JPH07215981A - 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物 - Google Patents

蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物

Info

Publication number
JPH07215981A
JPH07215981A JP818894A JP818894A JPH07215981A JP H07215981 A JPH07215981 A JP H07215981A JP 818894 A JP818894 A JP 818894A JP 818894 A JP818894 A JP 818894A JP H07215981 A JPH07215981 A JP H07215981A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
organic silver
compound
silver compound
formula
thin film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP818894A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2785671B2 (ja
Inventor
Noriyasu Saitou
記庸 斎藤
Hiroto Uchida
寛人 内田
Atsushi Sai
篤 齋
Masamitsu Sato
正光 佐藤
Katsumi Ogi
勝実 小木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Materials Corp filed Critical Mitsubishi Materials Corp
Priority to JP818894A priority Critical patent/JP2785671B2/ja
Publication of JPH07215981A publication Critical patent/JPH07215981A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2785671B2 publication Critical patent/JP2785671B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜
形成用有機銀化合物を提供する。 【構成】 銀薄膜形成用有機銀化合物が、下記一般式
(化1) 【化1】(ただし、上記式中R1からR4は、炭素数1
から4の直鎖および分岐状のアルキル基のうちの一種ま
たは二種以上から成り、R5およびR6はおのおの独立
して炭素数1から8の直鎖および分岐状のフッ素化アル
キル基から成る)を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置のコンタク
トおよび配線等の銀薄膜を有機金属化学蒸着(以下;M
OCVDと略記)法により形成するに際して、蒸着原料
として用いるのに適した有機銀化合物に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】上記の各種銀薄膜をMOCVD法により
形成するに際して、蒸着原料として例えば、下記(化
2)
【0003】
【化2】
【0004】で表される(1,5−シクロオクタジエン)
(1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロ−2,4−
ペンタンジオナト)銀(I)[以下(1,5−cod)
Ag(hfac)と略記]や、下記(化3)
【0005】
【化3】
【0006】で表される(トリメチルホスフィン)(1,
1,1,5,5,5−ヘキサフルオロ−2,4−ペンタ
ンジオナト)銀(I)[以下(Me3P)Ag(hfa
c)と略記]から成る有機銀化合物などが用いられてい
ることは良く知られるところである。また、上記銀薄膜
が、例えば図1に概略説明図で示される通り、反応炉7
内に設けたヒーター6上に基板5を置き、一方これと連
接して設けた加熱炉3において、気化容器2内の有機銀
化合物からなる蒸着原料1を気化させ、これを例えばA
r等のキャリアガス4で前記反応炉7内に拡散し、上記
加熱基板5上に分解銀を析出させることからなる、熱分
解型MOCVD(以下熱CVDと略記)法により形成さ
れることも知られている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の熱CV
D法に蒸着原料として用いられている上記(化2)およ
び(化3)の従来有機銀化合物は、気化の際の加熱温度
に対して極めて不安定で、気化における加熱の際に上記
図1中の気化容器3内にて、気化の他に有機銀化合物が
大部分熱分解反応を起こすなど化合物の熱安定性に問題
があることから均一な気化速度が安定的に確保できな
い。また、さらに上記(化3)の従来有機銀化合物に
は、作製した銀薄膜中に燐等の不純物の混入するおそれ
がある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上述の観点
から、熱CVD法を含め、その他のMOCVD法により
銀薄膜を作製するに際して、気化の際の熱安定性に優
れ、気化速度が均一な銀薄膜形成用蒸着原料を見出すべ
く研究を行なった結果、上記一般式(化1)(ただし、
式中R1からR4は、炭素数1から4の直鎖および分岐
状のアルキル基のうちの一種または二種以上から成る)
で表される有機銀化合物を蒸着原料として用いると、前
記(化2)および(化3)の従来有機銀化合物よりも、
安定した気化速度を得ることが可能になるとともに、優
れた揮発性および熱安定性を示すという研究結果を得た
のである。
【0009】本発明は、上述の研究結果に基づいてなさ
れたものであって、上記一般式(化1)で表される蒸気
圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化
合物に特徴を有するものである。
【0010】
【実施例】つぎに、本発明の有機銀化合物を実施例によ
り具体的に説明する。乾燥、窒素置換した三口フラスコ
にtert−ブチルアセチレン11.2gおよび0.0
1モル濃度の塩化白金酸水溶液4mlを入れ50℃にて
攪拌した。滴下ロートよりトリクロロシラン44.0g
をゆっくりと滴下し、激しく攪拌した。反応終了後溶液
は黒色に変化し、この溶液を減圧蒸留により精製すると
(沸点60〜65℃/20torr)無色透明液体のt
rans−[(1−トリクロロシリル)−3,3−ジメ
チル−1−ブテン](以下TCSDMEと略記)を2
0.0g得た。このTCSDMEを1.0モル濃度のよ
う化メチルマグネシウムのエ−テル溶液460mlに氷
浴中でゆっくりと滴下し、滴下終了後加熱還流した。1
50mlの飽和塩化アンモニウム水溶液により加水分解
した後、有機層を抽出した。水溶液層は100mlのエ
ーテルで2回抽出し、先の有機層と併せた。無水硫酸ナ
トリウムで乾燥後、30℃で減圧濃縮した後、残留する
油状物を単蒸留により精製し(沸点68〜70℃/60
torr)、trans−[(1−トリメチルシリル)
−3,3−ジメチル−1−ブテン](以下TMSDME
と略記)10.0gを合成した。
【0011】得られた配位子のTMSDMEはNMRに
より同定した:1H−NMR(CDCL3);δ0.0
42(s,9H),0.987(s,9H),5.50
1(d,1H,J=19.05Hz),6.010
(d,1H,J=19.05Hz)。
【0012】つづいて、酸化銀14.8gに十分に窒素
脱気を行った乾燥塩化メチレン170mlを注ぎ、サス
ペンジョン溶液とした。上記のTMSDME10.0g
を激しく攪拌しながら添加し、更に、1,1,1,5,
5,5−ヘキサフルオロ−2,4−ペンタンジオン1
3.3gを1滴づつ滴下ロートより滴下した。反応系を
4時間攪拌した後、窒素気流下でろ過し、ろ液を35℃
減圧下で留去し、白色固体を得た。精製は、カラムクロ
マトグラフィーにより行い、白色の粉末である下記(化
4)で示される本発明有機銀化合物を24.2g合成し
た。
【0013】
【化4】
【0014】上記本発明有機銀化合物1は、trans
−[(1−トリメチルシリル)−3,3−ジメチル−1
−ブテン](1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロ
−2,4−ペンタンジオナト)銀(I)[以下(TMS
DME)(hfac)Agと略記]から成り、融点は5
5〜60℃付近である。得られた本発明有機銀化合物1
の同定は、NMRおよび元素分析により行なった:1H
−NMR(CDCL3);δ0.23(s,9H),
1.19(s,9H),5.46(d,1H,J=1
8.3Hz),5.87(s,1H),6.40(d,
1H,J=18.3Hz)。元素分析;Ag量22.5
%(理論値22.9%)。
【0015】また、比較の目的で上記のTMSDMEに
代わって、1,5−CODおよびトリメチルホスフィン
を用いる以外は同一の条件で、上記(化2)および(化
3)に示される従来有機銀化合物1および2をそれぞれ
合成した。この結果得られた上記(化4)の本発明有機
銀化合物および上記(化2)の従来有機銀化合物1の気
化特性を評価する目的で熱重量曲線(昇温速度10℃/
min、窒素雰囲気)をそれぞれ図2および図3に示し
た。
【0016】ついで、上記(化4)で表される本発明有
機銀化合物と上記(化2)および(化3)で表される従
来有機銀化合物1および2を用いて、図1に示される熱
CVD法にて、 基板:25mm角のSi基板上にTiを100nmスパ
ッタ法により蒸着した基板、基板温度:250℃、気化
温度:70℃、圧力:2torr、キャリアガスの流
量:100ccmのAr、の条件で銀薄膜の作製を行な
い、10分毎の膜厚を測定した。膜厚は、膜の断面SE
M像から測定した。この測定結果を表1に示した。
【0017】
【表1】
【0018】
【発明の効果】図2、3に示される結果から、本発明有
機銀化合物は室温から約200℃までの温度で完全に気
化させることが可能であるが、一方、従来有機銀化合物
は気化終了の際、約30%程の残物が生成していること
から、本発明有機銀化合物が、気化の際の熱安定性に優
れることを示している。
【0019】また表1より、本発明有機銀化合物は、成
膜時間に対しほぼ一定の割合で膜厚が増加し、かつその
成膜速度も従来有機銀化合物1および2を用いた場合に
比して速いのに対し、従来有機銀化合物1および2の場
合は、成膜時間において30分を越えた頃から成膜量の
減少傾向が顕著になることが明らかである。また、本発
明有機銀化合物を用いた場合は、図1に示される装置の
気化容器内には分解銀の生成が見られず、一方、従来有
機銀化合物1および2の場合には分解銀の生成が認めら
れた。これより本発明有機銀化合物は、気化容器内で分
解することなしに成膜時間に対し一定の速度で気化し、
また従来有機銀化合物より気化の際の熱安定性、揮発性
に優れた有機銀化合物であることを示している。
【0020】上述のように本発明有機銀化合物は、気化
の際の熱安定性に優れ、安定な気化速度を有することか
ら、半導体装置の配線材料等として有用な銀薄膜の製造
に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】熱CVD法を示す概略説明図である。
【図2】本発明有機銀化合物の熱重量曲線である。
【図3】従来有機銀化合物1の熱重量曲線である。
【符号の説明】
1.蒸着原料 2.気化容器 3.加熱炉 4.キャリアガス 5.基板 6.ヒ−タ− 7.反応炉 8.真空ポンプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 正光 埼玉県大宮市北袋町1丁目297番地 三菱 マテリアル株式会社中央研究所内 (72)発明者 小木 勝実 埼玉県大宮市北袋町1丁目297番地 三菱 マテリアル株式会社中央研究所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(化1) 【化1】 (ただし、上記式中R1からR4は、炭素数1から4の
    直鎖および分岐状のアルキル基のうちの一種または二種
    以上から成り、R5およびR6はおのおの独立して炭素
    数1から8の直鎖および分岐状のフッ素化アルキル基か
    ら成る)で表される蒸気圧の高い有機金属化学蒸着によ
    る銀薄膜形成用有機銀化合物。
JP818894A 1994-01-28 1994-01-28 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物 Expired - Fee Related JP2785671B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP818894A JP2785671B2 (ja) 1994-01-28 1994-01-28 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP818894A JP2785671B2 (ja) 1994-01-28 1994-01-28 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH07215981A true JPH07215981A (ja) 1995-08-15
JP2785671B2 JP2785671B2 (ja) 1998-08-13

Family

ID=11686331

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP818894A Expired - Fee Related JP2785671B2 (ja) 1994-01-28 1994-01-28 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2785671B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JP2785671B2 (ja) 1998-08-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3593051B2 (ja) 金属及び金属含有フィルムの堆積のための揮発性先駆物質
US6521772B1 (en) Synthesis of substituted ruthenocene complexes
KR100582619B1 (ko) 화학 증착법을 위한 유기 구리 전구체
Daniele et al. Molecular structures of volatile Ce (IV) tetrafluoroisopropoxide complexes with TMEDA and diglyme. CVD experiments
RU2181725C2 (ru) Медь(i)органические соединения и способ осаждения медной пленки с их использованием
JP2785694B2 (ja) 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物
KR101074310B1 (ko) 구리 착체 및 이를 이용한 구리 함유 박막의 제조 방법
JP2785671B2 (ja) 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物
JP3282392B2 (ja) 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銅薄膜形成用有機銅化合物
JP2768250B2 (ja) 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物
JP2762905B2 (ja) 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物
KR20100099322A (ko) 니켈 함유 막 형성 재료 및 그 제조 방법
JP2876980B2 (ja) 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銅薄膜形成用有機銅化合物
JP2730496B2 (ja) 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による白金薄膜形成用有機白金化合物
JP2757762B2 (ja) 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物
JP3379315B2 (ja) 有機金属化学蒸着による白金薄膜形成用原料
JP3230389B2 (ja) 銅薄膜形成用有機銅化合物とそれを用いた銅薄膜選択成長法
JP3284689B2 (ja) 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銅薄膜形成用有機銅化合物
KR100600468B1 (ko) 시클로알켄 구리 전구체의 제조방법
JPH08301880A (ja) 有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物
KR20220018546A (ko) 금속 또는 반금속-함유 필름의 제조 방법
JPH0770163A (ja) 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銅薄膜形成用有機 銅化合物
JP2001131745A (ja) 銅薄膜形成用有機銅化合物
JP2002161069A (ja) 有機銅化合物及び該化合物を含む混合液並びにそれを用いて作製された銅薄膜
JP2001140074A (ja) 銅薄膜形成用の有機銅錯体

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19980428

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees
S111 Request for change of ownership or part of ownership

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313114

R360 Written notification for declining of transfer of rights

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360

R370 Written measure of declining of transfer procedure

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R370