JPH07184960A - 注射器の処理装置 - Google Patents

注射器の処理装置

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JPH07184960A
JPH07184960A JP5336169A JP33616993A JPH07184960A JP H07184960 A JPH07184960 A JP H07184960A JP 5336169 A JP5336169 A JP 5336169A JP 33616993 A JP33616993 A JP 33616993A JP H07184960 A JPH07184960 A JP H07184960A
Authority
JP
Japan
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heating
syringe
heating tank
injector
treated mass
Prior art date
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Pending
Application number
JP5336169A
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English (en)
Inventor
Yuzo Tsukada
有三 塚田
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KYORITSU ELECTRON KK
Original Assignee
KYORITSU ELECTRON KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】処理作業,衛生管理の面での取扱性を良好にす
る。 【構成】注射器を加熱溶融する加熱槽1を備えてなるも
のにおいて、加熱槽1の上方に注射器の投入口6を設
け、加熱槽1の下方に注射器が溶融され固化した処理塊
の排出口90を設け、加熱槽1の底部に処理塊を排出口
側に落下させる排出機構4を設けた

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、注射器の処理装置に関
する。さらに詳しくは、使用済みとなった注射針付き注
射器を加熱溶融して処理する装置の取扱性に係る改良に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来、注射器の処理装置としては、例え
ば、特開平4−40963号公報に記載のものが知られ
ている。
【0003】この従来の注射器の処理装置は、注射器
(正確には、注射針,キャップ)を加熱溶融する加熱槽
を備え、ポリエチレン系の合成樹脂材からなるキャップ
を溶融した後に冷却固化させて処理塊とし、処理塊の内
部に注射針を封込めて物理的な危険性を除去し、ウイル
ス等を加熱殺菌して生物学的な危険を除去し、廃棄処理
を容易にするものである。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】前述の従来の注射器の
処理装置では、注射器の投入口と処理塊の排出口とが加
熱槽の上方に共通化されている。また、処理塊が加熱槽
に嵌合している処理容器の内部で固化されてしまうた
め、処理容器を加熱槽から取り出して反転させないと処
理塊を排出することができない。このため、処理作業,
衛生管理の面から取扱性が悪いという問題点がある。
【0005】本発明は、このような問題点を考慮してな
されたもので、処理作業,衛生管理の面での取扱性が良
好な注射器の処理装置を提供することを課題とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
め、本発明に係る注射器の処理装置は、次のような手段
を採用する。
【0007】即ち、請求項1では、注射器を加熱溶融す
る加熱槽を備えてなる注射器の処理装置において、加熱
槽の上方に注射器の投入口を設け、加熱槽の下方に注射
器が溶融され固化した処理塊の排出口を設け、加熱槽の
底部に処理塊を排出口側に落下させる排出機構を設けた
ことを特徴とする。
【0008】また、請求項2では、請求項1の注射器の
処理装置において、注射器の加熱溶融の開始から一定時
間の後に排出機構の動作を開始させるタイマを装備した
ことを特徴とする。
【0009】また、請求項3では、請求項1または2の
注射器の処理装置において、排出機構には、処理塊の落
下を検出するセンサと、センサにより処理塊の落下が検
出されない場合に動作する再加熱機構とを備えたことを
特徴とする。
【0010】また、請求項4では、請求項1〜3のいず
れかの注射器の処理装置において、加熱槽を複数槽並設
し、各加熱槽を連係してまたは個別に動作可能にしたこ
とを特徴とする。
【0011】
【作用】前述の手段によると、上方から投入された注射
器は、加熱槽で処理されて処理塊となって、排出機構に
よって下方から排出される。排出機構がタイマによって
自動的に動作すると、処理塊が自動的に排出されること
になる。センサと再加熱機構とは、必要な場合に処理塊
を再加熱して処理塊を確実に落下させる。複数槽の加熱
槽が並設していると、連係して効率的な処理が行われ
る。
【0012】
【実施例】以下、本発明に係る注射器の処理装置の実施
例を図面に基いて説明する。
【0013】この実施例では、加熱槽1を2槽並設した
構造のものを示してある。
【0014】加熱槽1は、ステンレス材で形成されたも
ので、円筒形の加熱側筒11と、加熱側筒11の底部に
嵌合した皿形の加熱底皿12とからなる。加熱底皿12
の表面は合成樹脂材が付着しないようにテフロンコ−テ
ィングすることができる。加熱側筒11の外周壁には、
バンド形のヒータ13と温度センサ14とが設けられて
いる。加熱底皿12の下壁には、プレート形のヒータ1
5と温度センサ16とが設けられている。
【0015】これ等のヒータ13,15,温度センサ1
4,16は、図4に示すように、コントローラ2に接続
されて制御されるようになっている。即ち、バンド形の
ヒータ13は、温度センサ14と連係して約270℃を
保持するようになっている。また、プレート形のヒータ
15は、温度センサ16と連係して約215℃を保持す
るようになっている。なお、この結果、加熱槽1の内部
は、約200℃〜300℃前後に保持されるようになっ
ている。
【0016】加熱槽1の加熱側筒11は、上部が昇降機
構3に連結されて昇降するようになっている。
【0017】昇降機構3は、機体Aに支持されたモータ
31と、モータ31によって回転駆動されるギア32
と、加熱槽1の加熱側筒11に固定されギア32が噛合
するラック33とからなる。なお、加熱槽1の加熱側筒
11の昇降限界は、図示しないマイクロスイッチと昇降
機構3の回転部材との連係によって規制される。
【0018】この昇降機構3のモータ31は、図4に示
すように、コントローラ2に接続されて制御されるよう
になっている。
【0019】加熱槽1の加熱底皿12は、排出機構4に
連結されて回動反転するようになっている。
【0020】排出機構4は、機体Aに支持されたモータ
41と、モータ41によって回転駆動されるギア42
と、加熱槽1の加熱底皿12に固定されギア42が噛合
するラック43とからなる。なお、加熱槽1の加熱底皿
12の昇降限界は、図示しないマイクロスイッチと排出
機構4の回転部材との連係によって規制される。
【0021】この排出機構4のモータ41は、図4に示
すように、コントローラ2に接続されて制御されるよう
になっている。
【0022】加熱槽1の上方には、加熱側筒11にスラ
イド可能に嵌合した投入筒5が接続されている。この投
入筒5は、上端が機体Aから少し突出して注射器Bが投
入される投入口6となっている。なお、投入口6は、内
蓋71,外蓋72の2重構造からなる蓋体7で閉鎖され
る。蓋体7の外蓋72は、機体Aに固定されたロ−ラ−
キャッチ又はマグネット73で確実に閉鎖され不測に開
放しないようになっている。また、蓋体の外蓋72の内
部には、投入口6周りを殺菌する紫外線等の殺菌灯8が
設けられている。この殺菌灯8は、図4に示すように、
コントローラ2に接続されて蓋体7の閉鎖中に点灯され
るように制御されている。
【0023】加熱槽1の側方には、活性炭,フィルタ等
を内蔵した排気機構9が設けられ機体A外に連通してい
る。この排気機構9は、図4に示すように、コントロー
ラ2に接続されて後述のスイッチ2がONされるとOF
Fになるまで動作を継続するように制御されている。0
【0024】加熱槽1の下方には、処理塊Cの落下検出
センサであるリミットスイッチ30が設けられている。
このリミットスイッチ30は、図4に示すようにコント
ローラ2に接続して、排出機構4が動作しても注射針B
が溶融して冷却固化した処理塊Cが接触しない限り加熱
槽1の加熱底皿12に設けられたヒータ15を再加熱す
るように制御される。
【0025】以上のような実施例の構成は、排気機構9
を除いて、2槽夫々別個に設けられている。
【0026】この実施例によると、処理に際して、使用
済みの注射器Bは、そのまま投入口6から投入すればよ
い。ただし、好ましくは、注射針B’を下方に向けるよ
うにする。また、投入筒5の中途部には径を絞った投入
量限界40が設けられているため、これを越えないよう
にする必要がある。
【0027】一定量の注射器Bが投入された後には、蓋
体7を閉めて前記スイッチ20をONにする。
【0028】スイッチ20がONされると、コントロー
ラ2に内蔵されているタイマ50が始動し、図5に示す
動作系統が奏される。
【0029】即ち、タイマ50の始動すると、排気機構
9が動作すると共に、ヒータ13,15が加熱される。
【0030】ヒータ13,15の加熱は、前述の温度で
行われ、約30分以上好ましくは約40分間継続され
る。この継続は、最も耐熱性を有するC型肝炎ウイルス
が180℃で30分間の加熱で死滅するとされており、
これをクリアするためである。この加熱によると、注射
器Bの合成樹脂部分は完全に溶融し金属の注射針を包込
む。なお、合成樹脂の溶融の際に発生するガスは、加熱
槽1から機体Aの内部に漏出するものの、排気機構9に
よって無臭,無害化されて機体A外へ排気する。なお、
このような無臭,無害化された排気をも嫌う清浄な場所
では、機体Aの底部に設けられたキャスタ60を利用し
て全体を簡単に他の場所へ移動することができる。
【0031】前述の40分間の加熱が終了すると、ヒー
タ13,15の加熱が解除されて、約60分間自然冷却
される。この冷却によって、溶融した注射器Bは、冷却
固化して注射針B’を内部に封込めた円盤形の処理塊C
となる。なお、この冷却の間にも、排気機構9による排
気は継続されている。このため、排気機構9の吸引で加
熱槽1周りに通気が起こり冷却が促進される。
【0032】前述の60分間の冷却が終了すると、昇降
機構3が動作して加熱槽1の加熱側筒11を上昇させ、
排出機構4が動作して加熱槽1の加熱底皿12を反転さ
せる。加熱槽1の加熱底皿12の反転によって、円盤形
の処理塊Cが直下に落下してパン70に収容される。こ
のとき、処理塊Cによって前記リミットスイッチ30が
動作するが、処理塊Cが加熱底皿12が接着してリミッ
トスイッチ30が動作しない場合には、加熱底皿12の
ヒータ15が再加熱され処理塊Cを加熱底皿12から剥
れやすくする。
【0033】パン70に収容された処理塊Cは、機体A
の前扉80を開けて排出口90を開放してパン70ごと
取出すことができる。なお、機体Aから取出した後、パ
ン70を傾ければ、処理塊Cを簡単には捨て去ることが
できる。
【0034】この処理の終了により前記スイッチ20
は、手動または自動的にOFFとなる。
【0035】従って、投入された注射器Bが機体Aの内
部のみで処理され、処理作業が極めて衛生的である。ま
た、殆ど自動化されているため、処理作業も簡単であ
る。特に、加熱槽1が2槽あるため、両者を連係させる
ことにより大量に処理することが可能となる。
【0036】なお、図6,図7に示すように、注射器B
のポリエチレン系の合成樹脂の溶融温度では軟化するの
みで溶融しない性質を有する補助筒100に注射器Bを
投入しておいて、前記投入口6から注射器Bの入った補
助筒100を投入することもできる。
【0037】この実施例によると、軟化した補助筒10
0で処理塊Cを包込むことができ、注射針の不測の突き
出しを完全に防止することができる。
【0038】以上、図示した実施例の外に、加熱槽1を
1槽または3槽以上とする実施例も可能である。
【0039】さらに、排出機構4を処理塊Cを一旦横方
向へスライドさせて落下させる実施例とすることも可能
である。
【0040】
【発明の効果】以上のように本発明に係る注射器の処理
装置は、各請求項共通として、上方から投入された注射
器が処理されて処理塊となって下方から排出され、処理
作業が極めて衛生的で簡単であるため、処理作業,衛生
管理の面での取扱性が良好である効果がある。
【0041】さらに、請求項2のみとして、タイマによ
り処理が自動化されるため、処理作業がより衛生的で簡
単になり、処理作業,衛生管理の面での取扱性がより良
になる好効果がある。
【0042】さらに、請求項3のみとして、処理塊の排
出を確実に行うことができるため、装置の故障を防止す
ることができる効果がある。
【0043】さらに、請求項4のみとして、複数槽の加
熱槽を連係して大量処理が可能となる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る注射器の処理装置の実施例を示す
斜視図である。
【図2】図1の要部の拡大断面図である。
【図3】図2の動作を示す斜視図である。
【図4】図1の各部の接続回路図である。
【図5】図1の各部による動作系統図である。
【図6】本発明に係る注射器の処理装置の実施例の他の
使用例を示す使用部材の斜視図である。
【図7】図6の使用部材を使用した処理塊の断面図であ
る。
【符号の説明】
1 加熱槽 15 ヒータ(再加熱機構) 4 排出機構 6 投入口 20 スイッチ 30 リミットスイッチ(センサ) 50 タイマ 90 排出口 A 機体 B 注射器 B’ 注射針 C 処理塊

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 注射器を加熱溶融する加熱槽を備えてな
    る注射器の処理装置において、加熱槽の上方に注射器の
    投入口を設け、加熱槽の下方に注射器が溶融され固化し
    た処理塊の排出口を設け、加熱槽の底部に処理塊を排出
    口側に落下させる排出機構を設けたことを特徴とする注
    射器の処理装置。
  2. 【請求項2】 請求項1の注射器の処理装置において、
    注射器の加熱溶融の開始から一定時間の後に排出機構の
    動作を開始させるタイマを装備したことを特徴とする注
    射器の処理装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または2の注射器の処理装置に
    おいて、排出機構には、処理塊の落下を検出するセンサ
    と、センサにより処理塊の落下が検出されない場合に動
    作する再加熱機構とを備えたことを特徴とする注射器の
    処理装置。
  4. 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかの注射器の処理
    装置において、加熱槽を複数槽並設し、各加熱槽を連係
    してまたは個別に動作可能にしたことを特徴とする注射
    器の処理装置。
JP5336169A 1993-12-28 1993-12-28 注射器の処理装置 Pending JPH07184960A (ja)

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