JP5650548B2 - マスフローコントローラシステム - Google Patents

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Description

本発明は、半導体製造装置やエンジン排ガス測定装置等においてガスの流量を制御するマスフローコントローラシステムに関するものである。
近年、エンジン排ガス測定システム等のガス分析計に、特許文献1に示すようなガス分割器を組み合わせることによって、従来の多数レンジで行っていた測定を1つのレンジで測定することが考えられている。このようなガス分割器を用いることによって、レンジ相関や測定レンジの自動切り替え等の操作が不要になるだけでなく、校正ガスの使用本数の大幅な削減をすることができるという利点がある。
このガス分割器は、既知濃度の試料ガスと例えば窒素(N)ガスやエアー等の希釈ガスとを所定の割合で混合し、所定の濃度のガスを取り出すのに用いられ、その構成は、マスフローコントローラが設けられた試料ガスラインと、マスフローコントローラが設けられた希釈ガスラインとを備えている。
そして、これらのマスフローコントローラ(MFC)は、窒素(N)ガス等の基準ガスを用いて校正された後に、ガス分割器に組み込まれて用いられている。特に試料ガス(成分ガス)ラインに用いられるMFCは、試料ガスの流量を制御するものであり、基準ガスと試料ガスとのコンバージョンファクタ(CF値、ガス種補正係数)を用いて、試料ガスの目標流量を基準ガス流量に換算して、MFCの流量設定値を設定するように構成されている。そして、従来のMFCにおいては、各ガス種毎にそのCF値を1つしか持っておらず、全ての流量設定値においてその1つのCF値を用いて基準ガス流量に換算している。
しかしながら、試料ガスのCF値は、試料ガスの濃度や流量値毎に異なる値であり、1つのCF値のみを用いて基準ガス流量に換算するものでは、その濃度及び流量値によっては誤差が生じてしまうという問題がある。
なお、マスフローコントローラをガス種毎に校正して用いることも考えられるが、ガス種が多岐にわたることから、全てのMFCについてそれらの校正を行う作業が煩雑であり、また、校正に試料ガスを用いることはコストの面からも有効な手段とは言えない。
特開平11−83732号公報
そこで本発明は、上記問題点を一挙に解決するためになされたものであり、試料ガスのCF値が、基準ガスの流量値により異なることに着目して、基準ガスの流量値毎に最適なCF値を選択することによって、マスフローコントローラにより出力される流量を高精度に制御できるようにすることをその主たる所期課題とするものである。
すなわち本発明に係るマスフローコントローラシステムは、基準ガスを用いて校正された流量制御機器と、この流量制御機器に流量設定値を出力する制御機器とを具備するシステムであって、基準ガスの流量値と試料ガスのCF値との対応関係を示す関係データを格納する関係データ格納部と、前記流量制御部により流すべき試料ガスの目標流量を所定のCF値を用いて基準ガス流量に換算する基準ガス流量換算部と、前記基準ガス流量換算部により得られた基準ガス流量及び当該基準ガス流量に対応するCF値から試料ガス流量を算出する試料ガス流量算出部と、前記試料ガス流量算出部により得られた試料ガス流量と前記目標流量との差異が所定範囲よりも大きい場合に、前記試料ガス流量と前記目標流量との差異が所定範囲以下となるように、前記基準ガス流量換算部又は前記試料ガス流量算出部において用いるCF値を更新するCF値更新部とを備えることを特徴とする。ここで基準ガスの流量値とは、基準ガスの流量(例えばccm単位)又は例えばフルスケールを100%とした場合の当該基準ガス流量の割合(%)であっても良い。
このようなものであれば、関係データ格納部に基準ガスの流量値に対応する試料ガスのCF値を記憶させており、基準ガスの流量値に基づいてCF値を選択するように構成しているので、マスフローコントローラにより出力される試料ガス流量を高精度に制御することができる。また、このとき、目標流量を出力するための流量設定値がマスフローコントローラ毎に異なり、目標流量を出力すべき設定流量値が画一的に定まらないことから、流量設定値を変数とするCF値も選択できないという問題がある。しかしながら、本発明のように、目標流量と、実際に出力されるであろう流量(試料ガス流量)とを比較して、その差異が所定範囲内となるようにCF値を更新するという手法を用いることによって、上記問題を解決して、基準ガスの流量値毎に最適なCF値を選択して、高精度に流量制御できるようになる。
前記CF値更新部の具体的な実施の態様としては、前記CF値更新部が、前記試料ガス流量算出部により得られた試料ガス流量と前記目標流量との差異に関連する値を用いて前記基準ガス流量を更新し、前記更新後の基準ガス流量に対応するCF値によって、前記基準ガス流量換算部において用いるCF値を更新することが考えられる。これによれば、試料ガス流量算出部により得られた試料ガス流量と目標流量との差を基準ガス流量にフィードバックすることによって、その差を反映させてCF値を更新することができるので、最適なCF値の選択が容易となる。
また、前記CF値更新部が、前記目標流量から、前記試料ガス流量算出部により得られた試料ガス流量と前記目標流量との差を差し引いた流量を新たな目標流量とし、当該目標流量を前記基準ガス流量換算部に出力するとともに、前記基準ガス流量換算部において用いるCF値を更新することが考えられる。
また、本発明に係るマスフローコントローラシステムの制御プログラムが、基準ガスを用いて校正された流量制御機器と、この流量制御機器に流量設定値を出力する制御機器とを具備するマスフローコントローラシステムの制御プログラムであって、基準ガスの流量値と試料ガスのCF値との対応関係を示す関係データを格納する関係データ格納部と、前記流量制御部により流すべき試料ガスの目標流量を所定のCF値を用いて基準ガス流量に換算する基準ガス流量換算部と、前記基準ガス流量換算部により得られた基準ガス流量及び当該基準ガス流量に対応するCF値から試料ガス流量を算出する試料ガス流量算出部と、前記試料ガス流量算出部により得られた試料ガス流量と前記目標流量との差異が所定範囲よりも大きい場合に、前記試料ガス流量と前記目標流量との差異が所定範囲以下となるように、前記基準ガス流量換算部又は前記試料ガス流量算出部において用いるCF値を更新するCF値更新部と、としての機能を前記制御機器に発揮させることを特徴とする。
このように構成した本発明によれば、試料ガスのCF値が基準ガス流量により異なることに着目して、基準ガス流量毎に最適なCF値を選択することによって、マスフローコントローラにより出力される流量を高精度に制御できる。
本発明の一実施形態に係るマスフローコントローラシステムの構成図である。 同実施形態の制御機器の機能構成図である。 MFC4における20%濃度のCOガスの流量−CF値関係を示す図である。 同実施形態のマスフローコントローラシステムの動作を示すフローチャートである。 変形実施形態に係る標準流量設定値及び流量設定値の関係を示す図である。 変形実施形態に係る制御機器の機能構成図である。
100・・・マスフローコントローラシステム
2 ・・・ガス濃度調整器
MFC・・・マスフローコントローラ
3 ・・・制御機器
D1 ・・・関係データ格納部
31 ・・・受付部
32 ・・・基準ガス流量換算部
33 ・・・流量設定値算出部
34 ・・・試料ガス流量算出部
35 ・・・CF値更新部
以下に本発明に係るマスフローコントローラシステムの一実施形態について図面を参照して説明する。
本実施形態に係るマスフローコントローラシステム100は、半導体製造装置と組み合わされて当該半導体製造装置に処理ガスを供給するために用いられ、又は、エンジン排ガス測定装置等の分析装置に測定ガス又はスパンガス等の試料ガスを供給するために用いられるものである。
具体的にこのものは、エンジン排ガス測定装置等の分析装置に対して所定濃度の校正用標準ガスを供給するものであり、濃度既知の成分ガス(スパンガス)とこれを所定の濃度に希釈するための希釈ガスとが入力されて、所定の濃度の校正用標準ガスを出力する。その構成は、図1に示すように、ガス濃度調整器(ガス分割器)2及び当該ガス濃度調整器2を制御する制御機器3とを備えている。
ガス濃度調整器2は、希釈ガスであるエアーを流通するエアー供給ラインL1と、希釈ガスである窒素(N)ガスを流通する窒素ガス供給ラインL2と、成分ガスを流通する成分ガス供給ラインL3とを備えている。なお、本実施形態のガス濃度調整器2は、窒素酸化物分析計用のNOコンバータの変換効率をチェックするためのオゾン発生器4が設けられたチェックラインL4を備えている。
エアー供給ラインL1及び窒素ガス供給ラインL2のガス入口には異物除去のためのフィルタF1、F2が設けられており、それらラインL1、L2は途中で互いに合流している。そしてその合流点P1の下流側に希釈ガスの流量制御用のマスフローコントローラ(以下、MFC1という)及び開閉弁V1がこの順で設けられている。また、エアー供給ラインL1において合流点P1の上流側には開閉弁V2が設けられ、窒素ガス供給ラインL2において合流点の上流側には開閉弁V3が設けられている。なお、エアー供給ラインL1において開閉弁V3の上流側には、成分ガスラインL3に接続される流路L5が接続され、当該流路L5には開閉弁V4が設けられている。また、窒素ガス供給ラインL2において開閉弁V2の上流側には、成分ガスラインL3に接続される流路L6が接続され、当該流路L6には開閉弁V5が設けられている。
成分ガス供給ラインL3のガス入口には異物除去のためのフィルタF3が設けられており、下流において3つの流路L31〜L33に分岐しており、これらの分岐流路L31〜L33には、成分ガスの流路制御用のマスフローコントローラ(以下、MFC2〜MFC4)及び開閉弁V6〜V8がこの順で設けられている。そして、この分岐流路L31〜L33は開閉弁V6〜V8の下流で合流しており、その合流点P2の下流において成分ガス供給ラインL3は、エアー供給ラインL1(窒素ガス供給ラインL2)に合流している。各分岐流路L31〜L33に設けられたMFC2〜MFC4は、Nガス(基準ガス)により校正されたものであり、その流量レンジが異なり、たとえばMFC2の流量レンジが37ccm(N基準(Nガスを流して校正された流量レンジ))、MFC3の流量レンジが420ccm(N基準)、MFC4の流量レンジが4700ccm(N基準)である。
なお、図1中の符号L7は、成分ガス排出ラインである。この成分ガス排出ラインL7は、前記MFC2に成分ガスを流す場合において、当該MFC2の流量レンジが小さいことに起因にして当該MFC2の上流で生じるガスの滞留を防ぐために成分ガスの一部を外部に排出するものである。具体的に成分ガス排出ラインL7は、上流側が成分ガスラインL3においてMFC2の上流側に接続され、下流側が外部に接続されている。また、成分ガス排出ラインL7上には、MFC2を用いる場合に開放される開閉弁V9及び成分ガス排出ラインL7を流れる成分ガス流量を調整するための流量抵抗体R1とが設けられている。
また、上記のMFC1〜MFC4は、流路を流れる試料ガスの流量を検知する流量センサと、流量センサの出力値と後述する制御機器3から送信される流量設定値とを比較演算し、この演算結果に基づいて前記ガス流路に設けたコントロールバルブを制御する制御部と、を備えている。これらのMFCは、窒素ガス流量に換算された流量設定値を用いて流量を制御するものである。なお、流量センサは感熱式の流量センサや差圧式の流量センサ等を用いることができる。
そして制御機器3は、上記MFC1〜MFC4を有するガス濃度調整器2と通信可能であり、それらに流量設定値を出力するものである。
この制御機器3は、図示しないCPUや内部メモリ、A/D変換器、D/A変換器等を有したデジタル乃至アナログ電気回路、流量制御バルブ等と通信するための通信インタフェース、入力インタフェースなどで構成されたものである。そして、前記内部メモリに記憶しているプログラムにしたがってCPUやその周辺機器を協働動作させることによって、この制御機器3が、特にMFC2〜MFC4を制御するために、図2に示すように、関係データ格納部D1、受付部31、基準ガス流量換算部32、流量設定値算出部33、試料ガス流量算出部34、CF値更新部35としての機能を少なくとも発揮するように構成している。なお、以下においてMFC2〜MFC4を区別しない場合は、単にMFCという。
以下、各部D1、31〜35について説明する。
関係データ格納部D1は、基準ガスの各流量値(本実施形態では、フルスケールに対する割合(%))と試料ガスのCF値との対応関係(以下、流量−CF値関係という。)を示す関係データを格納する。この流量−CF値関係は、各濃度のガス種毎に求められている。図3には、MFC4を用いて20%濃度の二酸化炭素(CO)ガスを各流量値で流した場合の、当該二酸化炭素ガスのCF値を示している。なお、このような関係データは、ユーザによって予め関係データ格納部D1に格納されている。
ここでCF値について説明する。MFCの校正は、校正対象のMFCと、基準となる高精度のMFC(基準MFC)とを直列接続し、それらに基準ガス(Nガス)を流し、校正対象のMFCの流量センサから得られる出力値(例えば電圧値)と基準MFCの流量値との対応関係を示す検量線を作成することによって行われる。このようにMFCが基準ガスを用いて校正されることから、MFCにより得られる流量は、基準ガスとしての流量となる。この基準ガスとしての流量を試料ガス流量に変換する係数がCF値である。なお、仕様が同じ(バイパス、センサ、ブロックの形状等の規格が同じ、つまりほぼ同じ構造であるが機械的な誤差等により個々に異なる)MFCにおいて、試料ガスの流量及び濃度が同じであれば、CF値は同じ値となる。
受付部31は、MFCにより流すべき成分ガスの目標流量(Q)を特定するための目標信号を受け付ける。具体的に受付部31は、分割率(成分ガス濃度)によりから算出される目標流量(Q)を示す目標流量信号を受け付ける。そして、その目標流量信号を基準ガス流量換算部32及びCF値更新部35に出力する。
基準ガス流量換算部32は、受付部31から取得した目標流量信号が示す目標流量(Q)を、所定のCF値、又は後述するCF値更新部35から得られるCF値を用いて、基準ガス流量(Qref gas)に換算するものである。具体的に基準ガス流量換算部32は、目標流量(Q)を前記CF値で割ることによって、基準ガスである窒素ガス(CF値=1)の流量(Qref gas)に換算する。ここで、所定のCF値(初期CF値)とは、大まかな基準ガス流量により定められるものであり、例えば基準ガス校正により作成された検量線のフルスケール(100%)における流量センサ出力(Q100%)に、当該流量センサ出力(Q100%)に対応するCF値を掛け合わせた理論値と、MFCに試料ガスを流した場合において当該MFCの流量センサ出力が、前記流量センサ出力(Q100%)となる場合に、実際に流れている試料ガス流量である実流量測定値との比(「実流量測定値」/「理論値」)により定まる一点補正係数(α)を用いて定められる。具体的に一点補正係数(α)を用いたCF値の決定方法は、試料ガスの目標流量(Q)を一点補正係数(α)で割った値(Q/α)を基準ガス流量の設定値として流量−CF値関係に基づいて対応するCF値を前記所定のCF値とする。
流量設定値算出部33は、基準ガス流量換算部32により換算された基準ガス流量(Qref gas)を流すためのMFCの流量設定値を算出する。具体的に流量設定値算出部33は、基準ガス流量(Qref gas)/フルスケール流量、から流量設定値(S)を算出する。
試料ガス流量算出部34は、流量設定値算出部33により得られた流量設定値(S)に対応するCF値(CF(S))を流量−CF値関係から求め、流量設定値(S)とCF値(CF(S))とから試料ガス流量(Qsam gas)を算出する。なお、試料ガス流量(Qsam gas)=流量設定値(S)×フルスケール流量×CF値(CF(S))である。
CF値更新部35は、試料ガス流量算出部34により得られた試料ガス流量(Qsam gas)と目標流量(Q)とを差が、所定範囲(例えば±0.01%以内)よりも大きい場合に、基準ガス流量換算部32において用いるCF値を、試料ガス流量(Qsam gas)と目標流量(Q)との比(Qsam gas/Q)に基づいて、流量−CF値関係を用いて更新する。
詳細には、更新前の流量設定値をSbefore、更新後の流量設定値をSafter、とすると、CF値更新部35は、Safter=Sbefore×(Q/Qsam gas)として、更新後の流量設定値(Safter)を算出する。そして、その更新後の流量設定値(Safter)及び関係データ格納部D1より取得した関係データが示す流量−CF値関係に基づいて、当該更新後の流量設定値(Safter)に対応するCF値を算出し、このCF値を示すデータを基準ガス流量換算部32に出力して、当該基準ガス流量換算部32において用いるCF値を更新する。
次に、このように構成したマスフローコントローラシステム100の動作について図4を参照して説明する。
まず、制御機器3が、ガス濃度調整器2が接続されたガス分析計(不図示)から分割率(%)を示す信号を受信する。そして、その分割率から流すべき成分ガスの目標流量(Q)及び希釈ガスの目標流量を設定すると共に、その成分ガスの流量に基づいてMFCを選択する(ステップS1)。
次に、流すべき成分ガスの目標流量(Q)を示す目標流量信号を受付部31が受け付けて、その信号を基準ガス流量換算部32に出力する。基準ガス流量換算部32は、目標流量(Q)を所定のCF値(初期CF値)を用いて基準ガス流量(Qref gas)に換算し、流量設定値算出部33に基準ガス流量データを出力する(ステップS2)。
そのデータを受け付けた流量設定値算出部33は、基準ガス流量(Qref gas)を流すためのMFCの設定流量値(S)を算出する(ステップS3)。そして、その設定流量値データを試料ガス流量算出部34に出力する。
その設定流量値データを受け付けた試料ガス流量算出部34は、流量設定値(S)及び当該流量設定値(S)に対応するCF値(CF(S))から試料ガス流量(Qsam gas)を算出する(ステップS4)。
次に、CF値更新部35が、試料ガス流量(Qsam gas)と目標流量(Q)とを比較する(ステップS5)。そして、CF値更新部35は、試料ガス流量(Qsam gas)と目標流量(Q)との差(Q−Qsam gas)に基づいて、その差が所定範囲内(例えば±0.01%以内)であれば、前記流量設定値算出部33により得られた流量設定値をMFCに出力する(ステップS6)。
一方、差が所定範囲外であれば、CF値を更新し、更新後のCF値を基準ガス流量換算部32に出力する(ステップS7)。これにより、基準ガス流量換算部32において用いられるCF値が更新され、ステップ2以降において、上記と同様のステップが繰り返し行われる。
<本実施形態の効果>
このように構成した本実施形態に係るマスフローコントローラシステム100によれば、目標流量(Q)と、実際に出力されるであろう流量(試料ガス流量(Qsam gas))とを比較して、その差(Q−Qsam gas)が所定範囲以下になるようにCF値を更新することによって、基準ガスの流量値毎に最適なCF値を選択して、高精度に流量制御できるようになる。
<その他の変形実施形態>
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
例えば、CF値更新部35の変形例に関して言うと、CF値更新部35が、目標流量(Q)から、試料ガス流量算出部34により得られた試料ガス流量(Qsam gas)と目標流量(Q)との差(Q−Qsam gas)を差し引いた流量(Q−(Q−Qsam gas))を新たな目標流量(Q’)とし、当該目標流量(Q’)を基準ガス流量換算部32に出力するとともに、前記基準ガス流量換算部32において用いる所定のCF値を更新するものであっても良い。このとき、CF値の更新手法としては、新たな目標流量(Q’)と試料ガス流量算出部34により得られる試料ガス流量(Qsam gas)との差がゼロとなるように、試行錯誤的に直接的に更新することが考えられる。
また、前記実施形態のCF値更新部は、基準ガス流量算出部において用いるCF値を更新するものではなく、試料ガス流量算出部において用いるCF値を更新するようにしても良い。このとき、CF値更新部は、目標流量と試料ガス流量算出部により得られた試料ガス流量との比によって基準ガス流量を前記実施形態と同様に更新し、当該更新後の基準ガス流量に対応するCF値によって、試料ガス流量算出部において用いるCF値を更新することが考えられる。そして、CF値更新後、試料ガス算出部が、更新後のCF値と基準ガス流量とから新たに試料ガス流量を算出し、再びCF値更新部が、目標流量と新たな試料ガス流量とを比較する。次に、CF値更新部は、試料ガス流量と目標流量との差が所定範囲内であれば、流量設定値をMFCに出力する。一方、差が所定範囲外であれば、試料ガス流量と目標流量との差が所定範囲内に収束するまで、上記と同様にCF値の更新を繰り返す。また、基準ガス流量を更新した後にCF値を更新するといった間接的なCF値の更新方法の他、試行錯誤的に直接的にCF値を更新するようにしても良い。
また、流量設定値算出部33において、基準ガス流量(Qref gas)を流すためのMFCの設定流量値として以下の方法により設定しても良い。MFCをガス分割器に組み込むと、MFC単体で校正していたとしても新たに誤差が生じてしまう。したがって、ガス分割器に組み込まれたMFCを、再度基準MFCによって校正し、図5に示すように、前記基準ガス流量(Qref gas)を流すための標準流量設定値(S)に対応するMFCの設定流量値を、Sとして算出するものであっても良い。なお、組み込み後の構成においては、MFC単体を基準MFCで校正して作成した初期検量線と、基準MFCの流量値との対応関係を示す二次検量線を作成することによって行われる。
さらに、試料ガス流量算出部34においては、設定流量値算出部33により得られた流量設定値(S)に対応するCF値(CF(S))から試料ガス流量(Qsam gas)を算出するものの他、設定流量値算出部33により得られた流量設定値(S)に対応する標準流量設定値(S01)を求め、当該標準流量設定値(S01)及び当該標準流量設定値(S01)に対応するCF値(CF(S01))から試料ガス流量(Qsam gas)を算出するようにしても良い。
加えて、制御機器の構成として、図6に示すように、関係データ格納部3aと、受付部3bと、試料ガス流量設定値算出部3cと、基準ガス流量設定値算出部3dと、換算流量設定値算出部3eと、試料ガス流量算出部3fと、CF値更新部3gとを備えるものであっても良い。なお、関係データ格納部3a及び受付部3bは前記実施形態の関係データ格納部D1及び受付部31と同様である。
試料ガス設定値算出部3cは、MFCにより流すべき試料ガスの目標流量(Q)とそのフルスケール流量(Qfull)とから試料ガス流量設定値(S=Q/Qfull)を算出する。そして、基準ガス流量設定値算出部3dが、その試料ガス流量設定値データを受け取り、試料ガス流量設定値(S)と所定のCF値(初期CF値)とから基準ガスに換算した基準ガス流量設定値(S=S/初期CF値)を算出する。また、換算流量設定値算出部3eは、基準ガス流量設定値算出部3dから基準ガス流量設定値データを受け付けると共に、関係データ格納部3aから取得した関係データに基づいて、基準ガス流量設定値(S)及び当該基準ガス流量設定値(S)に対応するCF値(CF(S))から試料ガス換算した換算流量設定値(S=S×CF(S))を算出する。その後、試料ガス流量算出部3fが、換算流量設定値(S)及びフルスケール流量(Qfull)から試料ガス流量(Qsam gas)を算出し、そのデータをCF値更新部3gに出力する。そして、CF値更新部3gが、前記試料ガス流量算出部3fにより得られた試料ガス流量(Qsam gas)と目標流量(Q)との差(Q−Qsam gas)が所定範囲よりも大きい場合に、基準ガス流量設定値算出部3dにおいて用いるCF値を前記対応関係を用いて更新する。なお、CF値の更新態様としては、前記実施形態に記載したものと同様の手法を用いることができる。
また前記実施形態では、流量設定値算出部を備えており、流量設定値を介して試料ガス流量を算出するものであったが、流量設定値算出部を備えないものであっても良い。この場合、試料ガス流量算出部は、基準ガス流量換算部により得られた基準ガス流量及び当該基準ガス流量に対応するCF値から試料ガス流量を算出する。
その上、前記実施形態では、ガス濃度調整器(ガス分割器)に適用したものであったが、その他MFCを用いた流量制御装置、例えば半導体製造装置に接続されるガス供給装置等にも適用することができる。
加えて、前記実施形態においては、流量制御機器であるマスフローコントローラと制御機器とが分離したマスフローコントローラシステムであるが、制御機器が、流量制御機器であるマスフローコントローラと一体になっていても良く、この場合、マスフローコントローラ内の制御部が前記制御機器としての機能を発揮するようにしても良い。なお、MFCに組み込まれているCPUの性能が低いため、MFCと別に設けられた制御機器を用いて制御する方が好ましい。
その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。
本発明によれば、マスフローコントローラにより出力される流量を高精度に制御できるようにすることができる。

Claims (4)

  1. 基準ガスを用いて校正された流量制御機器と、この流量制御機器に流量設定値を出力する制御機器とを具備するシステムであって、
    基準ガスの流量値と試料ガスのCF値との対応関係を示す関係データを格納する関係データ格納部と、
    前記流量制御部により流すべき試料ガスの目標流量を所定のCF値を用いて基準ガス流量に換算する基準ガス流量換算部と、
    前記基準ガス流量換算部により得られた基準ガス流量及び当該基準ガス流量に対応するCF値から試料ガス流量を算出する試料ガス流量算出部と、
    前記試料ガス流量算出部により得られた試料ガス流量と前記目標流量との差異が所定範囲よりも大きい場合に、前記試料ガス流量と前記目標流量との差異が所定範囲以下となるように、前記基準ガス流量換算部又は前記試料ガス流量算出部において用いるCF値を更新するCF値更新部とを備えるマスフローコントローラシステム。
  2. 前記CF値更新部が、前記試料ガス流量算出部により得られた試料ガス流量と前記目標流量との差異に関連する値を用いて前記基準ガス流量を更新し、前記更新後の基準ガス流量に対応するCF値によって、前記基準ガス流量換算部において用いるCF値を更新するものである請求項1記載のマスフローコントローラシステム。
  3. 前記CF値更新部が、前記目標流量から、前記試料ガス流量算出部により得られた試料ガス流量と前記目標流量との差を差し引いた流量を新たな目標流量とし、当該目標流量を前記基準ガス流量換算部に出力するとともに、前記基準ガス流量換算部において用いるCF値を更新するものである請求項1記載のマスフローコントローラシステム。
  4. 基準ガスを用いて校正された流量制御機器と、この流量制御機器に流量設定値を出力する制御機器とを具備するマスフローコントローラシステムの制御プログラムであって、
    基準ガスの流量値と試料ガスのCF値との対応関係を示す関係データを格納する関係データ格納部と、
    前記流量制御部により流すべき試料ガスの目標流量を所定のCF値を用いて基準ガス流量に換算する基準ガス流量換算部と、
    前記基準ガス流量換算部により得られた基準ガス流量及び当該基準ガス流量に対応するCF値から試料ガス流量を算出する試料ガス流量算出部と、
    前記試料ガス流量算出部により得られた試料ガス流量と前記目標流量との差異が所定範囲よりも大きい場合に、前記試料ガス流量と前記目標流量との差異が所定範囲以下となるように、前記基準ガス流量換算部又は前記試料ガス流量算出部において用いるCF値を更新するCF値更新部と、としての機能を前記制御機器に発揮させる、マスフローコントローラシステムの制御プログラム。
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