JP2768250B2 - 蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物 - Google Patents

蒸気圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化合物

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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置のコンタク
トおよび配線等の銀薄膜を有機金属化学蒸着(以下;M
OCVDと略記)法により形成するに際して、蒸着原料
として用いるのに適した有機銀化合物に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】上記の各種銀薄膜をMOCVD法により
形成するに際して、蒸着原料として例えば、下記(化
2)
【0003】
【化2】
【0004】で表される(1,5−シクロオクタジエン)
(1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロ−2,4−
ペンタンジオナト)銀(I)[以下(1,5−cod)
Ag(hfac)と略記]や、下記(化3)
【0005】
【化3】
【0006】で表される(トリメチルホスフィン)(1,
1,1,5,5,5−ヘキサフルオロ−2,4−ペンタ
ンジオナト)銀(I)[以下(Me3P)Ag(hfa
c)と略記]から成る有機銀化合物などが用いられてい
ることは良く知られるところである。また、上記銀薄膜
が、例えば図1に概略説明図で示される通り、反応炉7
内に設けたヒーター6上に基板5を置き、一方これと連
接して設けた加熱炉3において、気化容器2内の有機銀
化合物からなる蒸着原料1を気化させ、これを例えばA
r等のキャリアガス4で前記反応炉7内に拡散し、上記
加熱基板5上に分解銀を析出させることからなる、熱分
解型MOCVD(以下熱CVDと略記)法により形成さ
れることも知られている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の熱CV
D法に蒸着原料として用いられている上記(化2)およ
び(化3)の従来有機銀化合物は、気化の際の加熱温度
に対して極めて不安定で、気化における加熱の際に上記
図1中の気化容器3内にて、気化の他に有機銀化合物が
大部分熱分解反応を起こすなど化合物の熱安定性に問題
がある。また、さらに上記(化3)の従来有機銀化合物
には、作製した銀薄膜中に燐等の不純物の混入するおそ
れがある。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上述の観点
から、熱CVD法を含め、その他のMOCVD法により
銀薄膜を作製するに際して、気化速度が均一で、かつ気
化の際の熱安定性に優れた高純度な銀薄膜形成用蒸着原
料を見出すべく研究を行なった結果、前記一般式(化
1)で表される有機銀化合物を蒸着原料として用いる
と、配位子のアセチレン誘導体が、三重結合を中心に一
方にシラン化合物を有し、他方にアルキル基を有するた
めに、前記(化2)および(化3)の従来有機銀化合物
よりも、安定した気化速度を得ることが可能になるとと
もに、優れた揮発性および熱安定性を示すという研究結
果を得たのである。
【0009】本発明は、上述の研究結果に基づいてなさ
れたものであって、上記一般式(化1)で表される蒸気
圧の高い有機金属化学蒸着による銀薄膜形成用有機銀化
合物に特徴を有するものである。
【0010】
【実施例】つぎに、本発明の有機銀化合物を実施例によ
り具体的に説明する。乾燥、窒素置換した三口フラスコ
に窒素ガスにより脱気した無水テトラヒドロフラン50
0mlおよびtert−ブチルアセチレン34.4gを
入れ0℃に冷却した。滴下ロートより1.63モル濃度
のブチルリチウムのヘキサン溶液250mlをゆっくり
と滴下し、激しく攪拌した。−30℃にてジメチルエチ
ルクロロシラン56.7gを20分かけて滴下し、室温
に戻し30分攪拌した。3時間加熱還流した後、150
mlの飽和塩化アンモニウム水溶液により加水分解し
た。反応溶液は二層に分離し、有機層を抽出した。水溶
液層を100mlのエーテルで2回抽出し、先の有機層
と併せた。無水硫酸ナトリウムで乾燥後、60℃で減圧
濃縮した後、残留する油状物を単蒸留により精製し(沸
点34℃/20torr)、下記(化4)で示される
(1−ジメチルエチルシリル)−3,3−ジメチル−1
−ブチン(以下BDMESAと略記)52.0gを合成
した。
【0011】
【化4】
【0012】得られた配位子の有機ケイ素化合物はNM
Rにより同定した:1H−NMR(CDCL3);δ
0.92(s,6H),0.54(q,2H,J=7.
81Hz),0.972(t,3H,J=7.81H
z),1.22(s,9H)。13C−NMR(CDC
L3);δ−1.82,7.37,8.50,28.1
5,31.19,80.59,116.03。
【0013】つづいて、酸化銀34.8gに十分に窒素
脱気を行った乾燥塩化メチレン300mlを注ぎ、サス
ペンジョン溶液とした。上記のBDMESA52.0g
を激しく攪拌しながら添加し、更に、1,1,1,5,
5,5−ヘキサフルオロ−2,4−ペンタンジオンを1
滴づつ滴下ロートより滴下した。反応系を4時間攪拌し
た後、窒素気流下でろ過し、ろ液を35℃減圧下で留去
し、白色固体を得た。精製は、カラムクロマトグラフィ
ーにより行い、白色の粉末である下記(化5)で示され
る本発明有機銀化合物1を24.0g合成した。
【0014】
【化5】
【0015】上記本発明有機銀化合物1は、[(1−ジ
メチルエチルシリル)−3,3−ジメチル−1−ブチ
ン](1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロ−2,
4−ペンタンジオナト)銀(I)[以下(BDMES
A)(hfac)Agと略記]から成り、融点は27〜
30℃付近である。得られた本発明有機銀化合物1の同
定は、NMRおよび元素分析により行なった:1H−N
MR(CDCL3);δ0.28(s,6H),0.7
2(q,2H,J=7.81Hz),1.03(t,3
H,J=7.81Hz),1.40(s,9H),5.
88(s,1H)。元素分析;Ag量22.1%(理論
値22.3%)。
【0016】また、上記のジメチルエチルクロロシラン
に代わって、クロロトリメチルシランを用いる以外は同
一の条件で、配位子の(1−トリメチルシリル)−3,
3−ジメチル−1−ブチン(以下BTMSAと略記)を
合成した後に、下記(化6)に示される本発明有機銀化
合物2を21.0g合成した。
【0017】
【化6】
【0018】上記本発明有機銀化合物2は、[(1−ト
リメチルシリル)−3,3−ジメチル−1−ブチン]
(1,1,1,5,5,5−ヘキサフルオロ−2,4−
ペンタンジオナト)銀(I)[以下(BTMSA)(h
fac)Agと略記]から成り、得られた有機銀化合物
の同定は、元素分析により行なった:元素分析;Ag量
23.0%(理論値22.7%)。
【0019】また、比較の目的で上記のBTMSAに代
わって、1,5−CODおよびトリメチルホスフィンを
用いる以外は同一の条件で、上記(化2)および(化
3)に示される従来有機銀化合物1および2をそれぞれ
合成した。この結果得られた上記(化5)の本発明有機
銀化合物1および上記(化2)の従来有機銀化合物の気
化特性を評価する目的で熱重量曲線(昇温速度10℃/
min、窒素雰囲気)をそれぞれ図2および図3に示し
た。
【0020】ついで、上記(化5)および(化6)で表
される本発明有機銀化合物1および2と上記(化2)お
よび(化3)で表される従来有機銀化合物1および2を
用いて、図1に示される熱CVD法にて、基板:25m
m角のSi基板上にTiを100nmスパッタ法により蒸
着した基板、 基板温度:250℃、 気化温度:60℃、 圧力:2torr、 キャリアガスの流量:100ccmのAr、 の条件で銀薄膜の作製を行ない、10分毎の膜厚を測定
した。膜厚は、膜の断面SEM像から測定した。この測
定結果を表1に示した。
【0021】
【表1】
【0022】
【発明の効果】図2、3に示される結果から、本発明有
機銀化合物は室温から約200℃までの温度で完全に気
化させることが可能であるが、一方、従来有機銀化合物
は気化終了の際、約30%程の残物が生成していること
から、本発明有機銀化合物が、気化の際の熱安定性に優
れることを示している。
【0023】また表1より、本発明有機銀化合物1およ
び2は、成膜時間に対しほぼ一定の割合で膜厚が増加
し、かつその成膜速度も従来有機銀化合物1および2を
用いた場合に比して速いのに対し、従来有機銀化合物1
および2の場合は、成膜時間において30分を越えた頃
から成膜量の減少傾向が顕著になることが明らかであ
る。また、本発明有機銀化合物1および2を用いた場合
は、図1に示される装置の気化容器内には分解銀の生成
が見られず、一方、従来有機銀化合物1および2の場合
には分解銀の生成が認められた。これより本発明有機銀
化合物は、気化容器内で分解することなしに成膜時間に
対し一定の速度で気化し、また従来有機銀化合物より気
化の際の熱安定性,揮発性に優れた有機銀化合物である
ことを示している。
【0024】上述のように本発明有機銀化合物は、安定
な気化速度を有し、かつ気化の際の熱安定性に優れてい
るので、MOCVD法による成膜原料として有用であ
り、半導体装置の配線材料等として有用な銀薄膜の製造
に利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】熱CVD法示す概略説明図である。
【図2】本発明有機銀化合物1の熱重量曲線である。
【図3】従来有機銀化合物1の熱重量曲線である。
【符号の説明】
1.蒸着原料 2.気化容器 3.加熱炉 4.キャリアガス 5.基板 6.ヒ−タ− 7.反応炉 8.真空ポンプ
フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) C07F 7/08 C07F 7/02 C23C 16/18 CA(STN) REGISTRY(STN)

Claims (1)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下記一般式(化1) 【化1】 (ただし、上記式中R1からR4は、炭素数1から4の
    直鎖および分岐状のアルキル基のうちの一種または二種
    以上から成る)で表される蒸気圧の高い有機金属化学蒸
    着による銀薄膜形成用有機銀化合物。
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