JPH06280069A - 真空アークデスケーリング装置 - Google Patents

真空アークデスケーリング装置

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JPH06280069A
JPH06280069A JP5065188A JP6518893A JPH06280069A JP H06280069 A JPH06280069 A JP H06280069A JP 5065188 A JP5065188 A JP 5065188A JP 6518893 A JP6518893 A JP 6518893A JP H06280069 A JPH06280069 A JP H06280069A
Authority
JP
Japan
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electrode
discharge
brush
stuck
descaling device
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP5065188A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyoshi Matsuoka
潔 松岡
Yoshiji Kita
美次 北
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Nippon Steel Plant Designing Corp
Original Assignee
Nittetsu Plant Designing Corp
Nippon Steel Corp
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Publication date
Application filed by Nittetsu Plant Designing Corp, Nippon Steel Corp filed Critical Nittetsu Plant Designing Corp
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Withdrawn legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 真空アーク処理による電極の損傷、溶融がな
く、安定した放電が可能な真空アークデスケーリング装
置を提供する。 【構成】 真空下でアーク放電を利用したデスケーリン
グ装置において、電極を回転円筒体とし、その表面に接
して、付着物除去金属ブラシを設けたことを特徴とする
真空アークデスケーリング装置。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は真空下でのアーク放電を
利用した金属のデスケーリング装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】近年、真空アークを材料プロセスに応用
する試みが行われている。応用例としては、蒸着、イオ
ンプレーティング、および酸化被膜の除去(デスケー
ル)などがある。材料プロセスでは、生産性の向上のた
め材料を連続的に供給し処理することが望まれるため、
真空アークプロセスにおいては、例えば被処理物を陰極
として用い、この被処理物を連続して移動させる。
【0003】例えば特開平4−110084号公報にお
いては、100mm以上の幅の圧延材の真空アーク処理装
置として図3に示す装置の開示がある。即ち鏡面平行プ
リズムの形をした電極61,62とスクリーン65,6
6を用いるものである。ところでこれらの装置では電極
表面上に、スケール除去に伴う付着物が堆積するのが一
般的であった。これにより電極上に過熱部が生じ電圧電
流の不安定が生じて安定な放電が維持できなかったり、
処理を中断して電極の交換又は清掃を行う必要があっ
た。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は過熱に伴う電
極の損傷、溶融がなく、安定な放電が可能な真空アーク
デスケーリング装置を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は真空下でアーク
放電を利用したデスケーリング装置において、電極を回
転円筒体とし、その表面に接して、付着物除去金属ブラ
シを設けたことを特徴とする真空アークデスケーリング
装置である。本発明は電極を回転可能な円筒とし、この
表面に接して付着物除去用のブラシを設け、電極を回転
させつつ処理を行い、電極上に堆積した付着物は除去ブ
ラシにより除去することを可能とする。
【0006】
【実施例】図1は本発明の実施例の説明図である。1は
アーク放電が必要部位以外に発生するのを防止する遮へ
い板、2は放電用電極、4は電極に堆積する付着物、3
は除去ブラシ、5は除去された付着物、6は除去された
付着物の受け皿、8は被処理材である。
【0007】電極2の回転により、付着物4をブラシ3
により除去するので、放電領域7では常に電極2上の付
着物のない状態で放電を行うことができる。電極は断続
回転、連続回転いずれでもよい。又電極の回転方向は時
計回り、反時計回りいずれでもよい。図2は本発明の他
の実施例の説明図である。この例ではブラシ3は回転体
とする。一般に電極は直流電源の正極に接続され、連続
して移動する被処理材は陰極であるが、本発明において
も回転円筒体は陽極である。又ブラシは金属製が適当で
ある。従ってブラシの取付体は陽極以外との電気的な導
通のないよう特に絶縁を確実にする必要がある。
【0008】本発明の電極は被処理材の下側に設置する
必要があるので被処理材の片面処理となる。従って被処
理材の両面の真空アーク処理が求められる時は、被処理
材をU字状に蛇行回動することによって容易にその目的
を達成し得る。
【0009】
【発明の効果】本発明によれば電極上の過熱がなく安定
な放電が可能となり、過熱に伴う電極の損傷、溶融がな
い。又真空アーク処理を中断しての電極の清掃、交換な
どが不要となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例の説明図である。
【図2】本発明の他の実施例の説明図である。
【図3】従来例の説明図である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05H 1/32 9014−2G

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空下でアーク放電を利用したデスケー
    リング装置において、電極を回転円筒体とし、その表面
    に接して、付着物除去金属ブラシを設けたことを特徴と
    する真空アークデスケーリング装置。
JP5065188A 1993-03-24 1993-03-24 真空アークデスケーリング装置 Withdrawn JPH06280069A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005089968A1 (en) * 2004-03-17 2005-09-29 Franco Fornasari Conductive brush for cleaning metals
CN103706641A (zh) * 2013-12-20 2014-04-09 江阴兴澄特种钢铁有限公司 一种卷取炉炉内卷筒表面结瘤清除方法
CN113305107A (zh) * 2021-06-26 2021-08-27 济南隆超石油机械锻造有限公司 一种氧化皮打料机
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005089968A1 (en) * 2004-03-17 2005-09-29 Franco Fornasari Conductive brush for cleaning metals
CN103706641A (zh) * 2013-12-20 2014-04-09 江阴兴澄特种钢铁有限公司 一种卷取炉炉内卷筒表面结瘤清除方法
CN103706641B (zh) * 2013-12-20 2016-06-01 江阴兴澄特种钢铁有限公司 一种卷取炉炉内卷筒表面结瘤清除方法
CN113305107A (zh) * 2021-06-26 2021-08-27 济南隆超石油机械锻造有限公司 一种氧化皮打料机
CN116534956A (zh) * 2023-05-10 2023-08-04 南通成亮再生资源有限公司 一种用于污水处理的高效电解装置及其电解方法
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