JPH0721950A - Ｘ線発生装置及びｘ線照射方法 - Google Patents
Ｘ線発生装置及びｘ線照射方法Info
- Publication number
- JPH0721950A JPH0721950A JP17033992A JP17033992A JPH0721950A JP H0721950 A JPH0721950 A JP H0721950A JP 17033992 A JP17033992 A JP 17033992A JP 17033992 A JP17033992 A JP 17033992A JP H0721950 A JPH0721950 A JP H0721950A
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- Japan
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- film
- ray
- target
- irradiation
- trapping
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 ターゲットの蒸発粒子が被照射物に被着する
ことを防止し、更にＸ線の多重照射時においてもＸ線の
減少の無い安定したＸ線を照射する。 【構成】 真空雰囲気内に設けられたターゲット１１に
量子線１２を照射しＸ線１４を発生させるＸ線源部とタ
ーゲットの蒸発物質１５を捕獲する捕獲膜１８及び真空
雰囲気と外部雰囲気とを隔絶しかつＸ線を透過するため
の照射窓を有する。
ことを防止し、更にＸ線の多重照射時においてもＸ線の
減少の無い安定したＸ線を照射する。 【構成】 真空雰囲気内に設けられたターゲット１１に
量子線１２を照射しＸ線１４を発生させるＸ線源部とタ
ーゲットの蒸発物質１５を捕獲する捕獲膜１８及び真空
雰囲気と外部雰囲気とを隔絶しかつＸ線を透過するため
の照射窓を有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は量子線照射によるＸ線発
生装置に関する。
生装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来この種のＸ線装置では一般にレーザ
ー光線等の量子線をＡｌ等からなるターゲットに照射
し、ターゲット材料のプラズマ化により励起されたＡｌ
等の原子が平衡状態に戻る時に発生するＸ線を用い、直
接あるいはＢｅ等の窓を通して被照射物にＸ線照射する
ことが通例である。
ー光線等の量子線をＡｌ等からなるターゲットに照射
し、ターゲット材料のプラズマ化により励起されたＡｌ
等の原子が平衡状態に戻る時に発生するＸ線を用い、直
接あるいはＢｅ等の窓を通して被照射物にＸ線照射する
ことが通例である。
【０００３】図１に従来のレーザー光線によるＸ線発生
装置の断面構造図を示す。
装置の断面構造図を示す。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような従来のＸ線
装置に置いては、真空雰囲気内のＡｌのターゲット１に
照射されたパルス状レーザー光線２によりＡｌのターゲ
ットが溶け、Ａｌのプラズマ３が発生すると共に、この
プラズマ部分からＸ線４が発生すると同時にＡｌの蒸発
粒子５が発生し、被照射物６の表面にＸ線が照射される
と共にＡｌの蒸着膜７が形成される。このため、Ｘ線照
射後に被照射物等の表面のＡｌの蒸着膜７を除去する必
要があったり、多重にＸ線を照射する場合に照射回毎に
Ａｌの蒸着膜７が厚くなり、Ｘ線量が減少するという様
な不都合が生じる。
装置に置いては、真空雰囲気内のＡｌのターゲット１に
照射されたパルス状レーザー光線２によりＡｌのターゲ
ットが溶け、Ａｌのプラズマ３が発生すると共に、この
プラズマ部分からＸ線４が発生すると同時にＡｌの蒸発
粒子５が発生し、被照射物６の表面にＸ線が照射される
と共にＡｌの蒸着膜７が形成される。このため、Ｘ線照
射後に被照射物等の表面のＡｌの蒸着膜７を除去する必
要があったり、多重にＸ線を照射する場合に照射回毎に
Ａｌの蒸着膜７が厚くなり、Ｘ線量が減少するという様
な不都合が生じる。
【０００５】この発明は、Ｘ線照射量が安定な量子線照
射型Ｘ線源を有するＸ線発生装置を提供することを目的
とするものである。
射型Ｘ線源を有するＸ線発生装置を提供することを目的
とするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】真空雰囲気中でＸ線を発
生させるＸ線発生装置において、レーザー光線、イオン
線、電子線等の量子線をターゲットに照射することによ
り、Ｘ線が発生されるＸ線源部、前記Ｘ線源部とそのＸ
線源部から発生するＸ線が照射される大気雰囲気中に設
けられた被照射物との間に存在し、前記Ｘ線源部から発
生するＸ線とともに放出される前記ターゲットの蒸発物
質を捕獲するＢｅ膜、合成樹脂膜、雲母膜、Ｓｉ膜等Ｘ
線透過能の大なる捕獲膜、前記捕獲膜と前記被照射物と
の間に存在し、かつ前記真空雰囲気と前記大気雰囲気を
隔絶するＸ線透過能の大なる照射窓を有することを特徴
とする。
生させるＸ線発生装置において、レーザー光線、イオン
線、電子線等の量子線をターゲットに照射することによ
り、Ｘ線が発生されるＸ線源部、前記Ｘ線源部とそのＸ
線源部から発生するＸ線が照射される大気雰囲気中に設
けられた被照射物との間に存在し、前記Ｘ線源部から発
生するＸ線とともに放出される前記ターゲットの蒸発物
質を捕獲するＢｅ膜、合成樹脂膜、雲母膜、Ｓｉ膜等Ｘ
線透過能の大なる捕獲膜、前記捕獲膜と前記被照射物と
の間に存在し、かつ前記真空雰囲気と前記大気雰囲気を
隔絶するＸ線透過能の大なる照射窓を有することを特徴
とする。
【０００７】
【実施例】図２にこのＸ線発生の一実施例を示す。図２
において、１１はＡｌの回転ターゲット、１２はレーザ
ー光線等の量子線、１３は発生したＡｌのプラズマであ
り、１４はＸ線、１５はＡｌの蒸発粒子であり、１６は
被照射物、１７はＢｅ等からなる捕獲膜１８上に形成さ
れたＡｌの蒸着膜である。
において、１１はＡｌの回転ターゲット、１２はレーザ
ー光線等の量子線、１３は発生したＡｌのプラズマであ
り、１４はＸ線、１５はＡｌの蒸発粒子であり、１６は
被照射物、１７はＢｅ等からなる捕獲膜１８上に形成さ
れたＡｌの蒸着膜である。
【０００８】ターゲット部より放出されたＸ線は捕獲膜
１８がＸ線透過能下なる材料で形成されているため、捕
獲膜１８を通過し、被照射物１６に達するのに対し、タ
−ゲット部より放出されたＡｌの蒸発粒子１５は捕獲膜
１８により捕獲され、被照射物表面に蒸着することはな
い。しかも、この捕獲膜１８を照射毎あるいは連続的に
回転操作等により更新することにより、多重照射時のＸ
線減少を防ぐことができる。
１８がＸ線透過能下なる材料で形成されているため、捕
獲膜１８を通過し、被照射物１６に達するのに対し、タ
−ゲット部より放出されたＡｌの蒸発粒子１５は捕獲膜
１８により捕獲され、被照射物表面に蒸着することはな
い。しかも、この捕獲膜１８を照射毎あるいは連続的に
回転操作等により更新することにより、多重照射時のＸ
線減少を防ぐことができる。
【０００９】なお、上述した実施例では被照射物をター
ゲット及び捕獲膜が設置されたと同一の真空雰囲内に設
置される構成としたが、捕獲膜と被照射物との間に今一
つＢｅ膜等による窓を設け、被照射物を大気中等外部雰
囲気に設置してもよい。
ゲット及び捕獲膜が設置されたと同一の真空雰囲内に設
置される構成としたが、捕獲膜と被照射物との間に今一
つＢｅ膜等による窓を設け、被照射物を大気中等外部雰
囲気に設置してもよい。
【００１０】また、量子線はレーザー光線のみならず、
電子線、イオン線等の他の量子線としてもよい。
電子線、イオン線等の他の量子線としてもよい。
【００１１】さらには、この発明の捕獲膜はＢｅ膜の
他、合成樹脂膜、Ｓｉ膜、雲母膜等のｘ線透過能の大な
る膜を用いてもよい。
他、合成樹脂膜、Ｓｉ膜、雲母膜等のｘ線透過能の大な
る膜を用いてもよい。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように、この発明は蒸発し
たターゲット材が捕獲膜で捕獲され、かつ捕獲膜が更新
可能なため、安定なＸ線源を得ることが出来る利点があ
る。
たターゲット材が捕獲膜で捕獲され、かつ捕獲膜が更新
可能なため、安定なＸ線源を得ることが出来る利点があ
る。
【図１】 従来のＸ線装置の一例を示す要部の概略構成
を示す図である。
を示す図である。
【図２】 この発明の一実施例を示す図である。
１，１１…回転タ−ゲット ２，１２…量子線 ３，１３…プラズマ ４，１４…Ｘ線 ５，１５…蒸発粒子 ６，１６…被照射物 ７，１７…蒸着膜 １８ ……捕獲膜
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成４年７月２９日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正内容】
【発明の名称】 Ｘ線発生装置及びＸ線照射方法
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は量子線照射によるＸ線発
生装置及びＸ線照射方法に関する。
生装置及びＸ線照射方法に関する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００５】この発明は、Ｘ線照射量が安定な量子線照
射型Ｘ線源を有するＸ線発生装置を提供することを目的
とし、特に被照射対象の自由度の大きなＸ線発生装置を
提供することを目的とするものである。
射型Ｘ線源を有するＸ線発生装置を提供することを目的
とし、特に被照射対象の自由度の大きなＸ線発生装置を
提供することを目的とするものである。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】さらには、この発明の捕獲膜はＢｅ膜の
他、合成樹脂膜、Ｓｉ膜、雲母膜等のＸ線透過能の大な
る膜を用いてもよい。また捕獲膜と被照射物との間に今
一つＢｅ膜等による窓を設ける場合においてもＢｅ膜の
他、合成樹脂膜、Ｓｉ膜、雲母膜等のＸ線透過能の大な
る膜を用いてもよい。
他、合成樹脂膜、Ｓｉ膜、雲母膜等のＸ線透過能の大な
る膜を用いてもよい。また捕獲膜と被照射物との間に今
一つＢｅ膜等による窓を設ける場合においてもＢｅ膜の
他、合成樹脂膜、Ｓｉ膜、雲母膜等のＸ線透過能の大な
る膜を用いてもよい。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように、この発明は蒸発し
たターゲット材が捕獲膜で捕獲され、かつ捕獲膜が更新
可能なため、安定なＸ線源を得ることが出来る利点があ
る。また被照射物を大気雰囲気等の外部雰囲気に設置す
ることにより、被照射物の対象の自由度が増す、言い換
えれば、被対象物の形状、大小にかかわらずＸ線を照射
することが可能となるという効果を有する。
たターゲット材が捕獲膜で捕獲され、かつ捕獲膜が更新
可能なため、安定なＸ線源を得ることが出来る利点があ
る。また被照射物を大気雰囲気等の外部雰囲気に設置す
ることにより、被照射物の対象の自由度が増す、言い換
えれば、被対象物の形状、大小にかかわらずＸ線を照射
することが可能となるという効果を有する。
Claims (1)
- 【請求項１】 真空雰囲気中でＸ線を発生させるＸ線発
生装置において、レーザー光線、イオン線、電子線等の
量子線をターゲットに照射することにより、Ｘ線が発生
されるＸ線源部、前記Ｘ線源部とそのＸ線源部から発生
するＸ線が照射される大気雰囲気中に設けられた被照射
物との間に存在し、前記Ｘ線源部から発生するＸ線とと
もに放出される前記ターゲットの蒸発物質を捕獲するＢ
ｅ膜、合成樹脂膜、雲母膜、Ｓｉ膜等Ｘ線透過能の大な
る捕獲膜、前記捕獲膜と前記被照射物との間に存在し、
かつ前記真空雰囲気と前記大気雰囲気を隔絶するＸ線透
過能の大なる照射窓を有することを特徴とするＸ線発生
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17033992A JPH0721950A (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | Ｘ線発生装置及びｘ線照射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17033992A JPH0721950A (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | Ｘ線発生装置及びｘ線照射方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56016146A Division JPS57130350A (en) | 1981-02-05 | 1981-02-05 | X-ray device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0721950A true JPH0721950A (ja) | 1995-01-24 |
Family
ID=15903097
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17033992A Pending JPH0721950A (ja) | 1992-06-29 | 1992-06-29 | Ｘ線発生装置及びｘ線照射方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0721950A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007259057A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Alps Electric Co Ltd | 車載用信号受信装置及び信号受信方法 |
| KR20190001992A (ko) * | 2017-06-29 | 2019-01-08 | (주)선재하이테크 | 탈부착 가능한 방수형 연x선관 모듈을 가진 이오나이저 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5342694A (en) * | 1976-09-30 | 1978-04-18 | Toshiba Corp | X-ray tube |
| JPS5367673A (en) * | 1976-11-29 | 1978-06-16 | Ebara Corp | Exchanging method for window foil of incidence window of reactor fortreating exhaust gas irradiated with radioactive rays |
| JPS549594A (en) * | 1977-06-23 | 1979-01-24 | Nec Corp | X-ray generator |
-
1992
- 1992-06-29 JP JP17033992A patent/JPH0721950A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5342694A (en) * | 1976-09-30 | 1978-04-18 | Toshiba Corp | X-ray tube |
| JPS5367673A (en) * | 1976-11-29 | 1978-06-16 | Ebara Corp | Exchanging method for window foil of incidence window of reactor fortreating exhaust gas irradiated with radioactive rays |
| JPS549594A (en) * | 1977-06-23 | 1979-01-24 | Nec Corp | X-ray generator |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007259057A (ja) * | 2006-03-23 | 2007-10-04 | Alps Electric Co Ltd | 車載用信号受信装置及び信号受信方法 |
| KR20190001992A (ko) * | 2017-06-29 | 2019-01-08 | (주)선재하이테크 | 탈부착 가능한 방수형 연x선관 모듈을 가진 이오나이저 |
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