JPH06280069A - 真空アークデスケーリング装置 - Google Patents
真空アークデスケーリング装置Info
- Publication number
- JPH06280069A JPH06280069A JP5065188A JP6518893A JPH06280069A JP H06280069 A JPH06280069 A JP H06280069A JP 5065188 A JP5065188 A JP 5065188A JP 6518893 A JP6518893 A JP 6518893A JP H06280069 A JPH06280069 A JP H06280069A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electrode
- discharge
- brush
- stuck
- descaling device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims abstract description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 abstract 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】
【目的】 真空アーク処理による電極の損傷、溶融がな
く、安定した放電が可能な真空アークデスケーリング装
置を提供する。 【構成】 真空下でアーク放電を利用したデスケーリン
グ装置において、電極を回転円筒体とし、その表面に接
して、付着物除去金属ブラシを設けたことを特徴とする
真空アークデスケーリング装置。
く、安定した放電が可能な真空アークデスケーリング装
置を提供する。 【構成】 真空下でアーク放電を利用したデスケーリン
グ装置において、電極を回転円筒体とし、その表面に接
して、付着物除去金属ブラシを設けたことを特徴とする
真空アークデスケーリング装置。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は真空下でのアーク放電を
利用した金属のデスケーリング装置に関するものであ
る。
利用した金属のデスケーリング装置に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】近年、真空アークを材料プロセスに応用
する試みが行われている。応用例としては、蒸着、イオ
ンプレーティング、および酸化被膜の除去(デスケー
ル)などがある。材料プロセスでは、生産性の向上のた
め材料を連続的に供給し処理することが望まれるため、
真空アークプロセスにおいては、例えば被処理物を陰極
として用い、この被処理物を連続して移動させる。
する試みが行われている。応用例としては、蒸着、イオ
ンプレーティング、および酸化被膜の除去(デスケー
ル)などがある。材料プロセスでは、生産性の向上のた
め材料を連続的に供給し処理することが望まれるため、
真空アークプロセスにおいては、例えば被処理物を陰極
として用い、この被処理物を連続して移動させる。
【0003】例えば特開平4−110084号公報にお
いては、100mm以上の幅の圧延材の真空アーク処理装
置として図3に示す装置の開示がある。即ち鏡面平行プ
リズムの形をした電極61,62とスクリーン65,6
6を用いるものである。ところでこれらの装置では電極
表面上に、スケール除去に伴う付着物が堆積するのが一
般的であった。これにより電極上に過熱部が生じ電圧電
流の不安定が生じて安定な放電が維持できなかったり、
処理を中断して電極の交換又は清掃を行う必要があっ
た。
いては、100mm以上の幅の圧延材の真空アーク処理装
置として図3に示す装置の開示がある。即ち鏡面平行プ
リズムの形をした電極61,62とスクリーン65,6
6を用いるものである。ところでこれらの装置では電極
表面上に、スケール除去に伴う付着物が堆積するのが一
般的であった。これにより電極上に過熱部が生じ電圧電
流の不安定が生じて安定な放電が維持できなかったり、
処理を中断して電極の交換又は清掃を行う必要があっ
た。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は過熱に伴う電
極の損傷、溶融がなく、安定な放電が可能な真空アーク
デスケーリング装置を提供するものである。
極の損傷、溶融がなく、安定な放電が可能な真空アーク
デスケーリング装置を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明は真空下でアーク
放電を利用したデスケーリング装置において、電極を回
転円筒体とし、その表面に接して、付着物除去金属ブラ
シを設けたことを特徴とする真空アークデスケーリング
装置である。本発明は電極を回転可能な円筒とし、この
表面に接して付着物除去用のブラシを設け、電極を回転
させつつ処理を行い、電極上に堆積した付着物は除去ブ
ラシにより除去することを可能とする。
放電を利用したデスケーリング装置において、電極を回
転円筒体とし、その表面に接して、付着物除去金属ブラ
シを設けたことを特徴とする真空アークデスケーリング
装置である。本発明は電極を回転可能な円筒とし、この
表面に接して付着物除去用のブラシを設け、電極を回転
させつつ処理を行い、電極上に堆積した付着物は除去ブ
ラシにより除去することを可能とする。
【0006】
【実施例】図1は本発明の実施例の説明図である。1は
アーク放電が必要部位以外に発生するのを防止する遮へ
い板、2は放電用電極、4は電極に堆積する付着物、3
は除去ブラシ、5は除去された付着物、6は除去された
付着物の受け皿、8は被処理材である。
アーク放電が必要部位以外に発生するのを防止する遮へ
い板、2は放電用電極、4は電極に堆積する付着物、3
は除去ブラシ、5は除去された付着物、6は除去された
付着物の受け皿、8は被処理材である。
【0007】電極2の回転により、付着物4をブラシ3
により除去するので、放電領域7では常に電極2上の付
着物のない状態で放電を行うことができる。電極は断続
回転、連続回転いずれでもよい。又電極の回転方向は時
計回り、反時計回りいずれでもよい。図2は本発明の他
の実施例の説明図である。この例ではブラシ3は回転体
とする。一般に電極は直流電源の正極に接続され、連続
して移動する被処理材は陰極であるが、本発明において
も回転円筒体は陽極である。又ブラシは金属製が適当で
ある。従ってブラシの取付体は陽極以外との電気的な導
通のないよう特に絶縁を確実にする必要がある。
により除去するので、放電領域7では常に電極2上の付
着物のない状態で放電を行うことができる。電極は断続
回転、連続回転いずれでもよい。又電極の回転方向は時
計回り、反時計回りいずれでもよい。図2は本発明の他
の実施例の説明図である。この例ではブラシ3は回転体
とする。一般に電極は直流電源の正極に接続され、連続
して移動する被処理材は陰極であるが、本発明において
も回転円筒体は陽極である。又ブラシは金属製が適当で
ある。従ってブラシの取付体は陽極以外との電気的な導
通のないよう特に絶縁を確実にする必要がある。
【0008】本発明の電極は被処理材の下側に設置する
必要があるので被処理材の片面処理となる。従って被処
理材の両面の真空アーク処理が求められる時は、被処理
材をU字状に蛇行回動することによって容易にその目的
を達成し得る。
必要があるので被処理材の片面処理となる。従って被処
理材の両面の真空アーク処理が求められる時は、被処理
材をU字状に蛇行回動することによって容易にその目的
を達成し得る。
【0009】
【発明の効果】本発明によれば電極上の過熱がなく安定
な放電が可能となり、過熱に伴う電極の損傷、溶融がな
い。又真空アーク処理を中断しての電極の清掃、交換な
どが不要となる。
な放電が可能となり、過熱に伴う電極の損傷、溶融がな
い。又真空アーク処理を中断しての電極の清掃、交換な
どが不要となる。
【図1】本発明の実施例の説明図である。
【図2】本発明の他の実施例の説明図である。
【図3】従来例の説明図である。
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05H 1/32 9014−2G
Claims (1)
- 【請求項1】 真空下でアーク放電を利用したデスケー
リング装置において、電極を回転円筒体とし、その表面
に接して、付着物除去金属ブラシを設けたことを特徴と
する真空アークデスケーリング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5065188A JPH06280069A (ja) | 1993-03-24 | 1993-03-24 | 真空アークデスケーリング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5065188A JPH06280069A (ja) | 1993-03-24 | 1993-03-24 | 真空アークデスケーリング装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06280069A true JPH06280069A (ja) | 1994-10-04 |
Family
ID=13279704
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5065188A Withdrawn JPH06280069A (ja) | 1993-03-24 | 1993-03-24 | 真空アークデスケーリング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06280069A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005089968A1 (en) * | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Franco Fornasari | Conductive brush for cleaning metals |
CN103706641A (zh) * | 2013-12-20 | 2014-04-09 | 江阴兴澄特种钢铁有限公司 | 一种卷取炉炉内卷筒表面结瘤清除方法 |
CN113305107A (zh) * | 2021-06-26 | 2021-08-27 | 济南隆超石油机械锻造有限公司 | 一种氧化皮打料机 |
CN116534956A (zh) * | 2023-05-10 | 2023-08-04 | 南通成亮再生资源有限公司 | 一种用于污水处理的高效电解装置及其电解方法 |
-
1993
- 1993-03-24 JP JP5065188A patent/JPH06280069A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005089968A1 (en) * | 2004-03-17 | 2005-09-29 | Franco Fornasari | Conductive brush for cleaning metals |
CN103706641A (zh) * | 2013-12-20 | 2014-04-09 | 江阴兴澄特种钢铁有限公司 | 一种卷取炉炉内卷筒表面结瘤清除方法 |
CN103706641B (zh) * | 2013-12-20 | 2016-06-01 | 江阴兴澄特种钢铁有限公司 | 一种卷取炉炉内卷筒表面结瘤清除方法 |
CN113305107A (zh) * | 2021-06-26 | 2021-08-27 | 济南隆超石油机械锻造有限公司 | 一种氧化皮打料机 |
CN116534956A (zh) * | 2023-05-10 | 2023-08-04 | 南通成亮再生资源有限公司 | 一种用于污水处理的高效电解装置及其电解方法 |
CN116534956B (zh) * | 2023-05-10 | 2024-03-29 | 郑楷集团有限公司 | 一种用于污水处理的高效电解装置及其电解方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4059302B2 (ja) | リチウムのスパッタリング | |
KR20000071664A (ko) | 반도체 웨이퍼 프로세스 장치에서 지지 표면을 회복시키는방법 및 장치 | |
JPH06280069A (ja) | 真空アークデスケーリング装置 | |
JP4673478B2 (ja) | バイアススパッタリング装置及びバイアススパッタリング方法 | |
KR20050110032A (ko) | 진공에서 전극과 재료의 접촉 | |
JPH07211489A (ja) | マイクロ波プラズマ処理装置及び該装置のクリーニング方法 | |
JP2006083459A (ja) | スパッタリング装置及びスパッタリング方法 | |
JPS61264174A (ja) | 直流バイアススパツタリング法 | |
JPH06291064A (ja) | プラズマ処理装置 | |
JP2002373887A (ja) | 高誘電体のエッチング装置 | |
JPH07243031A (ja) | 金属の表面処理装置の真空アーク電極 | |
JPH02185965A (ja) | 真空薄膜形成装置 | |
JPH09248618A (ja) | 真空アークデスケーリング装置 | |
RU2369937C1 (ru) | Способ и установка для травления в вакууме при помощи магнетронного распыления металлической полосы | |
US20090145747A1 (en) | Method and installation for the vacuum colouring of a metal strip by means of magnetron sputtering | |
JPH027870Y2 (ja) | ||
JP3205204B2 (ja) | 真空アークデスケーリング用電極クリーニング方法および装置 | |
JPH07258844A (ja) | 磁気中性線放電プラズマを利用した成膜装置 | |
JPH0681146A (ja) | マグネトロン型スパッタ装置 | |
JPH06280068A (ja) | 真空アーク処理装置 | |
JPH07102367A (ja) | スパッタターゲット及び半導体装置の製造方法 | |
JPH02101161A (ja) | スパッタリング装置 | |
JPS63107024A (ja) | エツチング装置 | |
JPH01108371A (ja) | 薄膜形成装置 | |
RU1718461C (ru) | Способ дуговой обработки изделий |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20000530 |