JPH07243031A - 金属の表面処理装置の真空アーク電極 - Google Patents
金属の表面処理装置の真空アーク電極Info
- Publication number
- JPH07243031A JPH07243031A JP3463894A JP3463894A JPH07243031A JP H07243031 A JPH07243031 A JP H07243031A JP 3463894 A JP3463894 A JP 3463894A JP 3463894 A JP3463894 A JP 3463894A JP H07243031 A JPH07243031 A JP H07243031A
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- Japan
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- electrode
- anode
- treated
- surface treatment
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 真空アークデスケーリングにおける固定した
アノードスポットの発生を防止してアーク陰極点を駆動
し、被処理材の表面の均一を図る真空アーク電極を提供
する。 【構成】 真空アーク電源の正極に接続された陽極電極
と被処理材からなる陰極電極とを有する金属の表面処理
装置において、陽極電極と被処理材との間に、遮蔽体を
移動自在に設けたことを特徴とする金属の表面処理装置
の真空アーク電極。
アノードスポットの発生を防止してアーク陰極点を駆動
し、被処理材の表面の均一を図る真空アーク電極を提供
する。 【構成】 真空アーク電源の正極に接続された陽極電極
と被処理材からなる陰極電極とを有する金属の表面処理
装置において、陽極電極と被処理材との間に、遮蔽体を
移動自在に設けたことを特徴とする金属の表面処理装置
の真空アーク電極。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は金属の表面処理装置の真
空アーク電極に関する。
空アーク電極に関する。
【０００２】
【従来の技術】真空アークを用いたデスケール方法とし
て、例えば特開平４−１１００８４号公報においては、
図３に示す装置の開示がある。即ち鏡面平行プリズムの
形をした電極１１−１，１１−２とスクリーン１３，１
３を用いるものである。ところでこれらの装置では電極
表面上に、スケール除去に伴う付着物が堆積するのが一
般的であった。これにより電極上にアノードスポットと
呼ばれる過熱部が生じ、電圧電流の不安定が生じて安定
な放電が維持できなかったり、処理を中断して電極の交
換又は清掃を行う必要があった。
て、例えば特開平４−１１００８４号公報においては、
図３に示す装置の開示がある。即ち鏡面平行プリズムの
形をした電極１１−１，１１−２とスクリーン１３，１
３を用いるものである。ところでこれらの装置では電極
表面上に、スケール除去に伴う付着物が堆積するのが一
般的であった。これにより電極上にアノードスポットと
呼ばれる過熱部が生じ、電圧電流の不安定が生じて安定
な放電が維持できなかったり、処理を中断して電極の交
換又は清掃を行う必要があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】長時間の真空アークデ
スケーリングにおいて、陽極電極が直接陰極に相対して
いなくとも、気体粒子の平均自由工程は１mmより小さく
直線的な運動をしないため、陽極電極上に付着物が堆積
し、この付着物が原因となり、アノードスポットが発生
する。通常アノードスポットは動くことがない。又アー
ク陰極点は、アノードスポットの近い位置に集中する傾
向があり、このため陰極である被処理材の表面は、不均
一に処理される。本発明は陽極電極にスクリーンを設け
ずとも、固定したアノードスポットの発生を防止し被処
理材の均一な表面粗度を得る金属の表面処理装置の真空
アーク電極を提供する。
スケーリングにおいて、陽極電極が直接陰極に相対して
いなくとも、気体粒子の平均自由工程は１mmより小さく
直線的な運動をしないため、陽極電極上に付着物が堆積
し、この付着物が原因となり、アノードスポットが発生
する。通常アノードスポットは動くことがない。又アー
ク陰極点は、アノードスポットの近い位置に集中する傾
向があり、このため陰極である被処理材の表面は、不均
一に処理される。本発明は陽極電極にスクリーンを設け
ずとも、固定したアノードスポットの発生を防止し被処
理材の均一な表面粗度を得る金属の表面処理装置の真空
アーク電極を提供する。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は次の通り
である。 （１）真空アーク電源の正極に接続された陽極電極と被
処理材からなる陰極電極とを有する金属の表面処理装置
において、陽極電極と被処理材との間に、遮蔽体を移動
自在に設けたことを特徴とする金属の表面処理装置の真
空アーク電極。 （２）水冷機構を内蔵した遮蔽体を陽極電極の幅方向に
移動自在にした（１）記載の真空アーク電極。
である。 （１）真空アーク電源の正極に接続された陽極電極と被
処理材からなる陰極電極とを有する金属の表面処理装置
において、陽極電極と被処理材との間に、遮蔽体を移動
自在に設けたことを特徴とする金属の表面処理装置の真
空アーク電極。 （２）水冷機構を内蔵した遮蔽体を陽極電極の幅方向に
移動自在にした（１）記載の真空アーク電極。
【０００５】
【作用】本発明は陽極電極と被処理材との間に、遮蔽体
を移動自在に設ける。又、遮蔽体は水冷機構を内蔵し陽
極電極の幅方向に移動し、その移動範囲はアノードの前
面を全て覆い得る範囲とするので、遮蔽体の影となった
部位のアノードスポットは消え、別なところにアノード
スポットが発生しても遮蔽体は周期的に移動し、新たな
アノードスポットは消滅する。即ち本発明によりアノー
ドスポットは駆動され、この結果アノードスポットの近
くに発生しやすい陰極点も駆動されて同一ケ所に集中す
ることがない。従って被処理材の表面粗度は均一であ
る。
を移動自在に設ける。又、遮蔽体は水冷機構を内蔵し陽
極電極の幅方向に移動し、その移動範囲はアノードの前
面を全て覆い得る範囲とするので、遮蔽体の影となった
部位のアノードスポットは消え、別なところにアノード
スポットが発生しても遮蔽体は周期的に移動し、新たな
アノードスポットは消滅する。即ち本発明によりアノー
ドスポットは駆動され、この結果アノードスポットの近
くに発生しやすい陰極点も駆動されて同一ケ所に集中す
ることがない。従って被処理材の表面粗度は均一であ
る。
【０００６】
【実施例】図１は本発明の側面図、図２は図１の部分正
面図である。真空アーク電源の正極に接続された陽極電
極１１と被処理材からなる陰極電極１０とを有する金属
の表面処理装置において、遮蔽体１２が陽極電極１１の
幅方向に周期的に往復移動する。遮蔽体１２は図示しな
い水冷機構を内蔵し、耐熱性である。陽極電極１１と遮
蔽体１２とはなるべく接近して設け、例えば１mm以下と
する。これは電子はまわり込む性質があるので、これを
有効に防止するためである。
面図である。真空アーク電源の正極に接続された陽極電
極１１と被処理材からなる陰極電極１０とを有する金属
の表面処理装置において、遮蔽体１２が陽極電極１１の
幅方向に周期的に往復移動する。遮蔽体１２は図示しな
い水冷機構を内蔵し、耐熱性である。陽極電極１１と遮
蔽体１２とはなるべく接近して設け、例えば１mm以下と
する。これは電子はまわり込む性質があるので、これを
有効に防止するためである。
【０００７】本発明によるとデスケーリング処理におい
て、たとえアノードスポットは発生しても周期的に移動
する遮蔽体により陽極電極がカバーされると消滅する。
この時、別な部位にアノードスポットが発生しても差し
支えない。即ち遮蔽体は陽極電極を充分カバーする範囲
Ｌを移動するものとする。これによってアーク陰極点１
３にはアノードスポットの駆動を受けてスケールを求め
た駆動が誘起される。
て、たとえアノードスポットは発生しても周期的に移動
する遮蔽体により陽極電極がカバーされると消滅する。
この時、別な部位にアノードスポットが発生しても差し
支えない。即ち遮蔽体は陽極電極を充分カバーする範囲
Ｌを移動するものとする。これによってアーク陰極点１
３にはアノードスポットの駆動を受けてスケールを求め
た駆動が誘起される。
【０００８】以上本発明を主としてスクリーンを用いな
い陽極電極と被処理材の配設例について説明したが、勿
論本発明はこれに限定されるものではなく、図３に示す
電極にスクリーンを配設した真空アークデスケール装置
にも適用できる。即ち陽極電極対１１−１〜１２−１間
の放電空間を本発明の遮蔽板でカバーすることで充分で
ある。
い陽極電極と被処理材の配設例について説明したが、勿
論本発明はこれに限定されるものではなく、図３に示す
電極にスクリーンを配設した真空アークデスケール装置
にも適用できる。即ち陽極電極対１１−１〜１２−１間
の放電空間を本発明の遮蔽板でカバーすることで充分で
ある。
【０００９】
【発明の効果】従来は、アノードスポットが発生する
と、その近傍の陰極部分のみが処理され、不均一処理と
いう問題があったが、本発明により、アノードスポット
を発生したとしてもアノードスポットを駆動し、その結
果、陰極点も駆動されて処理が均一となる。
と、その近傍の陰極部分のみが処理され、不均一処理と
いう問題があったが、本発明により、アノードスポット
を発生したとしてもアノードスポットを駆動し、その結
果、陰極点も駆動されて処理が均一となる。
【図１】本発明の真空アーク電極の側断面図。
【図２】本発明の真空アーク電極の平面図。
【図３】従来の真空アーク電極の斜視図。
Claims (2)
- 【請求項１】 真空アーク電源の正極に接続された陽極
電極と被処理材からなる陰極電極とを有する金属の表面
処理装置において、陽極電極と被処理材との間に、遮蔽
体を移動自在に設けたことを特徴とする金属の表面処理
装置の真空アーク電極。 - 【請求項２】 水冷機構を内蔵した遮蔽体を陽極電極の
幅方向に移動自在にした請求項１記載の真空アーク電
極。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3463894A JPH07243031A (ja) | 1994-03-04 | 1994-03-04 | 金属の表面処理装置の真空アーク電極 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3463894A JPH07243031A (ja) | 1994-03-04 | 1994-03-04 | 金属の表面処理装置の真空アーク電極 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07243031A true JPH07243031A (ja) | 1995-09-19 |
Family
ID=12419967
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3463894A Withdrawn JPH07243031A (ja) | 1994-03-04 | 1994-03-04 | 金属の表面処理装置の真空アーク電極 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07243031A (ja) |
-
1994
- 1994-03-04 JP JP3463894A patent/JPH07243031A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010508 |