JPH0720626B2 - 銅張積層板の製造法 - Google Patents

銅張積層板の製造法

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JPH0720626B2
JPH0720626B2 JP62124400A JP12440087A JPH0720626B2 JP H0720626 B2 JPH0720626 B2 JP H0720626B2 JP 62124400 A JP62124400 A JP 62124400A JP 12440087 A JP12440087 A JP 12440087A JP H0720626 B2 JPH0720626 B2 JP H0720626B2
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aramid fiber
prepreg
clad laminate
epoxy resin
glass
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剛 波多野
裕光 木村
一紀 光橋
雅弘 丹治
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Shin Kobe Electric Machinery Co Ltd
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Shin Kobe Electric Machinery Co Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、抵抗、IC等のチップ部品の面実装用プリント
配線板としての使用に適した銅張積層板の製造法に関す
るものである。
従来の技術 近年、電子機器の小型軽量化、高密度化の点より、使用
される電子部品はリード付部品からチップ部品へ急速に
移行し、これらの部品のプリント配線板への実装方式も
面実装が主流になりつつある。第2図は、一般的な面実
装によるチップ部品搭載の説明図で、4はチップ部品、
5は銅回路で、チップ部品4と銅回路5は、半田6によ
り接合される。このような面実装方式をとるプリント配
線板において、チップ部品4の熱膨張係数と基体7とな
る積層板(プリント回路板表層)の熱膨張係数が大きく
異ると、チップ部品4と銅回路5とを接続している半田
6に冷熱サイクル等で亀裂が生じ、実用上使用できない
状態に至る。従って、可能な限り、前記チップ部品に近
い熱膨張係数をもつ銅張積層板が要求されている。
しかし、市販のICやトランジスタ等のチップ部品の熱膨
張係数が2〜7×10-6/℃であるのに対し、該チップ部
品が搭載される市販のエポキシ−ガラス布銅張積層板、
或はエポキシ−ガラス不織布銅張積層板の熱膨張係数
は、17〜20×10-6/℃と大きく、半田接合部の信頼性を
確保する事は困難である。また、他の要求事項として、
チップ部品搭載作業時の半田リフロー工程に於ける基体
の反りを小さくする必要がある。この点に関しても、従
来のエポキシ−ガラス布、エポキシ−ガラス不織布銅張
積層板では不充分であった。
前記の要求事項を満たす工夫として、冷えば第2図の基
体7を寸法安定性の優れたセラミック板或はポリイミド
積層板で構成させる方法もあるが、前者は大型集合基板
にすることが困難且つ割れ易く、また銅回路形成が容易
でない。また、後者は著しく高価であり一般的でない。
発明が解決しようとする問題点 本発明は前記の如き従来の欠点を改善し、 (1) 冷熱サイクルにおいてもチップ部品の面実装信
頼性があり、(2)実装時のリフロー半田工程での反り
が小さく、(3)通常のプリント配線板回路加工により
回路形成ができる銅張積層板を安価に提供することを目
的とする。
問題点を解決するための手段 本発明は上記の目的を達成するためになされたもので、
第1図に示す如く、エポキシ樹脂含浸ガラス布或はガラ
ス不織布プリプレグ層2の少なくとも片面に銅箔1を載
置して加熱加圧下に成形して銅張積層板を製造するに当
り、前記プリプレグ層2と銅箔1との間に、樹脂含浸率
が70重量%以下のエポキシ樹脂含浸アラミッド繊維布も
しくはアラミッド不織布プリプレグ層3を介在させる事
を特徴とするものである。
作用 本発明は上記の特徴を有することにより、得られた銅張
積層板を常法によりエッチング加工を施してプリント配
線板とし、第2図に示した様に、チップ部品(IC、トラ
ンジスタ等)を搭載、半田接合した場合、エポキシ樹脂
を含浸させたアラミッド繊維布もしくはアラミッド繊維
不織布層の熱膨張係数が、前記チップ部品の熱膨張係数
と近似しているため、冷熱サイクルにおける接合信頼性
を大きく向上させることができる。また、前記熱膨張係
数が減少することにより、チップ部品搭載のための半田
リフロー時の反りを減少するものである。
アラミッド繊維布およびアラミッド繊維不織布は高価で
あるが、本発明による銅張積層板は基体の表面層部分に
のみこれを使用しているため、従来のエポキシ樹脂−ガ
ラス布あるいはガラス不織布積層板から大きくコストを
上げることなく、所期の目的のチップ部品の面実装信頼
性を向上出来るものである。更に、本発明による銅張積
層板は、銅箔とエポキシ樹脂含浸ガラス布あるいはガラ
ス不織布プリプレグ層の間にエポキシ樹脂含浸アラミッ
ド繊維布あるいはアラミッド繊維不織布プリプレグ層を
挿入しただけであるため、従来のエポキシ−ガラス布あ
るいはガラス不織布積層板と同じ工法により回路形成が
出来る。
エポキシ樹脂含浸アラミッド繊維布あるいはアラミッド
繊維不織布プリプレグの製造方法としては、エポキシ樹
脂含浸ガラス布あるいはガラス不織布プリプレグと同様
に、常法による含浸→塗工→乾燥により製造することが
出来るが、下層のエポキシ樹脂含浸ガラス布あるいはガ
ラス不織布プリプレグの硬化物の熱膨張係数より硬化後
の熱膨張係数を小さくするため、アラミッド繊維布ある
いはアラミッド繊維不織布プリプレグのエポキシ樹脂含
浸率を70重量%以下にする必要がある。好ましくは、30
〜60%である。30%より小さくなった場合は樹脂不足と
なり銅箔および下層のガラス布プリプレグあるいはガラ
ス不織布プリプレグとの接着性に問題が出る惧れがあ
り、70%を越えた場合は硬化後の熱膨張係数が15×10-6
/℃より大きくなり、本発明の目的であるチップ部品の
面実装信頼性の向上が期待できない。
実施例 本発明を実施するに当り、使用するエポキシ樹脂含浸ガ
ラス布またはガラス不織布プリプレグは、市販のビスフ
ェノール型エポキシ樹脂−ジシアンジアミド硬化型が使
用出来、樹脂を含浸する基材としては、市販のガラス
布、ガラス不織布を用い、常法による含浸→塗工→乾燥
により製造することが出来る。加熱加圧成に際して、前
記得られたプリプレグの使用プライ数は必要な板厚によ
り適宜選択する。また銅箔は市販の接着剤なしの18μm
または35μm厚の電解銅箔を使用出来る。
表面層に設けられるエポキシ樹脂含浸アラミッド繊維布
あるいはアラミッド不織布プリプレグにおいて、エポキ
シ樹脂としては、プリプレグ間の接着性を考慮して下層
のエポキシ樹脂含浸ガラス布あるいはガラス不織布プリ
プレグと同質のエポキシ樹脂の使用が望ましい。エポキ
シ樹脂含浸アラミッド繊維布あるいはアラミッド繊維不
織布プリプレグ層の硬化後の厚さは、価格の面から決定
されるものであるが、銅張積層板全体の厚さの3%以上
あることが望ましい。3%より小さい場合は熱膨張係数
の大きなエポキシ樹脂含浸ガラス布あるいはガラス不織
布層の影響が大となり、本発明の目的であるチップ部品
の面実装信頼性の向上の効果が小さくなる。
実施例1 ビスフェノール型エポキシ樹脂に硬化剤としてジシアン
ジアミド、硬化促進剤として2−エチル4−メチルイミ
ダゾールを添加して得たエポキシ樹脂ワニスを、ガラス
布およびアラミッド繊維布に常法により含浸→塗工→乾
燥を行いそれぞれ樹脂含有率が40重量%のガラス布プリ
プレグおよびアラミッド繊維布プリプレグを得た。得ら
れたガラス布プリプレグを7プライ重ね、その片面にア
ラミッド繊維布プリプレグ1プライを載置し、さらにそ
の外側に35μ厚銅箔を載置した後、鏡面板で挾み、プレ
スにて160℃、90分間、40kg/cm2の条件にて積層成形を
行い、1.6mm厚の片面銅張積層板を得た。
実施例2 実施例1で用いたエポキシ樹脂ワニスを、アラミッド繊
維不織布(アラミッド繊維82重量%、エポキシバインダ
18重量%、48g/m2)に常法により含浸→塗工→乾燥を行
い、樹脂含有率50重量%のアラミッド繊維不織布プリプ
レグを得た。得られたアラミッド繊維不織布プリプレグ
を、実施例1で示したガラス布プリプレグ7プライの片
面に1プライ載置し、さらにその外側に35μ厚銅箔を載
置した後、実施例1と同じ条件により積層成形を行い、
1.6mm厚の片面銅張積層板を得た。
実施例3 実施例1で用いたエポキシ樹脂ワニスを、ガラス不織布
に常法により含浸→塗工→乾燥を行い、樹脂含有率50重
量%のガラス不織布プリプレグを得た。得られたガラス
不織布プリプレグ7プライを重ね、その片面に実施例1
で用いたアラミッド繊維布プリプレグを1プライを載置
し、さらにその外側に35μ厚銅箔を載置した後、実施例
1と同じ条件により積層成形を行い、1.6mm厚の片面銅
張積層板を得た。
実施例4 実施例3で用いたガラス不織布プリプレグ7プライを重
ね、その片面に実施例2で用いたアラミッド繊維不織布
プリプレグ1プライを載置し、さらにその外側に35μ厚
銅箔を載置した後、実施例1と同じ条件により積層成形
を行い1.6mm厚の片面銅張積層板を得た。
比較例1 実施例1で用いたガラス布プリプレグだけを8プライ重
ね、その片面に35μ厚銅箔を載置した後、実施例1と同
じ条件により積層成形を行い、1.6mm厚の片面銅張積層
板を得た。
比較例2 実施例3で用いたガラス不織布プリプレグだけを8プラ
イ重ね、その片面に35μ厚銅箔を載置した後、実施例1
と同じ条件により積層成形を行い、1.6mm厚の片面銅張
積層板を得た。
実施例1〜4、および比較例1〜2で得られた片面銅張
積層板に通常のエッチング法によりチップ部品搭載用の
回路形成を行った後、実際にICチップを搭載した状態
で、80℃×1Hr−30℃×1Hrの冷熱サイクル試験を行
い、半田接合部に亀裂が生じるまでのサイクル数を調べ
た。その結果を第1表に示す。また、反りの測定とし
て、実施例1〜4および比較例1〜2で得られた片面銅
張積層板の300mm角試験片に通常のエッチング法により
回路形成を行った後、半田リフロー工程(260℃、3
分)を通じた時の積層板のコーナー部の最大浮き上り量
を測定した結果を第1表に示す。
発明の効果 上述したように、本発明によれば、その構成を、銅箔と
エポキシ樹脂含浸ガラス布あるいはガラス不織布プリプ
レグ層との間に、エポキシ樹脂含浸アラミッド繊維布あ
るいはアラミッド繊維不織布プリプレグ層を介在させる
ものとしたため、基板表面の熱膨張係数をチップ部品の
それに近づけることができ、チップ部品の面実装信頼性
向上を図れる。また、半田リフロー時の反りを低減した
銅張積層板を安価に市場に提供できるという効果があ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の銅張積層板の層構成を示す断面図、第
2図は一般的な面実装によるプリント配線板へのチップ
部品搭載の説明図である。 1は銅箔、2はエポキシ樹脂含浸ガラス布またはガラス
不織布プリプレグ層、3はエポキシ樹脂含浸アラミッド
繊維布またはアラミッド繊維不織布プリプレグ層
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B29K 105:06 277:00 309:08 (56)参考文献 特開 昭56−118852(JP,A) 特開 昭57−74150(JP,A)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】エポキシ樹脂含浸ガラス布あるいはガラス
    不織布プリプレグ層の少なくとも片面に銅箔を載置して
    加熱加圧下に成形して銅張積層板を製造するに当り、前
    記プリプレグ層と銅箔の間に、樹脂含有率が70重量%以
    下のエポキシ樹脂含浸アラミッド繊維布もしくはアラミ
    ッド繊維不織布プリプレグ層を介在させる事を特徴とす
    る銅張積層板の製造法。
JP62124400A 1987-05-21 1987-05-21 銅張積層板の製造法 Expired - Lifetime JPH0720626B2 (ja)

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