JPH07209503A - 光学皮膜形成コーティング用組成物、その製造方法、光学皮膜形成方法および光学皮膜 - Google Patents

光学皮膜形成コーティング用組成物、その製造方法、光学皮膜形成方法および光学皮膜

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JPH07209503A
JPH07209503A JP6018969A JP1896994A JPH07209503A JP H07209503 A JPH07209503 A JP H07209503A JP 6018969 A JP6018969 A JP 6018969A JP 1896994 A JP1896994 A JP 1896994A JP H07209503 A JPH07209503 A JP H07209503A
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JP
Japan
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group
optical film
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hydrolyzate
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Application number
JP6018969A
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English (en)
Inventor
Toshio Yoshihara
俊夫 吉原
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 フレキシビリティーと反射防止性を有し、成
膜した場合十分な強度が発揮される光学皮膜形成コーテ
ィング用組成物、その製造方法、を提供する。 【構成】 次の一般式、 (但し、式中Xはビニル基、等およびそれらの誘導体等
から選ばれた1種または2種の重合可能な不飽和結合を
持つ官能基、R1 は炭素数1〜6のアルキル基等のアル
ケニル基およびそれらの誘導体から選ばれた1種乃至3
種の置換基、nは1または2を示す。)で示される加水
分解可能な官能基と重合可能な官能基を合わせ持つ、1
種または2種以上の有機珪素化合物、その加水分解物お
よび/またはその部分加水分解物と、分子内に少なくと
も1個以上の重合可能なビニル基、アクリロイル基、メ
タクリロイル基を持つ1種または2種以上の単量体との
共重合体を主成分とすることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ワープロ、コンピュー
タ、テレビ等の各種ディスプレイや透明プラスチック類
サングラスレンズ、度付メガネレンズ、カメラ用ファイ
ンダーレンズなどの光学レンズ、各種計器のカバー、自
動車、電車等の窓ガラス等の表面の反射防止膜に有用な
光学皮膜形成コーティング用組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】ワープロ、コンピュータ、テレビ等の各
種ディスプレイは、その表面のガラスや透明基材を通し
て文字、図形等の視覚情報が観察されるようになってい
る。外部からの光がディスプレイに入射し、その表面で
反射を起こすと、ディスプレイの視認性が悪くなってし
まうので、従来、そのディスプレイの表面に反射防止膜
を形成していた。
【0003】例えば、従来、透明基材表面に入射する光
の反射を防止する一般的な方法としては、ガラスやプラ
スチック表面に、反射防止材料としての無機系超微粒子
を含む反射防止塗料を塗布する方法、ガラス等の透明基
材の表面に膜厚0.1μm程度のMgF2 等の薄膜や金
属蒸着膜を直接設ける方法、プラスチックレンズなどの
プラスチック表面に電離放射線硬化型樹脂を塗工し、そ
の上に蒸着によりSiO2 やMgF2 の薄膜を形成する
方法、電離放射線硬化型樹脂の硬化面に低屈折率の皮膜
を形成する方法等があった。
【0004】前記ガラス上に形成された膜厚0.1μm
程度のMgF2 の薄膜をさらに説明する。入射光が薄膜
に垂直に入射する場合に、特定の波長をλ0 とし、この
波長に対する反射防止膜の屈折率をn0 、反射防止膜の
厚みをg、および基板の屈折率ng とすると、反射防止
膜が光の反射を100%防止し、光を100%透過する
ための条件は、次の数式(1)、(2)の関係を満たす
ことが必要であることは既に知られている(サイエンス
ライブラリ物理学=9「光学」70〜72頁、昭和55
年、株式会社サイエンス社発行)。
【0005】
【数1】
【0006】
【数2】 前記数式(1)によれば、反射防止層の屈折率がその下
層の屈折率の平方根の値になるような材料を選択すれば
よいことがわかる。したがって、反射防止層の屈折率
は、その下層の屈折率よりも若干低いほうが好ましいと
いえる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の反射防止膜を蒸着法によって形成する方法は、概し
て生産性が低くて採算が悪いという欠点に加え、基体が
プラスチックフィルムである場合、その上に形成する蒸
着膜の密着性が悪いため剥離し易く、無機質の表面で覆
うためその後の染色が行なえず、あるいは蒸着時に基体
の表面が損傷したり、その真空プロセスによりプラスチ
ックフィルム中の可塑剤や紫外線吸収剤が蒸発してフィ
ルムが損傷するという問題があった。
【0008】また、前記従来の反射防止塗料を塗布する
方法では、反射防止層の屈折率を低く保つためには、屈
折率の低い無機系超微粒子をできるだけ多くバインダー
樹脂中に分散させた超微粒子分散体を形成する必要があ
るが、無機系超微粒子はバインダー樹脂中においては相
互が凝集してしまい、うまく分散しないために、バイン
ダー樹脂中へ大量に混合すること、および均一に混合す
ることは実質上不可能であった。また、無機系超微粒子
材料を大量に使用することに伴い、塗膜形成性が悪くな
ったり、機械的強度が弱くなるという問題があった。従
って、所望の屈折率を持つ層を形成することが困難であ
り、最終的には反射防止膜を得ることは困難であった。
【0009】この問題を解決するための方法として、無
機系超微粒子材料の表面にカップリング剤を付与する方
法や、無機系超微粒子材料の表面に樹脂の吸着層を形成
する方法により、無機系超微粒子材料とバインダー樹脂
との親和性改善や、無機系超微粒子材料の自己凝集の防
止を図っているが、このような方法で充分な低屈折率が
達成する程度の無機系超微粒子を添加した場合において
も、バインダー樹脂の強度が著しく低下するという問題
は避けられなかった。
【0010】例えば、特開昭62−148902号公
報、特開昭63−191101号公報、特開平2−11
5801号公報、特開平2−256001号公報などに
は、金属アルコキシド誘導体に代表される有機ケイ素化
合物の加水分解、縮合物と無機超微粒子材料を組み合わ
せることにより、無機超微粒子材料の充分な添加量と同
時にプラスチック基板への密着性を持たせているが、塗
膜のフレキシブル性が劣り、また、塗膜表面に頭を出し
ている超微粒子が脱落しやすいという問題があった。
【0011】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであり、バインダー樹脂成分と無機成分を分子レ
ベルで均一なものとすることを目的とし、しかもバイン
ダー樹脂としてのフレキシビリティーを有し、且つ反射
防止性を有する無機成分を多量に含有することができ、
さらに成膜した場合十分な強度が発揮される光学皮膜形
成コーティング用組成物、その製造方法、光学皮膜形成
方法および光学皮膜を提供することを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明の光学皮膜形成コーティング用組成物
は、次の式(1)、
【0013】
【化9】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、アリル基および
それらの誘導体から選ばれた1種乃至3種の置換基、n
は1または2を示す。)で示される加水分解可能な官能
基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
部分加水分解物と、分子内に少なくとも1個以上のビニ
ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、あるいはそ
れらの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持つ1種ま
たは2種以上の単量体との共重合体を主成分とすること
を特徴とする。
【0014】また本発明の光学皮膜形成コーティング用
組成物は、前記式(1)で示される加水分解可能な官能
基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
部分加水分解物と、分子内に少なくとも1個以上のビニ
ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あるいはそれ
らの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を
含有する1種または2種以上の単量体とを主成分とする
共重合体中に、少なくとも1種または2種以上の有機金
属化合物、その加水分解物および/またはその部分加水
分解物が縮合により組み込まれていることを特徴とす
る。
【0015】また本発明の光学皮膜形成コーティング用
組成物は、前記式(1)で示される加水分解可能な官能
基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
部分加水分解物と、分子内に少なくとも1個以上のビニ
ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あるいはそれ
らの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を
含有する1種または2種以上の単量体とを主成分とする
共重合体中に、次の式(2)、
【0016】
【化10】 (但し、式中Yは炭素原子数1〜3のアルキル基、アル
ケニル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル
基、およびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する
有機基から選ばれた1種または2種の有機基、Mは金属
原子、R2 は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、
アリル基およびそれらの誘導体から選ばれた1種乃至4
種の置換基、mは0、1または2を示す。)で示され
る、少なくとも1種または2種以上の有機金属化合物、
その加水分解物および/またはその部分加水分解物が縮
合により組み込まれていることを特徴とする。
【0017】本発明の光学皮膜形成コーティング用組成
物の製造方法は、前記式(1)で示される加水分解可能
な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2
種以上の有機珪素化合物、その加水分解物および/また
はその部分加水分解物を、分子内に少なくとも1個以上
のビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あるい
はそれらの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持つ官
能基を含有する1種または2種以上の単量体と共重合さ
せることを特徴とする。
【0018】また本発明の光学皮膜形成コーティング用
組成物の製造方法は、前記式(1)で示される加水分解
可能な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種また
は2種以上の有機珪素化合物、その加水分解物および/
またはその部分加水分解物を、分子内に少なくとも1個
以上のビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あ
るいはそれらの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持
つ官能基を含有する1種または2種以上の単量体と共重
合させ、得られた共重合体に、少なくとも1種または2
種以上の有機金属化合物、その加水分解物および/また
はその部分加水分解物を添加することを特徴とする。
【0019】また本発明の光学皮膜形成コーティング用
組成物の製造方法は、前記式(1)で示される加水分解
可能な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種また
は2種以上の有機珪素化合物、その加水分解物および/
またはその部分加水分解物を、分子内に少なくとも1個
以上のビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あ
るいはそれらの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持
つ官能基を含有する1種または2種以上の単量体と共重
合させ、得られた共重合体に、前記式(2)で示され
る、少なくとも1種または2種以上の有機金属化合物、
その加水分解物および/またはその部分加水分解物を添
加することを特徴とする。
【0020】前記共重合の方法は、熱によるか、または
紫外線、電子線等の電離放射線照射により行われる。
【0021】本発明の光学皮膜形成方法は、前記の光学
皮膜形成コーティング用組成物を基体に塗布し、最低造
膜温度以上の温度で乾燥することにより、コーティング
用組成物中に無機成分を成長させ且つ無機成分を樹脂に
共有結合により固定したことを特徴とする。
【0022】本発明の光学皮膜は、前記した光学皮膜形
成コーティング用組成物が基体に塗布されて形成された
光学皮膜であって、該光学皮膜中に成長した無機成分が
樹脂に共有結合していることを特徴とする。
【0023】上記構成とすることにより、本発明の光学
皮膜形成コーティング用組成物を使用して形成した光学
皮膜は、優れた強度を持ち、且つ反射防止効果を十分に
発揮する。以下に本発明をさらに詳細に説明する。
【0024】単量体:本発明で使用する単量体は特に限
定されないが、特に、本発明の組成物を反射防止膜層と
して使用する場合、アクリル誘導体やメタクリル誘導体
に代表される官能基を有するα、βエチレン性不飽和単
量体の単独あるいは共重合体からなる単量体が、透明性
が高く好ましく用いられる。
【0025】単量体の官能基数は熱重合反応を行なう際
には通常単官能とし、紫外線や電子線等の電離放射線を
利用する場合は単官能もしくは多官能のものを使用す
る。
【0026】単量体の重合が熱重合反応の場合、官能基
を有するα、βエチレン性不飽和単量体として、アクリ
ル酸、メタクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル
酸、イタコン酸、無水マレイン酸、マレイン酸モノエス
テル、フマル酸モノエステル等の不飽和カルボン酸、ま
たは不飽和多価カルボン酸誘導体類、アクリルアミド、
メタクリルアミド等の不飽和カルボン酸アミド類、N−
メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリル
アミド等のN−メチルロール不飽和カルボン酸アミド
類、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレー
ト等の不飽和グリシジル化合物類、ヒドロキシエチルア
クリレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート、ヒド
ロキシビニルエーテル等のアルキロール化不飽和化合物
類、フタル酸ジアリル、ジビニルベンゼンまたはジアリ
ル化合物を挙げることができ、これらの1種または2種
以上を用いることができる。
【0027】本発明に使用する他の単量体としては、例
えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸ブチル、アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸
ラウリル等のアクリル酸エステル類、メタクリル酸メチ
ル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタク
リル酸イソブチル、メタクリル酸2−エチルヘキシル、
メタクリル酸ラウリル等のメタクリル酸エステル類、ア
クリロニトリル、メタクリロニトリル、スチレン、クロ
ルスチレン等を挙げることができる。
【0028】特に、上記の単量体の中ではメタクリル酸
エステル系単量体が透明性が優れている点で主として用
いられ、また、スチレン−アクリル系単量体でスチレン
量が多いものは造膜温度を下げ作業性が良好になるの
で、好適に用いられる。
【0029】また、必要に応じて上記単量体と共重合さ
せる単量体として、クロトン酸ソチル、クロトン酸エチ
ル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル等のアクリ
ル酸エステル類、メタクリル酸エステル類以外の不飽和
カルボン酸エステル類あるいは不飽和多価カルボン酸エ
ステル類、酢酸ビニル、2−プロピオン酸ビニル、ラウ
リル酸ビニル、ステアリン酸ビニル、およびビバリン酸
ビニル等のα−位で分岐した飽和カルボン酸のビニルエ
ステル等のビニルエステル類、塩化ビニル、塩化ビニリ
デン、エチレン等の1種または2種以上を用いることが
できる。
【0030】単量体の重合が電離放射線照射の場合、そ
の電離放射線硬化型単官能単量体としては、2−エチル
ヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシルEO付加物
アクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレ
ート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロ
キシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアク
リレートのカプロラクトン付加物、2−フェノキシエチ
ルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアク
リレート、ノニルフェノールEO付加物アクリレート、
2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルアクリレート、アクリロイ
ルモルホリン、ジシクロペンテニルアクリレート、ジシ
クロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルオキ
シエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート等の
1種または2種以上を用いることができる。
【0031】また単量体の重合が電離放射線照射の場
合、その電離放射線硬化型多官能性単量体としては、ヘ
キサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレ
ート、トリプロピレングリコールジアクリレート、ヒド
ロキシビバリン酸ネオペンチルグリコールエステルジア
クリレート、1,6−ヘキサンジオールのグリシジルエ
ーテルのアクリル酸付加物、2,2−ビス〔4−(アク
リロイロキシジエトキシ)フェニル〕プロパン、2,2
−ビス〔4−(アクリロイロキシジエトキシ)フェニル
メタン、トリシクロデカンジメタノールジアクリレー
ト、トリメチロールプロパンアクリレート、ペンタエリ
スリトールトリアクリレート、トリメチロールプロパン
プロピレンオキサイド付加物トリアクリレート、グリセ
リンプロピレンオキサイド付加物トリアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールヘキサアクリレートのペンタアク
リレート付加物、ジペンタエリスリトールの低級脂肪酸
およびアクリル酸のエステル、ジペンタエリスリトール
のカプロラクトン付加物アクリレート、トリス(アクリ
ロイロキシエチル)イソシアヌレート、2−アクリロイ
ロキシエチルフォスフェート等の1種または2種以上を
用いることができる。
【0032】有機珪素化合物、その加水分解物および/
またはその部分加水分解物:本発明で使用される「加水
分解可能な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ有機珪
素化合物、その加水分解物および/またはその部分加水
分解物」(有機珪素化合物群と略す。)は、前記式
(1)に表される化合物である。そのような化合物に
は、ゾル−ゲル法による無機ガラスやセラミックスの前
駆体として知られる珪素アルコキシド誘導体や珪素アセ
チルアセトネート誘導体、珪素カルボキシレート誘導体
等の有機珪素化合物、あるいはそれら各々の有機珪素化
合物の加水分解物、部分加水分解物が挙げられる。
【0033】有機珪素化合物は、前記式(1)で示され
る化合物であり、その式(1)中Xn は重合可能な官能
基であるので、主として単量体との結合に関与する。ま
た、前記式(1)で示される化合物が加水分解されるこ
とによって、縮合反応が進み無機成分の成長が行われる
が、その成長が3次元的に行われるので、そのような無
機成分の成長の調整には例えば、加水分解の程度を調整
することによって行なうことができる。
【0034】上記の有機珪素化合物群には、シランカッ
プリング剤、チタネートカップリング剤等、市販されて
いる有機珪素化合物誘導体が使用できる。例えば、トリ
メトキシビニルシラン、ジエトキシジビニルシラン、ト
リエトキシビニルシラン、アリルトリエトキシシラン、
3−アリルアミノプロピルトリメトキシシラン、3−メ
タクリロキシプロピルヂメトキシシラン、3−メタクリ
ロキシプロピルトリメトキシシラン、トリス(1−メチ
ルビニロキシ)ビニルシラン、トリイソプロキシビニル
シラン、トリフェノキシビキルシラン、ビニルトリス
(βメトキシエトキシ)シラン等が挙げられるが、本発
明はこれに限るものではない。
【0035】特に、アルコキシ基のような加水分解可能
な官能基とアクリロイル基のような重合可能な官能基と
を合わせ持った有機珪素化合物は、容易に入手できるの
で本発明の実現の上で好ましい材料といえる。
【0036】このような有機珪素化合物を用いて縮合に
より無機成分、即ち金属(Si)−酸素(O)−金属
(Si)を持つ網目状ゲルの無機珪素化合物を形成させ
る利点は次の点が挙げられる。すなわち、従来のゾル−
ゲル法は、珪素アルコキシドや有機酸塩を加水分解し、
次いで、特に固相状態での拡散や高温状態による重縮合
反応によって金属−酸素−金属の結合を持つゲル網目を
形成させているのに対して、本発明は有機珪素化合物を
加水分解し、次いで室温付近で縮合が可能で、且つ溶液
状態での縮合反応により無機成分を成長させている(こ
のような反応もゾルーゲル反応に含まれる)ので、反応
環境が容易に設定でき、その条件が穏やかであるという
特徴を有する。したがって、このような無機成分の成長
法は耐熱性の低いプラスチックフィルム上でも実現でき
るという利点がある。
【0037】有機金属化合物、その加水分解物および/
またはその部分加水分解物:本発明で使用される有機金
属化合物、その加水分解物および/またはその部分加水
分解物(有機金属化合物群と略す。)は、代表的には前
記式(2)に表される化合物である。そのような化合物
には、ゾル−ゲル法による金属ガラスやセラミックスの
前駆体として知られる金属アルコキシド誘導体や金属ア
セチルアセトネート誘導体、金属カルボキシレート誘導
体等の有機金属化合物、あるいはそれら各々の有機金属
化合物の加水分解物、部分加水分解物が挙げられる。
【0038】金属アルコキシドに代表される有機金属化
合物の加水分解、縮合反応を利用したゾル−ゲル法は、
低温での金属酸化物合成反応であり、無機成分の成長反
応に特に好適に利用される。
【0039】前記式(2)で表される有機金属化合物に
おいて、Yは炭素原子数1〜3のアルキル基、アルケニ
ル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル基、お
よびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する有機基
から選ばれた1種または2種の有機基であるので、前記
式(2)で示される有機金属化合物を、前記式(1)で
示される有機珪素化合物と一緒に用いることにより、例
えば、加水分解、縮合反応による無機物の3次元的な成
長を抑制して、リニアな無機物を成長させたり、また、
光学皮膜形成コーティング用組成物を基板に塗布した場
合に基板との密着性を上げるようにさせることもでき
る。
【0040】前記式(2)の有機金属化合物を併用して
光学皮膜形成コーティング用組成物を調製することによ
り、このコーティング用組成物を用いて形成した光学皮
膜は、前記式(1)のみを使用した場合に比べて、柔ら
かいものとすることができ、したがって、無機成分を多
く含ませることができ、無機成分の添加により屈折率の
調整が容易な皮膜の実現が可能となる。
【0041】本発明で使用される有機金属化合物には、
ほとんど全ての金属酸化物が包含され、例えば、シリカ
(珪素)、チタン、アルミニウム、亜鉛、ジルコニウ
ム、アンチモン、錫等のアルコキシドが比較的安価で容
易に入手でき、また反応の調整が容易であることから好
ましく使用される。
【0042】また本発明で使用される有機金属化合物に
おいて金属を、例えば珪素に限定した場合、次のような
有機金属化合物が挙げられる。すなわち、テトラメトキ
シシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメト
キシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニル
ジメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリ
エトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニル
トリエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、イ
ソブチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラ
ン等のアルコキシシラン類、メチルトリクロロシラン、
メチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、トリ
メチルクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ジフ
ェニルジクロロシラン等のクロロシラン類、β−(3,
4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等のエ
ポキシシラン類、N−β(アミノエチル)γ−アミノプ
ロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプロピルト
リエトキシシラン、N−フェニル−γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン等のアミノシラン類、γ−メルカプ
トプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルト
リメトキシシラン等が使用される。
【0043】共重合方法:前記有機珪素化合物群と、前
記単量体とを共重合するには、まず、両成分を混合しな
ければならないが、本発明においては、分子レベルでの
均一性を達成するために、両成分を単量体の状態で混合
することを特徴としている。したがって、末端に無機重
合反応にあずかる官能基を持つ有機高分子を無機の重合
反応に共存させる方法はあまり好ましくはない。
【0044】有機珪素化合物群と単量体との共重合は、
重合開始剤を用い、熱重合や、紫外線、電子線等の電離
放射線により行なうことができる。この時、有機珪素化
合物群の添加モル数は、単量体の全量に対して1%未満
であると十分な反射防止効果をもたらすことができず、
逆に80%を越えると機械的な強度に劣るという欠点が
ある。したがって、有機珪素化合物群のモル数が、前記
単量体の全量のモル数に対して1〜80%、特に20〜
60%であることが望ましい。
【0045】有機珪素化合物群、および/または有機金
属化合物群の加水分解反応は、有機珪素化合物群と単量
体との共重合体製造の前後どちらであっても構わない
が、有機珪素化合物の反応性が大きい場合、また、単量
体の重合可能な官能基が多数存在する場合、単量体との
間で3次元編目構造を形成し、溶剤に一部、あるいは全
てが不溶の重合体となることがあるため、その際には加
水分解反応を共重合反応の先に済ませておく必要があ
る。この加水分解反応により共重合体同士を適度に架橋
するため、塗膜の強度が向上する。
【0046】有機珪素化合物の加水分解:有機珪素化合
物および/または有機金属化合物の加水分解反応は、反
応系内に水を添加することにより起こる。その水の使用
量は有機珪素化合物または金属化合物1モルに対して2
〜10モル程度が好ましく、適宜調整する必要がある。
水の使用量が2モル未満の場合、加水分解反応が充分に
進まず本発明の効果が発現されない恐れがある。また、
水の使用量が10モルを越える場合、形成された皮膜の
透明性が損なわれる恐れがある。なお、加水分解反応を
促進するために、酸やアルカリ触媒を添加することも可
能である。
【0047】有機珪素化合物および/または有機金属化
合物の加水分解反応は、水のみの反応系では室温〜80
℃、特に50℃〜80℃の温度範囲で行なうことが好ま
しい。室温未満の温度で加水分解を行なうと、皮膜の光
学特性に関与する無機成分が得られない恐れがある。一
方、80℃を越える温度で加水分解を行なうと、有機珪
素化合物および/または有機金属化合物の急激なゲル化
が生じて無機成分の不均一分布が起こり好ましくない。
また、触媒を添加する場合は、反応速度を調節するため
に10℃〜50℃の温度範囲で加水分解を行なうことが
好ましい。
【0048】また、加水分解時間は、水のみの反応系で
は5時間以上、触媒を添加した反応系では1時間以上が
好ましい。なお、加水分解を均一に速やかに進行させる
ために、加水分解を撹拌下で行なうことが好ましい。さ
らに、反応終了後も反応液をそのまま20時間以上保
ち、熟成により反応を完結させ、得られた光学皮膜形成
コーティング用組成物を用いて皮膜を形成すると、形成
された皮膜は機械的強度が向上するので好ましい。
【0049】皮膜形成:本発明の光学皮膜形成コーティ
ング用組成物は、基材表面へ塗布し、最低造膜温度以上
の温度で乾燥することにより、反射防止などの特性に優
れた光学皮膜を形成することができる。その光学皮膜コ
ーティング用組成物が適用される基材は特に限定されな
い。その塗布方法は特に限定されないが、バーコート
法、ロールコート法、スプレーコート法、浸漬塗布法、
スピンコート法、カーテンフロー法、流延塗布法等の種
々の塗布法が適用できる。その塗布後の乾燥は、温風乾
燥、加熱乾燥等、いずれの方法を用いてもよい。
【0050】このような皮膜形成法により、光学皮膜は
溶剤の蒸発と、蒸発に伴う縮合反応により形成される。
その塗膜面の美観や膜強度を均一にするために、造膜助
剤等を添加することにより、粒子同士の融着や結着を起
こしやすい状態に調節してもよい。そのような造膜助剤
には、例えば、エチレングリコールモノブチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、2,2,4−トリメチル−1,3−ペンタンジオー
ルモノイソブチレート等が使用できる。
【0051】本発明の光学皮膜の厚さは、その皮膜の使
用目的により適宜設定することができ、特に限定される
ものではない。例えば、光学皮膜による基体表面の保護
膜や反射防止膜の高屈折率層を形成する場合は、比較的
厚い皮膜が必要であり、0.1μm〜0.5mm程度の
厚さとすることができる。また、反射防止膜層の最表層
の低屈折率層等の形成の場合、比較的薄い皮膜が好まし
く、例えば0.01〜0.05μm程度とすることがで
きる。
【0052】本発明の光学皮膜形成方法は、その乾燥の
前後で体積の収縮を伴う縮合反応系を利用しているの
で、特に厚い皮膜をコーティングする際には体積変化を
最小限に抑えるために加水分解性官能基数の平均を2.
5程度に抑えることが必要である。すなわち一分子中に
加水分解性官能基を3個持つものを全体の60%未満に
抑え、残りの部分について加水分解性官能基を1あるい
は2個のものにすることが均一な皮膜面形成と皮膜に適
度な架橋剤を施す上で好ましい。比較的薄い皮膜の場
合、体積の収縮はほとんど影響しなくなるが、加水分解
性官能基数の平均を2.8程度に抑えるほうがより好ま
しい。
【0053】加水分解に関与しない他の官能基として
は、基材への密着性、染色性、撥水性、帯電防止性等、
本発明の付加機能として最もふさわしいと判断される機
能を有する官能基(エポキシ基、グリシジル基、アミド
基、メルカプト基等)を選択することが好ましい。特
に、反射防止膜としては前記官能基の他にフェニル基な
どの立体障害の大きな官能基を使用することにより皮膜
に微細な空隙を形成することができ、皮膜の屈折率の低
下効果をもたらす可能性があり好ましい。
【0054】なお、本発明の光学皮膜形成コーティング
用組成物には、その光学的特性を損なわない範囲で架橋
剤、着色材、紫外線吸収材、造粘材、防腐剤等を添加す
ることができる。
【0055】
【作用】本発明の光学皮膜形成コーティング用組成物
は、上記のように、金属アルコキシド基のような加水分
解可能な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ1種また
は2種以上の有機珪素化合物群と、一分子中にビニル
基、アクリロイル基等の重合可能な官能基を持つ1種ま
たは2種以上の単量体を共重合させており、その共重合
の前後、あるいは共重合と並行して、有機硅素化合物お
よび/または有機金属化合物の加水分解を行なったもの
である。
【0056】このような反応により得られた光学皮膜形
成コーティング用組成物は、有機硅素化合物群と単量体
との共重合体を主骨格とし、有機硅素化合物および/ま
たは有機金属化合物の加水分解、縮合反応により成長し
て生成した無機成分が有機成分の分子中に共有結合によ
り固定されている。
【0057】したがって、この光学皮膜形成コーティン
グ用組成物は、無機成分と有機成分が分子レベルで均一
に分布したものとなり、無機成分と有機成分間の界面が
及ぼす影響を最小限に抑えることができ、無機成分を有
機成分中に多量に含有させることができ、しかも、有機
バインダー樹脂に由来するフレキシビリティーを有して
いる。このように、無機成分を多量に含有することがで
きるので、屈折率の調整が容易である。
【0058】本発明の光学皮膜形成コーティング用組成
物を基材に塗布、乾燥することにより得られる皮膜は無
機成分と有機成分とが分子レベルで均一に分布している
ので、機械的な強度の低下が見られず、かつ光学的な特
性の優れた皮膜となる。
【0059】
【実施例】
〔実施例1〕有機硅素化合物としてビニルトリエトキシ
シランと、重合性単量体としてメタクリル酸メチルを、
モル比で1:9、3:7、5:5の3種類に調製(5:
5の場合、ビニルトリエトキシシラン5重量部、メタク
リル酸メチル10重量部)し、溶剤としてエチレングリ
コールモノエチルエーテルを30重量部、重合開始剤と
して2,2′−アゾビスイソブチロニトリルを0.3重
量部を混合して、窒素雰囲気下で80℃で4時間反応さ
せ、その後100℃で30分間共重合反応を行なった。
得られた3種類の共重合体のそれぞれの分子量は3,0
00程度であり、ほぼ組成比通りの共重合体が得られ
た。
【0060】これらの共重合体のテトラヒドロフラン2
0重量%溶液40重量部に、それぞれ水0.05重量
部、1N塩酸0.01重量部を添加し、70℃で3時間
加水分解反応を行なった。反応終了後、20時間以上熟
成して、3種類のコーティング用組成物を得た。
【0061】その後、上記のコーティング用組成物をポ
リエチレンテレフタレート(PET)フィルム上にワイ
ヤバーで塗布(乾燥後の塗布量=0.03g/m2
し、90℃で1時間乾燥して、本実施例1のコーティン
グ皮膜を形成した。
【0062】また、得られたコーティング皮膜の反射防
止膜としての特性を確認するために550nm付近の可
視光透過率を下記の表1に示す。
【0063】〔比較例1〕ビニルトリエトキシシランを
用いなかった以外は、前記実施例1と同様にしてメタク
リル酸メチル単独重合体を合成して比較例1のコーティ
ング用組成物を調製した。このコーティング用組成物を
前記実施例1と同様にしてコーティング皮膜を形成し
た。得られたコーティング被膜の反射防止膜としての特
性を確認するために550nm付近の可視光透過率を下
記の表1に合わせて示す。
【0064】
【表1】 上記表1によれば、得られた共重合体のうちビニルトリ
エトキシシランの配合量を増やすほど光透過率の上昇が
見られる。また、この範囲内では皮膜強度もビニルトリ
エトキシシランの配合量を増やすほど向上していた。
【0065】〔比較例2〕分子量3,000のポリメタ
クリル酸メチル10重量部をエチレングリコールモノエ
チルエーテル30重量部に溶解し、ビニルトリエトキシ
シラン5重量部を加え、前記実施例1と同様の手法によ
り重合を行なった。得られた重合体を前記実施例1の手
法で加水分解して、比較例2のコーティング用組成物を
調製した。得られたコーティング用組成物を前記実施例
1と同様の手法でPET基材上に塗布し、乾燥してコー
ティング皮膜を形成した。このコーティング皮膜を観察
したところ膜全体に白濁が見られた。
【0066】〔実施例2〕有機珪素化合物としてγ−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン5重量部をテ
トラヒドロフラン20重量部中に投入し、さらに水0.
6重量部、1N塩酸0.2重量部を添加して、70℃で
3時間、加水分解反応を行なった。反応終了後、20時
間熟成し、加水分解を完全に進行させた。
【0067】引続き、上記反応系へ多官能アクリレート
のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート7重量部
を添加し、前記実施例1と同様な手法でワイヤバーでP
ETフィルムに塗布し、溶剤を乾燥後、電子線により硬
化させた。得られた被膜の550nm付近での透過率は
92%であった。
【0068】〔実施例3〕有機硅素化合物としてビニル
トリエトキシシランと、重合性単量体としてメタクリル
酸メチルを、モル比で1:9、3:7、5:5の3種類
に調製(5:5の場合、ビニルトリエトキシシラン5重
量部、メタクリル酸メチル10重量部)して、溶剤とし
てエチレングリコールモノエチルエーテル30重量部、
重合開始剤として2,2′−アゾビスイソブチロニトリ
ルを0.3重量部混合して、窒素雰囲気下で80℃で4
時間反応させ、その後100℃で30分間共重合反応を
行なった。得られた3種類の共重合体のそれぞれの分子
量は3,000程度であり、ほぼ組成比通りの共重合体
が得られた。
【0069】この共重合体のテトラヒドロフラン20重
量%溶液40重量部に、それぞれテトラエトキシシラン
10重量部、水1.2重量部、1N塩酸0.5重量部を
添加し、70℃で3時間加水分解反応を行なった。反応
終了後、20時間以上熟成して、3種類のコーティング
用組成物を得た。
【0070】その後、上記のコーティング用組成物をポ
リエチレンテレフタレート(PET)フィルム上にワイ
ヤバーで塗布(乾燥後の塗布量=0.03g/m2
し、90℃で1時間乾燥して、本実施例3のコーティン
グ皮膜を形成した。
【0071】また、得られたコーティング皮膜の反射防
止膜としての特性を確認するために550nm付近の可
視光透過率を下記の表2に示す。
【0072】
【表2】 上記表2によれば、得られた共重合体のうちビニルトリ
エトキシシランの配合量を増やすほど光透過率の上昇が
見られた。また、この範囲内では皮膜強度もビニルトリ
エトキシシラン配合量を増やすほど向上していた。
【0073】〔比較例3〕ビニルトリエトキシシランを
用いなかった以外は、前記実施例3と同様にしてメタク
リル酸メチル単独重合体を合成した。その後、前記実施
例3と同様の手法によりテトラエトキシシランを添加し
た系において加水分解反応を進行させた。反応終了後、
20時間以上熟成させ、前記実施例3と同様の手法によ
りPET基材に塗布し、乾燥させて比較例3のコーティ
ング皮膜を得た。得られたコーティング皮膜は、部分的
に無機成分の凝集によると思われる白濁が見られ、また
膜強度も指で擦った程度で剥がれ落ちた。
【0074】〔比較例4〕分子量3,000のポリメタ
クリル酸メチル10重量部をエチレングリコールモノエ
チルエーテル30重量部に溶解し、ビニルトリエトキシ
シラン5重量部を加え、前記実施例3と同様の手法によ
り重合を行なった。
【0075】得られた重合体を前記実施例3の手法でテ
トラエトキシシランを添加し、加水分解して比較例4の
コーティング用組成物とした。得られたコーティング用
組成物を前記実施例3と同様の手法でPET基材上に塗
布し、乾燥してコーティング皮膜を形成した。このコー
ティング皮膜を観察したところ膜全体に白濁が見られ
た。
【0076】〔実施例4〕前記実施例1で得られた共重
合体20重量%のトルエン溶液40重量部を、120℃
で溶融させたアルミニウムイソプロポキシド10重量部
中へ加え、コーティング溶液とした。
【0077】その後、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシランをアルミニウムイソプロポキシドに対して
4モル倍量添加し、前記実施例3と同様の手法によりP
ET上に塗布し、85℃で1時間加熱して皮膜を硬化さ
せた。得られた皮膜は透明で鉛筆硬度が2Hであった。
【0078】〔実施例5〕有機珪素化合物としてγ−メ
タクリロキシプロピルトリメトキシシラン5重量部とテ
トラエトキシシラン2重量部をテトラヒドロフラン20
重量部中に投下し、さらに水0.8重量部、1N塩酸
0.3重量部を添加して70℃で3時間、加水分解反応
を行なった。反応終了後、20時間熟成し、加水分解を
完全に進行させた。
【0079】引続き、上記反応系へ多官能アクリレート
のジペンタエリスリトールヘキサアクリレート7重量部
を添加し、本実施例5のコーティング用組成物とした。
得られたコーティング用組成物を前記実施例3と同様の
手法でワイヤバーでPETフィルムに塗布し、溶剤を乾
燥した後、電子線により硬化させた。得られた皮膜の5
50nm付近での透過率は92%であった。
【0080】
【発明の効果】本発明によれば、一分子中に加水分解可
能な官能基と重合可能な官能基を併せ持つ有機珪素化合
物、その加水分解物およびその部分加水分解物と、単量
体との共重合体を製造する前後において、有機珪素化合
物および/または有機金属化合物の加水分解を行なって
光学皮膜形成コーティング用組成物を製造しているの
で、得られた光学皮膜形成コーティング用組成物は、バ
インダー樹脂としてのフレキシビリティーを有し、且つ
反射防止性を有する無機成分を多量に含有することがで
きる。
【0081】このような光学皮膜形成コーティング用組
成物を基材に塗布して、乾燥することにより、形成され
る光学皮膜は、縮合反応により無機成分が成長して形成
されており、しかもその無機成分は皮膜形成樹脂と分子
レベルで均一に分布しており、且つその光学皮膜は機械
的強度が優れており、光学的特性も優れた皮膜となる。
【手続補正書】
【提出日】平成6年1月26日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項1
【補正方法】変更
【補正内容】
【化1】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
と、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基、あるいはそれらの誘導体
等の、重合可能な不飽和結合を持つ1種または2種以上
の単量体との共重合体を主成分とすることを特徴とする
光学皮膜形成コーティング用組成物。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項2
【補正方法】変更
【補正内容】
【化2】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
と、分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリロ
イル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体とを主成分とする共重合体中
に、 (2)少なくとも1種または2種以上の有機金属化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
が縮合により組み込まれていることを特徴とする光学皮
膜形成コーティング用組成物。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項3
【補正方法】変更
【補正内容】
【化3】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
と、分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリロ
イル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体とを主成分とする共重合体中
に、 (2)次の一般式、
【化4】 (但し、式中Yは炭素原子数1〜3のアルキル基、アル
ケニル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル
基、およびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する
有機基から選ばれた1種または2種の有機基、Mは金属
原子、R2 は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、
ビニル基・イソプロペニル基等のアルケニル基およびそ
れらの誘導体から選ばれた1種乃至4種の置換基、mは
0、1または2を示す。)で示される、少なくとも1種
または2種以上の有機金属化合物、その加水分解物およ
び/またはその部分加水分解物が縮合により組み込まれ
ていることを特徴とする光学皮膜形成コーティング用組
成物。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項5
【補正方法】変更
【補正内容】
【化5】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
を、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体と共重合させることを特徴とす
る光学皮膜形成コーティング用組成物の製造方法。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項6
【補正方法】変更
【補正内容】
【化6】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
を、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体と共重合させ、 (3)得られた共重合体に、少なくとも1種または2種
以上の有機金属化合物、その加水分解物および/または
その部分加水分解物を添加することを特徴とする光学皮
膜形成コーティング用組成物の製造方法。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項7
【補正方法】変更
【補正内容】
【化7】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
を、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
ロイル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
または2種以上の単量体と共重合させ、 (3)得られた共重合体に、次の一般式、
【化8】 (但し、式中Yは炭素原子数1〜3のアルキル基、アル
ケニル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル
基、およびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する
有機基から選ばれた1種または2種の有機基、Mは金属
原子、R2 は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、
ビニル基・イソプロペニル基等のアルケニル基およびそ
れらの誘導体から選ばれた1種乃至4種の置換基、mは
0、1または2を示す。)で示される、少なくとも1種
または2種以上の有機金属化合物、その加水分解物およ
び/またはその部分加水分解物を添加することを特徴と
する光学皮膜形成コーティング用組成物の製造方法。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0013
【補正方法】変更
【補正内容】
【0013】
【化9】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
素数1〜6のアルキル基、アリール基、ビニル基・イソ
プロペニル基等のアルケニル基およびそれらの誘導体か
ら選ばれた1種乃至3種の置換基、nは1または2を示
す。)で示される加水分解可能な官能基と重合可能な官
能基を併せ持つ、1種または2種以上の有機珪素化合
物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
と、分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリロ
イル基、メタクリロイル基、あるいはそれらの誘導体等
の、重合可能な不飽和結合を持つ1種または2種以上の
単量体との共重合体を主成分とすることを特徴とする。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0016
【補正方法】変更
【補正内容】
【0016】
【化10】 (但し、式中Yは炭素原子数1〜3のアルキル基、アル
ケニル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル
基、およびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する
有機基から選ばれた1種または2種の有機基、Mは金属
原子、R2 は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、
ビニル基・イソプロペニル基等のアルケニル基およびそ
れらの誘導体から選ばれた1種乃至4種の置換基、mは
0、1または2を示す。)で示される、少なくとも1種
または2種以上の有機金属化合物、その加水分解物およ
び/またはその部分加水分解物が縮合により組み込まれ
ていることを特徴とする。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C09D 143/04 JDF 183/04 PMS 201/10 PDM

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (1)次の一般式、 【化1】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
    ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
    は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
    素数1〜6のアルキル基、アリール基、アリル基および
    それらの誘導体から選ばれた1種乃至3種の置換基、n
    は1または2を示す。)で示される加水分解可能な官能
    基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
    の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
    部分加水分解物と、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
    ロイル基、メタクリロイル基、あるいはそれらの誘導体
    等の、重合可能な不飽和結合を持つ1種または2種以上
    の単量体との共重合体を主成分とすることを特徴とする
    光学皮膜形成コーティング用組成物。
  2. 【請求項2】 (1)次の一般式、 【化2】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
    ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
    は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R 1 は炭
    素数1〜6のアルキル基、アリール基、アリル基および
    それらの誘導体から選ばれた1種乃至3種の置換基、n
    は1または2を示す。)で示される加水分解可能な官能
    基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
    の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
    部分加水分解物と、分子内に少なくとも1個以上のビニ
    ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あるいはそれ
    らの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を
    含有する1種または2種以上の単量体とを主成分とする
    共重合体中に、 (2)少なくとも1種または2種以上の有機金属化合
    物、その加水分解物および/またはその部分加水分解物
    が縮合により組み込まれていることを特徴とする光学皮
    膜形成コーティング用組成物。
  3. 【請求項3】 (1)次の一般式、 【化3】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
    ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
    は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
    素数1〜6のアルキル基、アリール基、アリル基および
    それらの誘導体から選ばれた1種乃至3種の置換基、n
    は1または2を示す。)で示される加水分解可能な官能
    基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
    の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
    部分加水分解物と、分子内に少なくとも1個以上のビニ
    ル基、アクリロイル基、メタクリロイル基あるいはそれ
    らの誘導体等の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を
    含有する1種または2種以上の単量体とを主成分とする
    共重合体中に、 (2)次の一般式、 【化4】 (但し、式中Yは炭素原子数1〜3のアルキル基、アル
    ケニル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル
    基、およびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する
    有機基から選ばれた1種または2種の有機基、Mは金属
    原子、R2 は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、
    アリル基およびそれらの誘導体から選ばれた1種乃至4
    種の置換基、mは0、1または2を示す。)で示され
    る、少なくとも1種または2種以上の有機金属化合物、
    その加水分解物および/またはその部分加水分解物が縮
    合により組み込まれていることを特徴とする光学皮膜形
    成コーティング用組成物。
  4. 【請求項4】 前記有機珪素化合物、その加水分解物お
    よび/または部分加水分解物のモル数が、前記単量体の
    全量のモル数に対して1〜80%である、請求項1、2
    または3記載の光学皮膜形成コーティング用組成物。
  5. 【請求項5】 (1)次の一般式、 【化5】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
    ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
    は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
    素数1〜6のアルキル基、アリール基、アリル基および
    それらの誘導体から選ばれた1種乃至3種の置換基、n
    は1または2を示す。)で示される加水分解可能な官能
    基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
    の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
    部分加水分解物を、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
    ロイル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
    の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
    または2種以上の単量体と共重合させることを特徴とす
    る光学皮膜形成コーティング用組成物の製造方法。
  6. 【請求項6】 (1)次の一般式、 【化6】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
    ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
    は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
    素数1〜6のアルキル基、アリール基、アリル基および
    それらの誘導体から選ばれた1種乃至3種の置換基、n
    は1または2を示す。)で示される加水分解可能な官能
    基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
    の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
    部分加水分解物を、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
    ロイル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
    の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
    または2種以上の単量体と共重合させ、 (3)得られた共重合体に、少なくとも1種または2種
    以上の有機金属化合物、その加水分解物および/または
    その部分加水分解物を添加することを特徴とする光学皮
    膜形成コーティング用組成物の製造方法。
  7. 【請求項7】 (1)次の一般式、 【化7】 (但し、式中Xはビニル基、アクリロイル基、メタクリ
    ロイル基およびそれらの誘導体等から選ばれた1種また
    は2種の重合可能な不飽和結合を持つ官能基、R1 は炭
    素数1〜6のアルキル基、アリール基、アリル基および
    それらの誘導体から選ばれた1種乃至3種の置換基、n
    は1または2を示す。)で示される加水分解可能な官能
    基と重合可能な官能基を併せ持つ、1種または2種以上
    の有機珪素化合物、その加水分解物および/またはその
    部分加水分解物を、 (2)分子内に少なくとも1個以上のビニル基、アクリ
    ロイル基、メタクリロイル基あるいはそれらの誘導体等
    の、重合可能な不飽和結合を持つ官能基を含有する1種
    または2種以上の単量体と共重合させ、 (3)得られた共重合体に、次の一般式、 【化8】 (但し、式中Yは炭素原子数1〜3のアルキル基、アル
    ケニル基、フェニル基、γ−メタクリロキシプロピル
    基、およびアミノ基、メルカプト基または塩素を有する
    有機基から選ばれた1種または2種の有機基、Mは金属
    原子、R2 は炭素数1〜6のアルキル基、アリール基、
    アリル基およびそれらの誘導体から選ばれた1種乃至4
    種の置換基、mは0、1または2を示す。)で示され
    る、少なくとも1種または2種以上の有機金属化合物、
    その加水分解物および/またはその部分加水分解物を添
    加することを特徴とする光学皮膜形成コーティング用組
    成物の製造方法。
  8. 【請求項8】 前記有機珪素化合物、その加水分解物お
    よび/または部分加水分解物と、前記単量体との共重合
    反応が、熱または電離放射線照射により引き起こされる
    請求項5、6または7記載の光学皮膜形成コーティング
    用組成物の製造方法。
  9. 【請求項9】 前記共重合反応が、前記有機珪素化合物
    に加水分解処理を施した後に行なわれる請求項5、6、
    7または8記載の光学皮膜形成コーティング用組成物の
    製造方法。
  10. 【請求項10】 前記共重合反応が、前記有機珪素化合
    物に加水分解処理を施す前に行なわれる請求項5、6、
    7または8記載の光学皮膜形成コーティング用組成物の
    製造方法。
  11. 【請求項11】 請求項1、2、3または4記載の光学
    皮膜形成コーティング用組成物を基体に塗布し、最低造
    膜温度以上の温度で乾燥することにより、コーティング
    用組成物中に無機成分を成長させ且つ無機成分を樹脂に
    共有結合により固定させることを特徴とする光学皮膜形
    成方法。
  12. 【請求項12】 請求項1、2、3または4記載の光学
    皮膜形成コーティング用組成物が基体に塗布されて形成
    された光学皮膜であって、該光学皮膜中に成長した無機
    成分が樹脂に共有結合していることを特徴とする光学皮
    膜。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001031871A (ja) * 1999-07-21 2001-02-06 Toppan Printing Co Ltd 高屈折率組成物及び高屈折率コーティング組成物とその組成物からなる反射防止積層体並びにその製造方法
JP2001059902A (ja) * 1999-08-23 2001-03-06 Toppan Printing Co Ltd 反射防止積層体およびその製造方法
JP2001164117A (ja) * 1999-12-07 2001-06-19 Toppan Printing Co Ltd 高屈折率組成物および反射防止積層体
WO2001048108A1 (fr) * 1999-12-27 2001-07-05 Clariant International Ltd. Composition de revêtement
CN107207897A (zh) * 2014-12-02 2017-09-26 巴斯夫涂料有限公司 共聚物和包含共聚物的有色涂覆剂

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001031871A (ja) * 1999-07-21 2001-02-06 Toppan Printing Co Ltd 高屈折率組成物及び高屈折率コーティング組成物とその組成物からなる反射防止積層体並びにその製造方法
JP2001059902A (ja) * 1999-08-23 2001-03-06 Toppan Printing Co Ltd 反射防止積層体およびその製造方法
JP4649690B2 (ja) * 1999-08-23 2011-03-16 凸版印刷株式会社 反射防止積層体およびその製造方法
JP2001164117A (ja) * 1999-12-07 2001-06-19 Toppan Printing Co Ltd 高屈折率組成物および反射防止積層体
WO2001048108A1 (fr) * 1999-12-27 2001-07-05 Clariant International Ltd. Composition de revêtement
CN107207897A (zh) * 2014-12-02 2017-09-26 巴斯夫涂料有限公司 共聚物和包含共聚物的有色涂覆剂
JP2018505237A (ja) * 2014-12-02 2018-02-22 ビーエーエスエフ コーティングス ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツングBASF Coatings GmbH コポリマーおよび当該コポリマーを含有する顔料入りコーティング剤
US10689468B2 (en) 2014-12-02 2020-06-23 Basf Coatings Gmbh Copolymer and pigmented coating agent containing the copolymer

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