JPH07215735A - 紫外線吸収性が良く、かつ可視光透過性の高いシリカガラスおよびその製造方法 - Google Patents

紫外線吸収性が良く、かつ可視光透過性の高いシリカガラスおよびその製造方法

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JPH07215735A JP2918294A JP2918294A JPH07215735A JP H07215735 A JPH07215735 A JP H07215735A JP 2918294 A JP2918294 A JP 2918294A JP 2918294 A JP2918294 A JP 2918294A JP H07215735 A JPH07215735 A JP H07215735A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 紫外線吸収性に優れ、かつ可視光透過性の高
いシリカガラスを提供すること。 【構成】 遷移金属元素含有量が100wtppm〜1
0,000wtppm、アルミニウム含有量が100w
tppm〜10,000wtppm、OH基濃度が30
wtppm〜2,000wtppmのシリカガラスおよ
びそれを仮想温度設定処理に付した仮想温度が900℃
〜1,300℃のシリカガラス並びにその製造方法

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、照明ランプ用バルブ
材、並びにレ−ザ励起ランプ用バルブ材および保護管材
として有用なシリカガラスに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、シリカガラスは光透過性に優れて
いるばかりでなく、化学的耐久性、耐急熱急冷性、およ
びガス封入性に優れているところから、照明用ランプ、
固体レザ−励起用ランプ等のバルブ材(以下バルブ材と
いう)として使用されてきた。ところが、その光透過性
のよさから光源で発生した紫外線が空気中の酸素を分解
し人体に有害なオゾンを発生したり、レ−ザ素子に紫外
線ダメ−ジを与えレ−ザ発振効率を低下させたり、ある
いはシリカガラス自体に紫外線ダメ−ジを与えバルブ材
の強度低下やソラリゼ−ションを起させる等の欠点があ
った。この欠点を解決するため紫外線吸収性の遷移金属
元素をド−プしたシリカガラスの製造法が、例えば特公
昭46−42114号公報で提案されている。ところ
が、このシリカガラスの製造法ではガラス原料の溶融、
成形、加工に際し、溶融容器、成形加工治具に含浸させ
た遷移金属元素化合物を気化させシリカガラス中に遷移
金属元素を拡散するためド−パントの分布が不均一で満
足のいく紫外線吸収性シリカガラスが得られなかった。
そこで、シリカ原料に遷移金属元素化合物を混合し、そ
れを溶融透明ガラス化する紫外線吸収性シリカガラスの
製造方法が一般に検討されたが、透明ガラス化時に遷移
金属元素化合物が相分離を起し不均一に遷移金属元素が
分散したシリカガラスが得られるにとどまった。その
上、前記各シリカガラスはド−プ濃度が高くなるに従っ
て紫外線を高効率で吸収するものの、可視光の透過率の
低下とともに紫外線ダメ−ジも受け易くなるという欠点
があった。特にその傾向は遷移金属元素濃度が約1,0
00wtppmを越えると顕著であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】こうした現状に鑑み、
本発明者等は紫外線吸収性がよく紫外線ダメ−ジを受け
にく、しかも可視光の透過率が高いシリカガラスの開発
について鋭意研究を重ねた結果、シリカガラス中に遷移
金属元素をド−プするに際し、アルミニウム化合物を共
存させ、さらにOH基濃度が特定の範囲になるように水
分を含有させることにより上記欠点が解決することを見
出した。更に前記シリカガラスに特定の仮想温度設定処
理を施しその仮想温度を特定の範囲にすると一層紫外線
ダメ−ジが受けにくくなり、シリカガラスの強度低下お
よびソラリゼ−ションの発生が少なくなることを発見し
た。こうした知見に基づいて本発明は完成したものであ
る。すなわち、
【0004】本発明は、紫外線ダメ−ジの少ないバルブ
材用シリカガラスを提供することを目的とする。
【0005】本発明は、紫外線の長時間照射によっても
ソラリゼ−ションや強度低下の少ないシリカガラスを提
供することを目的とする。
【0006】また、本発明は、紫外線とくに約400n
m以下の紫外線の吸収性がよく、かつ可視光透過率も高
いシリカガラスを提供することを目的とする。
【0007】さらに、本発明は、上記シリカガラスの新
規な製造方法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明は、遷移金属元素含有量が100wtppm〜10,
000wtppm、アルミニウム含有量が100wtp
pm〜10,000wtppm、OH基濃度が30wt
ppm〜2,000wtppmであるシリカガラスに係
る。
【0009】上記シリカガラスに含有される遷移金属元
素としては周期率表の3A、4A、5A、6A、7A、
8および1B族の群から選ばれた少なくとも1種類以上
であり、その含有量は100wtppm〜10,000
wtppmの範囲である。特にFe、Ce、Ti、V、
Cr、Uの遷移金属元素が好ましい。これらの遷移金属
元素は酸化物、塩化物、ヨウ化物、硝酸塩または炭酸塩
として用いられ、水溶性化合物は水溶液でシリカ原料と
混合され、また非水溶性粉状体はシリカ原料と粉体で混
合される。遷移金属元素の含有量が100wtppm未
満では紫外線吸収性が低い。逆に、10,000wtp
pm以上では可視光の透過率低下が増大したり、耐紫外
線性が大幅に低下する。
【0010】アルミニウム元素は酸化物、塩化物、ヨウ
化物、硝酸塩または炭酸塩の化合物として上記遷移金属
元素化合物とともにシリカ原料に配合され、透明ガラス
化される。このアルミニウム元素の配合により遷移金属
元素の相分離が起こらず、均一に含有されるようにな
る。シリカガラス中のアルミニウムの含有量は100w
tppm〜10,000wtppmである。前記範囲未
満では遷移金属元素の均一分散効果が少なく、逆に1
0,000wtppmを越えると可視光の透過率の急激
な低下をきたす。アルミニウム化合物の配合方法として
は水溶性の化合物であれば水溶液で、非水溶性粉状体で
あれば粉体でシリカ原料に混合される。
【0011】また、シリカ原料としては天然水晶粉、天
然石英粉、合成水晶粉、合成クリストバライト粉および
合成シリカガラス粉が用いられ、特に気泡の少ない透明
シリカガラスを得るにはα−水晶構造のシリカ粉がよ
い。
【0012】シリカガラス中のOH基濃度の主たる制御
方法を以下に示す。 (1)粉体原料を使い電気加熱溶融法により透明ガラス
化する場合は、溶融前に100℃〜200℃の加熱、さ
らに必要に応じて約1,000℃での加熱処理を行うこ
とにより制御する。 (2)粉体原料を使い、酸水素炎ベルヌイ法により透明
ガラス化する場合は、ベルヌイ法による溶融時に酸水素
炎の原料粉に対するガス比率を調整することにより制御
する。 (3)四塩化けい素等の液体原料を使い、酸水素火炎加
水分解法によりス−ト体を作り、引き続きこのス−ト体
を電気加熱溶融法により透明ガラス化する場合は、ス−
ト体に遷移金属元素化合物とアルミニウム化合物とを水
溶液でド−プした後、溶融前100℃〜200℃の加
熱、さらに必要に応じて約1,000℃での加熱処理を
行うことにより制御する。
【0013】上記含有OH基がシリカネットワ−クのタ
−ミネタ−となりシリカガラス中の歪みを緩和し紫外線
ダメ−ジを受けにくくする。OH基濃度が30wtpp
m未満では前記作用がなく、逆に2,000wtppm
を越えると、透明ガラス化時に気泡の多いガラスとなり
可視光の透過率を低下させる。
【0014】シリカ原料の透明ガラス化は粉体原料では
電気加熱溶融法かまたは火炎ベルヌイ法がよい。四塩化
けい素等の液体原料では酸水素火炎加水分解法が適切な
合成法であり、これ以外の例えばプラズマ火炎溶融法で
は、所定量のOH基がシリカガラス中に存在せず好まし
くない。
【0015】上記のように金属元素が含有された透明シ
リカガラスはその仮想温度が1,400℃〜1,800
℃である。このシリカガラスを900℃〜1,300℃
で10〜100時間加熱する仮想温度設定処理を行うと
そのシリカガラスの仮想温度は900℃〜1,300℃
となり、耐紫外線性が一段と向上する。
【0016】本発明のシリカガラスは、それを厚さ2m
mの両面鏡面仕上げ板状体サンプルとしたとき、波長2
00nmの光の透過率を1%以下に、また波長600n
mの可視光の透過率を85%以上とする。したがって、
このシリカガラスで作成した一般照明用ランプ、自動車
のヘッドライト用ランプ、プロジェクタ−用ランプ、お
よび固体レ−ザ励起用キセノンランプ、クリプトンラン
プ、アルゴンランプおよび保護管等は、ランプ周囲のプ
ラスチックス部材の劣化やレ−ザ素子の紫外線ダメ−ジ
がなく、しかもシリカガラス自身の強度低下やソラリゼ
−ションがない。
【0017】本発明のシリカガラスは以下の方法により
最も容易に、かつ安価に製造される。すなわち、天然ま
たは合成シリカ原料粉に遷移金属元素化合物およびアル
ミニウム化合物の粉体または水溶液を混合し、必要に応
じて100℃〜200℃で乾燥し、さらに1,000℃
で加熱処理して含有水分量を調整したのち、電気加熱溶
融法または火炎ベルヌイ法で透明ガラス化して製造され
る。前記のシリカガラスは更に冷却した後900℃〜
1,300℃で10〜100時間の仮想温度設定処理が
施される。
【0018】上記本発明で使用した用語は下記の意味で
あり、またシリカガラスの物性値は以下に示す測定法で
測定された。
【0019】1)OH基濃度とは、厚さ2mmのシリカ
ガラスサンプルを1Torr以下の真空下にて1,00
0℃で10時間以上に加熱処理を行った後に存在するO
H基濃度をいう。
【0020】2)仮想温度とは、室温のシリカガラスの
密度、屈折率等の物性値が設定されたと仮想される温度
であり、そのシリカガラスの経る熱履歴により異なる
(R.Bruckner(1970)Journal
of Non−Crystalline Solid
s, Vol.5 p123〜175)。
【0021】3)OH基濃度測定: 赤外線吸収分光光
度法による(D.M.Dodd、D.B.Frase
r、Journal ofApplied Physi
cs、Vol.37(1966)p3911)。
【0022】4)仮想温度測定:ラマン散乱分光光度法
による(A.E.Geissberger、Physi
calReview B、Vol.28、No.6(1
983)p.3266〜3271)。
【0023】6)透過率:紫外線分光光度法による。サ
ンプルは厚さ2mm、両面鏡面研磨仕上げしたものであ
る。
【0024】
【実施例】
実施例1〜4 天然水晶粉を塩素ガス含有雰囲気で1,000℃、10
時間純化処理を行い、次いで粒径を10μm〜100μ
mに調整した。このシリカ原料粉に粒径約1μmの酸化
セシウムCeO2または/および酸化チタンTiO2の微
粉体を加えV型混合器で均一に混合した。得られた混合
原料粉に塩化アルミニウムの水溶液を混合し、100℃
〜200℃で乾燥したのち、更に1,000℃で10時
間加熱処理し、混合物中の水分量を調整した。このシリ
カガラス原料を1Torr以下の真空中で電気加熱溶融
法により透明ガラス化し、冷却したのち、1,150℃
で100時間の仮想温度設定処理を行った。含有成分お
よびシリカガラスの物性値を測定した。その結果を表1
に示す。
【0025】実施例5 四塩化けい素を原料として酸水素炎加水分解法でシリカ
ガラス白色ス−ト体を作成した。この白色ス−ト体に塩
化チタン、塩化セリウムの所定濃度の水溶液および塩化
アルミニウムを加え金属元素化合物の浸漬したス−ト体
を100℃〜200℃で加熱乾燥たのち、1Torr以
下の真空度で約1,700℃加熱して透明ガラス化し
た。該シリカガラスを冷却したのち1,150℃で10
0時間の仮想温度設定処理を行った。得られたシリカガ
ラスについて各成分の含有量および物性値を測定し、そ
れを表1に示す。
【0026】実施例6 実施例5と同様な方法でさらにOH基含有量の多いシリ
カガラスを製造し、その中の成分および物性値を測定
し、それを表1に示す。
【0027】比較例1〜3 比較例1は実施例1における製造方法においてアルミニ
ウムを含有しないシリカガラスである。得られたシリカ
ガラスにはTi、Ceが均一に分散せず、白濁した半透
明体であった。
【0028】比較例2もアルミニウムを配合しないシリ
カガラスである。比較例1と同様に白濁した半透明体で
あった。
【0029】比較例3は実施例1のシリカガラスでOH
基濃度が1wtppm未満のシリカガラスである。この
シリカガラスの仮想温度は1,650℃であった。
【0030】
【表1】 注):真空溶融法aは真空電気加熱溶融法 を、火炎分解
bは酸水素炎加水分解法をいう。
【0031】上記表1の実施例1および比較例3のシリ
カガラスについて、それぞれKrFエキシマレ−ザ(2
48nm)を照射し、その前後の曲げ強度を測定した。
その結果を表2に示す。この表から明らかなように本発
明のシリカガラスはレ−ザ照射前後で強度変化がほとん
どなかった。
【0032】
【表2】(MPa)
【0033】上記レ−ザ照射条件は、エネルギ−密度1
00mJ/cm ・pulse、周波数100Hz、照射
パルス数1×106pulsesである。また、曲げ強
度は、JIS R−1601に従って測定した。強度単
位はMPaである。
【0034】
【発明の効果】本発明のシリカガラスは紫外線透過率が
少なく紫外線による強度の低下およびソラリゼ−ション
の発生がなく、かつ可視光の透過性が高いシリカガラス
である。このシリカガラスで作成した照明ランプおよび
レ−ザ励起ランプは部材のプラスチックスを劣化させる
ことも、またレ−ザ発振子の発光効率を低下させること
もない優れたランプ用材料である。

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】遷移金属元素含有量が100wtppm〜
    10,000wtppm、アルミニウム含有量が100
    wtppm〜10,000wtppm、OH基濃度が3
    0wtppm〜2,000wtppmであることを特徴
    とする紫外線吸収・可視光透過性シリカガラス。
  2. 【請求項2】波長200nmの紫外線の透過率が1%以
    下、波長600nmの可視光の透過率が85%以上であ
    ることを特徴とする請求項1記載の紫外線吸収・可視光
    透過性シリカガラス。
  3. 【請求項3】仮想温度が900℃〜1,300℃である
    ことを特徴とする請求項1記載の紫外線吸収・可視光透
    過性シリカガラス。
  4. 【請求項4】シリカ原料、遷移金属元素化合物およびア
    ルミニウム化合物からなる混合物を加熱処理して含有水
    分を調節した後、溶融ガラス化することを特徴とする紫
    外線吸収・可視光透過性シリカガラスの製造方法。
  5. 【請求項5】シリカ原料がけい素化合物原料を火炎加水
    分解法で得られたシリカのス−ト体であることを特徴と
    する請求項4記載の紫外線吸収・可視光透過性シリカガ
    ラスの製造方法。
  6. 【請求項6】シリカ原料が結晶質シリカ粉を高純化処理
    したシリカであることを特徴とする請求項4記載の紫外
    線吸収・可視光透過性シリカガラスの製造方法。
  7. 【請求項7】請求項4記載の溶融ガラス化後のシリカガ
    ラスを更に900℃〜1,300℃で仮想温度設定処理
    を行うことを特徴とする紫外線吸収・可視光透過性シリ
    カガラスの製造方法。
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