JPH07221008A - スピンナー塗布装置 - Google Patents
スピンナー塗布装置Info
- Publication number
- JPH07221008A JPH07221008A JP2731494A JP2731494A JPH07221008A JP H07221008 A JPH07221008 A JP H07221008A JP 2731494 A JP2731494 A JP 2731494A JP 2731494 A JP2731494 A JP 2731494A JP H07221008 A JPH07221008 A JP H07221008A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coated
- distance
- nozzle
- substrate
- coil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 フォトレジスト膜厚の均一性を向上させる。
【構成】 スピンナー塗布装置は、被塗布基板５０にノ
ズル５２から溶剤５４を滴下して被塗布基板５０を回転
させることにより、被塗布基板５０に溶剤５４を均一に
塗布するものである。そして、被塗布基板５０とノズル
５２との距離を測定する距離測定手段１０と、距離測定
手段１０で測定された距離に基づき被塗布基板５０とノ
ズル５２との距離ｈを一定値ｈ0 に制御する距離制御手
段１２とを備えている。
ズル５２から溶剤５４を滴下して被塗布基板５０を回転
させることにより、被塗布基板５０に溶剤５４を均一に
塗布するものである。そして、被塗布基板５０とノズル
５２との距離を測定する距離測定手段１０と、距離測定
手段１０で測定された距離に基づき被塗布基板５０とノ
ズル５２との距離ｈを一定値ｈ0 に制御する距離制御手
段１２とを備えている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、被塗布基板に溶剤を均
一に塗布するスピンナー塗布装置に関し、詳しくは、光
ディスク，半導体素子等の製造に用いられるスピンナー
塗布装置に関する。
一に塗布するスピンナー塗布装置に関し、詳しくは、光
ディスク，半導体素子等の製造に用いられるスピンナー
塗布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】図３は、従来のスピンナー塗布装置を示
す構成図である。従来のスピンナー塗布装置は、被塗布
基板５０にノズル５２から溶剤５４を滴下して被塗布基
板５０を回転させることにより、被塗布基板５０に溶剤
５４を均一に塗布するものである。被塗布基板５０はタ
ーンテーブル５６に載置され、ターンテーブル５６は回
転駆動を与えるスピンドルモータ５８に直結されてい
る。タンク６０に保管された溶剤５４は、配管６２を通
じてノズル５２に供給される。また、ノズル５２から被
塗布基板５０に溶剤５４を滴下した際に、溶剤５４の飛
沫が跳ね返って被塗布基板５０を汚すことがある。これ
を防止するために、スピンナーカップ６４の外周部を陰
圧にしてダクトで溶剤５４の飛沫を吸い取るようになっ
ている。
す構成図である。従来のスピンナー塗布装置は、被塗布
基板５０にノズル５２から溶剤５４を滴下して被塗布基
板５０を回転させることにより、被塗布基板５０に溶剤
５４を均一に塗布するものである。被塗布基板５０はタ
ーンテーブル５６に載置され、ターンテーブル５６は回
転駆動を与えるスピンドルモータ５８に直結されてい
る。タンク６０に保管された溶剤５４は、配管６２を通
じてノズル５２に供給される。また、ノズル５２から被
塗布基板５０に溶剤５４を滴下した際に、溶剤５４の飛
沫が跳ね返って被塗布基板５０を汚すことがある。これ
を防止するために、スピンナーカップ６４の外周部を陰
圧にしてダクトで溶剤５４の飛沫を吸い取るようになっ
ている。
【０００３】また、特開昭５９−９９１９号公報に記載
されているように、被塗布基板に回転駆動を与えるスピ
ンドルモータの回転の加速度制御をすることにより、揮
発性の高い溶剤を出来る限り均一に塗布するための提案
もなされている。
されているように、被塗布基板に回転駆動を与えるスピ
ンドルモータの回転の加速度制御をすることにより、揮
発性の高い溶剤を出来る限り均一に塗布するための提案
もなされている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、光ディスク
の高密度化が進むにつれて、マスターを作成する際に原
盤に塗布されるフォトレジスト膜厚の均一性が、さらに
高精度に要求されるようになってきた。しかし、従来の
技術では、かかる高精度化を図ることは既に限界に達し
ていた。
の高密度化が進むにつれて、マスターを作成する際に原
盤に塗布されるフォトレジスト膜厚の均一性が、さらに
高精度に要求されるようになってきた。しかし、従来の
技術では、かかる高精度化を図ることは既に限界に達し
ていた。
【０００５】
【発明の目的】そこで、本発明は、フォトレジスト膜厚
の均一性を向上させることを可能にしたにスピンナー塗
布装置を提供することにある。
の均一性を向上させることを可能にしたにスピンナー塗
布装置を提供することにある。
【０００６】
【問題を解決するための手段】本発明者は、この問題に
ついて鋭意研究を重ねた結果、フォトレジスト膜厚を均
一にするためには、ノズルを被塗布基板にできるだけ近
づければよいことを見いだした。すなわち、溶剤がノズ
ルから滴下する状態を微速度撮影等の手法により綿密に
解析した結果、ノズルと被塗布基板との距離が大きい
と、溶剤を滴下した際に液滴塊が発生して塗布むらがで
きることを明らかにしたのである。
ついて鋭意研究を重ねた結果、フォトレジスト膜厚を均
一にするためには、ノズルを被塗布基板にできるだけ近
づければよいことを見いだした。すなわち、溶剤がノズ
ルから滴下する状態を微速度撮影等の手法により綿密に
解析した結果、ノズルと被塗布基板との距離が大きい
と、溶剤を滴下した際に液滴塊が発生して塗布むらがで
きることを明らかにしたのである。
【０００７】しかしながら、ノズルと被塗布基板との距
離を近づけると、ノズルが被塗布基板に接触して、被塗
布基板の表面を痛めてしまうという新たな問題が生じ
る。特に被塗布基板は、極めて高速で回転するため、ノ
ズルが被塗布基板にわずかに触れただけでも大きく損傷
する。そこで、本発明者は、被塗布基板とノズルとの距
離を常に一定に保つように制御すれば、この新たな問題
を解決できることを見いだし、この知見に基づいて本発
明をなすに至った。
離を近づけると、ノズルが被塗布基板に接触して、被塗
布基板の表面を痛めてしまうという新たな問題が生じ
る。特に被塗布基板は、極めて高速で回転するため、ノ
ズルが被塗布基板にわずかに触れただけでも大きく損傷
する。そこで、本発明者は、被塗布基板とノズルとの距
離を常に一定に保つように制御すれば、この新たな問題
を解決できることを見いだし、この知見に基づいて本発
明をなすに至った。
【０００８】すなわち、本発明は、被塗布基板にノズル
から溶剤を滴下してこの被塗布基板を回転させることに
より、この被塗布基板に前記溶剤を均一に塗布するスピ
ンナー塗布装置を改良したものである。
から溶剤を滴下してこの被塗布基板を回転させることに
より、この被塗布基板に前記溶剤を均一に塗布するスピ
ンナー塗布装置を改良したものである。
【０００９】そして、前記被塗布基板と前記ノズルとの
距離を測定する距離測定手段と、この距離測定手段で測
定された距離に基づき前記被塗布基板と前記ノズルとの
距離を一定に制御する距離制御手段とを備えたことを特
徴とするものである。
距離を測定する距離測定手段と、この距離測定手段で測
定された距離に基づき前記被塗布基板と前記ノズルとの
距離を一定に制御する距離制御手段とを備えたことを特
徴とするものである。
【００１０】前記距離測定手段は、前記ノズルに固設さ
れると共にレーザ光を前記被塗布基板に照射してその反
射光を入射する光ファイバと、この光ファイバと前記被
塗布基板との距離が一定の場合に前記被塗布基板上で焦
点を結ぶようにレーザ光を前記光ファイバから照射させ
ると共に前記光ファイバから入射された反射光に基づき
焦点距離からのずれを検出するフォーカスエラー検出部
とを備えたものとしてもよい。
れると共にレーザ光を前記被塗布基板に照射してその反
射光を入射する光ファイバと、この光ファイバと前記被
塗布基板との距離が一定の場合に前記被塗布基板上で焦
点を結ぶようにレーザ光を前記光ファイバから照射させ
ると共に前記光ファイバから入射された反射光に基づき
焦点距離からのずれを検出するフォーカスエラー検出部
とを備えたものとしてもよい。
【００１１】前記距離制御手段は、ノズル又はノズルと
連結された配管に巻回されたコイルと、このコイルにロ
ーレンツ力を与える磁石とを備えたものとしてもよい。
前記コイルは超電導コイルであるものとしてもよい。
連結された配管に巻回されたコイルと、このコイルにロ
ーレンツ力を与える磁石とを備えたものとしてもよい。
前記コイルは超電導コイルであるものとしてもよい。
【００１２】
【作用】請求項１記載のスピンナー塗布装置の作用は次
のとおりである。被塗布基板にノズルから溶剤を滴下し
て、この被塗布基板を回転させる。このとき、距離測定
手段は、被塗布基板とノズルとの距離を測定する。距離
制御手段は、距離測定手段で測定された距離に基づき、
被塗布基板とノズルとの距離を一定になるように制御す
る。すなわち、距離測定手段で測定された距離が一定値
よりも大きければその距離を小さくするように制御し、
逆にその距離が一定値よりも小さければその距離を大き
くするように制御する。
のとおりである。被塗布基板にノズルから溶剤を滴下し
て、この被塗布基板を回転させる。このとき、距離測定
手段は、被塗布基板とノズルとの距離を測定する。距離
制御手段は、距離測定手段で測定された距離に基づき、
被塗布基板とノズルとの距離を一定になるように制御す
る。すなわち、距離測定手段で測定された距離が一定値
よりも大きければその距離を小さくするように制御し、
逆にその距離が一定値よりも小さければその距離を大き
くするように制御する。
【００１３】請求項２記載のスピンナー塗布装置の主な
作用は次のとおりである。光ファイバは、ノズルに固設
されていると共に可撓性を有するので、ノズルと共に上
下する。光ファイバから照射されたレーザ光は、ノズル
と被塗布基板との距離が一定の場合に、被塗布基板上で
焦点を結ぶ。被塗布基板からの反射光は、光ファイバに
入射して、フォーカスエラー検出部で焦点距離からのず
れが検出される。
作用は次のとおりである。光ファイバは、ノズルに固設
されていると共に可撓性を有するので、ノズルと共に上
下する。光ファイバから照射されたレーザ光は、ノズル
と被塗布基板との距離が一定の場合に、被塗布基板上で
焦点を結ぶ。被塗布基板からの反射光は、光ファイバに
入射して、フォーカスエラー検出部で焦点距離からのず
れが検出される。
【００１４】請求項３記載のスピンナー塗布装置の主な
作用は次のとおりである。コイルはノズル又はノズルと
連結された配管に巻回されているので、ノズルと共に上
下する。このコイルに流す電流の向きで、磁石から与え
られるローレンツ力の向きが決まり、その電流の大きさ
で、ローレンツ力の大きさが決まる。したがって、この
コイルに流す電流を制御することで、ノズルが上下す
る。
作用は次のとおりである。コイルはノズル又はノズルと
連結された配管に巻回されているので、ノズルと共に上
下する。このコイルに流す電流の向きで、磁石から与え
られるローレンツ力の向きが決まり、その電流の大きさ
で、ローレンツ力の大きさが決まる。したがって、この
コイルに流す電流を制御することで、ノズルが上下す
る。
【００１５】
【実施例】図１及び図２は本発明に係るスピンナー塗布
装置の一実施例を示し、図１は全体構成図、図２は距離
測定手段及び距離制御手段を示す要部構成図である。以
下、これの図面に基づき説明する。ただし、図３と同一
部分は同一符号を付して説明を省略する。また、図示の
都合上、図１では図３におけるスピンナーカップ６４を
省略している。
装置の一実施例を示し、図１は全体構成図、図２は距離
測定手段及び距離制御手段を示す要部構成図である。以
下、これの図面に基づき説明する。ただし、図３と同一
部分は同一符号を付して説明を省略する。また、図示の
都合上、図１では図３におけるスピンナーカップ６４を
省略している。
【００１６】本発明に係るスピンナー塗布装置は、被塗
布基板５０にノズル５２から溶剤５４を滴下して被塗布
基板５０を回転させることにより、被塗布基板５０に溶
剤５４を均一に塗布するものである。
布基板５０にノズル５２から溶剤５４を滴下して被塗布
基板５０を回転させることにより、被塗布基板５０に溶
剤５４を均一に塗布するものである。
【００１７】そして、被塗布基板５０とノズル５２との
距離を測定する距離測定手段１０と、距離測定手段１０
で測定された距離に基づき被塗布基板５０とノズル５２
との距離ｈを一定値ｈ0 に制御する距離制御手段１２と
を備えたことを特徴とするものである。
距離を測定する距離測定手段１０と、距離測定手段１０
で測定された距離に基づき被塗布基板５０とノズル５２
との距離ｈを一定値ｈ0 に制御する距離制御手段１２と
を備えたことを特徴とするものである。
【００１８】距離測定手段１０は、ノズル５２に固設さ
れると共にレーザ光ａを被塗布基板５０に照射してその
反射光ｂを入射する光ファイバ１４と、光ファイバ１４
と被塗布基板５０との距離ｈが一定値ｈ0 の場合に被塗
布基板５０上で焦点を結ぶようにレーザ光ａを光ファイ
バ１４から照射させると共に光ファイバ１４から入射さ
れた反射光ｂに基づき焦点距離からのずれを検出するフ
ォーカスエラー検出部１６とを備えている。
れると共にレーザ光ａを被塗布基板５０に照射してその
反射光ｂを入射する光ファイバ１４と、光ファイバ１４
と被塗布基板５０との距離ｈが一定値ｈ0 の場合に被塗
布基板５０上で焦点を結ぶようにレーザ光ａを光ファイ
バ１４から照射させると共に光ファイバ１４から入射さ
れた反射光ｂに基づき焦点距離からのずれを検出するフ
ォーカスエラー検出部１６とを備えている。
【００１９】距離制御手段１２は、ノズル５２と連結さ
れた配管１８に巻回されたコイル２０と、コイル２０に
ローレンツ力を与える磁石２２とを備えたものである。
れた配管１８に巻回されたコイル２０と、コイル２０に
ローレンツ力を与える磁石２２とを備えたものである。
【００２０】光ファイバ１４は、取付具１４１によって
ノズル５２に固設されている。フォーカスエラー検出部
１６は、半導体レーザ１６１、集光レンズ１６２、ビー
ムスプリッタ１６３、対物レンズ１６４、円筒レンズ１
６５、四分割ディテクタ１６６及び信号増幅器１６７か
ら構成されている。半導体レーザ１６１から発生したレ
ーザ光ａは、集光レンズ１６２、ビームスプリッタ１６
３、対物レンズ１６４、光ファイバ１４を経て、被塗布
基板５０に照射される。続いて、被塗布基板５０からの
反射光ｂは、光ファイバ１４、対物レンズ１６４、ビー
ムスプリッタ１６３、円筒レンズ１６５を経て、四分割
ディテクタ１６６に到達する。このとき、光ファイバ１
４と被塗布基板５０との距離ｈが一定値ｈ0 の場合に
は、四分割ディテクタ１６６での受光スポットが真円と
なるように予め調整されてある。距離ｈが一定値ｈ0 よ
りも小さい場合には、受光スポットが縦長の楕円にな
り、距離ｈが一定値ｈ0 よりも大きい場合には、受光ス
ポットが横長の楕円になる。これにより、フォーカスエ
ラー検出部１６は、反射光ｂに基づき焦点距離からのず
れを検出している。
ノズル５２に固設されている。フォーカスエラー検出部
１６は、半導体レーザ１６１、集光レンズ１６２、ビー
ムスプリッタ１６３、対物レンズ１６４、円筒レンズ１
６５、四分割ディテクタ１６６及び信号増幅器１６７か
ら構成されている。半導体レーザ１６１から発生したレ
ーザ光ａは、集光レンズ１６２、ビームスプリッタ１６
３、対物レンズ１６４、光ファイバ１４を経て、被塗布
基板５０に照射される。続いて、被塗布基板５０からの
反射光ｂは、光ファイバ１４、対物レンズ１６４、ビー
ムスプリッタ１６３、円筒レンズ１６５を経て、四分割
ディテクタ１６６に到達する。このとき、光ファイバ１
４と被塗布基板５０との距離ｈが一定値ｈ0 の場合に
は、四分割ディテクタ１６６での受光スポットが真円と
なるように予め調整されてある。距離ｈが一定値ｈ0 よ
りも小さい場合には、受光スポットが縦長の楕円にな
り、距離ｈが一定値ｈ0 よりも大きい場合には、受光ス
ポットが横長の楕円になる。これにより、フォーカスエ
ラー検出部１６は、反射光ｂに基づき焦点距離からのず
れを検出している。
【００２１】ノズル５２と連結された配管１８には四角
状断面の芯部材２０１が被装されている。コイル２０
は、芯部材２０１に四角状に導線が巻回されて成る。磁
石２２は、コイル２０を挟んで対向するＮ極及びＳ極か
ら成る永久磁石である。コイル２０と磁石２２とは、コ
イル２０の導線に流れる電流に磁石２２の磁力線が直交
するように構成されている。これにより、コイル２０に
はローレンツ力が作用する。
状断面の芯部材２０１が被装されている。コイル２０
は、芯部材２０１に四角状に導線が巻回されて成る。磁
石２２は、コイル２０を挟んで対向するＮ極及びＳ極か
ら成る永久磁石である。コイル２０と磁石２２とは、コ
イル２０の導線に流れる電流に磁石２２の磁力線が直交
するように構成されている。これにより、コイル２０に
はローレンツ力が作用する。
【００２２】四分割ディテクタ１６６からは検出信号が
出力され、検出信号は信号増幅器１６７を介してコイル
２０に入力されている。すなわち、距離ｈが一定値ｈ0
よりも小さい場合には、被塗布基板５０から遠ざかる力
が働くようにコイル２０に通電され、距離ｈが一定値ｈ
0 よりも大きい場合には、被塗布基板５０に近づく力が
働くようにコイル２０に通電される。また、ノズル５２
は、配管１８の屈曲部１８１の復元力を利用して、コイ
ル２０に通電されないときは所定の位置に戻るようにな
っている。配管１８は、ステンレス又は合成樹脂等から
形成され、一定の強度と弾力性を有している。
出力され、検出信号は信号増幅器１６７を介してコイル
２０に入力されている。すなわち、距離ｈが一定値ｈ0
よりも小さい場合には、被塗布基板５０から遠ざかる力
が働くようにコイル２０に通電され、距離ｈが一定値ｈ
0 よりも大きい場合には、被塗布基板５０に近づく力が
働くようにコイル２０に通電される。また、ノズル５２
は、配管１８の屈曲部１８１の復元力を利用して、コイ
ル２０に通電されないときは所定の位置に戻るようにな
っている。配管１８は、ステンレス又は合成樹脂等から
形成され、一定の強度と弾力性を有している。
【００２３】次に、本実施例のスピンナー塗布装置の作
用を説明する。
用を説明する。
【００２４】被塗布基板５０にノズル５２から溶剤５４
を滴下して、被塗布基板５０を回転させる。このとき、
光ファイバ１４から照射されたレーザ光ａは、ノズル５
２と被塗布基板５０との距離ｈが一定値ｈ0 の場合に、
被塗布基板５０上で焦点を結ぶ。被塗布基板５０からの
反射光ｂは、光ファイバ１４に入射して、フォーカスエ
ラー検出部１６で焦点距離からのずれが検出される。そ
して、距離ｈが一定値ｈ0 よりも小さい場合には、ノズ
ル５２が被塗布基板５０から遠ざかるようにコイル２０
に通電され、距離ｈが一定値ｈ0 よりも大きい場合に
は、ノズル５２が被塗布基板５０に近づくようにコイル
２０に通電される。このとき、コイル２０及び光ファイ
バ１４は、ノズル５２と一体になって上下する。
を滴下して、被塗布基板５０を回転させる。このとき、
光ファイバ１４から照射されたレーザ光ａは、ノズル５
２と被塗布基板５０との距離ｈが一定値ｈ0 の場合に、
被塗布基板５０上で焦点を結ぶ。被塗布基板５０からの
反射光ｂは、光ファイバ１４に入射して、フォーカスエ
ラー検出部１６で焦点距離からのずれが検出される。そ
して、距離ｈが一定値ｈ0 よりも小さい場合には、ノズ
ル５２が被塗布基板５０から遠ざかるようにコイル２０
に通電され、距離ｈが一定値ｈ0 よりも大きい場合に
は、ノズル５２が被塗布基板５０に近づくようにコイル
２０に通電される。このとき、コイル２０及び光ファイ
バ１４は、ノズル５２と一体になって上下する。
【００２５】このように、距離測定手段１０及び距離制
御手段１２の作用により、距離ｈは常に一定値ｈ0 に保
たれる。その結果、距離ｈを十分に小さくしても、ノズ
ル５２が被塗布基板５０へ衝突することを回避でき、フ
ォトレジスト膜厚の均一性が向上する。
御手段１２の作用により、距離ｈは常に一定値ｈ0 に保
たれる。その結果、距離ｈを十分に小さくしても、ノズ
ル５２が被塗布基板５０へ衝突することを回避でき、フ
ォトレジスト膜厚の均一性が向上する。
【００２６】なお、コイル２０は応答性を上げるために
強力な磁場を発生させる超電導コイルを使用すると良
い。半導体レーザ１６１は、溶剤５４に光反応を生じさ
せない長波長（例えば８３０nm，７８０nm）を出力でき
るものを使うと良い。
強力な磁場を発生させる超電導コイルを使用すると良
い。半導体レーザ１６１は、溶剤５４に光反応を生じさ
せない長波長（例えば８３０nm，７８０nm）を出力でき
るものを使うと良い。
【００２７】また、距離測定手段１０は、波長の位相を
検出するものや、超音波を用いるものとしてもよい。さ
らに、距離制御手段１２は、クーロン力や磁力を用いる
ものとしてもよい。
検出するものや、超音波を用いるものとしてもよい。さ
らに、距離制御手段１２は、クーロン力や磁力を用いる
ものとしてもよい。
【００２８】
【発明の効果】本発明に係るスピンナー塗布装置によれ
ば、距離測定手段で被塗布基板とノズルとの距離を測定
しながら、距離制御手段で被塗布基板とノズルとの距離
を常に一定になるように制御することにより、ノズルが
被塗布基板に衝突することを回避できる。したがって、
ノズルを被塗布基板に十分に近づけることが可能となる
ので、フォトレジスト膜厚の均一性を著しく向上でき
る。
ば、距離測定手段で被塗布基板とノズルとの距離を測定
しながら、距離制御手段で被塗布基板とノズルとの距離
を常に一定になるように制御することにより、ノズルが
被塗布基板に衝突することを回避できる。したがって、
ノズルを被塗布基板に十分に近づけることが可能となる
ので、フォトレジスト膜厚の均一性を著しく向上でき
る。
【図１】本発明の一実施例を示す全体構成図である。
【図２】本発明の一実施例における距離測定手段及び距
離制御手段を示す要部構成図である。
離制御手段を示す要部構成図である。
【図３】従来例を示す全体構成図である。
１０ 距離測定手段 １２ 距離制御手段 １６ フォーカスエラー検出部 １８ 配管 ２０ コイル ２２ 磁石 ５０ 被塗布基板 ５２ ノズル ５４ 溶剤 ａ レーザ光 ｂ 反射光 ｈ 被塗布基板とノズルとの距離
Claims (4)
- 【請求項１】 被塗布基板にノズルから溶剤を滴下して
この被塗布基板を回転させることにより、この被塗布基
板に前記溶剤を均一に塗布するスピンナー塗布装置にお
いて、 前記被塗布基板と前記ノズルとの距離を測定する距離測
定手段と、この距離測定手段で測定された距離に基づき
前記被塗布基板と前記ノズルとの距離を一定に制御する
距離制御手段とを備えたことを特徴とするスピンナー塗
布装置。 - 【請求項２】 前記距離測定手段は、前記ノズルに固設
されると共にレーザ光を前記被塗布基板に照射してその
反射光を入射する光ファイバと、この光ファイバと前記
被塗布基板との距離が一定の場合に前記被塗布基板上で
焦点を結ぶようにレーザ光を前記光ファイバから照射さ
せると共に前記光ファイバから入射された反射光に基づ
き焦点距離のずれを検出するフォーカスエラー検出部と
を備えたことを特徴とする請求項１記載のスピンナー装
置。 - 【請求項３】 前記距離制御手段は、ノズル又はノズル
と連結された配管に巻回されたコイルと、このコイルに
ローレンツ力を与える磁石とを備えたことを特徴とする
請求項１又は２記載のスピンナー装置。 - 【請求項４】 前記コイルは超電導コイルであることを
特徴とする請求項３記載のスピンナー塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2731494A JPH07221008A (ja) | 1994-01-31 | 1994-01-31 | スピンナー塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2731494A JPH07221008A (ja) | 1994-01-31 | 1994-01-31 | スピンナー塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07221008A true JPH07221008A (ja) | 1995-08-18 |
Family
ID=12217630
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2731494A Pending JPH07221008A (ja) | 1994-01-31 | 1994-01-31 | スピンナー塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07221008A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1305586C (zh) * | 2003-05-07 | 2007-03-21 | Hoya株式会社 | 基板涂覆装置和基板涂覆方法 |
| CN103396004A (zh) * | 2013-08-07 | 2013-11-20 | 福耀玻璃（重庆）有限公司 | 一种玻璃底涂防错工装及其控制方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0520322B2 (ja) * | 1985-04-08 | 1993-03-19 | Daifuku Kk |
-
1994
- 1994-01-31 JP JP2731494A patent/JPH07221008A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0520322B2 (ja) * | 1985-04-08 | 1993-03-19 | Daifuku Kk |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1305586C (zh) * | 2003-05-07 | 2007-03-21 | Hoya株式会社 | 基板涂覆装置和基板涂覆方法 |
| CN103396004A (zh) * | 2013-08-07 | 2013-11-20 | 福耀玻璃（重庆）有限公司 | 一种玻璃底涂防错工装及其控制方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19980714 |