JPH07242478A - 陶磁器製品の施釉方法及び装置 - Google Patents
陶磁器製品の施釉方法及び装置Info
- Publication number
- JPH07242478A JPH07242478A JP3171094A JP3171094A JPH07242478A JP H07242478 A JPH07242478 A JP H07242478A JP 3171094 A JP3171094 A JP 3171094A JP 3171094 A JP3171094 A JP 3171094A JP H07242478 A JPH07242478 A JP H07242478A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glaze
- work
- hole
- suction table
- tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B11/00—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles
- B28B11/04—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers
- B28B11/045—Apparatus or processes for treating or working the shaped or preshaped articles for coating or applying engobing layers by dipping
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Devices For Post-Treatments, Processing, Supply, Discharge, And Other Processes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】種々の形状の陶磁器製品に釉薬を的確に塗布す
ることのできる陶磁器製品の施釉方法及び装置を提供す
る。 【構成】減圧孔６と釉薬供給孔７を形成したワーク吸着
テーブル２を上端に設けた回転軸１を、釉薬槽５の側方
に設けた基台３上に起伏自在に設ける。ワーク吸着テー
ブル２に載置したワークＷを減圧孔６からの吸着力によ
り保持し、回転軸１を伏倒してワークＷを釉薬槽５にド
ブ付けする。またワークＷのハマ面を釉薬供給孔７から
噴出させた釉薬で施釉する。
ることのできる陶磁器製品の施釉方法及び装置を提供す
る。 【構成】減圧孔６と釉薬供給孔７を形成したワーク吸着
テーブル２を上端に設けた回転軸１を、釉薬槽５の側方
に設けた基台３上に起伏自在に設ける。ワーク吸着テー
ブル２に載置したワークＷを減圧孔６からの吸着力によ
り保持し、回転軸１を伏倒してワークＷを釉薬槽５にド
ブ付けする。またワークＷのハマ面を釉薬供給孔７から
噴出させた釉薬で施釉する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、種々の形状の陶磁器製
品に釉薬を的確に塗布することのできる陶磁器製品の施
釉方法及び装置に関するものである。
品に釉薬を的確に塗布することのできる陶磁器製品の施
釉方法及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の陶磁器製品の施釉装置としては、
図４に示すものが知られている。この装置は、ワークＷ
を多数の孔５２を備えたテーブル板５３の上面に載置し
たうえ、腕５４に設けた押さえ針５５をワークＷの底部
上面に押圧し、全体をカム機構５１により首振り回転さ
せてワークＷを釉薬槽５６にドブ付けするものであっ
た。
図４に示すものが知られている。この装置は、ワークＷ
を多数の孔５２を備えたテーブル板５３の上面に載置し
たうえ、腕５４に設けた押さえ針５５をワークＷの底部
上面に押圧し、全体をカム機構５１により首振り回転さ
せてワークＷを釉薬槽５６にドブ付けするものであっ
た。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところがこの従来のも
のは、ワークＷをテーブル５３と押さえ針５５とにより
挟持する必要があるため、皿、丼、花瓶等の形状の異な
るワーク毎にテーブル板５３及び押さえ針５５を変更す
る必要があるという問題があった。また、ワークＷのハ
マ面への施釉はドブ付時にテーブル板５３の孔５２から
釉薬を自然に流入させて行うものであるため、施釉が不
完全となるおそれもあった。更にカム機構５１によりワ
ークＷを首振りさせて施釉しているため、首振りのパタ
ーン等が一定となり、ワークの形状に応じて施釉が行い
にくいという問題もあった。
のは、ワークＷをテーブル５３と押さえ針５５とにより
挟持する必要があるため、皿、丼、花瓶等の形状の異な
るワーク毎にテーブル板５３及び押さえ針５５を変更す
る必要があるという問題があった。また、ワークＷのハ
マ面への施釉はドブ付時にテーブル板５３の孔５２から
釉薬を自然に流入させて行うものであるため、施釉が不
完全となるおそれもあった。更にカム機構５１によりワ
ークＷを首振りさせて施釉しているため、首振りのパタ
ーン等が一定となり、ワークの形状に応じて施釉が行い
にくいという問題もあった。
【０００４】本発明は上記のような従来の問題点を解決
し、部品の交換等を行うことなく各種のワークを確実に
保持し、外周面はもちろんハマ面へも確実に施釉するこ
とができ、しかもワークの形状に応じた条件で施釉する
ことができる陶磁器製品の施釉方法及び装置を提供する
ためになされたものである。
し、部品の交換等を行うことなく各種のワークを確実に
保持し、外周面はもちろんハマ面へも確実に施釉するこ
とができ、しかもワークの形状に応じた条件で施釉する
ことができる陶磁器製品の施釉方法及び装置を提供する
ためになされたものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】前記の課題を解決するた
めになされた本発明の陶磁器製品の施釉方法は、減圧孔
と釉薬供給孔を形成したワーク吸着テーブルにワークを
吸着保持させ、ワークのハマ面には釉薬供給孔から釉薬
を噴出させて施釉し、ワークの外面は前記ワーク吸着テ
ーブルを伏倒させ釉薬槽にワークをドブ付けして回転さ
せつつ施釉することを特徴とするものである。また、前
記の課題を解決するためになされた本発明の陶磁器製品
の施釉装置は、減圧孔と釉薬供給孔を形成したワーク吸
着テーブルを上端に設けた回転軸を、釉薬槽の側方に設
けた基台上に起伏自在に設けたことを特徴とするもので
ある。
めになされた本発明の陶磁器製品の施釉方法は、減圧孔
と釉薬供給孔を形成したワーク吸着テーブルにワークを
吸着保持させ、ワークのハマ面には釉薬供給孔から釉薬
を噴出させて施釉し、ワークの外面は前記ワーク吸着テ
ーブルを伏倒させ釉薬槽にワークをドブ付けして回転さ
せつつ施釉することを特徴とするものである。また、前
記の課題を解決するためになされた本発明の陶磁器製品
の施釉装置は、減圧孔と釉薬供給孔を形成したワーク吸
着テーブルを上端に設けた回転軸を、釉薬槽の側方に設
けた基台上に起伏自在に設けたことを特徴とするもので
ある。
【０００６】
【作用】本発明によれば、ワーク吸着テーブル上にワー
クを載置したうえ減圧孔から吸引し、ワークの糸底の内
側部分を減圧してワークを吸着保持するので、部品の交
換等を行うことなく形状の異なる各種のワークを確実に
保持することができる。また、釉薬供給孔から釉薬を噴
出させてワークのハマ面に釉薬を塗布するとともに、ワ
ーク吸着テーブルに吸着保持させたワークを釉薬槽にド
ブ付けして回転させつつ施釉を行うので、ワークの糸底
底面を除く全面に確実に施釉することができる。しかも
回転速度、釉薬中投入時間等を自由にセットすることが
できるので、ワークに応じた条件で施釉することができ
る。
クを載置したうえ減圧孔から吸引し、ワークの糸底の内
側部分を減圧してワークを吸着保持するので、部品の交
換等を行うことなく形状の異なる各種のワークを確実に
保持することができる。また、釉薬供給孔から釉薬を噴
出させてワークのハマ面に釉薬を塗布するとともに、ワ
ーク吸着テーブルに吸着保持させたワークを釉薬槽にド
ブ付けして回転させつつ施釉を行うので、ワークの糸底
底面を除く全面に確実に施釉することができる。しかも
回転速度、釉薬中投入時間等を自由にセットすることが
できるので、ワークに応じた条件で施釉することができ
る。
【０００７】
【実施例】次に、本発明の実施例を図面に基づき詳細に
説明する。図１〜図３において、１は回転軸、２はその
上部に設けられたパッド部材２ａ付きのワーク吸着テー
ブルである。この回転軸１の下端は、基台３に上下方向
に回動自在に支持された保持枠４に取り付けられてお
り、図示を略したモータによって保持枠４を回転させる
ことにより回転軸１を図１の状態から図２の状態まで伏
倒させ、側方に設けられた釉薬槽５にワークＷをドブ付
けすることができるようになっている。６は回転軸１内
を連通しワーク吸着テーブル２に開口する減圧孔であ
り、ワーク吸着テーブル２に載置したワークＷの糸底の
内部を減圧し、ワークＷをワーク吸着テーブル２に吸着
保持するものである。７は同じく回転軸１内を連通しワ
ーク吸着テーブル２に開口する釉薬供給用孔であり、ワ
ークＷのハマ面に臨むように形成されている。
説明する。図１〜図３において、１は回転軸、２はその
上部に設けられたパッド部材２ａ付きのワーク吸着テー
ブルである。この回転軸１の下端は、基台３に上下方向
に回動自在に支持された保持枠４に取り付けられてお
り、図示を略したモータによって保持枠４を回転させる
ことにより回転軸１を図１の状態から図２の状態まで伏
倒させ、側方に設けられた釉薬槽５にワークＷをドブ付
けすることができるようになっている。６は回転軸１内
を連通しワーク吸着テーブル２に開口する減圧孔であ
り、ワーク吸着テーブル２に載置したワークＷの糸底の
内部を減圧し、ワークＷをワーク吸着テーブル２に吸着
保持するものである。７は同じく回転軸１内を連通しワ
ーク吸着テーブル２に開口する釉薬供給用孔であり、ワ
ークＷのハマ面に臨むように形成されている。
【０００８】図３に示す８は釉薬供給用孔７に釉薬を送
るポンプであり、該ポンプ８は釉薬槽５から吸い上げた
釉薬を減圧弁９、２ポート弁１０を介して釉薬供給用パ
イプ７ａから釉薬供給用孔７に送り込み、前記ワーク吸
着テーブル２に載置したワークＷのハマ面に釉薬を塗布
するものである。１１は減圧用の真空源であるリングブ
ロワであり、該リングブロワ１１と減圧孔６は真空パイ
プ１２で連通されている。１３は該真空パイプ１２に設
けた減圧状態を解除する一手段としてのダンパである。
１４は真空パイプ１２から分岐させた釉薬返還パイプで
あり、ワークＷのハマ面を施釉した残りの釉薬を分離
し、ドレン１５及びバルブ１６を介して釉薬槽５に戻す
ためのものである。
るポンプであり、該ポンプ８は釉薬槽５から吸い上げた
釉薬を減圧弁９、２ポート弁１０を介して釉薬供給用パ
イプ７ａから釉薬供給用孔７に送り込み、前記ワーク吸
着テーブル２に載置したワークＷのハマ面に釉薬を塗布
するものである。１１は減圧用の真空源であるリングブ
ロワであり、該リングブロワ１１と減圧孔６は真空パイ
プ１２で連通されている。１３は該真空パイプ１２に設
けた減圧状態を解除する一手段としてのダンパである。
１４は真空パイプ１２から分岐させた釉薬返還パイプで
あり、ワークＷのハマ面を施釉した残りの釉薬を分離
し、ドレン１５及びバルブ１６を介して釉薬槽５に戻す
ためのものである。
【０００９】１７は上部にワーク吸着テーブル２を設け
た回転軸１を保持枠４に回転自在に取り付けるための軸
受部である。軸受部１７は筒体１８とベアリング１９、
１９とからなるもので、減圧孔６の基端を空室２０に臨
ませるとともに筒体１８に前記真空パイプ１２を接続
し、減圧孔６と真空パイプ１２が空室２０を介して連通
するものとしている。また、釉薬供給用孔７の基端は軸
腕１の下端中央の回転ジョイントを介して釉薬供給用パ
イプ７ａと連結してある。
た回転軸１を保持枠４に回転自在に取り付けるための軸
受部である。軸受部１７は筒体１８とベアリング１９、
１９とからなるもので、減圧孔６の基端を空室２０に臨
ませるとともに筒体１８に前記真空パイプ１２を接続
し、減圧孔６と真空パイプ１２が空室２０を介して連通
するものとしている。また、釉薬供給用孔７の基端は軸
腕１の下端中央の回転ジョイントを介して釉薬供給用パ
イプ７ａと連結してある。
【００１０】２１は回転軸１に設けたプーリであり、保
持枠４に取り付けたモータ２２のプーリ２３とチエン２
４により連結し、回転軸１を回転させる。なお、回転手
段はこれに限定されるものではない。２５は筒体１８と
の間に形成される空室２０の密閉度を高めるため、ベア
リング１９、１９の内側に設けたシール部材である。
持枠４に取り付けたモータ２２のプーリ２３とチエン２
４により連結し、回転軸１を回転させる。なお、回転手
段はこれに限定されるものではない。２５は筒体１８と
の間に形成される空室２０の密閉度を高めるため、ベア
リング１９、１９の内側に設けたシール部材である。
【００１１】このように構成された本発明の陶磁器製品
の施釉装置により施釉を行うには、まずワーク吸着テー
ブル２の上にワークＷを載せて減圧孔６を通じて糸底の
内側部分を減圧し、ワークＷを吸着保持する。次にモー
タ２２により回転軸１を回転させ、ワークＷを回転させ
ながら保持枠４とともに全体を伏倒させ、図２に示すよ
うに釉薬槽５にワークＷを浸漬する。このとき、ワーク
Ｗが大型のものであれば下半分を釉薬中に浸漬させなが
ら回転するようにしてもよい。これによりワークＷの外
周面は回転しながら均一に施釉される。またこれととも
に釉薬供給孔７から釉薬を噴出させ、ワークＷのハマ面
に釉薬を塗布する。このようにして、ワークＷの糸底底
面を除く全面を確実に施釉することができる。しかもワ
ークＷの回転速度、釉薬中への投入時間、釉薬への侵入
角度等を自由にセットすることができるので、ワークＷ
の形状やサイズに応じた条件で施釉することができる。
の施釉装置により施釉を行うには、まずワーク吸着テー
ブル２の上にワークＷを載せて減圧孔６を通じて糸底の
内側部分を減圧し、ワークＷを吸着保持する。次にモー
タ２２により回転軸１を回転させ、ワークＷを回転させ
ながら保持枠４とともに全体を伏倒させ、図２に示すよ
うに釉薬槽５にワークＷを浸漬する。このとき、ワーク
Ｗが大型のものであれば下半分を釉薬中に浸漬させなが
ら回転するようにしてもよい。これによりワークＷの外
周面は回転しながら均一に施釉される。またこれととも
に釉薬供給孔７から釉薬を噴出させ、ワークＷのハマ面
に釉薬を塗布する。このようにして、ワークＷの糸底底
面を除く全面を確実に施釉することができる。しかもワ
ークＷの回転速度、釉薬中への投入時間、釉薬への侵入
角度等を自由にセットすることができるので、ワークＷ
の形状やサイズに応じた条件で施釉することができる。
【発明の効果】本発明は前記説明によって明らかなよう
に、部品の交換を必要とすることなく各種の形状のワー
クを確実に吸着保持して施釉できるものであり、また、
吸着されているワークのハマ面にはワーク吸着テーブル
に設けた釉薬供給用孔から釉薬を噴出させて施釉を行う
ので、施釉が不要な糸底底面以外は的確に施釉できるも
のである。従って、本発明は従来の陶磁器製品の施釉方
法及び装置の問題を解決したものとして、業界に寄与す
るところ大なものである。
に、部品の交換を必要とすることなく各種の形状のワー
クを確実に吸着保持して施釉できるものであり、また、
吸着されているワークのハマ面にはワーク吸着テーブル
に設けた釉薬供給用孔から釉薬を噴出させて施釉を行う
ので、施釉が不要な糸底底面以外は的確に施釉できるも
のである。従って、本発明は従来の陶磁器製品の施釉方
法及び装置の問題を解決したものとして、業界に寄与す
るところ大なものである。
【図１】本発明の実施例を示す側面図である。
【図２】本発明の実施例を態様を異にして示す側面図で
ある。
ある。
【図３】本発明の実施例の配管系統図である。
【図４】従来例を示す側面図である。
１ 回転軸、２ ワーク吸着テーブル、３ 基台、５
釉薬槽、６ 減圧孔、７ 釉薬供給孔、Ｗワーク
釉薬槽、６ 減圧孔、７ 釉薬供給孔、Ｗワーク
Claims (2)
- 【請求項１】 減圧孔と釉薬供給孔を形成したワーク吸
着テーブルにワークを吸着保持させ、ワークのハマ面に
は釉薬供給孔から釉薬を噴出させて施釉し、ワークの外
面は前記ワーク吸着テーブルを伏倒させ釉薬槽にワーク
をドブ付けして回転させつつ施釉することを特徴とする
陶磁器製品の施釉方法。 - 【請求項２】 減圧孔と釉薬供給孔を形成したワーク吸
着テーブルを上端に設けた回転軸を、釉薬槽の側方に設
けた基台上に起伏自在に設けたことを特徴とする陶磁器
製品の施釉装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3171094A JPH07242478A (ja) | 1994-03-02 | 1994-03-02 | 陶磁器製品の施釉方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3171094A JPH07242478A (ja) | 1994-03-02 | 1994-03-02 | 陶磁器製品の施釉方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07242478A true JPH07242478A (ja) | 1995-09-19 |
Family
ID=12338636
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3171094A Withdrawn JPH07242478A (ja) | 1994-03-02 | 1994-03-02 | 陶磁器製品の施釉方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07242478A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005225728A (ja) * | 2004-02-13 | 2005-08-25 | Kenhiko Yamashita | 蓄光陶磁器及びその製造方法 |
| CN111391089A (zh) * | 2020-03-20 | 2020-07-10 | 颜绢英 | 一种适用于陶瓷生产过程中的震动式施釉装置 |
| CN112008842A (zh) * | 2019-05-31 | 2020-12-01 | 湖南三创智能科技有限公司 | 外釉水面高度自动调整机构 |
-
1994
- 1994-03-02 JP JP3171094A patent/JPH07242478A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005225728A (ja) * | 2004-02-13 | 2005-08-25 | Kenhiko Yamashita | 蓄光陶磁器及びその製造方法 |
| JP4520753B2 (ja) * | 2004-02-13 | 2010-08-11 | 建比古 山下 | 蓄光陶磁器の製造方法 |
| CN112008842A (zh) * | 2019-05-31 | 2020-12-01 | 湖南三创智能科技有限公司 | 外釉水面高度自动调整机构 |
| CN111391089A (zh) * | 2020-03-20 | 2020-07-10 | 颜绢英 | 一种适用于陶瓷生产过程中的震动式施釉装置 |
| CN111391089B (zh) * | 2020-03-20 | 2020-10-09 | 东海县太阳光新能源有限公司 | 一种适用于陶瓷生产过程中的震动式施釉装置 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010508 |