｄは、次
式（１）に示すように、ｃ・（ａ／ｂ）となり、作業者
により指定された目標値ｃとは異なるものとなる。 ｄ＝ｃ・（ａ／ｂ） …（１）

【００２３】このように処理容器１０に供給されるＨ２
ガスとＯ２ガスの流量が作業者により指定されたＨ２ガ
スとＯ２ガスの目標値と異なると、本来の基板処理動作
とは異なる動作がなされる。これにより、危険な状態や
異常な状態が発生することがある。

【００２４】例えば、基板処理装置が基板に対してＨ２
ガスとＯ２ガスとの燃焼によるパイロジェニック酸化を
施す装置である場合は、処理容器１０に供給されるＨ２
ガスとＯ２ガスとの流量比（Ｈ２：Ｏ２）が２：１以上
になると、爆発する危険性が発生する。また、基板処理
装置が基板に所定の薄膜を形成する薄膜形成装置である
場合、形成された薄膜が異常になる可能性がある。

【００２５】このような問題を解決するためには、処理
容器１０に供給されるＨ２ガスとＯ２ガスの流量が作業
者により指定された目標値と同じか否かを判定し、異な
る場合は、ガスの供給を停止するようにすればよい。

【００２６】しかしながら、このような構成を実現する
ことは困難である。しかも、仮に、実現することができ
たとしても、この構成では、処理容器１０に作業者によ
り指定された目標値とは異なる流量のＨ２ガスとＯ２ガ
スが供給されることを防止することができるだけであ
る。すなわち、流量コントローラ２９に本来のフルスケ
ールとは異なるフルスケールが登録されてしまうことを
防止することはできない。したがって、このような構成
では、フルスケールを何度も登録し直さなければならな
いことがある。

【００２７】そこで、本発明は、流量／流量比変換デー
タを校正する場合、手動によらず、自動的に校正するこ
とができる自動流量／流量比変換データ校正装置を提供
することを目的とする。

【００２８】また、本発明は、このような自動流量／流
量比変換データ校正装置を備えたガス供給装置を提供す
ることを目的とする。

【００２９】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に請求項１記載の自動流量／流量比変換情データ校正装
置は、目標値指定手段と、ガス供給手段と、流量／流量
比変換データ校正手段とを備えたことを特徴とする。

【００３０】ここで、目標値指定手段は、目標値と検出
値がそれぞれ制御可能な最大流量に対する目標流量と検
出流量の比で表される自動ガス流量制御装置に対して所
定の目標値を指定する機能を有する。

【００３１】また、ガス供給手段は、目標値指定手段に
より指定された目標値に対応する流量以下の流量の校正
用ガスをガス流路に供給する機能を有する。

【００３２】さらに、流量／流量比変換データ校正手段
は、ガス供給手段によってガス流路に供給される校正用
ガスの流量とこの流量の校正用ガスをガス流路に供給し
たときの自動ガス流量制御装置の検出値とに基づいて、
流量で表される目標値を最大流量に対する流量比で表さ
れる目標値に変換するための流量／流量比変換データを
校正する機能を有する。

【００３３】この請求項１記載の自動流量／流量比変換
データ校正装置では、目標値指定手段により自動ガス流
量制御装置に対して所定の目標値が指定されるととも
に、ガス供給手段によりガス流路に所定流量Ｘ１の校正
用ガスが供給される。また、流量／流量比変換データ校
正手段により、校正用ガスの供給流量Ｘ１とこの供給流
量Ｘ１の校正用ガスをガス流路に供給したときの自動ガ
ス流量制御装置の検出値Ｘ２とに基づいて、流量／流量
比変換データが校正される。

【００３４】ここで、Ｘ２は、自動ガス流量制御装置の
制御出力Ｘ３とこの装置が制御可能なガスの最大流量Ｘ
４との比Ｘ３／Ｘ４で表される。この場合、制御出力Ｘ
３は供給流量Ｘ１で表される。これは、供給流量Ｘ１が
目標値指定手段により指定された目標値に対応する流量
Ｘ５以下に設定されているからである。すなわち、この
ような構成によれば、自動ガス流量制御装置に供給され
た校正用ガスがそのまま出力されるからである。

【００３５】これにより、Ｘ２＝Ｘ３／Ｘ４のうち、検
出値Ｘ２と制御出力Ｘ３がわかることになる。その結
果、最大流量Ｘ４もわかることになる。したがって、供
給流量Ｘ１とこの供給流量Ｘ１の制御出力Ｘ３の検出値
Ｘ２とに基づいて、流量／流量比変換データを校正する
ようによれば、流量／流量比変換データを自動的に校正
することができる。

【００３６】この場合、流量／流量比変換データとして
は、従来と同様に、最大流量Ｘ４を用いるようにしても
よいし、この最大流量Ｘ４以外のデータを用いるように
してもよい。最大流量Ｘ４以外のデータを用いる場合
は、例えば、供給流量Ｘ１と検出値Ｘ２との組合せを用
いるようにしてもよい。

【００３７】流量／流量比変換データとして、最大流量
Ｘ４を用いる場合は、供給流量Ｘ１と検出値Ｘ２との組
合せから最大流量Ｘ４を求め、これを登録しておくよう
にすればよい。

【００３８】また、流量／流量比変換データとして、供
給流量Ｘ１と検出値Ｘ２との組合せを用いる場合は、例
えば、１つの組合せを用いるようにしてもよいし、複数
の組合せを用いるようにしてもよい。

【００３９】１つの組合せを用いる場合は、例えば、比
例演算により変換処理を行うことができる。これに対
し、複数の組合せを用いる場合は、例えば、作業者によ
り指定された目標値と同じ供給流量Ｘ１を探す検索処理
により変換処理を行うことができる。但し、この検索処
理により値の同じ供給流量Ｘ１を検索することができな
い場合は、比例演算により変換処理を行うことができ
る。

【００４０】請求項２記載のガス供給装置は、第１のガ
ス供給手段と、流量／流量比変換手段と、流量検出手段
と、流量制御手段と、目標値指定手段と、第２のガス供
給手段と、流量／流量比変換手段とを備えたことを特徴
とする。

【００４１】ここで、第１のガス供給手段は、ガス流路
を介してガスの供給先にガスを供給する機能を有する。
流量／流量比変換手段と、流量検出手段と、流量制御手
段とは、ガス流路を流れるガスの流量を自動的に制御す
る自動ガス流量制御装置を構成する。目標値指定手段
と、第２のガス供給手段と、流量／流量比変換手段と
は、流量／流量比変換データを自動的に校正する自動流
量／流量比変換データ校正装置を構成する。

【００４２】自動ガス流量制御装置において、流量／流
量比変換手段は、流量で表されるガスの流量の目標値
を、流量／流量比変換データに基づいて、流量制御手段
が制御可能なガスの最大流量に対する流量比で表される
目標値に変換する機能を有する。流量検出手段は、ガス
流路を流れるガスの流量を検出する機能を有する。この
場合、この検出値は最大流量に対する検出流量の比で表
される。流量制御手段は、流量／流量比変換手段の変換
処理により得られた目標値と流量検出手段の検出値との
偏差が所定の値となるように、ガス流路を流れるガスの
流量を制御する機能を有する。

【００４３】自動流量／流量比変換データ校正装置にお
いて、目標値指定手段は、流量／流量比変換データの校
正時、流量制御手段にガス流路に流すガスの流量の目標
値として所定の目標値を指定する機能を有する。第２の
ガス供給手段は、流量／流量比変換データの校正時、目
標値指定手段により指定された目標値に対応する流量以
下の流量の校正用ガスをガス流路に供給する機能を有す
る。流量／流量比変換データ校正手段は、第２のガス供
給手段によってガス流路に供給される校正用ガスの流量
とこの流量の校正用ガスをガス流路に供給したときの流
量検出手段の検出値とに基づいて、流量／流量比変換デ
ータを校正する機能を有する。

【００４４】この請求項２記載のガス供給装置では、ガ
スの供給先にガスを供給する場合は、第１のガス供給手
段により供給される。この場合、ガスの流量は、自動ガ
ス流量制御装置により作業者により指定された目標値と
なるように制御される。

【００４５】また、このガス供給装置では、流量／流量
比変換データを校正する場合、自動流量／流量比変換デ
ータ校正装置により流量／流量比変換データが校正され
る。この構成処理は、請求項１記載の自動流量／流量比
変換データ校正装置による構成処理と同じようにして行
われる。

【００４６】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、本発
明の実施の形態を詳細に説明する。

【００４７】［１］第１の実施の形態 ［１−１］構成 図１は、本発明の第１の実施の形態の構成を示すブロッ
ク図である。なお、図には、本実施の形態のガス供給装
置を備えた基板処理装置全体の構成を示す。

【００４８】図示の基板処理装置は、基板に所定の処理
を施すための処理容器３０と、この処理容器３０にガス
を供給するためのガス供給装置４０とを有する。

【００４９】ガス供給装置４０は、Ｈ２ガスを蓄えるた
めのＨ２ガス源４１と、Ｏ２ガスを蓄えるためのＯ２ガ
ス源４２と、Ｈ２ガス源４１に蓄えられているＨ２ガス
を処理容器３０に供給するための配管４３と、Ｏ２ガス
源４２に蓄えられているＯ２ガスを処理容器３０に供給
するための配管４４とを有する。

【００５０】また、このガス供給装置４０は、配管４３
を遮断するためのエアバルブ４５，４６と、配管４４を
遮断するためのエアバルブ４７，４８と、Ｈ２ガス源４
１から処理容器３０に供給されるＨ２ガスの流量を制御
するマスフローコントローラ４９と、Ｏ２ガス源４２か
ら処理容器３０に供給されるＯ２ガスの流量を制御する
マスフローコントローラ５０とを有する。

【００５１】さらに、このガス供給装置４０は、マスフ
ローコントローラ４９の制御出力をマスフローコントロ
ーラ５０に供給するための配管５１と、マスフローコン
トローラ５０の制御出力をマスフローコントローラ４９
に供給するための配管５２と、配管５１を遮断するため
のエアバルブ５３と、配管５２を遮断するためのエアバ
ルブ５４とを有する。

【００５２】また、このガス供給装置４０は、流量コン
トローラ５５を有する。この流量コントローラ５５は、
エアバルブ４５〜４８，５３，５４の開閉を制御する機
能と、流量で表されるＨ２ガスまたはＯ２ガスの流量の
目標値を流量比で表される目標値に変換する機能と、こ
の変換で用いられる流量／流量比変換データを自動的に
校正する機能等を有する。

【００５３】上記Ｈ２ガス用のマスフローコントローラ
４９は、Ｈ２ガスにより校正されている。上記Ｏ２ガス
用のマスフローコントローラ５０は、Ｏ２ガスにより校
正されている。

【００５４】上記エアバルブ４５は、マスフローコント
ローラ４９の上流側に設けられ、エアバルブ４６は、下
流側に設けられている。上記エアバルブ４７は、マスフ
ローコントローラ５０の上流側に設けられ、エアバルブ
４８は、下流側に設けられている。

【００５５】上記配管５１は、一端がマスフローコント
ローラ４９とエアバルブ４６との間で配管４３に接続さ
れ、他端がエアバルブ４７とマスフローコントローラ５
０との間で配管４４に接続されている。上記配管５２
は、一端がマスフローコントローラ５０とエアバルブ４
８との間で配管４４に接続され、他端がエアバルブ４５
とマスフローコントローラ４９との間で配管４３に接続
されている。

【００５６】図２は、マスフローコントローラ４９また
は５０の構成を示すブロック図である。

【００５７】図示のマスフローコントローラ４９または
５０は、配管４３または４４に挿入されたコントロール
バルブ６１と、このコントロールバルブ６１を通過した
Ｈ２ガスまたはＯ２ガスの流量（制御出力）を検出する
センサ６２と、このセンサ６２の検出値と流量コントロ
ーラ５５により指定されるＨ２ガスまたはＯ２ガスの流
量の目標値との偏差が、例えば零となるように、コント
ロールバルブ６１の開閉を制御する流量制御部６３とを
有する。

【００５８】流量コントローラ５５により指定されるＨ
２ガスまたはＯ２ガスの流量の目標値は、流量ではな
く、マスフローコントローラ４９，５０が制御可能なＨ
２ガスまたはＯ２ガスの最大流量（フルスケール）に対
する目標流量の比で表される。これに合わせて、センサ
６２の検出値も、上記最大流量に対する検出流量の比で
表される。

【００５９】［１−２］動作 上記構成において、動作を説明する。

【００６０】［１−２−１］ガス供給動作 まず、図１に示すガス供給装置４０のガス供給動作を説
明する。この動作は、例えば、ガス供給装置４０の電源
が投入されることにより実行される。

【００６１】この場合、流量コントローラ５５は、エア
バルブ４５〜４８，５３，５４の開閉パターンとしてガ
ス供給用の開閉パターンを設定する。これにより、エア
バルブ４５〜４８が開かれ、エアバルブ５３，５４が閉
じられる。その結果、Ｈ２ガス源４１に蓄積されている
Ｈ２ガスが配管４３を介して処理容器３０に供給され
る。また、Ｏ２ガス源４２に蓄積されているＯ２ガスが
配管４４を介して処理容器３０に供給される。

【００６２】この場合、処理容器３０に供給されるＨ２
ガスの流量は、マスフローコントローラ４９により制御
される。これにより、このＨ２ガスの流量は、作業者に
よってより指定されたＨ２ガスの目標値（流量で表され
る目標値）となるように制御される。この制御は、次の
ようにして行われる。

【００６３】作業者により指定されたＨ２ガスの目標値
は、流量コントローラ５５により、流量／流量比変換デ
ータに基づいて、流量比で表される目標値に変換され
る。この変換により得られた目標値は、図２に示すマス
フローコントローラ４９の流量制御部６３に供給され
る。

【００６４】また、このとき、マスフローコントローラ
４９のセンサ６２によりＨ２ガスの制御出力が検出され
る。この検出値は、流量制御部６３に供給される。流量
制御部６３は、流量コントローラ５５から供給される目
標値とセンサ６２から供給される検出値とを比較し、両
者の偏差が零となるように、コントロールバルブ６１の
開閉度を制御する。これにより、処理容器３０に供給さ
れるＨ２ガスの流量が作業者により指定された目標値と
なるように制御される。

【００６５】詳細な説明は省略するが、処理容器３０に
供給されるＯ２ガスの流量も、Ｈ２ガスの流量と同じよ
うにして制御される。

【００６６】［１−２−２］Ｈ２ガス用の流量／流量比
変換データの校正動作 次に、Ｈ２ガス用の流量／流量比変換データの校正動作
を説明する。

【００６７】この校正動作は、ガス供給装置４０の電源
が投入された場合や、マスフローコントローラ４９や流
量コントローラ５５が交換された場合等に、自動的に、
または、作業者が「校正」というコマンドを流量コント
ローラ５５に入力することにより開始される。そして、
この校正動作は、次のような手順で行われる。

【００６８】［ステップ１］流量／流量比変換データの
校正パターンの設定 まず、流量コントローラ５５は、エアバルブ４５〜４
８，５３，５４の開閉パターンとして、Ｈ２ガスの流量
／流量比変換データを校正するための開閉パターンを設
定する。これにより、エアバルブ４５，４８，５３が閉
じられ、エアバルブ４７，５４，４６が開かれる。

【００６９】エアバルブ４７，５４，４６が開かれるこ
とにより、Ｏ２ガス源４２からマスフローコントローラ
５０，４９を介して処理容器３０にＯ２ガスが供給され
る。また、エアバルブ４５，４８，５３が閉じられるこ
とにより、Ｈ２ガス源４１からマスフローコントローラ
４９へのＨ２ガスの供給と、マスフローコントローラ５
０から処理容器３０への制御出力の供給と、マスフロー
コントローラ４９からマスフローコントローラ５０への
制御出力の供給とが禁止される。

【００７０】［ステップ２］所定の目標値指定 次に、流量コントローラ５５は、Ｈ２ガス用のマスフロ
ーコントローラ４９に対して所定の目標値を指定する。
この所定の目標値としては、例えば、１００％の目標値
が指定される。

【００７１】［ステップ３］Ｏ２ガスの供給 次に、流量コントローラ５５は、Ｈ２ガス用のマスフロ
ーコントローラ４９に所定流量のＯ２ガスを供給する。
この供給は、Ｏ２ガス用のマスフローコントローラ５０
に対して所定の目標値を指定することにより行われる。
これにより、この目標値に対応する流量のＯ２ガスが、
Ｏ２ガス源４２からマスフローコントローラ５０を介し
てマスフローコントローラ４９に供給される。

【００７２】この場合、Ｏ２ガスの供給流量は、ステッ
プ２で設定されたマスフローコントローラ４９の目標値
に対応する流量（今の例の場合、マスフローコントロー
ラ４９のフルスケール）以下となるように設定される。
これにより、マスフローコントローラ４９に供給された
Ｏ２ガスは、そのまま出力される。その結果、このマス
フローコントローラ４９のセンサ６２では、Ｏ２ガス源
４２からマスフローコントローラ４９に供給されたＯ２
ガスの流量がそのまま検出される。

【００７３】この場合、Ｏ２ガスの目標値（供給流量）
としては、複数の目標値が順次指定される。この複数の
目標値としては、マスフローコントローラ５０のフルス
ケールがマスフローコントローラ４９のフルスケール以
下であるものとすると、例えば、５％、１０％、１５
％、…、１００％の目標値が指定される。その結果、マ
スフローコントローラ４９には、目標値５％、１０％、
１５％、…、１００％に対応する流量のＯ２ガスが順次
供給される。

【００７４】［ステップ４］検出値の取込み 次に、流量コントローラ５５は、マスフローコントロー
ラ４９のセンサ６２の検出値を取り込む。この取込み
は、Ｏ２ガスの各目標値ごとに行われる。

【００７５】［ステップ５］流量の換算 次に、流量コントローラ５５は、ステップ３の処理によ
りマスフローコントローラ４９に供給されたＯ２ガスの
流量をＨ２ガスの供給流量に換算する。これは、マスフ
ローコントローラ４９がＯ２ガスではなく、Ｈ２ガスで
校正されているためである。この換算処理は、ステップ
３で指定されたＨ２ガスの複数の供給流量のそれぞれに
ついて行われる。この場合、この換算処理は、次のよう
にして行われる。

【００７６】今、Ｏ２ガス用のマスフローコントローラ
５０のフルスケールをＡ１（リットル毎分）とし、流量
コントローラ５５により指定されるＯ２ガスの目標値を
Ａ２（％）とする。この場合、Ｈ２ガス用のマスフロー
コントローラ４９に供給されるＯ２ガスの流量Ａ３（リ
ットル毎分）は、次式（２）で表される。 Ａ３＝Ａ１・（Ａ２／１００） …（２）

【００７７】ここで、Ｏ２ガスのコンバージョンファク
タを０．９８とし、Ｈ２ガスのコンバージョンファクタ
を１．０１とすると、Ｏ２ガスの流量Ａ３（リットル毎
分）とＨ２ガスの流量Ａ４（リットル毎分）との間に
は、次式（３）が成り立つ。 Ａ３：Ａ４＝０．９８：１．０１ …（３）

【００７８】これにより、Ｈ２ガスの流量Ａ４（リット
ル毎分）は、次式（４）で表される。 Ａ４＝（１．０１／０．９８）・Ａ３ ＝（１．０１／０．９８）・Ａ１・（Ａ２／１００） …（４）

【００７９】これを具体例を使って説明する。今、Ｏ２
ガス用のマスフローコントローラ５０のフルスケールＡ
１（リットル毎分）を例えば２０（リットル毎分）と
し、Ｏ２ガスの目標値Ａ２（％）を５０（％）とする。
この場合、Ｏ２ガスの流量Ａ３（リットル毎分）は、次
式（５）に示すように１０（リットル毎分）となる。 Ａ３＝２０・（５０／１００） ＝１０ …（５）

【００８０】これにより、Ｈ２ガスの流量Ａ４（リット
ル毎分）は、次式（６）に示すように、約１０．３０６
（リットル毎分）となる。 Ａ４＝１０（１．０１／０．９８） ＝１０．３０６ …（６）

【００８１】［ステップ６］変換テーブルの作成 次に、流量コントローラ５５は、目標値変換用のテーブ
ルに、ステップ５で求めた複数のＨ２ガスの流量とステ
ップ４で取り込んだ複数の検出値との組合せを流量／流
量比変換データとして書き込む。これにより、流量／流
量比変換データの校正が終了したことになる。

【００８２】上記のようにして作成されたテーブルを用
いて作業者により指定された目標値を流量比で表される
目標値に変換する処理は、例えば、次のようにして行わ
れる。

【００８３】すなわち、この処理においては、流量コン
トローラ５５は、まず、ステップ６で作成したテーブル
上で、作業者により指定されたＨ２ガスの流量の目標値
と同じ値を持つＨ２ガスの供給流量を検索する。この検
索により同じ値を持つ供給流量が見つかれば、流量コン
トローラ５５は、この供給流量と組になっている検出値
をＨ２ガスの流量比で表される目標値として選択する。
これは、テーブルに記入されているＨ２ガスの供給流量
と検出値とは、それぞれ作業者によって指定されるＨ２
ガスの目標値と流量コントローラ５５により指定される
目標値に対応するからである。

【００８４】これに対し、同じ供給流量が見つからなけ
れば、流量コントローラ５５は、例えば、テーブルに記
入されている１つの組合せ中のＨ２ガスの供給流量と検
出値との比例演算により、Ｈ２ガスの目標値（流量比で
表される目標値）を求める。

【００８５】この比例演算の演算式は、Ｈ２ガスの供給
流量をＡ４、Ｈ２ガスの流量（制御出力）の検出値をＡ
５、作業者により指定されたＨ２ガスの流量の目標値を
Ａ６、流量コントローラ５５により指定されたＨ２ガス
の流量の目標値をＡ７とすると、次式（７）で表され
る。 Ａ４：Ａ５＝Ａ６：Ａ７ …（７）

【００８６】これにより、流量コントローラ５５により
指定されるＨ２ガスの目標値Ａ７（％）は、次式（８）
で表される。 Ａ７＝Ａ６・Ａ５／Ａ４ …（８）

【００８７】以上が、Ｈ２ガス用の流量／流量比変換デ
ータの校正動作である。

【００８８】なお、以上の説明では、Ｏ２ガスの供給流
量Ａ３（リットル毎分）をＨ２ガスの供給流量Ａ４（リ
ットル毎分）に換算する流量換算処理を流量／流量比変
換データの校正時に求める場合を説明した。しかしなが
ら、本実施の形態では、これを予め求めておくようにし
てもよい。

【００８９】［１−２−３］Ｏ２ガス用の流量／流量比
変換データの校正動作 次に、Ｏ２ガス用の流量／流量比変換データの校正動作
を説明する。

【００９０】この校正動作も、Ｈ２ガス用の流量／流量
比変換データの校正動作と同じようにして行われる。し
たがって、以下の説明では、この動作を簡単に説明す
る。

【００９１】［ステップ１］流量／流量比変換データの
校正パターンの設定 まず、流量コントローラ５５は、エアバルブ４５〜４
８，５３，５４の開閉パターンとしてＯ２ガス用の流量
／流量比変換データを校正するための開閉パターンを設
定する。これにより、エアバルブ４６，４７，５４が閉
じられ、エアバルブ４５，５３，４８が開かれる。

【００９２】その結果、Ｈ２ガス給源４１からマスフロ
ーコントローラ４９，５０を介して処理容器３０にＨ２
ガスが供給される。また、Ｏ２ガス源４２からマスフロ
ーコントローラ５０へのＯ２ガスの供給と、マスフロー
コントローラ４９から処理容器３０への制御出力の供給
と、マスフローコントローラ５０からマスフローコント
ローラ４９への制御出力の供給とが禁止される。

【００９３】［ステップ２］所定の目標値指定 次に、流量コントローラ５５は、Ｈ２ガス用のマスフロ
ーコントローラ４９に対して所定の目標値、例えば、１
００％の目標値を指定する。

【００９４】［ステップ３］Ｈ２ガスの供給 次に、流量コントローラ５５は、Ｏ２ガス用のマスフロ
ーコントローラ５０に所定流量のＨ２ガスを供給する。
この供給は、Ｈ２ガス用のマスフローコントローラ４９
に対して所定の目標値を指定することにより行われる。
これにより、この目標値で規定される流量のＨ２ガスが
Ｈ２ガス源４１からマスフローコントローラ４９を介し
てマスフローコントローラ５０に供給される。この場
合、Ｈ２ガスの流量は、マスフローコントローラ５０の
フルスケール以下となるように設定される。

【００９５】［ステップ４］検出値の取込み 次に、流量コントローラ５５は、Ｏ２ガス用のマスフロ
ーコントローラ５０の検出値を取り込む。

【００９６】［ステップ５］流量の換算 次に、流量コントローラ５５は、ステップ３のガス供給
処理によりマスフローコントローラ５０に供給されたＨ
２ガスの供給流量をＯ２ガスの供給流量に換算する。

【００９７】［ステップ６］変換テーブルの作成 次に、流量コントローラ５５は、ステップ５で求めた複
数のＯ２ガスの供給流量とステップ４で取り込んだ複数
のＯ２ガスの検出値との組合せを変換テーブルに書き込
む。これにより、Ｏ２ガスの流量／流量比変換データの
校正処理が終了する。

【００９８】以上が、Ｏ２ガスの流量／流量比変換デー
タの校正動作である。

【００９９】［１−３］効果 以上詳述した本実施の形態によれば、次のような効果を
得ることができる。

【０１００】（１）まず、本実施の形態によれば、マス
フローコントローラ４９または５０に所定の目標値を指
定するとともに、この目標値に対応する流量以下のＯ２
ガスまたはＨ２ガスを供給し、このＯ２ガスまたはＨ２
ガスの供給流量とマスフローコントローラ４９または５
０の検出値との組合せに基づいて、Ｈ２ガスまたはＯ２
ガス用の流量／流量比変換データを校正するようにした
ので、このデータを自動的に校正することができる。こ
れにより、流量／流量比変換データとして、誤って本来
のデータとは異なるデータを校正してしまうことを防止
することができる。

【０１０１】（２）また、本実施の形態によれば、流量
／流量比変換データを校正すべき側のマスフローコント
ローラ４９または５０に所定流量のガスを供給する場
合、流量／流量比変換データを校正しない側のマスフロ
ーコントローラ５０または４９を利用して供給するよう
にしたので、流量／流量比変換データの自動校正を実現
するために従来のガス供給装置４０に追加する要素を極
力少なくすることができる。これにより、ガス供給装置
４０の構成を簡単にすることができる。

【０１０２】（３）また、本実施の形態によれば、流量
／流量比変換データとして複数のデータ（組合せ）を登
録するようにしたので、作業者により指定された目標値
と同じ供給流量を持つの流量／流量比変換データがテー
ブルに存在する可能性を高めることができる。これによ
り、目標値を変換するための時間を短縮する可能性を高
めることができる。

【０１０３】（４）また、本実施の形態によれば、流量
／流量比変換データを校正する側のマスフローコントロ
ーラ４９または５０に対して所定の目標値を指定する場
合、１００％の目標値を指定するようにしたので、流量
／流量比変換データとして、複数のデータを登録する場
合、この登録データ数を多くすることができる。

【０１０４】［２］第２の実施の形態 ［２−１］構成 図３は、本発明の第２の実施の形態の構成を示すブロッ
ク図である。なお、図３において、先の図１とほぼ同じ
機能を果たす部分には同一符号を付して詳細な説明を省
略する。

【０１０５】先の第１の実施の形態では、流量／流量比
変換データを校正すべき側のマスフローコントローラ４
９または５０に校正用のガスを供給する場合、基板処理
用のガス（Ｏ２ガスまたはＨ２ガス）を供給する場合を
説明した。これに対し、本実施の形態では、校正専用の
ガスを供給するようにしたものである。

【０１０６】すなわち、図３において、７１は、校正専
用のガスが蓄積されたガス源である。図には、校正専用
のガスとして、不活性ガスであるＮ２ガスを用いる場合
を代表として示す。

【０１０７】このＮ２ガス源７１は、配管７２を介して
マスフローコントローラ５０の入力口に接続されるとと
もに、この配管７２から分岐された配管７３を介してマ
スフローコントローラ４９の入力口に接続されている。
各配管７２，７３には、それぞれこれらを遮断するため
のエアバルブ７４，７５が挿入されている。

【０１０８】［２−２］動作 上記構成において、動作を説明する。なお、本実施の形
態のガス供給動作は、先の実施の形態のガス供給動作と
ほぼ同じである。したがって、以下の説明では、ガス供
給動作を省略し、流量／流量比変換データの校正動作の
みを説明する。

【０１０９】［２−２−１］Ｈ２ガス用の流量／流量比
変換データの校正動作 まず、Ｈ２ガス用の流量／流量比変換データの校正動作
を説明する。この校正動作は次のような手順で行われ
る。

【０１１０】［ステップ１］流量／流量比変換データの
校正パターンの設定 まず、流量コントローラ５５は、エアバルブ４５〜４
８，５３，５４，７４，７５の開閉パターンとして、Ｈ
２ガスの流量／流量比変換データを校正するための開閉
パターンを設定する。これにより、エアバルブ４５，４
７，４８，５３，７５が閉じられ、エアバルブ７４，５
４，４６が開かれる。

【０１１１】その結果、Ｎ２ガス供給源７１からマスフ
ローコントローラ５０，４９を介して処理容器３０にＮ
２ガスが供給される。また、ガス源４１，４２とからマ
スフローコントローラ４９，５０へのガスとの供給と、
マスフローコントローラ５０から処理容器３０への制御
出力の供給と、マスフローコントローラ４９からマスフ
ローコントローラ５０への制御出力の供給とが禁止され
る。

【０１１２】［ステップ２］所定の目標値の指定 次に、流量コントローラ５５は、Ｈ２ガス用のマスフロ
ーコントローラ４９に対して所定の目標値として、例え
ば、１００％の目標値を指定する。

【０１１３】［ステップ３］Ｎ２ガスの供給 次に、流量コントローラ５５は、Ｈ２ガス用のマスフロ
ーコントローラ４９に所定流量のＮ２ガスを供給する。
この供給は、Ｏ２ガス用のマスフローコントローラ５０
に対して所定の目標値を指定することにより行われる。
これにより、この目標値に対応する流量のＮ２ガスがＮ
２ガス源７１からマスフローコントローラ５０を介して
マスフローコントローラ４９に供給される。この場合、
Ｎ２ガスの供給流量は、マスフローコントローラ４９の
フルスケール以下となるように設定される。また、この
場合も、Ｎ２ガスの供給流量として、例えば、複数の供
給流量が設定される。

【０１１４】［ステップ４］検出値の取込み 次に、流量コントローラ５５は、マスフローコントロー
ラ４９のセンサ６２の検出値を取り込む。

【０１１５】［ステップ５］流量の換算 次に、流量コントローラ５５は、ステップ３の処理によ
りマスフローコントローラ４９に供給されたＮ２ガスの
流量をＨ２ガスの供給流量に換算する。この換算処理
は、Ｎ２ガスの供給流量をＯ２ガスの供給流量に換算す
る処理と、この換算処理により得られたＯ２ガスの供給
流量をＨ２ガスの供給流量に換算する処理とからなる。

【０１１６】Ｎ２ガスの供給流量をＯ２ガスの供給流量
に換算する処理は、次のようにして行われる。

【０１１７】今、Ｏ２ガス用のマスフローコントローラ
５０のフルスケールをＢ１（リットル毎分）とし、流量
コントローラ５５により指定されるＮ２ガスの目標値を
Ｂ２（％）とする。この場合、Ｈ２ガス用のマスフロー
コントローラ４９に供給されるＮ２ガスの流量Ｂ３（リ
ットル毎分）は、次式（９）で表される。 Ｂ３＝Ｂ１・（Ｂ２／１００） …（９）

【０１１８】ここで、Ｎ２ガスのコンバージョンファク
タを１．００とし、Ｏ２ガスのコンバージョンファクタ
を０．９８とすると、Ｎ２ガスの供給流量Ｂ３（リット
ル毎分）とＯ２ガスの供給流量Ｂ４（リットル毎分）と
の間には、次式（１０）が成り立つ。 Ｂ３：Ｂ４＝１．００：０．９８ …（１０）

【０１１９】これにより、Ｏ２ガスの供給流量Ｂ４（リ
ットル毎分）は、次式（１１）で表される。 Ｂ４＝（０．９８／１．００）・Ｂ３ ＝０．９８・Ｂ３ …（１１）

【０１２０】この換算により得られたＯ２ガスの供給流
量Ｂ３（リットル毎分）をＨ２ガスの供給流量Ｂ５（リ
ットル毎分）に換算する処理は、次のようにして行われ
る。

【０１２１】今、Ｈ２ガスのコンバージョンファクタを
１．０１とする。この場合、マスフローコントローラ４
９に供給されるＯ２ガスの流量Ｂ４（リットル毎分）と
Ｈ２ガスの流量Ｂ５（リットル毎分）との間には、次式
（１２）が成り立つ。 Ｂ４：Ｂ５＝０．９８：１．０１ …（１２）

【０１２２】これにより、Ｈ２ガスの流量Ｂ５（リット
ル毎分）は、次式（１３）で表される。 Ｂ５＝（１．０１／０．９８）・Ｂ４ ＝（１．０１／０．９８）・０．９８・Ｂ３ ＝１．０１Ｂ３ ＝１．０１Ｂ１・（Ｂ２／１００） …（１３）

【０１２３】これを具体例を使って説明する。今、例え
ば、Ｏ２ガス用のマスフローコントローラ５０のフルス
ケールＢ１（リットル毎分）を２０（リットル毎分）と
し、Ｎ２ガスの目標値Ｂ２（％）を５０（％）とする。
この場合、Ｈ２ガスの流量Ｂ５（リットル毎分）は、次
式（１４）に示すように、約９．９（リットル毎分）と
なる。 Ｂ５＝１．０１・２０（５０／１００） ＝１０．１ …（１４）

【０１２４】［ステップ６］変換テーブルの作成 次に、流量コントローラ５５は、変換テーブルに、ステ
ップ５で求めたＨ２ガスの複数の供給流量Ｂ５とステッ
プ４で取り込んだＨ２ガスの複数の検出値との組合せを
書き込む。これにより、Ｈ２ガスの流量／流量比変換デ
ータが校正されたことになる。

【０１２５】以上が、Ｈ２ガス用の流量／流量比変換デ
ータの校正動作である。

【０１２６】［２−２−２］Ｏ２ガス用の流量／流量比
変換データの校正動作 次に、Ｏ２ガス用の流量／流量比変換データの校正動作
を説明する。

【０１２７】この校正動作も、Ｈ２ガス用の流量／流量
比変換データの校正動作とほぼ同じようにして行われ
る。したがって、以下の説明では、この校正動作を簡単
に説明する。

【０１２８】［ステップ１］流量／流量比変換データの
校正パターンの設定 まず、流量コントローラ５５は、エアバルブ４５〜４
８，５３，５４，７４，７５の開閉パターンとして、Ｏ
２ガスの流量／流量比変換データを校正するための開閉
パターンを設定する。これにより、エアバルブ４５，４
６，４７，５４，７４が閉じられ、エアバルブ７５，５
３，４８が開かれる。

【０１２９】その結果、Ｎ２ガス供給源７１からマスフ
ローコントローラ４９，５０を介して処理容器３０にＮ
２ガスが供給される。また、ガス源４１，４２からマス
フローコントローラ４９，５０へのガスとの供給と、マ
スフローコントローラ４９から処理容器３０への制御出
力の供給と、マスフローコントローラ５０からマスフロ
ーコントローラ４９への制御出力の供給とが禁止され
る。

【０１３０】［ステップ２］所定の目標値指定 次に、流量コントローラ５５は、Ｏ２ガス用のマスフロ
ーコントローラ５０に対して所定の目標値として、例え
ば、１００％の目標値を指定する。

【０１３１】［ステップ３］Ｏ２ガスの供給 次に、流量コントローラ５５は、Ｏ２ガス用のマスフロ
ーコントローラ５０に所定流量のＮ２ガスを供給する。
この供給は、Ｈ２ガス用のマスフローコントローラ４９
に対して所定の目標値を指定することにより行われる。
これにより、この目標値で規定される流量のＮ２ガスが
Ｎ２ガス源７１からマスフローコントローラ４９を介し
てマスフローコントローラ５０に供給される。

【０１３２】［ステップ４］検出値の取込み 次に、流量コントローラ５５は、マスフローコントロー
ラ５０のセンサ６２の検出値を取り込む。

【０１３３】［ステップ５］流量の換算 次に、流量コントローラ５５は、ステップ３のガス供給
処理によりマスフローコントローラ５０に供給されたＮ
２ガスの流量をＯ２ガスの流量に換算する。

【０１３４】［ステップ６］変換テーブルの作成 次に、流量コントローラ５５は、ステップ５で求めたＯ
２ガスの供給流量とステップ４で取り込んだ検出値とを
変換テーブルに書き込む。これにより、流量／流量比変
換データが校正されたことになる。

【０１３５】以上が、Ｏ２ガス用の流量／流量比変換デ
ータの校正動作である。

【０１３６】［２−３］効果 以上詳述した本実施の形態においても、先の実施の形態
とほぼ同じ効果を得ることができるとともに、さらに、
流量／流量比変換データの校正にＯ２ガスやＨ２ガスよ
り安価なＮ２ガスを用いることができるという利点を得
ることができる。

【０１３７】［３］第３の実施の形態 ［３−１］構成 図４は、本発明の第３の実施の形態の構成を示すブロッ
ク図である。なお、図４において、先の図３とほぼ同じ
機能を果たす部分には同一符号を付して詳細な説明を省
略する。

【０１３８】先の第２の実施の形態では、校正用のガス
の供給流量を設定する場合、流量／流量比変換データを
校正しない側のマスフローコントローラ４９または５０
を用いて設定する場合を説明した。

【０１３９】これに対し、本実施の形態では、図４に示
すように、流量設定用の標準マスフローコントローラ７
６を設け、このマスフローコントローラ７６により、校
正用のガスの供給流量を設定するようにしたものであ
る。

【０１４０】この標準マスフローコントローラ７６は、
例えば、Ｎ２ガス源７１とエアバルブ７４との間に挿入
されている。このような構成においては、Ｎ２ガスをマ
スフローコントローラ４９に供給するための配管７３及
びエアバルブ７５（図３参照）と、マスフローコントロ
ーラ４９の制御出力をマスフローコントローラ５０に供
給するための配管５１及びエアバルブ５３（図３参照）
と、マスフローコントローラ４９の制御出力が処理容器
３０に供給されることを防止するためのエアバルブ４６
（図３参照）とが不要になる。

【０１４１】なお、この標準マスフローコントローラ７
６は、Ｎ２ガスにより校正されている。

【０１４２】［３−２］動作 上記構成において、動作を説明する。

【０１４３】本実施の形態では、エアバルブ４５，４
７，４８，７４の１つの開閉パターンで、Ｈ２ガスの流
量／流量比変換データとＯ２ガスの流量／流量比変換デ
ータとを同時に校正することもできるし、いずれか一方
のみを校正することもできる。以下の説明では、２つの
流量／流量比変換データの校正を同時に行う場合を代表
として説明する。

【０１４４】［ステップ１］流量／流量比変換データの
校正パターンの設定 まず、流量コントローラ５５は、エアバルブ４５，４
７，４８，５４，７４の開閉パターンとして、流量／流
量比変換データを校正するためのパターンを設定する。
これにより、エアバルブ４５，４７，４８が閉じられ、
エアバルブ７４，５４が開かれる。

【０１４５】その結果、Ｎ２ガス供給源７１からマスフ
ローコントローラ７６，５０，４９を介して処理容器３
０にＮ２ガスが供給される。また、Ｈ２ガス源４１から
マスフローコントローラ４９へのＨ２ガスの供給と、Ｏ
２ガス源４２からマスフローコントローラ５０へのＯ２
ガスの供給と、処理容器３０へのマスフローコントロー
ラ５０の制御出力の供給とが禁止される。

【０１４６】［ステップ２］所定の目標値の指定 次に、流量コントローラ５５は、Ｈ２ガス用のマスフロ
ーコントローラ４９とＯ２ガス用のマスフローコントロ
ーラ５０に対して、所定の目標値として、例えば、１０
０％の目標値を指定する。

【０１４７】［ステップ３］Ｎ２ガスの供給 次に、流量コントローラ５５は、マスフローコントロー
ラ５０，４９に所定流量のＮ２ガスを供給する。この供
給は、標準マスフローコントローラ７６に対して所定の
目標値を指定することにより行われる。これにより、こ
の目標値で規定される流量のＮ２ガスがＮ２ガス供給源
７１から標準マスフローコントローラ７５を介してマス
フローコントローラ５０，４９に順次に供給される。

【０１４８】［ステップ４］検出値の取込み 次に、流量コントローラ５５は、マスフローコントロー
ラ５０，４９の検出値を取り込む。

【０１４９】［ステップ５］供給流量の換算処理 次に、流量コントローラ５５は、ステップ３のガス供給
処理によりマスフローコントローラ５０，４９に供給さ
れたＮ２ガスの流量をＯ２ガスの供給流量とＨ２ガスの
供給流量に換算する。

【０１５０】Ｎ２ガスの供給流量をＯ２ガスの供給流量
に換算する処理は、次のようにして行われる。

【０１５１】今、標準マスフローコントローラ７５のフ
ルスケールをＣ１（リットル毎分）とし、流量コントロ
ーラ５５により指定されるＮ２ガスの流量の目標値をＣ
２（％）とする。この場合、Ｏ２ガス用のマスフローコ
ントローラ５０に供給されるＮ２ガスの流量Ｃ３（リッ
トル毎分）は、次式（１５）で表される。 Ｃ３＝Ｃ１・（Ｃ２／１００） …（１５）

【０１５２】ここで、Ｎ２ガスのコンバージョンファク
タを１．００とし、Ｏ２ガスのコンバージョンファクタ
を０．９８とすると、Ｎ２ガスの供給流量Ｃ３（リット
ル毎分）とＯ２ガスの供給流量Ｃ４（リットル毎分）と
の間には、次式（１６）が成り立つ。 Ｃ３：Ｃ４＝１．００：０．９８ …（１６）

【０１５３】これにより、Ｏ２ガスの供給流量Ｃ４（リ
ットル毎分）は、次式（１７）で表される。 Ｃ４＝（０．９８／１．００）・Ｃ３ ＝０．９８・Ｃ３ …（１７）

【０１５４】同様に、Ｈ２ガスの供給流量Ｃ５（リット
ル毎分）は、Ｈ２ガスのバージョンファクタを１．０１
とすると、次式（１８）で表される。

【０１５５】 Ｃ５＝１．０１・Ｃ３ …（１８）

【０１５６】これを具体例を使って説明する。今、例え
ば、標準マスフローコントローラ７６のフルスケールＣ
１（リットル毎分）を２０（リットル毎分）とし、Ｎ２
ガスの目標値Ｃ２（％）を５０（％）とすると、Ｏ２ガ
スの供給流量Ｃ４（リットル毎分）は、次式（１９）に
示すように、約９．８（リットル毎分）となる。 Ｃ４＝０．９８・２０（５０／１００） ＝９．８ …（１９）

【０１５７】同様に、Ｈ２ガスの供給流量Ｃ４（リット
ル毎分）は、次式（２０）に示すように、約１０．１
（リットル毎分）となる。 Ｃ５＝１．０１・２０（５０／１００） ＝１０．１ …（２０）

【０１５８】［ステップ６］変換テーブルの作成 次に、流量コントローラ５５は、ステップ５で求めたＯ
２ガスの供給流量とステップ４で取り込んだマスフロー
コントローラ５０の検出値との組合せをＯ２ガス用の変
換テーブルに書き込む。これにより、Ｏ２ガスの流量／
流量比変換データが校正されたことになる。

【０１５９】同様に、流量コントローラ５５は、ステッ
プ５で求めたＨ２ガスの供給流量とステップ４で取り込
んだマスフローコントローラ４９の検出値との組合せを
Ｈ２ガス用の変換テーブルに書き込む。これにより、Ｈ
２ガスの流量／流量比変換データが校正されたことにな
る。

【０１６０】以上が、Ｈ２ガスの流量／流量比変換デー
タとＯ２ガスの流量／流量比変換データとの校正を同時
に行う場合の動作である。なお、これら２つの流量／流
量比変換データのいずれか一方の校正を行う場合は、ス
テップ４〜６の処理をいずれか一方についてだけ行えば
よい。

【０１６１】［３−３］効果 以上詳述した本実施の形態においても、先の第２の実施
の形態とほぼ同じ効果を得ることができるとともに、さ
らに次のような効果を得ることができる。

【０１６２】（１）まず、本実施の形態によれば、校正
用のガスの供給流量を設定するマスフローコントローラ
として、流量設定専用の標準マスフローコントローラ７
６を設けるようにしたので、Ｈ２ガスの流量／流量比変
換データとＯ２ガスの流量／流量比変換データとを同時
に校正することができる。

【０１６３】（２）また、このような構成によれば、先
の第１、第２の実施の形態のように、基板処理用のマス
フローコントローラ４９，５０をたすき掛けする必要が
ないので、先の第１、第２の実施の形態よりエアバルブ
や配管の数を減らすことができる。

【０１６４】［３−４］変形例 以上の説明では、標準マスフローコントローラ７６をマ
スフローコントローラ５０に接続する場合を説明した。
しかしながら、本実施の形態では、これをマスフローコ
ントローラ４９に接続するようにしてもよい。

【０１６５】［４］第４の実施の形態 ［４−１］構成 図５は、本発明の第４の実施の形態の構成を示すブロッ
ク図である。なお、図５において、先の図４とほぼ同じ
機能を果たす部分には同一符号を付して詳細な説明を省
略する。

【０１６６】先の第３の実施の形態では、流量設定用の
標準マスフローコントローラ７６に基板処理用の２つの
マスフローコントローラ４９，５０を直列に接続する場
合を説明した。これに対し、本実施の形態は、図５に示
すように、これらを並列に接続するようにしたものであ
る。

【０１６７】すなわち、配管７７の一端は、Ｎ２ガス源
７１の出力口に接続され、他端は、配管７８を介してマ
スフローコントローラ４９の入力口に接続されるとも
に、配管７９を介してマスフローコントローラ５０の入
力口に接続されている。標準マスフローコントローラ７
６は、配管７７に挿入されている。配管７８，７９に
は、これらを遮断するためのエアバルブ８０，８１が挿
入されている。

【０１６８】［４−２］動作 上記構成において、動作を説明する。本実施の形態にお
いても、先の第３の実施の形態と同様に、Ｈ２ガスの流
量／流量比変換データとＯ２ガスの流量／流量比変換デ
ータとを同時に校正することができるとともに、いずれ
か一方のみを校正することができる。

【０１６９】Ｈ２ガスの流量／流量比変換データのみを
校正する場合は、流量コントローラ５５は、エアバルブ
４５，４７，８１を閉じ、エアバルブ８０を開く。これ
により、この場合は、Ｎ２ガス源７１から標準マスフロ
ーコントローラ７６を介してＨ２ガス用のマスフローコ
ントローラ４９にＮ２ガスが供給される。

【０１７０】これに対し、Ｏ２ガスの流量／流量比変換
データのみを校正する場合は、流量コントローラ５５
は、エアバルブ４５，４７，８０を閉じ、エアバルブ８
１を開く。これにより、この場合は、Ｎ２ガス源７１か
ら標準マスフローコントローラ７６を介してＯ２ガス用
のマスフローコントローラ５０にＮ２ガスが供給され
る。

【０１７１】また、２つの流量／流量比変換データを同
時に校正する場合は、流量コントローラ５５は、エアバ
ルブ４５，４７を閉じ、エアバルブ８０，８１を開く。
これにより、この場合は、Ｎ２ガス源７１から標準マス
フローコントローラ７６を介してＨ２ガス用のマスフロ
ーコントローラ４９とＯ２ガス用のマスフローコントロ
ーラ５０にＮ２ガスが供給される。

【０１７２】この場合、マスフローコントローラ４９，
５０には、配管７８，７９の径比に応じた流量のＮ２ガ
スが供給される。したがって、予め、この径比を流量コ
ントローラ５５に登録しておけば、標準マスフローコン
トローラ７６にマスフローコントローラ４９，５０を並
列に接続しているにもかかわらず、流量コントローラ５
５は、マスフローコントローラ４０，５５に供給される
Ｎ２ガスの流量を認識することができる。

【０１７３】なお、校正処理の手順は、上述した第３の
実施の形態とほぼ同じなので、ここでは、説明を省略す
る。

【０１７４】［４−３］効果 以上詳述した本実施の形態によれば、流量設定用の標準
マスフローコントローラ７６に基板処理用のマスフロー
コントローラ４９，５０を並列に接続するようにしたの
で、Ｈ２ガスの流量／流量比変換データとＯ２ガスの流
量／流量比変換データとのいずれか一方を校正する場
合、校正する側のマスフローコントローラ４９または５
０にのみ校正用のＮ２ガスを供給することができるとい
う利点を得ることができる。

【０１７５】［５］その他の実施の形態 以上、本発明の４つの実施の形態を詳細に説明したが、
本発明は、上述したような実施の形態に限定されるもの
ではない。

【０１７６】（１）例えば、先の実施の形態では、流量
／流量比変換データを複数の組合せ（校正用のガスの供
給流量と検出値）によって表す場合を説明した。しかし
ながら、本発明は、これを１つの組合せで表すようにし
てもよい。このような構成によっても、例えば、比例演
算によって目標値の変換を行うことができる。

【０１７７】（２）また、先の実施の形態では、流量／
流量比変換データとして、校正用ガスの供給流量と検出
値との組合せを用いる場合を説明した。しかしながら、
本発明では、この組合せから求めたフルスケールを用い
るようにしてもよい。

【０１７８】（３）また、先の実施の形態では、流量／
流量比変換データを校正すべき側のマスフローコントロ
ーラに校正用のガスを所定流量供給する場合、マスフロ
ーコントローラを使って供給する場合を説明した。しか
しながら、本発明は、マスフローコントローラ以外の装
置等を使って供給するようにしてもよい。

【０１７９】（４）この他にも、本発明は、その要旨を
逸脱しない範囲で、種々様々変形実施可能なことは勿論
である。

【０１８０】

【発明の効果】以上詳述したように請求項１記載の自動
流量／流量比変換データ校正装置または請求項２記載の
ガス供給装置によれば、流量／流量比変換データを校正
する側の自動ガス流量制御装置に所定の目標値を指定す
るとともに、この目標値に対応する流量以下の校正用ガ
スを供給し、この校正用ガスの供給流量と自動ガス流量
制御装置の検出値との組合せに基づいて、流量／流量比
変換データを校正するようにしたので、このデータを自
動的に校正することができる。これにより、流量／流量
比変換データを登録する場合、誤って本来のデータとは
異なるデータを登録してしまうことを防止することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施の形態の構成を示すブロッ
ク図である。

【図２】本発明の第１の実施の形態に用いられるマスフ
ローコントローラの構成を示すブロック図である。

【図３】本発明の第２の実施の形態の構成を示すブロッ
ク図である。

【図４】本発明の第３の実施の形態の構成を示すブロッ
ク図である。

【図５】本発明の第４の実施の形態の構成を示すブロッ
ク図である。

【図６】従来のガス供給装置を備えた基板処理装置の構
成を示すブロック図である。

【符号の説明】

３０…処理容器、４０…ガス供給装置、４１…Ｈ２ガス
源、４２…Ｏ２ガス源、４３，４４，５１，５２，７
２，７３，７７，７８，７９…配管、４５，４６，４
７，４８，５３，５４，７４，７５，８０，８１…エア
バルブ、４９…Ｈ２ガス用マスフローコントローラ、５
０…Ｏ２ガス用マスフローコントローラ、５５…流量コ
ントローラ、６１…コントロールバルブ、６２…セン
サ、６３…流量制御部、７１…Ｎ２ガス源、７６…標準
マスフローコントローラ。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 目標値と検出値がそれぞれ制御可能な最
   大流量に対する目標流量と検出流量の比で表される自動
   ガス流量制御装置に対して、所定の目標値を指定する目
   標値指定手段と、 この目標値指定手段により指定された目標値に対応する
   流量以下の流量の校正用ガスをガス流路に供給する校正
   用ガス供給手段と、 この校正用ガス供給手段によって前記ガス流路に供給さ
   れる前記校正用ガスの流量とこの流量の校正用ガスを前
   記ガス流路に供給したときの前記自動ガス流量制御装置
   の検出値とに基づいて、流量で表される目標値を前記最
   大流量に対する流量比で表される目標値に変換するため
   の流量／流量比変換データを校正する流量／流量比変換
   データ校正手段とを備えたことを特徴とする自動流量／
   流量比変換データ校正装置。
2. 【請求項２】 ガス流路を介してガスの供給先にガスを
   供給する第１のガス供給手段と、 流量で表されるガスの流量の目標値を、流量／流量比変
   換データに基づいて、制御可能なガスの最大流量に対す
   る流量比で表される目標値に変換する流量／流量比変換
   手段と、 前記ガス流路を流れるガスの流量を検出するものであっ
   て、この検出値が前記最大流量に対する検出流量の比で
   表される流量検出手段と、 前記流量／流量比変換手段の変換処理により得られた目
   標値と前記流量検出手段の検出値との偏差が所定の値と
   なるように前記ガス流路を流れるガスの流量を制御する
   流量制御手段と、 前記流量／流量比変換データの校正時、前記流量制御手
   段に前記ガス流路に流すガスの流量の目標値として所定
   の目標値を指定する目標値指定手段と、 前記流量／流量比変換データの校正時、前記目標値指定
   手段により指定された目標値に対応する流量以下の流量
   の校正用ガスを前記ガス流路に供給する第２のガス供給
   手段と、 この第２のガス供給手段によって前記ガス流路に供給さ
   れる前記校正用ガスの流量とこの流量の校正用ガスを前
   記ガス流路に供給したときの前記流量検出手段の検出値
   とに基づいて、前記流量／流量比変換データを校正する
   流量／流量比変換データ校正手段とを備えたことを特徴
   とするガス供給装置。