JPH07209453A - 試料ステージ - Google Patents
試料ステージInfo
- Publication number
- JPH07209453A JPH07209453A JP194494A JP194494A JPH07209453A JP H07209453 A JPH07209453 A JP H07209453A JP 194494 A JP194494 A JP 194494A JP 194494 A JP194494 A JP 194494A JP H07209453 A JPH07209453 A JP H07209453A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- tilt
- tilt stage
- sample
- curvature
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】下面が円筒状のＹティルトステージ２は、ＴＹ
支持部材１により傾斜自由に支持されている。Ｙティル
トステージ２の上面には、窪み部２Ａが設けられてい
る。窪み部２Ａには、ＴＸ支持部材３が設けられてお
り、下面が円筒面状のＸティルトステージ４を傾斜自由
に支持している。Ｘティルトステージ４の上面には試料
保持台５が設けられており、試料６を保持している。 【効果】動作可能傾斜角度を変化させても、Ｙティルト
ステージの上面に設けた窪み部の深さを適切に選ぶこと
により、ティルトステージの曲率半径を変える必要がな
く、ステージの大形化を防止できる。
支持部材１により傾斜自由に支持されている。Ｙティル
トステージ２の上面には、窪み部２Ａが設けられてい
る。窪み部２Ａには、ＴＸ支持部材３が設けられてお
り、下面が円筒面状のＸティルトステージ４を傾斜自由
に支持している。Ｘティルトステージ４の上面には試料
保持台５が設けられており、試料６を保持している。 【効果】動作可能傾斜角度を変化させても、Ｙティルト
ステージの上面に設けた窪み部の深さを適切に選ぶこと
により、ティルトステージの曲率半径を変える必要がな
く、ステージの大形化を防止できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光学顕微鏡や電子顕微
鏡に使用される試料ステージにおいて、Ｘ方向，Ｙ方向
別々に傾斜角度を与え全方位の任意の傾斜角度を得る試
料ステージに係り、大形の試料が観察でき、かつ試料ス
テージの小形化が可能な形状を有する試料ステージに関
する。
鏡に使用される試料ステージにおいて、Ｘ方向，Ｙ方向
別々に傾斜角度を与え全方位の任意の傾斜角度を得る試
料ステージに係り、大形の試料が観察でき、かつ試料ス
テージの小形化が可能な形状を有する試料ステージに関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来の試料ステージは、図９から図１１
に示すように、Ｙティルトステージ２とＸティルトステ
ージ４を重ね合わせ、各ティルトステージを任意の角度
に傾斜させることにより、試料６を任意の方向から観察
できるようになっていた。本ステージと類似のステージ
は、特開昭63−262530号公報に記載されている。
に示すように、Ｙティルトステージ２とＸティルトステ
ージ４を重ね合わせ、各ティルトステージを任意の角度
に傾斜させることにより、試料６を任意の方向から観察
できるようになっていた。本ステージと類似のステージ
は、特開昭63−262530号公報に記載されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、各テ
ィルトステージの傾斜中心軸が試料６表面の一点Ｏで交
わるように、Ｘティルトステージ４の曲率半径ＲｘとＹ
ティルトステージ２の曲率半径Ｒｙを決めている。この
ような試料ステージにおいて、ティルトステージはでき
るだけ大きな角度まで傾斜できた方が使い勝手が向上
し、ステージの適用範囲も拡大する。このステージにお
いて、各ティルトステージの傾斜角度は、ティルトステ
ージの円筒面がティルトステージ支持部材１および３か
らはみ出している部分の円弧長さＬｘ，Ｌｙに制限され
る。動作可能な傾斜角度を大きくするためには、（１）
ティルトステージの円弧長さを増やすか、（２）ティル
トステージの支持部材の幅Ｂｘ，Ｂｙを小さくすればよ
いことがわかる。しかし、(２）の方法はティルトステ
ージ支持部の長さが短くなるため、ティルトステージの
安定性が悪化し精度低下につながる恐れが大きい。従っ
て、傾斜角度を大きくするには、（１）の方法の方が優
れている。
ィルトステージの傾斜中心軸が試料６表面の一点Ｏで交
わるように、Ｘティルトステージ４の曲率半径ＲｘとＹ
ティルトステージ２の曲率半径Ｒｙを決めている。この
ような試料ステージにおいて、ティルトステージはでき
るだけ大きな角度まで傾斜できた方が使い勝手が向上
し、ステージの適用範囲も拡大する。このステージにお
いて、各ティルトステージの傾斜角度は、ティルトステ
ージの円筒面がティルトステージ支持部材１および３か
らはみ出している部分の円弧長さＬｘ，Ｌｙに制限され
る。動作可能な傾斜角度を大きくするためには、（１）
ティルトステージの円弧長さを増やすか、（２）ティル
トステージの支持部材の幅Ｂｘ，Ｂｙを小さくすればよ
いことがわかる。しかし、(２）の方法はティルトステ
ージ支持部の長さが短くなるため、ティルトステージの
安定性が悪化し精度低下につながる恐れが大きい。従っ
て、傾斜角度を大きくするには、（１）の方法の方が優
れている。
【０００４】傾斜角度を大きくするために、例えば、Ｙ
ティルトステージ４の円筒面の周長を図中二点鎖線で示
すようにＬｙからＬｙ′まで長くすることにより傾斜角
度はθからθ′まで大きくすることができる。しかし、
円筒面の周長を長くすると、Ｙティルトステージの上面
が高くなるため、各ティルトステージの傾斜中心軸を点
Ｏで一致させるためには、上側のＸティルトステージ４
の曲率半径ＲｘをＲｘ′まで小さくする必要が生じる。
すなわち、Ｙティルトステージの傾斜可能な角度を大き
くすると、Ｘティルトステージ４が小さくなり、それに
伴いＸティルトステージ４上に設置可能な試料６の大き
さが小さくなる。
ティルトステージ４の円筒面の周長を図中二点鎖線で示
すようにＬｙからＬｙ′まで長くすることにより傾斜角
度はθからθ′まで大きくすることができる。しかし、
円筒面の周長を長くすると、Ｙティルトステージの上面
が高くなるため、各ティルトステージの傾斜中心軸を点
Ｏで一致させるためには、上側のＸティルトステージ４
の曲率半径ＲｘをＲｘ′まで小さくする必要が生じる。
すなわち、Ｙティルトステージの傾斜可能な角度を大き
くすると、Ｘティルトステージ４が小さくなり、それに
伴いＸティルトステージ４上に設置可能な試料６の大き
さが小さくなる。
【０００５】一方、試料６の大きさを変えずに（Ｘティ
ルトステージ４の曲率半径Ｒｘを変えない）傾斜角度を
大きくするためには、図中、破線で示すようにＹティル
トステージ２の曲率半径をＲｙ′まで大きくする必要が
あり、試料ステージが大形化する。
ルトステージ４の曲率半径Ｒｘを変えない）傾斜角度を
大きくするためには、図中、破線で示すようにＹティル
トステージ２の曲率半径をＲｙ′まで大きくする必要が
あり、試料ステージが大形化する。
【０００６】以上のように、従来の試料ステージは、傾
斜角度を大きくすると、設置可能な試料の大きさが小さ
くなったり、試料ステージが大形化するという問題があ
った。
斜角度を大きくすると、設置可能な試料の大きさが小さ
くなったり、試料ステージが大形化するという問題があ
った。
【０００７】本発明の目的は、ＸティルトステージとＹ
ティルトステージを重ね合わせ、各ステージを任意の角
度に傾斜させることにより、試料を任意の角度から観察
可能な試料ステージにおいて、動作可能な傾斜角度が増
加してもステージの大形化を防止できる試料ステージを
提供することにある。また、同一傾斜角度であれば、ス
テージを小形化できる試料ステージを提供することにあ
る。
ティルトステージを重ね合わせ、各ステージを任意の角
度に傾斜させることにより、試料を任意の角度から観察
可能な試料ステージにおいて、動作可能な傾斜角度が増
加してもステージの大形化を防止できる試料ステージを
提供することにある。また、同一傾斜角度であれば、ス
テージを小形化できる試料ステージを提供することにあ
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明はＹティルトステージ上面にＹティルトステ
ージの軸線と平行な窪み部を設け、窪み部にＸティルト
ステージを設けた。また、Ｘティルトステージの上面に
Ｘティルトステージの軸線と平行な窪み部を設け、窪み
部に試料保持部材または、ＸＹステージを設けた。さら
に、ステージの小形化のために、窪み部とＸティルトス
テージとの隙間部にＸティルトステージの駆動機構を設
けた。
に、本発明はＹティルトステージ上面にＹティルトステ
ージの軸線と平行な窪み部を設け、窪み部にＸティルト
ステージを設けた。また、Ｘティルトステージの上面に
Ｘティルトステージの軸線と平行な窪み部を設け、窪み
部に試料保持部材または、ＸＹステージを設けた。さら
に、ステージの小形化のために、窪み部とＸティルトス
テージとの隙間部にＸティルトステージの駆動機構を設
けた。
【０００９】
【作用】Ｙティルトステージ上面に窪み部を設け、窪み
部にＸティルトステージを設けることにより、Ｙティル
トステージの円筒面の周長を長くしても、Ｙティルトス
テージとＸティルトステージの曲率半径を変化させる必
要がないため、ステージの大形化を防止することができ
る。また、Ｘティルトステージの上面に窪み部を設け、
窪み部に試料保持部材またはＸＹステージを設けること
により、Ｘティルトステージの円筒面の周長を延長可能
であるため、Ｘティルトステージの大きさを変えずに傾
斜角度を増加させることができる。さらに、窪み部とＸ
ティルトステージの隙間部にＸティルトステージの駆動
機構を設けることにより、Ｘティルトステージの駆動機
構をステージに内蔵することができるため、ステージを
小形化することができる。
部にＸティルトステージを設けることにより、Ｙティル
トステージの円筒面の周長を長くしても、Ｙティルトス
テージとＸティルトステージの曲率半径を変化させる必
要がないため、ステージの大形化を防止することができ
る。また、Ｘティルトステージの上面に窪み部を設け、
窪み部に試料保持部材またはＸＹステージを設けること
により、Ｘティルトステージの円筒面の周長を延長可能
であるため、Ｘティルトステージの大きさを変えずに傾
斜角度を増加させることができる。さらに、窪み部とＸ
ティルトステージの隙間部にＸティルトステージの駆動
機構を設けることにより、Ｘティルトステージの駆動機
構をステージに内蔵することができるため、ステージを
小形化することができる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図１を用いて説明
する。図１は本実施例の試料ステージのＸ方向の側面図
である。下面が曲率半径Ｒｙの円筒状のＹティルトステ
ージ２は、ＴＹ支持部材１によりＹ方向に傾斜自由に支
持されている。Ｙティルトステージ２の上面には、Ｙテ
ィルトステージ２の円筒面の軸線と平行に窪み部２Ａが
設けられている。窪み部２Ａには、ＴＸ支持部材３が設
けられており、下面が曲率半径Ｒｘの円筒面状のＸティ
ルトステージ４がＸ方向に傾斜自由に支持されている。
Ｘティルトステージ４の上面には試料保持台５が設けら
れており、試料６を保持している。ティルトステージの
曲率半径Ｒｙ，Ｒｘは、各ティルトステージの傾斜中心
軸が試料６上の点Ｏで交わるように設定されている。従
って、本ステージでは各ティルトステージの傾斜角度を
適当に設定することにより、点Ｏを中心に任意の方位へ
傾斜することができる。
する。図１は本実施例の試料ステージのＸ方向の側面図
である。下面が曲率半径Ｒｙの円筒状のＹティルトステ
ージ２は、ＴＹ支持部材１によりＹ方向に傾斜自由に支
持されている。Ｙティルトステージ２の上面には、Ｙテ
ィルトステージ２の円筒面の軸線と平行に窪み部２Ａが
設けられている。窪み部２Ａには、ＴＸ支持部材３が設
けられており、下面が曲率半径Ｒｘの円筒面状のＸティ
ルトステージ４がＸ方向に傾斜自由に支持されている。
Ｘティルトステージ４の上面には試料保持台５が設けら
れており、試料６を保持している。ティルトステージの
曲率半径Ｒｙ，Ｒｘは、各ティルトステージの傾斜中心
軸が試料６上の点Ｏで交わるように設定されている。従
って、本ステージでは各ティルトステージの傾斜角度を
適当に設定することにより、点Ｏを中心に任意の方位へ
傾斜することができる。
【００１１】Ｙティルトステージ２の動作可能な傾斜角
度は、ティルトステージ円筒面が支持部材からはみ出し
ている部分の円弧長さＬｙで決定される。すなわち、傾
斜角度を大きくするためには、Ｙティルトステージ２を
図中二点鎖線で示した２′のようにＴＹ支持部材１から
はみ出している部分の円筒面の長さＬｙ′を延長すれば
よい。この時、Ｙティルトステージ２の上面に窪み部２
Ａの深さを、円筒面の長さ延長分に見合っただけ深くす
ることにより、Ｙティルトステージ２の底面から窪み部
２Ａまでの高さＨを一定に保つことができ、Ｘティルト
ステージ４の曲率半径を変化させる必要がない。
度は、ティルトステージ円筒面が支持部材からはみ出し
ている部分の円弧長さＬｙで決定される。すなわち、傾
斜角度を大きくするためには、Ｙティルトステージ２を
図中二点鎖線で示した２′のようにＴＹ支持部材１から
はみ出している部分の円筒面の長さＬｙ′を延長すれば
よい。この時、Ｙティルトステージ２の上面に窪み部２
Ａの深さを、円筒面の長さ延長分に見合っただけ深くす
ることにより、Ｙティルトステージ２の底面から窪み部
２Ａまでの高さＨを一定に保つことができ、Ｘティルト
ステージ４の曲率半径を変化させる必要がない。
【００１２】図２は、本実施例の別の効果を示す試料ス
テージのＸ方向の側面図である。試料ステージの動作可
能な傾斜角度θが、従来例（図中二点鎖線で示す）と同
一であれば、本実施例のようにＹティルトステージ２の
上面に窪み部２Ａを設けることにより、Ｙティルトステ
ージ２の曲率半径Ｒｙを小さくすることができるため、
試料ステージの小形化を実現できる。
テージのＸ方向の側面図である。試料ステージの動作可
能な傾斜角度θが、従来例（図中二点鎖線で示す）と同
一であれば、本実施例のようにＹティルトステージ２の
上面に窪み部２Ａを設けることにより、Ｙティルトステ
ージ２の曲率半径Ｒｙを小さくすることができるため、
試料ステージの小形化を実現できる。
【００１３】このように、本発明によれば、Ｙティルト
ステージ２に設けた窪み部２ＡにＸティルトステージ４
を内蔵したようになるため、Ｘティルトステージ４の外
形寸法を変えることなく、Ｙティルトステージ２の動作
可能な傾斜角度を変更することができ、試料ステージの
大形化を防止できる。また、動作可能な傾斜角度を変更
しない場合でも、窪み部２Ａを設けることにより、Ｙテ
ィルトステージ２の曲率半径を小さくすることができ、
試料ステージを小形化できる。
ステージ２に設けた窪み部２ＡにＸティルトステージ４
を内蔵したようになるため、Ｘティルトステージ４の外
形寸法を変えることなく、Ｙティルトステージ２の動作
可能な傾斜角度を変更することができ、試料ステージの
大形化を防止できる。また、動作可能な傾斜角度を変更
しない場合でも、窪み部２Ａを設けることにより、Ｙテ
ィルトステージ２の曲率半径を小さくすることができ、
試料ステージを小形化できる。
【００１４】本発明の第二の実施例を、図３を用いて説
明する。図３は、本実施例の試料ステージのＹ方向の側
面図である。ＴＹ支持部材１にＹ方向に傾斜自由に支持
されたＹティルトステージ２の上面には、ＴＸ支持部材
３が設けられている。ＴＸ支持部材３には、下面が曲率
半径Ｒｘの円筒面状のＸティルトステージ４がＸ方向に
傾斜自由に支持されている。Ｘティルトステージ４の上
面にはＸティルトステージ４の円筒面の軸線と平行に窪
み部４Ａが設けられている。窪み部４Ａには試料保持台
５が設けられており、試料６を保持している。Ｘティル
トステージ４の上面に窪み部４Ａを設け、試料保持台５
を内蔵することにより、図中二点鎖線で示した従来例の
Ｘティルトステージ４′に比べ円筒面のＴＸ支持部材３
からのはみ出し量をＬｘ′からＬｘに増加させることが
できる。このため、Ｘティルトステージの動作可能な傾
斜角度を増加させることが可能である。
明する。図３は、本実施例の試料ステージのＹ方向の側
面図である。ＴＹ支持部材１にＹ方向に傾斜自由に支持
されたＹティルトステージ２の上面には、ＴＸ支持部材
３が設けられている。ＴＸ支持部材３には、下面が曲率
半径Ｒｘの円筒面状のＸティルトステージ４がＸ方向に
傾斜自由に支持されている。Ｘティルトステージ４の上
面にはＸティルトステージ４の円筒面の軸線と平行に窪
み部４Ａが設けられている。窪み部４Ａには試料保持台
５が設けられており、試料６を保持している。Ｘティル
トステージ４の上面に窪み部４Ａを設け、試料保持台５
を内蔵することにより、図中二点鎖線で示した従来例の
Ｘティルトステージ４′に比べ円筒面のＴＸ支持部材３
からのはみ出し量をＬｘ′からＬｘに増加させることが
できる。このため、Ｘティルトステージの動作可能な傾
斜角度を増加させることが可能である。
【００１５】本実施例によれば、試料保持台の大きさを
変えることなくＸティルトステージの動作可能な傾斜角
度を変更することができる。なお、第一の実施例と本実
施例を同時に行うことにより、ＸＹ両方向の傾斜角度を
大きくできる試料ステージが実現可能である。
変えることなくＸティルトステージの動作可能な傾斜角
度を変更することができる。なお、第一の実施例と本実
施例を同時に行うことにより、ＸＹ両方向の傾斜角度を
大きくできる試料ステージが実現可能である。
【００１６】本発明の第三の実施例を、図４を用いて説
明する。図４は、本実施例の試料ステージのＹ方向側面
図である。下面が円筒状のＸティルトステージ４は、Ｔ
Ｘ支持部材３の方向に傾斜自由に支持されている。Ｘテ
ィルトステージ４の上面には、Ｙステージ用ガイド８に
支持されたＹステージ７が設けられている。Ｙステージ
の上面には、Ｘステージ用ガイドに支持されたＸステー
ジ９が設けられており、Ｘステージ９には試料６が保持
されている。Ｙティルトステージ２の傾斜中心軸とＸテ
ィルトステージ４の傾斜中心軸は試料上の点Ｏで交わる
ように設定されていることは、第一の実施例と同様であ
る。また、図示していないが、Ｘステージ９は試料６を
保持するための試料保持部材を有している。本実施例の
試料ステージでは、ＸＹステージを有しているため、試
料６の全面を観察するのに適している。
明する。図４は、本実施例の試料ステージのＹ方向側面
図である。下面が円筒状のＸティルトステージ４は、Ｔ
Ｘ支持部材３の方向に傾斜自由に支持されている。Ｘテ
ィルトステージ４の上面には、Ｙステージ用ガイド８に
支持されたＹステージ７が設けられている。Ｙステージ
の上面には、Ｘステージ用ガイドに支持されたＸステー
ジ９が設けられており、Ｘステージ９には試料６が保持
されている。Ｙティルトステージ２の傾斜中心軸とＸテ
ィルトステージ４の傾斜中心軸は試料上の点Ｏで交わる
ように設定されていることは、第一の実施例と同様であ
る。また、図示していないが、Ｘステージ９は試料６を
保持するための試料保持部材を有している。本実施例の
試料ステージでは、ＸＹステージを有しているため、試
料６の全面を観察するのに適している。
【００１７】Ｙステージ用ガイド８はＸティルトステー
ジ４に直接取り付けられている。このため、図中、二点
鎖線で示したＸＹステージベース１０を設ける必要がな
く、Ｘティルトステージ４のＴＸ支持部材３からはみ出
している円筒面の長さをLx′からＬｘまで増やすことが
できるため、Ｘティルトステージの動作可能な傾斜角度
を大きくできるという利点がある。なお、ＸＹステージ
はＸティルトステージ４にＸステージ９を取り付け、上
部をＹステージとする構成も考えられる。しかし、この
場合はＸ方向に運動するＸステージが下部にあるためＹ
ティルトステージ２とＸステージ９との干渉が発生し易
くなるため、Ｘティルトステージ２の動作可能な傾斜角
度は、本実施例の場合に比べ小さくなる。従って、ＸＹ
ステージの構成は、本実施例のようにした方がよい。
ジ４に直接取り付けられている。このため、図中、二点
鎖線で示したＸＹステージベース１０を設ける必要がな
く、Ｘティルトステージ４のＴＸ支持部材３からはみ出
している円筒面の長さをLx′からＬｘまで増やすことが
できるため、Ｘティルトステージの動作可能な傾斜角度
を大きくできるという利点がある。なお、ＸＹステージ
はＸティルトステージ４にＸステージ９を取り付け、上
部をＹステージとする構成も考えられる。しかし、この
場合はＸ方向に運動するＸステージが下部にあるためＹ
ティルトステージ２とＸステージ９との干渉が発生し易
くなるため、Ｘティルトステージ２の動作可能な傾斜角
度は、本実施例の場合に比べ小さくなる。従って、ＸＹ
ステージの構成は、本実施例のようにした方がよい。
【００１８】本発明の第四の実施例を、図５を用いて説
明する。図５は、本実施例の試料ステージのＹ方向側面
図である。下面が円筒状のＸティルトステージ４は、Ｔ
Ｘ支持部材３にＸ方向に傾斜自由に支持されている。Ｘ
ティルトステージ４の上面にはＸティルトステージの軸
線と平行な窪み部４Ｃがあり、窪み部４ＣにはＹステー
ジ用のガイド８が設けられており、Ｙステージ７を支持
している。Ｙステージの上面には、Ｘステージ用ガイド
に支持されたＸステージ９が設けられており、Ｘステー
ジ９には試料６が保持されている。Ｘティルトステージ
４の上面は、Ｘステージ９のみが突出しており、図中、
一点鎖線で示すように動くＸステージ９との接触を防ぐ
ために、Ｘステージ９の下面とわずかな隙間ｈを有して
いる。以上のように構成することにより、図中二点鎖線
で示したＸＹステージベース１０を設ける必要がなくな
り、Ｘティルトステージ４のＴＸ支持部材３からはみ出
している円筒面の長さをＬｘ′からＬｘまで増やすこと
ができるため、動作可能な傾斜角度を大きくできるのは
第三の実施例と同様である。さらに、本実施例によれ
ば、Ｘティルトステージ４の窪み部４ＣにＹステージ７
を内蔵したため、円筒面をＸステージ９と接触しない範
囲まで大きくできるため、第三の実施例よりも動作可能
な傾斜角度を大きくすることが可能である。
明する。図５は、本実施例の試料ステージのＹ方向側面
図である。下面が円筒状のＸティルトステージ４は、Ｔ
Ｘ支持部材３にＸ方向に傾斜自由に支持されている。Ｘ
ティルトステージ４の上面にはＸティルトステージの軸
線と平行な窪み部４Ｃがあり、窪み部４ＣにはＹステー
ジ用のガイド８が設けられており、Ｙステージ７を支持
している。Ｙステージの上面には、Ｘステージ用ガイド
に支持されたＸステージ９が設けられており、Ｘステー
ジ９には試料６が保持されている。Ｘティルトステージ
４の上面は、Ｘステージ９のみが突出しており、図中、
一点鎖線で示すように動くＸステージ９との接触を防ぐ
ために、Ｘステージ９の下面とわずかな隙間ｈを有して
いる。以上のように構成することにより、図中二点鎖線
で示したＸＹステージベース１０を設ける必要がなくな
り、Ｘティルトステージ４のＴＸ支持部材３からはみ出
している円筒面の長さをＬｘ′からＬｘまで増やすこと
ができるため、動作可能な傾斜角度を大きくできるのは
第三の実施例と同様である。さらに、本実施例によれ
ば、Ｘティルトステージ４の窪み部４ＣにＹステージ７
を内蔵したため、円筒面をＸステージ９と接触しない範
囲まで大きくできるため、第三の実施例よりも動作可能
な傾斜角度を大きくすることが可能である。
【００１９】本発明の第五の実施例を、図６を用いて説
明する。図６は、本実施例の試料ステージのティルトス
テージ部分の立体図である。下面が円筒面状のティルト
ステージ１８の円筒面の一部にティルトステージ１８の
上面１８Ａと平行な平面１１が設けられている。平面１
１は、ティルトステージのガイド部１８Ｂ以外の場所に
設けてあるため、ステージの運動精度を悪化させること
はない。下面が円筒状のティルトステージは、固定が難
しくステージの加工・組立が面倒である欠点がある。し
かし、平面１１を設けることにより、この面を用いてテ
ィルトステージ１８を堅固に固定できるため、加工・組
立性が大幅に向上する。特に、第三の実施例や第四の実
施例のようにティルトステージがＸＹステージのベース
を兼ねるような場合、ステージガイドを取り付けるティ
ルトステージ上面１８Ａの加工を高精度に行う必要があ
るが、平面１１を基準面として利用することにより、高
精度加工が容易に行える。
明する。図６は、本実施例の試料ステージのティルトス
テージ部分の立体図である。下面が円筒面状のティルト
ステージ１８の円筒面の一部にティルトステージ１８の
上面１８Ａと平行な平面１１が設けられている。平面１
１は、ティルトステージのガイド部１８Ｂ以外の場所に
設けてあるため、ステージの運動精度を悪化させること
はない。下面が円筒状のティルトステージは、固定が難
しくステージの加工・組立が面倒である欠点がある。し
かし、平面１１を設けることにより、この面を用いてテ
ィルトステージ１８を堅固に固定できるため、加工・組
立性が大幅に向上する。特に、第三の実施例や第四の実
施例のようにティルトステージがＸＹステージのベース
を兼ねるような場合、ステージガイドを取り付けるティ
ルトステージ上面１８Ａの加工を高精度に行う必要があ
るが、平面１１を基準面として利用することにより、高
精度加工が容易に行える。
【００２０】本発明の第六の実施例を図７，図８を用い
て説明する。図７は本実施例の試料ステージのＸ方向縦
断面図、図８は図７のＣ矢視図である。下面が円筒状の
Ｙティルトステージ２の上面には、窪み部２Ａが形成さ
れている。窪み部２Ａには、ＴＸ支持部材３に傾斜自由
に支持された下面が円筒状のＸティルトステージ４が設
けられている。Ｙティルトステージ２の窪み部２ＡとＸ
ティルトステージ４との隙間２Ｄには、Ｘティルトステ
ージ４を駆動するための駆動機構１７が設けられてい
る。本実施例では、駆動機構１７の一例として、ウォー
ムギヤ（ウォームホイール１２とウォーム１３）とウォ
ーム１３を支持する軸受１６及びウォーム１３を駆動す
るモータ１４で構成した例を示してある。また、駆動機
構１７が設置されている窪み部２Ａの開口部にはカバー
１５が駆動機構１７を囲むように取り付けられている。
このように構成することにより、駆動機構１７はＹティ
ルトステージ２の窪み部２Ａに内蔵されたようになるた
め、駆動機構のための余分なスペースが不要となりステ
ージ全体がコンパクトになると共に、駆動機構が簡素化
できる利点もある。更に、モータ１４を超音波モータと
することにより、電磁モータの場合に必要な減速機構が
不要となり、かつモータの小形化ができるため、隙間２
Ｂの容積を小さくでき、ステージをよりコンパクト化す
ることができる。また、モータ１４をＹティルトステー
ジ２に密着して取り付けることにより、モータ１４の発
熱をＹティルトステージ２へ伝導でき、モータの温度上
昇を小さくできるため、モータの温度によりモータ特性
が大きく変化するような超音波モータを使用した場合で
も、安定した運転が可能となる。このことは、ステージ
を真空中で使用する場合には熱伝達による放熱が期待で
きないため、特に有効である。なお、モータ１４とＹテ
ィルトステージ２の密着部に熱伝導を促進する物質（例
えば、熱伝導グリースや熱伝導率の大きな軟質金属な
ど）を介在させることにより、密着部の微小な空隙部を
なくすことができるため、より一層の放熱の促進ができ
る。一方、駆動機構１７の周囲をカバー１５で囲むこと
により、駆動機構１７が動作することによる発塵が、隙
間２Ｄの外部へ飛散することを防ぐことができるため、
試料６への異物の付着や周囲環境の汚染を防止できる。
本発明によれば、ステージの駆動機構の簡素化やモータ
発熱の効率的放熱及びクリーンなステージを実現でき
る。
て説明する。図７は本実施例の試料ステージのＸ方向縦
断面図、図８は図７のＣ矢視図である。下面が円筒状の
Ｙティルトステージ２の上面には、窪み部２Ａが形成さ
れている。窪み部２Ａには、ＴＸ支持部材３に傾斜自由
に支持された下面が円筒状のＸティルトステージ４が設
けられている。Ｙティルトステージ２の窪み部２ＡとＸ
ティルトステージ４との隙間２Ｄには、Ｘティルトステ
ージ４を駆動するための駆動機構１７が設けられてい
る。本実施例では、駆動機構１７の一例として、ウォー
ムギヤ（ウォームホイール１２とウォーム１３）とウォ
ーム１３を支持する軸受１６及びウォーム１３を駆動す
るモータ１４で構成した例を示してある。また、駆動機
構１７が設置されている窪み部２Ａの開口部にはカバー
１５が駆動機構１７を囲むように取り付けられている。
このように構成することにより、駆動機構１７はＹティ
ルトステージ２の窪み部２Ａに内蔵されたようになるた
め、駆動機構のための余分なスペースが不要となりステ
ージ全体がコンパクトになると共に、駆動機構が簡素化
できる利点もある。更に、モータ１４を超音波モータと
することにより、電磁モータの場合に必要な減速機構が
不要となり、かつモータの小形化ができるため、隙間２
Ｂの容積を小さくでき、ステージをよりコンパクト化す
ることができる。また、モータ１４をＹティルトステー
ジ２に密着して取り付けることにより、モータ１４の発
熱をＹティルトステージ２へ伝導でき、モータの温度上
昇を小さくできるため、モータの温度によりモータ特性
が大きく変化するような超音波モータを使用した場合で
も、安定した運転が可能となる。このことは、ステージ
を真空中で使用する場合には熱伝達による放熱が期待で
きないため、特に有効である。なお、モータ１４とＹテ
ィルトステージ２の密着部に熱伝導を促進する物質（例
えば、熱伝導グリースや熱伝導率の大きな軟質金属な
ど）を介在させることにより、密着部の微小な空隙部を
なくすことができるため、より一層の放熱の促進ができ
る。一方、駆動機構１７の周囲をカバー１５で囲むこと
により、駆動機構１７が動作することによる発塵が、隙
間２Ｄの外部へ飛散することを防ぐことができるため、
試料６への異物の付着や周囲環境の汚染を防止できる。
本発明によれば、ステージの駆動機構の簡素化やモータ
発熱の効率的放熱及びクリーンなステージを実現でき
る。
【００２１】
【発明の効果】本発明によれば、動作可能傾斜角度を変
化させても、Ｙティルトステージの上面もしくはＸティ
ルトステージの上面に設けた窪み部の深さを適切に選ぶ
ことにより、ティルトステージの曲率半径を変える必要
がなく、ステージの大形化を防止できる。また、同一の
傾斜角度を得るために必要なステージの大きさを小さく
できる。
化させても、Ｙティルトステージの上面もしくはＸティ
ルトステージの上面に設けた窪み部の深さを適切に選ぶ
ことにより、ティルトステージの曲率半径を変える必要
がなく、ステージの大形化を防止できる。また、同一の
傾斜角度を得るために必要なステージの大きさを小さく
できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第一の実施例を示す側面図。
【図２】本発明の第一の実施例を示す側面図。
【図３】本発明の第二の実施例を示す側面図。
【図４】本発明の第三の実施例を示す側面図。
【図５】本発明の第四の実施例を示す側面図。
【図６】本発明の第五の実施例を示す斜視図。
【図７】本発明の第六の実施例を示す縦断面図。
【図８】図７のＣ矢視図。
【図９】従来の試料ステージを示す斜視図。
【図１０】図９のＸ矢視図。
【図１１】図９のＹ矢視図。
１…ＴＹ支持部材、２…Ｙティルトステージ、２Ａ…窪
み部、３…ＴＸ支持部材、４…Ｘティルトステージ。
み部、３…ＴＸ支持部材、４…Ｘティルトステージ。
Claims (5)
- 【請求項１】ＴＹ支持部材にＹ方向に傾斜自由に支持さ
れた下面が円筒面状のＹティルトステージと、前記Ｙテ
ィルトステージ上に設置されたＴＸ支持部材にＸ方向に
傾斜自由に支持され、前記Ｙティルトステージと曲率中
心が概略一致するように設置された下面が円筒面状のＸ
ティルトステージと、前記Ｘティルトステージ上に試料
面が前記Ｙティルトステージと前記Ｘティルトステージ
の曲率中心に概略一致するように設置された試料保持台
とで構成された試料ステージにおいて、前記Ｘティルト
ステージの上面に前記Ｘティルトステージの軸線と平行
な窪み部を設け、前記窪み部に試料保持台を設けたこと
を特徴とする試料ステージ。 - 【請求項２】ＴＹ支持部材にＹ方向に傾斜自由に支持さ
れた下面が円筒面状のＹティルトステージと、前記Ｙテ
ィルトステージ上に設置されたＴＸ支持部材にＸ方向に
傾斜自由に支持され、前記Ｙティルトステージと曲率中
心が概略一致するように設置された下面が円筒面状のＸ
ティルトステージと、前記Ｘティルトステージ上に設置
されたＸＹステージと、前記ＸＹステージ上に設置さ
れ、試料面が前記Ｙティルトステージと前記Ｘティルト
ステージの曲率中心に概略一致するように設置された試
料保持台とで構成された試料ステージにおいて、前記Ｘ
Ｙステージは下部がＹステージ、上部がＸステージで構
成され、前記Ｙステージのガイド部材を前記Ｘティルト
ステージの上面に直接設けたことを特徴とする試料ステ
ージ。 - 【請求項３】請求項２において、前記Ｘティルトステー
ジの上面に前記Ｘティルトステージの軸線と平行な窪み
部を設け、前記窪み部に前記ＸＹステージを設け、前記
窪み部の上部には、前記Ｘステージのみを突出させた試
料ステージ。 - 【請求項４】請求項２または３において、前記Ｙティル
トステージおよび前記Ｘティルトステージの下面の円筒
部の一部にティルトステージ上面と平行な平面部を設け
た試料ステージ。 - 【請求項５】請求項２または３において、前記Ｙティル
トステージの窪み部と前記Ｘティルトステージとの隙間
部に前記Ｘティルトステージの駆動機構を設けると共
に、前記駆動機構を取り囲むようにカバーを設けた試料
ステージ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP194494A JPH07209453A (ja) | 1994-01-13 | 1994-01-13 | 試料ステージ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP194494A JPH07209453A (ja) | 1994-01-13 | 1994-01-13 | 試料ステージ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07209453A true JPH07209453A (ja) | 1995-08-11 |
Family
ID=11515733
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP194494A Pending JPH07209453A (ja) | 1994-01-13 | 1994-01-13 | 試料ステージ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07209453A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010038919A (ja) * | 2008-08-06 | 2010-02-18 | Hilti Ag | レーザー装置 |
| KR101410452B1 (ko) * | 2012-05-31 | 2014-06-25 | 주식회사 메디트 | 3차원 스캐닝 장치 |
| JP2018025456A (ja) * | 2016-08-10 | 2018-02-15 | 日置電機株式会社 | 載置台および測定装置 |
-
1994
- 1994-01-13 JP JP194494A patent/JPH07209453A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010038919A (ja) * | 2008-08-06 | 2010-02-18 | Hilti Ag | レーザー装置 |
| KR101410452B1 (ko) * | 2012-05-31 | 2014-06-25 | 주식회사 메디트 | 3차원 스캐닝 장치 |
| JP2018025456A (ja) * | 2016-08-10 | 2018-02-15 | 日置電機株式会社 | 載置台および測定装置 |
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