JPH11167730A - 光ディスク原盤記録装置および光ディスク原盤記録方法 - Google Patents
光ディスク原盤記録装置および光ディスク原盤記録方法Info
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- JPH11167730A JPH11167730A JP9331584A JP33158497A JPH11167730A JP H11167730 A JPH11167730 A JP H11167730A JP 9331584 A JP9331584 A JP 9331584A JP 33158497 A JP33158497 A JP 33158497A JP H11167730 A JPH11167730 A JP H11167730A
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- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/261—Preparing a master, e.g. exposing photoresist, electroforming
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/04—Automatically aligning, aiming or focusing the laser beam, e.g. using the back-scattered light
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- G11B7/08—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers
- G11B7/09—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B7/0901—Disposition or mounting of heads or light sources relatively to record carriers with provision for moving the light beam or focus plane for the purpose of maintaining alignment of the light beam relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following for track following only
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- G11B7/1374—Objective lenses
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 対物レンズ等の光学系を精度よく位置決めす
る。 【解決手段】 本発明の光ディスク原盤記録装置は、対
物レンズ３と、対物レンズ３を水平方向に移動制御する
スライダ５と、光ディスク原盤６を回転させるターンテ
ーブル７と、ターンテーブル７の回転制御を行うスピン
ドル８と、位置合わせ光発生装置９と、位置合わせ部材
１６，１７で反射された位置合わせ光を検出する位置合
わせ光検出器１０と、位置合わせ光検出器１０での受光
結果に基づいてスライダ５を移動させるスライダ制御部
１１とを備える。位置合わせ部材１６は対物レンズ３の
先端に取り付けられ、位置合わせ部材１７はスピンドル
静止部１３の上面に取り付けられる。位置合わせ部材１
７は常に位置が変化しないため、位置合わせ部材１６，
１７からの回折光を検出することで、位置合わせ部材１
６，１７間の相対位置ずれ量を正確に検出できる。
る。 【解決手段】 本発明の光ディスク原盤記録装置は、対
物レンズ３と、対物レンズ３を水平方向に移動制御する
スライダ５と、光ディスク原盤６を回転させるターンテ
ーブル７と、ターンテーブル７の回転制御を行うスピン
ドル８と、位置合わせ光発生装置９と、位置合わせ部材
１６，１７で反射された位置合わせ光を検出する位置合
わせ光検出器１０と、位置合わせ光検出器１０での受光
結果に基づいてスライダ５を移動させるスライダ制御部
１１とを備える。位置合わせ部材１６は対物レンズ３の
先端に取り付けられ、位置合わせ部材１７はスピンドル
静止部１３の上面に取り付けられる。位置合わせ部材１
７は常に位置が変化しないため、位置合わせ部材１６，
１７からの回折光を検出することで、位置合わせ部材１
６，１７間の相対位置ずれ量を正確に検出できる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク原盤上
に記録光を集光させるのに用いる対物レンズ等の光学系
の送り機構の位置決め技術に関する。
に記録光を集光させるのに用いる対物レンズ等の光学系
の送り機構の位置決め技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】コンピュータ機器の性能向上やインター
ネットの普及に伴い、画像や音声などの大容量のデータ
を扱う機会が増えてきた。それとともに、大容量のデー
タを記録可能な記録媒体が必要とされるようになってき
た。
ネットの普及に伴い、画像や音声などの大容量のデータ
を扱う機会が増えてきた。それとともに、大容量のデー
タを記録可能な記録媒体が必要とされるようになってき
た。
【０００３】光ディスクは、ハードディスクなどの磁気
記録媒体よりも、記録容量が大きく、可搬性にも優れる
ため、CD-ROMなどの一部の光ディスクはすでに普及して
おり、また、CD-ROMよりも記録容量の大きいDVD-ROM
も、今後急速な勢いで普及することが予想される。
記録媒体よりも、記録容量が大きく、可搬性にも優れる
ため、CD-ROMなどの一部の光ディスクはすでに普及して
おり、また、CD-ROMよりも記録容量の大きいDVD-ROM
も、今後急速な勢いで普及することが予想される。
【０００４】CD-ROMやDVD-ROMなどの市販用の光ディス
ク（以下、市販ディスクと呼ぶ）を製造する場合、まず
光ディスク原盤を作製し、この原盤から射出成形により
市販ディスク原盤を製造するのが一般的である。
ク（以下、市販ディスクと呼ぶ）を製造する場合、まず
光ディスク原盤を作製し、この原盤から射出成形により
市販ディスク原盤を製造するのが一般的である。
【０００５】射出成形の過程で、多少のピット形状等の
劣化が生じるため、光ディスク原盤は、市販ディスク原
盤よりもはるかに高い精度が要求される。例えば、現在
製品化されている市販ディスクのトラックピッチは１μ
ｍ以下であることから、光ディスク原盤を製造する光デ
ィスク原盤記録装置は、ナノメートルオーダの位置決め
精度が要求される。
劣化が生じるため、光ディスク原盤は、市販ディスク原
盤よりもはるかに高い精度が要求される。例えば、現在
製品化されている市販ディスクのトラックピッチは１μ
ｍ以下であることから、光ディスク原盤を製造する光デ
ィスク原盤記録装置は、ナノメートルオーダの位置決め
精度が要求される。
【０００６】図４，５は従来の光ディスク原盤記録装置
の概略構成図である。図４，５の記録光発生装置は、記
録用のレーザ光を出力する。このレーザ光は、記録光学
系２で変調されて対物レンズ３に導かれる。対物レンズ
３は、記録光学系２からのレーザ光をガラス製の光ディ
スク原盤６上に結像させる。光ディスク原盤６は、レジ
ストが塗布された面（記録面）を上にしてターンテーブ
ル７上に固定され、ターンテーブル７は、スピンドルモ
ータ８により回転制御される。
の概略構成図である。図４，５の記録光発生装置は、記
録用のレーザ光を出力する。このレーザ光は、記録光学
系２で変調されて対物レンズ３に導かれる。対物レンズ
３は、記録光学系２からのレーザ光をガラス製の光ディ
スク原盤６上に結像させる。光ディスク原盤６は、レジ
ストが塗布された面（記録面）を上にしてターンテーブ
ル７上に固定され、ターンテーブル７は、スピンドルモ
ータ８により回転制御される。
【０００７】対物レンズ３は、フォーカス機構４により
上下方向（光軸方向）に移動制御される。また、フォー
カス機構４はスライダ５に取り付けられ、スライダ５
は、対物レンズ３を水平方向（記録面に平行な方向）に
移動制御する。
上下方向（光軸方向）に移動制御される。また、フォー
カス機構４はスライダ５に取り付けられ、スライダ５
は、対物レンズ３を水平方向（記録面に平行な方向）に
移動制御する。
【０００８】光ディスク原盤６にデータを記録する場合
には、光ディスク原盤６を回転させた状態で、スライダ
５とフォーカス機構４により対物レンズ３を移動制御し
て光ディスク原盤６のレジスト塗布面に記録光を結像さ
せ、光ディスク原盤６の内周側から外周側に螺旋状に露
光記録を行う。
には、光ディスク原盤６を回転させた状態で、スライダ
５とフォーカス機構４により対物レンズ３を移動制御し
て光ディスク原盤６のレジスト塗布面に記録光を結像さ
せ、光ディスク原盤６の内周側から外周側に螺旋状に露
光記録を行う。
【０００９】予め定められたピッチで光ディスク原盤６
上にデータを記録するには、対物レンズ３の水平方向移
動距離を正確に計測する必要がある。従来は、対物レン
ズ３を水平方向に移動させるスライダ５の移動距離を、
図４に示すレーザ干渉計２１や、図５に示すリニアスケ
ール２２により計測していた。
上にデータを記録するには、対物レンズ３の水平方向移
動距離を正確に計測する必要がある。従来は、対物レン
ズ３を水平方向に移動させるスライダ５の移動距離を、
図４に示すレーザ干渉計２１や、図５に示すリニアスケ
ール２２により計測していた。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図４に
示すレーザ干渉計２１は、対象物（例えばスライダ５に
取り付けられたミラー２３）に光Ｌ３を照射してその反
射光を検出することで、対象物２３と干渉計２１との相
対距離を計測するものであり、干渉計２１と対象物２３
との距離が長いと、その間を往復するレーザ光の通過距
離も長くなり、空気のゆらぎ（気圧変動）や温度変動の
影響を受けやすくなって、精度が悪くなるという問題が
あった。このため、仮にスライダ５が静止していても、
ナノメートルオーダの単位では、誤差により計測値が変
動してしまう。すなわち、レーザ干渉計２１の計測結果
に基づいてスライダ５を位置制御すると、ナノメートル
オーダでの位置制御は不可能であり、対物レンズ３の位
置決めにも、かなりの送り誤差が生じていた。
示すレーザ干渉計２１は、対象物（例えばスライダ５に
取り付けられたミラー２３）に光Ｌ３を照射してその反
射光を検出することで、対象物２３と干渉計２１との相
対距離を計測するものであり、干渉計２１と対象物２３
との距離が長いと、その間を往復するレーザ光の通過距
離も長くなり、空気のゆらぎ（気圧変動）や温度変動の
影響を受けやすくなって、精度が悪くなるという問題が
あった。このため、仮にスライダ５が静止していても、
ナノメートルオーダの単位では、誤差により計測値が変
動してしまう。すなわち、レーザ干渉計２１の計測結果
に基づいてスライダ５を位置制御すると、ナノメートル
オーダでの位置制御は不可能であり、対物レンズ３の位
置決めにも、かなりの送り誤差が生じていた。
【００１１】また、フォーカス機構４には、対物レンズ
３を上下（光軸方向）に移動させるボイスコイルモータ
が設けられており、このボイスコイルモータは、水平方
向（記録面に平行な方向）にクロスアクションが生じる
ことが知られており、このクロスアクションの非同期成
分により、仮にスライダ５の位置が正しくても、対物レ
ンズ３の水平方向位置がずれてしまう。
３を上下（光軸方向）に移動させるボイスコイルモータ
が設けられており、このボイスコイルモータは、水平方
向（記録面に平行な方向）にクロスアクションが生じる
ことが知られており、このクロスアクションの非同期成
分により、仮にスライダ５の位置が正しくても、対物レ
ンズ３の水平方向位置がずれてしまう。
【００１２】同様に、図５のようなリニアスケール２２
を用いた原盤記録装置も、上述したボイスコイルモータ
のクロスアクションの非同期成分により、仮にスライダ
５の位置が正しくても、対物レンズ３の水平方向位置を
正しく制御することができない。また、リニアスケール
２２の位置と対物レンズ３の位置とが離れているため、
スライダ５の走行中の回転（ロール誤差、ピッチ誤差、
ヨー誤差）によるアッベ誤差により、仮にクロスアクシ
ョンがなくても、対物レンズ３の位置決め精度を向上で
きない。
を用いた原盤記録装置も、上述したボイスコイルモータ
のクロスアクションの非同期成分により、仮にスライダ
５の位置が正しくても、対物レンズ３の水平方向位置を
正しく制御することができない。また、リニアスケール
２２の位置と対物レンズ３の位置とが離れているため、
スライダ５の走行中の回転（ロール誤差、ピッチ誤差、
ヨー誤差）によるアッベ誤差により、仮にクロスアクシ
ョンがなくても、対物レンズ３の位置決め精度を向上で
きない。
【００１３】このように、従来の光ディスク原盤記録装
置は、スライダ５の位置計測誤差や、ボイスコイルモー
タのクロスアクションの非同期成分による誤差や、アッ
ベ誤差等に起因して、対物レンズ３の位置決め誤差が生
じ、その結果、光ディスク原盤６上の記録ピット列のト
ラックピッチにも誤差が生じるという問題があった。本
発明は、このような点に鑑みてなされたものであり、そ
の目的は、対物レンズ等の光学系を精度よく位置決めで
きる光ディスク原盤記録装置および光ディスク原盤記録
方法を提供することにある。
置は、スライダ５の位置計測誤差や、ボイスコイルモー
タのクロスアクションの非同期成分による誤差や、アッ
ベ誤差等に起因して、対物レンズ３の位置決め誤差が生
じ、その結果、光ディスク原盤６上の記録ピット列のト
ラックピッチにも誤差が生じるという問題があった。本
発明は、このような点に鑑みてなされたものであり、そ
の目的は、対物レンズ等の光学系を精度よく位置決めで
きる光ディスク原盤記録装置および光ディスク原盤記録
方法を提供することにある。
【００１４】
【課題を解決するための手段】上述した課題を解決する
ために、請求項１の発明は、レジスト塗布された光ディ
スク原盤を回転させた状態で、前記光ディスク原盤のレ
ジスト塗布面に記録信号に応じた記録光を照射して露光
記録を行う光ディスク原盤記録装置において、前記記録
光を前記光ディスク原盤のレジスト塗布面に結像させる
光学系と、前記光学系に近接して配置され、前記光学系
と一体に移動する第１の位置決め部材と、前記光ディス
ク原盤に近接して配置され、前記光ディスク原盤の回転
や前記光学系の移動にかかわらず位置が変化しない第２
の位置決め部材と、前記第１および第２の位置決め部材
に位置決め光を照射する位置決め光発生手段と、前記第
１および第２の位置決め部材で反射や回折された前記位
置決め光を受光する位置決め光検出手段と、前記位置決
め光検出部で受光された前記位置決め光に基づいて、前
記光学系の位置制御を行う光学系制御手段とを備えるも
のである。
ために、請求項１の発明は、レジスト塗布された光ディ
スク原盤を回転させた状態で、前記光ディスク原盤のレ
ジスト塗布面に記録信号に応じた記録光を照射して露光
記録を行う光ディスク原盤記録装置において、前記記録
光を前記光ディスク原盤のレジスト塗布面に結像させる
光学系と、前記光学系に近接して配置され、前記光学系
と一体に移動する第１の位置決め部材と、前記光ディス
ク原盤に近接して配置され、前記光ディスク原盤の回転
や前記光学系の移動にかかわらず位置が変化しない第２
の位置決め部材と、前記第１および第２の位置決め部材
に位置決め光を照射する位置決め光発生手段と、前記第
１および第２の位置決め部材で反射や回折された前記位
置決め光を受光する位置決め光検出手段と、前記位置決
め光検出部で受光された前記位置決め光に基づいて、前
記光学系の位置制御を行う光学系制御手段とを備えるも
のである。
【００１５】請求項１の発明を、例えば図１に対応づけ
て説明すると、「光ディスク原盤」は光ディスク原盤６
に、「光学系」は対物レンズ３に、「第１の位置決め部
材」は位置決め部材１６に、「第２の位置決め部材」は
位置決め部材１７に、「位置決め光発生手段」は位置決
め光発生装置９に、「位置決め光検出手段」は位置決め
光検出器１０に、「対物レンズ制御手段」はスライダ制
御部１１に、それぞれ対応する。
て説明すると、「光ディスク原盤」は光ディスク原盤６
に、「光学系」は対物レンズ３に、「第１の位置決め部
材」は位置決め部材１６に、「第２の位置決め部材」は
位置決め部材１７に、「位置決め光発生手段」は位置決
め光発生装置９に、「位置決め光検出手段」は位置決め
光検出器１０に、「対物レンズ制御手段」はスライダ制
御部１１に、それぞれ対応する。
【００１６】請求項２の発明を、例えば図１に対応づけ
て説明すると、「焦点調整手段」はフォーカス機構４に
対応する。
て説明すると、「焦点調整手段」はフォーカス機構４に
対応する。
【００１７】請求項３の発明を、例えば図１に対応づけ
て説明すると、「回転部材」はスピンドル８に、「静止
部」はスピンドル静止部１３に、「回転部」はスピンド
ル回転部１２に、それぞれ対応する。
て説明すると、「回転部材」はスピンドル８に、「静止
部」はスピンドル静止部１３に、「回転部」はスピンド
ル回転部１２に、それぞれ対応する。
【００１８】請求項５の発明は、レジスト塗布された光
ディスク原盤を回転させた状態で、前記光ディスク原盤
のレジスト塗布面に記録信号に応じたレーザ光を照射し
て露光記録を行う光ディスク原盤記録方法において、前
記光学系と一体に移動する第１の位置決め部材と、前記
光学系の移動や前記光ディスク原盤の回転にかかわらず
位置が変化しない第２の位置決め部材とにそれぞれ位置
合わせ光を照射し、前記第１および第２の位置決め部材
からの反射光に基づいて、前記第１および第２の位置決
め部材の相対距離が予め定めた距離になるように、前記
光学系を移動させる。
ディスク原盤を回転させた状態で、前記光ディスク原盤
のレジスト塗布面に記録信号に応じたレーザ光を照射し
て露光記録を行う光ディスク原盤記録方法において、前
記光学系と一体に移動する第１の位置決め部材と、前記
光学系の移動や前記光ディスク原盤の回転にかかわらず
位置が変化しない第２の位置決め部材とにそれぞれ位置
合わせ光を照射し、前記第１および第２の位置決め部材
からの反射光に基づいて、前記第１および第２の位置決
め部材の相対距離が予め定めた距離になるように、前記
光学系を移動させる。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、本発明を適用した光ディス
ク原盤記録装置について、図面を参照しながら具体的に
説明する。
ク原盤記録装置について、図面を参照しながら具体的に
説明する。
【００２０】図１は本発明に係る光ディスク原盤記録装
置の一実施形態のブロック図である。図１では、図４，
５に示す従来の光ディスク原盤記録装置と同一の構成部
分には同一符号を付している。
置の一実施形態のブロック図である。図１では、図４，
５に示す従来の光ディスク原盤記録装置と同一の構成部
分には同一符号を付している。
【００２１】図１の光ディスク原盤記録装置は、図４と
同様に、記録データに応じた記録光Ｌ１を発生する記録
光発生装置１と、記録光を変調する記録光学系２と、記
録光を原盤上に結像させる対物レンズ３と、ボイスコイ
ルモータにより対物レンズ３を光軸方向に移動制御する
フォーカス機構４と、対物レンズ３を水平方向（原盤の
記録面に平行な方向）に移動制御するスライダ５と、ガ
ラス製の光ディスク原盤６を回転させるターンテーブル
７と、ターンテーブル７の回転制御を行うスピンドル８
と、対物レンズ３の位置制御のための位置合わせ光Ｌ２
を出力する位置合わせ光発生装置９と、後述する位置合
わせ部材１６，１７で反射または回折された位置合わせ
光を検出する位置合わせ光検出器１０と、位置合わせ光
検出器１０での受光結果に基づいてスライダ５を移動さ
せるスライダ制御部１１とを備える。
同様に、記録データに応じた記録光Ｌ１を発生する記録
光発生装置１と、記録光を変調する記録光学系２と、記
録光を原盤上に結像させる対物レンズ３と、ボイスコイ
ルモータにより対物レンズ３を光軸方向に移動制御する
フォーカス機構４と、対物レンズ３を水平方向（原盤の
記録面に平行な方向）に移動制御するスライダ５と、ガ
ラス製の光ディスク原盤６を回転させるターンテーブル
７と、ターンテーブル７の回転制御を行うスピンドル８
と、対物レンズ３の位置制御のための位置合わせ光Ｌ２
を出力する位置合わせ光発生装置９と、後述する位置合
わせ部材１６，１７で反射または回折された位置合わせ
光を検出する位置合わせ光検出器１０と、位置合わせ光
検出器１０での受光結果に基づいてスライダ５を移動さ
せるスライダ制御部１１とを備える。
【００２２】スピンドル８は、スピンドル回転部１２と
スピンドル静止部１３とを有し、スピンドル回転部１２
は、スピンドル静止部１３を取り囲むように配置され、
ターンテーブル７に接続されている。スピンドル静止部
１３にはコイル１４が、スピンドル回転部１２には永久
磁石１５がそれぞれ設けられ、両者の間に働く電磁誘導
により、スピンドル回転部１２とターンテーブル７は一
体に回転する。
スピンドル静止部１３とを有し、スピンドル回転部１２
は、スピンドル静止部１３を取り囲むように配置され、
ターンテーブル７に接続されている。スピンドル静止部
１３にはコイル１４が、スピンドル回転部１２には永久
磁石１５がそれぞれ設けられ、両者の間に働く電磁誘導
により、スピンドル回転部１２とターンテーブル７は一
体に回転する。
【００２３】対物レンズ３の先端付近には、位置合わせ
用の位置合わせ部材１６が取り付けられ、スピンドル静
止部１３の上面にも、位置合わせ用の位置合わせ部材１
７が取り付けられている。これら位置合わせ部材１６，
１７は回折格子からなり、位置合わせ部材１６は例えば
図２（ａ）のようなストライプ状の格子パターン、位置
合わせ部材１７は例えば図２（ｂ）のような市松模様の
格子パターンで形成されている。
用の位置合わせ部材１６が取り付けられ、スピンドル静
止部１３の上面にも、位置合わせ用の位置合わせ部材１
７が取り付けられている。これら位置合わせ部材１６，
１７は回折格子からなり、位置合わせ部材１６は例えば
図２（ａ）のようなストライプ状の格子パターン、位置
合わせ部材１７は例えば図２（ｂ）のような市松模様の
格子パターンで形成されている。
【００２４】図３はターンテーブル７の上方（図１のＡ
方向）から見た図である。図示のように、スピンドル回
転部１２は光ディスク原盤６の非記録域２１の直下に配
置され、スピンドル静止部１３は光ディスク原盤６の記
録域２２の直下に配置される。また、位置合わせ部材１
７は、記録域２２の中心部から周縁部にかけて直線状に
形成されている。
方向）から見た図である。図示のように、スピンドル回
転部１２は光ディスク原盤６の非記録域２１の直下に配
置され、スピンドル静止部１３は光ディスク原盤６の記
録域２２の直下に配置される。また、位置合わせ部材１
７は、記録域２２の中心部から周縁部にかけて直線状に
形成されている。
【００２５】次に、本実施形態の原盤記録処理について
説明する。記録光発生装置１から出力された記録光Ｌ１
は、記録光学系２で変調された後、対物レンズ３に導か
れる。対物レンズ３は、スライダ５により水平方向に移
動制御され、かつ、フォーカス機構４により光軸方向に
移動制御される。この結果、対物レンズ３を通過した記
録光Ｌ１は、ターンテーブル７上の光ディスク原盤６上
に結像される。
説明する。記録光発生装置１から出力された記録光Ｌ１
は、記録光学系２で変調された後、対物レンズ３に導か
れる。対物レンズ３は、スライダ５により水平方向に移
動制御され、かつ、フォーカス機構４により光軸方向に
移動制御される。この結果、対物レンズ３を通過した記
録光Ｌ１は、ターンテーブル７上の光ディスク原盤６上
に結像される。
【００２６】光ディスク原盤６は、レジスト塗布面を上
にしてターンテーブル７上に載置され、スピンドル回転
部１２により回転制御される。スライダ５を光ディスク
原盤６の中心部から外周側に移動させることにより、光
ディスク原盤６には、その内周側から外周側に螺旋状に
ピット列が記録される。
にしてターンテーブル７上に載置され、スピンドル回転
部１２により回転制御される。スライダ５を光ディスク
原盤６の中心部から外周側に移動させることにより、光
ディスク原盤６には、その内周側から外周側に螺旋状に
ピット列が記録される。
【００２７】位置合わせ光発生装置９は、光ディスク原
盤６に露光記録を行っている間、連続的に、あるいは周
期的に位置合わせ光Ｌ２を発光する。位置合わせ光発生
装置９からの位置合わせ光Ｌ２は対物レンズ３の先端に
取り付けられた位置合わせ部材１６で回折を起こし、位
置合わせ光検出器１０に入射される。同様に、位置合わ
せ光発生装置９からの位置合わせ光の一部は、光ディス
ク原盤６を貫通してスピンドル静止部１３の上面に取り
付けられた位置合わせ部材１７で回折を起こして反射さ
れ、位置合わせ光検出器１０に入射される。
盤６に露光記録を行っている間、連続的に、あるいは周
期的に位置合わせ光Ｌ２を発光する。位置合わせ光発生
装置９からの位置合わせ光Ｌ２は対物レンズ３の先端に
取り付けられた位置合わせ部材１６で回折を起こし、位
置合わせ光検出器１０に入射される。同様に、位置合わ
せ光発生装置９からの位置合わせ光の一部は、光ディス
ク原盤６を貫通してスピンドル静止部１３の上面に取り
付けられた位置合わせ部材１７で回折を起こして反射さ
れ、位置合わせ光検出器１０に入射される。
【００２８】位置合わせ光検出器１０は、位置合わせ部
材１６，１７からの回折反射光に基づいて、位置合わせ
部材１６，１７間の相対位置ずれ量を検出する。スライ
ダ制御部１１は、位置合わせ光検出器１０により検出さ
れた相対位置ずれ量に応じて、スライダ５の移動制御を
行う。より具体的には、スライダ制御部１１は、位置合
わせ部材１６，１７間の相対位置ずれ量が予め定めた基
準量に等しくなるように、スライダ５を移動させる。こ
のようなスライダ５の移動制御は、光ディスク原盤６に
露光記録を行う最中に継続して行われる。
材１６，１７からの回折反射光に基づいて、位置合わせ
部材１６，１７間の相対位置ずれ量を検出する。スライ
ダ制御部１１は、位置合わせ光検出器１０により検出さ
れた相対位置ずれ量に応じて、スライダ５の移動制御を
行う。より具体的には、スライダ制御部１１は、位置合
わせ部材１６，１７間の相対位置ずれ量が予め定めた基
準量に等しくなるように、スライダ５を移動させる。こ
のようなスライダ５の移動制御は、光ディスク原盤６に
露光記録を行う最中に継続して行われる。
【００２９】図１の位置合わせ部材１６は、対物レンズ
３と一体に上下左右に移動可能であるのに対し、位置合
わせ部材１７は、常に位置が固定されている。このた
め、フォーカス機構４により対物レンズ３を上下方向に
移動させる際に生じるクロスアクションにより、対物レ
ンズ３が水平方向に移動しても、その移動距離を正確に
検出でき、検出結果に基づいて、対物レンズ３の位置補
正を精度よく行うことができる。
３と一体に上下左右に移動可能であるのに対し、位置合
わせ部材１７は、常に位置が固定されている。このた
め、フォーカス機構４により対物レンズ３を上下方向に
移動させる際に生じるクロスアクションにより、対物レ
ンズ３が水平方向に移動しても、その移動距離を正確に
検出でき、検出結果に基づいて、対物レンズ３の位置補
正を精度よく行うことができる。
【００３０】また、位置合わせ部材１７は、光ディスク
原盤６の記録域２２に近接して設けられるため、位置合
わせ光Ｌ２の光路長を短く設定でき、また、回折光を利
用して位置ずれを検出するため、空気のゆらぎや温度変
化などの影響を受けにくく、対物レンズ３の位置決め精
度を常に一定に保てる。さらに、対物レンズ３と位置合
わせ部材１６とが近接して配置され、同様に、光ディス
ク原盤６と位置合わせ部材１７とが近接して配置されて
いるため、アッベ誤差が少なく、アッベ誤差による対物
レンズ３の位置ずれをほとんど無視することができる。
原盤６の記録域２２に近接して設けられるため、位置合
わせ光Ｌ２の光路長を短く設定でき、また、回折光を利
用して位置ずれを検出するため、空気のゆらぎや温度変
化などの影響を受けにくく、対物レンズ３の位置決め精
度を常に一定に保てる。さらに、対物レンズ３と位置合
わせ部材１６とが近接して配置され、同様に、光ディス
ク原盤６と位置合わせ部材１７とが近接して配置されて
いるため、アッベ誤差が少なく、アッベ誤差による対物
レンズ３の位置ずれをほとんど無視することができる。
【００３１】また、位置合わせ部材１７の格子パターン
を、図２（ｂ）に示すように市松模様にしたため、対物
レンズ３の水平方向の位置ずれだけでなく、光軸方向の
位置ずれも検出することができる。光軸方向の位置ずれ
が検出された場合には、その位置ずれ量に応じて、フォ
ーカス機構４により対物レンズ３を移動制御すればよ
い。
を、図２（ｂ）に示すように市松模様にしたため、対物
レンズ３の水平方向の位置ずれだけでなく、光軸方向の
位置ずれも検出することができる。光軸方向の位置ずれ
が検出された場合には、その位置ずれ量に応じて、フォ
ーカス機構４により対物レンズ３を移動制御すればよ
い。
【００３２】なお、位置合わせ部材１６，１７の格子パ
ターンは、図２（ａ），図２（ｂ）に示したものに限定
されない。例えば、位置合わせ部材１６の格子パターン
を、図２（ｂ）のような市松模様にしてもよい。
ターンは、図２（ａ），図２（ｂ）に示したものに限定
されない。例えば、位置合わせ部材１６の格子パターン
を、図２（ｂ）のような市松模様にしてもよい。
【００３３】また、上述した実施形態では、位置合わせ
部材１６，１７の位置をそれぞれ検出する例を説明した
が、位置合わせ部材１６，１７の相対位置を検出すべ
く、位置合わせ光Ｌ２を位置合わせ部材１６で回折さ
せ、その回折光を位置合わせ部材１７で回折させ、さら
にその回折光を位置合わせ部材１６で回折させた後に位
置合わせ光検出器１０に入射させるような構成にしても
よい。
部材１６，１７の位置をそれぞれ検出する例を説明した
が、位置合わせ部材１６，１７の相対位置を検出すべ
く、位置合わせ光Ｌ２を位置合わせ部材１６で回折さ
せ、その回折光を位置合わせ部材１７で回折させ、さら
にその回折光を位置合わせ部材１６で回折させた後に位
置合わせ光検出器１０に入射させるような構成にしても
よい。
【００３４】また、上述した実施形態では、対物レンズ
３の位置補正を行う例を説明したが、近接場記録を行う
場合は、対物レンズ３の他に、SIL(Solid Immersion Le
ns)が設けられるため、対物レンズ３と一体にSILも位置
補正するのが望ましい。
３の位置補正を行う例を説明したが、近接場記録を行う
場合は、対物レンズ３の他に、SIL(Solid Immersion Le
ns)が設けられるため、対物レンズ３と一体にSILも位置
補正するのが望ましい。
【００３５】
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
れば、光学系と一体に移動する第１の位置決め部材と、
光ディスク原盤の回転や光学系の移動にかかわらず位置
が変化しない第２の位置決め部材とに位置決め光を照射
し、その回折光に基づいて光学系の位置制御を行うた
め、光学系のクロスアクションによる位置ずれを精度よ
く補正することができる。また、第１の位置決め部材を
光学系に近接して配置し、第２の位置決め部材を光ディ
スク原盤に近接して配置するため、空気のゆらぎ等の外
乱の影響や、アッベ誤差の影響を受けなくなり、光学系
の移動制御を精度よく行うことができる。
れば、光学系と一体に移動する第１の位置決め部材と、
光ディスク原盤の回転や光学系の移動にかかわらず位置
が変化しない第２の位置決め部材とに位置決め光を照射
し、その回折光に基づいて光学系の位置制御を行うた
め、光学系のクロスアクションによる位置ずれを精度よ
く補正することができる。また、第１の位置決め部材を
光学系に近接して配置し、第２の位置決め部材を光ディ
スク原盤に近接して配置するため、空気のゆらぎ等の外
乱の影響や、アッベ誤差の影響を受けなくなり、光学系
の移動制御を精度よく行うことができる。
【図１】本発明に係る光ディスク原盤記録装置の一実施
形態のブロック図。
形態のブロック図。
【図２】（ａ）はストライプ状、（ｂ）は市松模様の格
子パターン例を示す図。
子パターン例を示す図。
【図３】ターンテーブルの上方（図１のＡ方向）から見
た平面図。
た平面図。
【図４】従来の光ディスク原盤記録装置の概略構成図。
【図５】リニアスケールを有する従来の光ディスク原盤
記録装置の概略構成図。
記録装置の概略構成図。
１ 記録光発生装置 ２ 記録光学系 ３ 対物レンズ ４ フォーカス機構 ５ スライダ ６ 光ディスク原盤 ７ ターンテーブル ８ スピンドル ９ 位置合わせ光発生装置 １０ 位置合わせ光検出器 １１ スライダ制御部 １２ スピンドル回転部 １３ スピンドル静止部
Claims (5)
- 【請求項１】レジスト塗布された光ディスク原盤を回転
させた状態で、前記光ディスク原盤のレジスト塗布面に
記録信号に応じた記録光を照射して露光記録を行う光デ
ィスク原盤記録装置において、 前記記録光を前記光ディスク原盤のレジスト塗布面に結
像させる光学系と、 前記光学系に近接して配置され、前記光学系と一体に移
動する第１の位置決め部材と、 前記光ディスク原盤に近接して配置され、前記光ディス
ク原盤の回転や前記光学系の移動にかかわらず位置が変
化しない第２の位置決め部材と、 前記第１および第２の位置決め部材に位置決め光を照射
する位置決め光発生手段と、 前記第１および第２の位置決め部材で反射された前記位
置決め光を受光する位置決め光検出手段と、 前記位置決め光検出部で受光された前記位置決め光に基
づいて、前記光学系の位置制御を行う光学系制御手段と
を備えることを特徴とする光ディスク原盤記録装置。 - 【請求項２】前記光学系を光軸方向に移動させて前記光
学系の焦点調整を行う焦点調整手段を備え、 前記光学系制御手段は、前記焦点調整手段による前記光
学系の移動制御により生じる、光軸と略直交する方向へ
のクロスアクションを相殺すべく、前記光学系を光軸と
略直交する方向に移動させることを特徴とする請求項１
に記載の光ディスク原盤記録装置。 - 【請求項３】前記光ディスク原盤のレジスト塗布面の反
対側の面側に設けられ、前記光ディスク原盤を回転させ
る回転部材を備え、 前記回転部材は、 前記光ディスク原盤の記録域に対向する位置に配置さ
れ、前記光ディスク原盤の回転や前記光学系の移動にか
かわらず位置が変化しない静止部と、 前記静止部の外側に配置され、前記光ディスク原盤を回
転させる回転部と、を有することを特徴とする請求項１
または２に記載の光ディスク原盤記録装置。 - 【請求項４】前記第１および第２の位置決め部材は、回
折格子であり、 前記光学系制御手段は、前記第１の位置決め部材で反射
された回折光と、前記第２の位置決め部材で反射された
回折光との干渉により、前記第１および第２の位置決め
部材の相対位置ずれ量を検出することを特徴とする請求
項１〜３のいずれかに記載の光ディスク原盤記録装置。 - 【請求項５】レジスト塗布された光ディスク原盤を回転
させた状態で、前記光ディスク原盤のレジスト塗布面に
記録信号に応じたレーザ光を照射して露光記録を行う光
ディスク原盤記録方法において、 前記光学系と一体に移動する第１の位置決め部材と、前
記光学系の移動や前記光ディスク原盤の回転にかかわら
ず位置が変化しない第２の位置決め部材とにそれぞれ位
置合わせ光を照射し、前記第１および第２の位置決め部
材からの反射光に基づいて、前記第１および第２の位置
決め部材の相対距離が予め定めた距離になるように、前
記光学系を移動させることを特徴とする光ディスク原盤
記録方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9331584A JPH11167730A (ja) | 1997-12-02 | 1997-12-02 | 光ディスク原盤記録装置および光ディスク原盤記録方法 |
| US09/203,758 US6103177A (en) | 1997-12-02 | 1998-12-02 | Mastering apparatus for recording onto a glass master and method for recording onto a glass master |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9331584A JPH11167730A (ja) | 1997-12-02 | 1997-12-02 | 光ディスク原盤記録装置および光ディスク原盤記録方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11167730A true JPH11167730A (ja) | 1999-06-22 |
Family
ID=18245291
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9331584A Pending JPH11167730A (ja) | 1997-12-02 | 1997-12-02 | 光ディスク原盤記録装置および光ディスク原盤記録方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6103177A (ja) |
| JP (1) | JPH11167730A (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6326586B1 (en) * | 1999-07-23 | 2001-12-04 | Lillbacka Jetair Oy | Laser cutting system |
| US6284999B1 (en) | 1999-07-23 | 2001-09-04 | Lillbacka Jetair Oy | Laser cutting system |
| US6300592B1 (en) | 1999-07-23 | 2001-10-09 | Lillbacka Jetair Oy | Laser cutting system |
| US6588738B1 (en) | 1999-07-23 | 2003-07-08 | Lillbacka Jetair Oy | Laser cutting system |
| US6376798B1 (en) | 1999-07-23 | 2002-04-23 | Lillbacka Jetair Oy | Laser cutting system |
| CN101814302B (zh) * | 2009-12-01 | 2011-09-07 | 东莞宏威数码机械有限公司 | 制造蓝光刻录光盘的生产系统及生产方法 |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4556524A (en) * | 1981-11-10 | 1985-12-03 | The Secretary Of State For Defence In Her Britannic Majesty's Government Of The United Kingdom Of Great Britain And Northern Ireland | Method for preparing digital storage device by laser application |
| KR900004269B1 (ko) * | 1986-06-11 | 1990-06-18 | 가부시기가이샤 도시바 | 제 1물체와 제 2 물체와의 위치 맞추는 방법 및 장치 |
| EP0323242A3 (en) * | 1987-12-28 | 1989-10-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method and apparatus for aligning two objects, and method and apparatus for providing a desired gap between two objects |
| FR2639567B1 (fr) * | 1988-11-25 | 1991-01-25 | France Etat | Machine a microfaisceau laser d'intervention sur des objets a couche mince, en particulier pour la gravure ou le depot de matiere par voie chimique en presence d'un gaz reactif |
| JP2677254B2 (ja) * | 1995-06-15 | 1997-11-17 | 日本電気株式会社 | 光ディスク用原盤露光方法および露光装置 |
| JP3192992B2 (ja) * | 1996-08-27 | 2001-07-30 | 株式会社東京精密 | 工作機械の角度割出精度測定方法及びシステム |
| US5830514A (en) * | 1996-09-04 | 1998-11-03 | International Business Machines Corporation | Controlling pulses in a laser texturing tool |
| US5910262A (en) * | 1997-02-06 | 1999-06-08 | International Business Machines Corporation | Method and tool for laser texturing of glass substrates |
| JPH1128591A (ja) * | 1997-07-07 | 1999-02-02 | Hitachi Electron Eng Co Ltd | テクスチャ加工装置 |
-
1997
- 1997-12-02 JP JP9331584A patent/JPH11167730A/ja active Pending
-
1998
- 1998-12-02 US US09/203,758 patent/US6103177A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6103177A (en) | 2000-08-15 |
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