JPH071794Y2 - 浸漬型基板処理槽 - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この考案は、基板搬送用キャリア
を用いないで半導体基板や液晶用ガラス基板等の薄板状
被処理基板(以下単に基板と称する)を表面処理するのに
用いられる浸漬型の基板処理槽に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年半導体基板の集積度のアップひいて
は基板サイズの大型化に伴って、益々高い製造品質が要
求されるようになった。このため、パーティクルの付着
を極力排除するべく、基板搬送用キャリアを用いないで
直接基板Ｗを基板搬送用ロボットで保持して搬送すると
ともに、その基板を処理槽内に配置した基板支持具に移
し替えて支持させるキャリアレス方式が採用されつつあ
る。

【０００３】この種の処理槽としては、従来より例えば
第８図に示すものが知られている。この浸漬型基板処理
槽１０１は同図に示すように、石英材料で形成した処理
槽本体１０２内の左右両側壁の下半部１０２ｂに一対の
基板支持具１０６を当該本体１０２と一体に突設し、基
板支持具１０６は複数の基板Ｗを直立状に直接支持する
多数の支持溝１０６ａを切設して成り、処理槽本体１０
２内の底部１０２ｃには処理液供給部１０３を設け、処
理液供給部１０３より処理液Ｑを供給して処理槽本体１
０２内に貯溜するとともに、処理液Ｑの上昇流を形成し
て処理槽本体１０２の上辺部よりオーバーフローさせ、
基板搬送用ロボットハンド１１０で保持した複数の基板
Ｗを処理槽本体１０２内に配置した基板支持具１０６に
移し替えて支持させ、処理液Ｑで基板Ｗの表面処理をす
るように構成されている。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】しかし上記従来例で
は、一対の基板支持具１０６が処理槽本体１０２と一体
に形成されているため次のような不都合が生ずる。例え
ば洗浄処理槽では、複数の基板の洗浄を均一に行うに
は、洗浄液の均一な上昇流を形成させ、処理槽本体１０
２の４つの上辺部より均等にオーバーフローさせる必要
があり、それには処理槽本体１０２の正確な水平出しを
して設置することが不可欠となる。この点は洗浄処理槽
のみならずオーバフロー型の基板処理槽では同様であ
る。

【０００５】一方では一対の基板支持具１０６の支持溝
１０６ａがわずかでも歪んでいると、基板搬送用ロボッ
トハンド１１０で一括して搬入した複数の基板Ｗを処理
液Ｑ中に浸漬して基板支持具１０６で支持させる際に、
それらの基板を直立整列状態で確実に一括支持させるこ
とができなくなる。しかも、多数の支持溝１０６ａを切
設した一対の基板支持具１０６を、基板搬送用ロボット
ハンド１１０に対して整合配置し、かつ、処理槽本体１
０２と一体に形成するのは加工が容易でなく、処理本体
が極めて高価につく。

【０００６】本考案はこのような事情を考慮してなされ
たもので、イ．処理槽本体の正確な水平出しと一対の基
板支持具の正確な位置整合とを別途調節可能にし、ロボ
ットハンドで保持した複数の基板を処理槽内に配置した
基板支持具に確実に移し替えるようにすること、ロ．基
板支持具を処理槽本体と別体に形成して、処理槽本体の
製作コストの低減を図ること、を技術課題とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本考案は上記課題を解決
するものとして、以下のように構成される。即ち、処理
槽本体内に、複数の基板を直立状に整列して直接支持す
る多数の支持溝を切設した基板支持具を配置し、処理槽
本体内の底部には処理液供給部を設け、処理液供給部よ
り処理液を供給して処理槽本体内に貯溜するとともに、
処理液の上昇流を形成して処理槽本体の上辺部よりオー
バーフロー可能に構成し、基板搬送用ロボットハンドで
搬送された複数の基板を処理槽本体内で当該基板支持具
に移し替え、処理液で基板の表面処理をするように構成
した浸漬型基板処理槽において、上記基板支持具を処理
槽本体とは別体に形成するとともに、処理槽本体と当該
基板支持具との間に、基板搬送用ロボットハンドに対す
る基板支持具の相対位置を調節可能に位置決めする位置
整合手段を介在させたことを特徴とするものである。

【０００８】

【作用】本考案では、基板支持具が処理槽本体内に位置
整合手段を介して装着されており、処理槽本体の正確な
水平出しをした後、位置整合手段を調節することによ
り、基板搬送用ロボットハンドに対する基板支持具の相
対位置を独立して調節することができる。これにより、
処理槽上辺部より処理液の均等なオーバーフローを形成
し、かつ、基板搬送用ロボットで搬入した複数の基板
を、処理槽内に配置した基板支持具に確実に移し替える
ことができる。

【０００９】

【実施例】以下本考案の実施例を図面に基づいて説明す
る。図１は本考案の第１の実施例に係る浸漬型基板処理
槽の縦断正面図、図２はその縦断側面図である。なお、
符号１は浸漬型基板処理槽全体を示す。この浸漬型基板
処理槽１は、排液槽２ｂがその外周に一体に形成され石
英製処理槽本体２ａと基板支持手段５とから成り、基板
支持手段５は処理槽本体２ａとは別体に形成され、処理
槽本体２ａ内に装着して基板搬送用ロボットハンド１０
に対して相対位置調節可能に構成されている。

【００１０】処理槽本体２ａはその底壁２ｃが略円弧状
に形成され、底壁２ｃの中央部前後方向に洗浄液供給部
３が横設されており、洗浄液供給部３より純水洗浄液Ｑ
を供給して、この円弧状の底壁２ｃに沿って均一な上昇
流を形成させ、処理槽本体２ａの上辺部よりオーバーフ
ローさせるように構成されている。なお、処理槽本体２
ａの水平度を調節する手段としては、例えば本出願人が
先に実願平２−５６６９６号（考案の名称「浸漬型基板
処理装置」）で提案したように、石英製処理槽本体２ａ
の底部を耐食性材料で形成した補強板で補強し、この補
強板をネジ等の複数の昇降調節支持具で調節可能に構成
する。これにより、本実施例では純水洗浄液Ｑの均一な
上昇流により、基板の洗浄処理の均一性を高めることが
できる。なお、オーバーフローした純粋洗浄液Ｑは廃液
槽２ｂを介して回収され、精製して再利用されるが、本
実施例では基板の輪郭形状に対応させて底壁２ｃを略円
弧状に形成して、処理槽本体２ａの容積を小さくしたの
で、循環して再利用される純粋洗浄液の総量も大幅に低
減することができる。また、底壁２ｃを略円弧状に形成
したので処理槽内底部の洗浄等、メンテナンスが容易に
なる。

【００１１】基板支持手段５は４本で一組をなし複数の
基板Ｗを直接支持する基板支持具６と、各基板支持具６
の前後両端部を固定した一対の固定基枠７と、各固定基
枠７の外側面に付設された位置整合手段８とから成り、
処理槽本体２ａ内の下部に前後方向に横設されている。
そして基板支持具６は多数の基板支持溝６ａを切設して
成り、ロボットハンド１０で搬入した複数の基板Ｗを直
接受け取り、直立状に整列して支持するように構成され
ている。

【００１２】また位置整合手段８は、それぞれ固定基枠
７の両外側面に付設された４個で一組の前後方向位置調
節部材８ａと、同じく４個で一組の上下位置調節部材８
ｂとを具備して成り、それぞれ処理槽本体２ａの前後の
内側面に突設した係合部材４ａ・４ｂで受け止められて
おり、基板支持手段５全体を処理槽本体２ａ内に装着し
て前後左右、上下の傾きを位置整合するように構成され
ている。なおこれらの位置調節部材８ａ・８ｂは例えば
ネジと位置調節用のナットで構成される。つまり、処理
槽本体２ａの正確な水平出しとは別に、位置整合手段８
を調節することにより、基板搬送用ロボットハンド１０
に対する基板支持手段５の相対位置を独立して調節する
ことができる。これによりロボットハンド１０で搬入し
た基板Ｗを処理槽本体２ａ内に配置した基板支持具６に
移し替えて確実に支持させることが可能になる。

【００１３】図３は本考案の第２の実施例に係る浸漬型
基板処理槽の縦断正面図、図４はその縦断側面図であ
る。この実施例では、基板支持手段１５が２本で一組を
なす基板支持具１６と、各基板支持具１６の前後両端部
を固定した一対の固定基枠１７と、各固定基枠１７の上
端部に懸垂基枠１７ａを介して付設された位置整合手段
１８とから成り、基板支持具１６が処理槽本体２ａ内の
下部に位置するように懸垂支持されている。そして位置
整合手段１８は、それぞれ懸垂基枠１７ａの両端部に付
設され、ネジと位置調節用のナットを具備して成り、そ
れぞれ廃液槽２ｂの左右の外側面に突設した係合部材１
４・１４で受け止められており、基板支持手段１５全体
を処理槽本体２ａ内に装着して基板支持具１６の上下位
置やその傾きを、基板搬送用ロボットハンド１０に対し
て独立に位置整合するように構成されている。なお、上
記実施例ではいずれも処理槽本体２ａと廃液槽２ｂとが
一体形状をなすものについて例示したが、必ずしもこれ
に限らない。

【００１４】図５〜図７は上記懸垂基枠１７ａの上端部
に付設された位置整合手段の別実施例を示し、図５は基
板処理槽の全体を示す概要図、図６は位置整合手段２８
の要部斜視図、図７は図６中のＡ−Ａ線矢視縦断面図で
ある。この実施例では図５で示すように、基板支持手段
１５の一対の懸垂基枠１７・１７がそれぞれ位置整合手
段２８を介して一対の基枠支持具２７・２７で支持さ
れ、基枠支持具２７は処理槽本体２ａとは独立に設けら
れ、基板支持手段１５を独立に位置整合するように構成
されている。

【００１５】位置整合手段２８は図５及び図６で示すよ
うに、懸垂基枠１７の上端部１７ａを横外向きに延出し
て、この上端部１７ａを台座２５に位置整合可能に固定
し、基枠支持具２７の先端部に台座２５を固定支持させ
る受け座２６を凹設し、受け座２６に台座２５をボルト
２４で固定するように構成されている。

【００１６】即ち、懸垂基枠１７の上端部１７ａは矩形
に形成され、図６〜図７で示すように、その前後（矢印
Ｘ）方向の中央部に２個の引きボルト２１用のボルト挿
通孔２１ａをあけて引きボルト２１を挿通し、その両脇
にそれぞれ２個づつ押しボルト２２用のネジ孔２２ａを
あけて押しボルト２２をねじ込むように構成されてい
る。

【００１７】一方台座２５には、円形偏心ヘッド２３ａ
・２３ｂを有する４個の偏心ボルト２３がそれぞれ対応
するネジ孔２３ｃにねじ込まれ、また引きボルト２１に
対応させて中央部に２個の引きボルト２１用のネジ孔２
１ｂをあけ、これに引きボルト２１をねじ込むととも
に、押しボルト２２の先端を台座２５の上面に当接させ
るように構成されている。

【００１８】つまり、これら４個の偏心ボルト２３の円
形偏心ヘッド２３ａを懸垂基枠１７の上端部１７ａの側
面に押し当てて前後（矢印Ｘ）及び左右（矢印Ｙ）方向
の位置の調節をなし、２個の引きボルト２１と４個の押
しボルト２２で懸垂基枠１７の上下（矢印Ｚ）方向の位
置と傾き（矢印θ）を調節するように構成されている。
なお、台座２５は受け座２６に対して着脱自在に密嵌さ
れており、メンテナンスに際しては、ボルト２４を外す
ことにより基板支持手段１５を台座２５とともに一括し
て取り外すことができ、再び組み付ける際にはボルト２
４を締め付けるだけで位置の再現性を確保できる。

【００１９】なお、図５の実施例では廃液槽を省略して
あるが、廃液槽を処理槽本体２ａとは別にその処理槽本
体２ａの下部を覆うように設置することもできる。ま
た、処理槽本体ａは石英材料以外の耐食性に優れる四フ
ッ化エチレン樹脂等で形成したものでも良い。さらに廃
液槽や基板支持手段の形状等についても適宜多様な変形
を加えて実施することができる。

【００２０】

【考案の効果】以上の説明で明らかなように、本考案で
は、基板支持具が処理槽本体とは別体に形成され、処理
槽本体内に位置整合手段を介して装着されるので以下の
効果を奏する。イ．処理槽本体の正確な水平出しと基板
搬送用ロボットハンドに対する基板支持具の正確な位置
整合とが独立して調節可能であり、ロボットハンドで保
持した複数の基板を処理槽内に配置した基板支持具に確
実に移し替えることができる。ロ．基板支持具を処理槽
本体と別体に形成したので、処理槽本体の製作コストの
低減を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の第１の実施例に係る浸漬型基板処理槽
の縦断正面図である。

【図２】本考案の第１の実施例に係る浸漬型基板処理槽
の縦断側面図である。

【図３】本考案の第２の実施例に係る浸漬型基板処理槽
の縦断正面図である。

【図４】本考案の第２の実施例に係る浸漬型基板処理槽
の縦断側面図である。

【図５】懸垂基枠１７ａの上端部に付設された位置整合
手段の別実施例に係る基板処理槽の全体を示す概要図で
ある。

【図６】位置整合手段２８の要部斜視図である。

【図７】図６中のＡ−Ａ線矢視縦断面図である。

【図８】従来例の図１相当図である。

【符号の説明】１…浸漬型基板処理槽、２ａ…処理槽本
体、２ｃ…処理槽本体の底壁、３…処理液供給部、５・
１５…基板支持手段、６・１６…基板支持具、６ａ…基
板支持溝、８・１８・２８…位置整合手段、１０…ロボッ
トハンド、Ｑ…処理液（洗浄液）、Ｗ…基板。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 前川 直嗣 滋賀県彦根市高宮町480番地の１ 大日本 スクリーン製造株式会社 彦根地区事業所 内 (56)参考文献 特開 昭61−295622（ＪＰ，Ａ)

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理槽本体内に、複数の基板を直立状に
   整列して直接支持する多数の支持溝を切設した基板支持
   具を配置し、処理槽本体内の底部には処理液供給部を設
   け、処理液供給部より処理液を供給して処理槽本体内に
   貯溜するとともに、処理液の上昇流を形成して処理槽本
   体の上辺部よりオーバーフロー可能に構成し、基板搬送
   用ロボットハンドで搬送された複数の基板を処理槽本体
   内で当該基板支持具に移し替え、処理液で基板の表面処
   理をするように構成した浸漬型基板処理槽において、上
   記基板支持具を処理槽本体とは別体に形成するととも
   に、処理槽本体と当該基板支持具との間に、基板搬送用
   ロボットハンドに対する基板支持具の相対位置を調節可
   能に位置決めする位置整合手段を介在させたことを特徴
   とする浸漬型基板処理槽。