JPH07179434A - ４，６−ジアルコキシ−２−スルホニルオキシメチルピリミジン誘導体およびその製造法 - Google Patents
４，６−ジアルコキシ−２−スルホニルオキシメチルピリミジン誘導体およびその製造法Info
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- JPH07179434A JPH07179434A JP32472493A JP32472493A JPH07179434A JP H07179434 A JPH07179434 A JP H07179434A JP 32472493 A JP32472493 A JP 32472493A JP 32472493 A JP32472493 A JP 32472493A JP H07179434 A JPH07179434 A JP H07179434A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 フェノキシメチルピリミジン系除草剤の製造
中間体として有用な新規化合物の提供。 【構成】 一般式（Ｉ）で表される４，６−ジアルコキ
シ−２−スルホニルオキシメチルピリミジン誘導体およ
びその製造方法。 ［式中、Ｒは低級アルキル基、ハロゲン原子で置換され
た低級アルキル基、あるいは低級アルキル基またはハロ
ゲン原子で置換されていてもよいアラルキル基を示し、
Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立して低級アルキル基を示
す］
中間体として有用な新規化合物の提供。 【構成】 一般式（Ｉ）で表される４，６−ジアルコキ
シ−２−スルホニルオキシメチルピリミジン誘導体およ
びその製造方法。 ［式中、Ｒは低級アルキル基、ハロゲン原子で置換され
た低級アルキル基、あるいは低級アルキル基またはハロ
ゲン原子で置換されていてもよいアラルキル基を示し、
Ｑ１およびＱ２はそれぞれ独立して低級アルキル基を示
す］
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、特開平４−３２７５７
８号記載のフェノキシメチルピリミジン系除草剤の製造
中間体として有用な、４，６−ジアルコキシ−２−スル
ホニルオキシメチルピリミジン誘導体およびその製造法
に関するものである。更に詳しくは、ジアルキルプロパ
ンジイミデイト二塩酸塩誘導体と酸ハロゲン化合物、２
−アルキルカルボニルオキシメチルー４，６ージアルコ
キシピリミジン誘導体、あるいは４，６−ジアルコキシ
−２−ヒドロキシメチルピリミジン誘導体とスルホニル
クロライド類をそれぞれ合成出発原料とする４，６−ジ
アルコキシ−２−スルホニルオキシメチルピリミジン誘
導体の製造法および該誘導体に関するものである。
８号記載のフェノキシメチルピリミジン系除草剤の製造
中間体として有用な、４，６−ジアルコキシ−２−スル
ホニルオキシメチルピリミジン誘導体およびその製造法
に関するものである。更に詳しくは、ジアルキルプロパ
ンジイミデイト二塩酸塩誘導体と酸ハロゲン化合物、２
−アルキルカルボニルオキシメチルー４，６ージアルコ
キシピリミジン誘導体、あるいは４，６−ジアルコキシ
−２−ヒドロキシメチルピリミジン誘導体とスルホニル
クロライド類をそれぞれ合成出発原料とする４，６−ジ
アルコキシ−２−スルホニルオキシメチルピリミジン誘
導体の製造法および該誘導体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ケミッシュ・ベリヒテ、１０１巻、２４
２６〜２４３４頁（１９６８年）には、ジエチルプロパ
ンジイミデイト二塩酸塩とクロロアセチルクロライドと
を反応させて２−クロロメチル−４，６−ジエトキシピ
リミジンを合成する方法が記載されているが、原料の酸
ハロゲン化物としてアルキルカルボニルオキシ基で置換
された酸ハロゲン化物を用いた反応は記載されていな
い。
２６〜２４３４頁（１９６８年）には、ジエチルプロパ
ンジイミデイト二塩酸塩とクロロアセチルクロライドと
を反応させて２−クロロメチル−４，６−ジエトキシピ
リミジンを合成する方法が記載されているが、原料の酸
ハロゲン化物としてアルキルカルボニルオキシ基で置換
された酸ハロゲン化物を用いた反応は記載されていな
い。
【０００３】また、ジャーナル・オブ・ヘテロサイクリ
ック・ケミストリー、２６巻、９１３頁（１９８９年）
には、メタノール中にて２−アセトキシメチル−４，６
−ジメトキシピリミジンのアセチル基を炭酸カリウムで
加水分解することにより、４，６−ジメトキシ−２−ヒ
ドロキシメチルピリミジンを得ることができる旨記載さ
れている。しかしながら、前記文献に記載の方法には、
２−アセトキシメチル−４，６−ジメトキシピリミジン
を得るまでの工程において、ピリミジン２位メチル基の
ブロム化工程の収率が低いこと、およびその際に副生す
るジブロム体との分離にはシリカゲルクロマトグラフィ
ーを必要とすること等、工業的製造には克服すべき点が
残されている。
ック・ケミストリー、２６巻、９１３頁（１９８９年）
には、メタノール中にて２−アセトキシメチル−４，６
−ジメトキシピリミジンのアセチル基を炭酸カリウムで
加水分解することにより、４，６−ジメトキシ−２−ヒ
ドロキシメチルピリミジンを得ることができる旨記載さ
れている。しかしながら、前記文献に記載の方法には、
２−アセトキシメチル−４，６−ジメトキシピリミジン
を得るまでの工程において、ピリミジン２位メチル基の
ブロム化工程の収率が低いこと、およびその際に副生す
るジブロム体との分離にはシリカゲルクロマトグラフィ
ーを必要とすること等、工業的製造には克服すべき点が
残されている。
【０００４】一方、２−メチルスルホニルオキシメチル
ピリミジン誘導体は公知物質であるが、その詳細な合成
方法、物性データ等は明示されていない（ヨーロッパ特
許第０３５３６４０Ａ２号明細書参照）。また、その他
の２−アルキルスルホニルオキシメチル−４，６−ジア
ルコキシピリミジン誘導体および２−アラルキルスルホ
ニルオキシメチル−４，６−ジアルコキシピリミジン誘
導体は文献未記載の新規な物質であった。
ピリミジン誘導体は公知物質であるが、その詳細な合成
方法、物性データ等は明示されていない（ヨーロッパ特
許第０３５３６４０Ａ２号明細書参照）。また、その他
の２−アルキルスルホニルオキシメチル−４，６−ジア
ルコキシピリミジン誘導体および２−アラルキルスルホ
ニルオキシメチル−４，６−ジアルコキシピリミジン誘
導体は文献未記載の新規な物質であった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、フェ
ノキシメチルピリミジン系除草剤の製造中間体として有
用な、４，６−ジアルコキシ−２−スルホニルオキシメ
チルピリミジン誘導体およびその効率的な製造方法を提
供することにある。
ノキシメチルピリミジン系除草剤の製造中間体として有
用な、４，６−ジアルコキシ−２−スルホニルオキシメ
チルピリミジン誘導体およびその効率的な製造方法を提
供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決すべく鋭意研究を行った結果、４，６−ジアルコ
キシ−２−スルホニルオキシメチルピリミジン誘導体
を、合成出発原料として特定の化合物を使用して製造す
ることにより上記課題を解決できることを見いだし本発
明を完成するに至った。即ち本発明は、下記一般式
（I）：
を解決すべく鋭意研究を行った結果、４，６−ジアルコ
キシ−２−スルホニルオキシメチルピリミジン誘導体
を、合成出発原料として特定の化合物を使用して製造す
ることにより上記課題を解決できることを見いだし本発
明を完成するに至った。即ち本発明は、下記一般式
（I）：
【０００７】
【化１５】
【０００８】［式中、Ｒは低級アルキル基、ハロゲン原
子で置換された低級アルキル基、あるいは低級アルキル
基またはハロゲン原子で置換されていてもよいアラルキ
ル基を示し、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立して低級アル
キル基を示す］で表される４，６−ジアルコキシ−２−
スルホニルオキシメチルピリミジン誘導体を提供するも
のである。
子で置換された低級アルキル基、あるいは低級アルキル
基またはハロゲン原子で置換されていてもよいアラルキ
ル基を示し、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立して低級アル
キル基を示す］で表される４，６−ジアルコキシ−２−
スルホニルオキシメチルピリミジン誘導体を提供するも
のである。
【０００９】また本発明は、下記一般式（I）：
【００１０】
【化１６】
【００１１】［式中、Ｒは低級アルキル基、ハロゲン原
子で置換された低級アルキル基、あるいは低級アルキル
基またはハロゲン原子で置換されていてもよいアラルキ
ル基を示し、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立して低級アル
キル基を示す］で表される４，６−ジアルコキシ−２−
スルホニルオキシメチルピリミジン誘導体を製造するに
あたり、下記一般式（II）：
子で置換された低級アルキル基、あるいは低級アルキル
基またはハロゲン原子で置換されていてもよいアラルキ
ル基を示し、Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立して低級アル
キル基を示す］で表される４，６−ジアルコキシ−２−
スルホニルオキシメチルピリミジン誘導体を製造するに
あたり、下記一般式（II）：
【００１２】
【化１７】
【００１３】［式中、Ｑ1およびＱ2は上記と同様の意味
を示す］で表される４，６−ジアルコキシ−２−ヒドロ
キシメチルピリミジン誘導体と、下記一般式（III）：
を示す］で表される４，６−ジアルコキシ−２−ヒドロ
キシメチルピリミジン誘導体と、下記一般式（III）：
【００１４】
【化１８】
【００１５】［式中、Ｒは上記と同様の意味を示す］で
表されるスルホニルクロライド類を反応させることを特
徴とする、４，６−ジアルコキシ−２−スルホニルオキ
シメチルピリミジン誘導体の製造法を提供するものであ
る。
表されるスルホニルクロライド類を反応させることを特
徴とする、４，６−ジアルコキシ−２−スルホニルオキ
シメチルピリミジン誘導体の製造法を提供するものであ
る。
【００１６】また本発明は、前記製造法において使用さ
れる４，６−ジアルコキシ−２−ヒドロキシメチルピリ
ミジン誘導体が、下記一般式（IV）：
れる４，６−ジアルコキシ−２−ヒドロキシメチルピリ
ミジン誘導体が、下記一般式（IV）：
【００１７】
【化１９】
【００１８】［式中、Ｗは低級アルキル基を示し、Ｑ1
およびＱ2は上記と同様の意味を示す］で表される２−
アルキルカルボニルオキシメチル−４，６−ジアルコキ
シピリミジン誘導体の加水分解により製造されることに
よっても特徴付けられる、４，６−ジアルコキシ−２−
スルホニルオキシメチルピリミジン誘導体の製造法を提
供するものである。
およびＱ2は上記と同様の意味を示す］で表される２−
アルキルカルボニルオキシメチル−４，６−ジアルコキ
シピリミジン誘導体の加水分解により製造されることに
よっても特徴付けられる、４，６−ジアルコキシ−２−
スルホニルオキシメチルピリミジン誘導体の製造法を提
供するものである。
【００１９】さらに本発明は、前記製造法において使用
される２−アルキルカルボニルオキシメチル−４，６−
ジアルコキシピリミジン誘導体が、下記一般式（Ｖ）：
される２−アルキルカルボニルオキシメチル−４，６−
ジアルコキシピリミジン誘導体が、下記一般式（Ｖ）：
【００２０】
【化２０】
【００２１】［式中、Ｑ1およびＱ2は上記と同様の意味
を示す］で表されるジアルキルプロパンジイミデイト二
塩酸塩誘導体と、下記一般式（VI）：
を示す］で表されるジアルキルプロパンジイミデイト二
塩酸塩誘導体と、下記一般式（VI）：
【００２２】
【化２１】
【００２３】［式中、Ａはハロゲン原子を示し、Ｗは上
記と同様の意味を示す］で表される酸ハロゲン化物との
反応により製造されることによっても特徴付けられる、
４，６−ジアルコキシ−２−スルホニルオキシメチルピ
リミジン誘導体の製造法をも提供する。
記と同様の意味を示す］で表される酸ハロゲン化物との
反応により製造されることによっても特徴付けられる、
４，６−ジアルコキシ−２−スルホニルオキシメチルピ
リミジン誘導体の製造法をも提供する。
【００２４】
【発明の具体的説明】本明細書において用いられる「低
級」なる術語は、この語が付された基または化合物の炭
素数が６以下、特に好ましくは１〜４であることを意味
する。本明細書の一般式において定義されている基の具
体例を以下に説明する。ハロゲン原子 フッ素、塩素、臭素またはヨウ素が挙げられる。低級アルキル基 直鎖状、環状または分岐鎖状のいずれの形態であっても
よく、例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル、イ
ソプロピル、ノルマルブチル、第二ブチル、第三ブチル
基等が挙げられる。ハロゲン原子で置換された低級アルキル基 １〜３個のハロゲン原子で置換された低級アルキル基、
例えば、クロロメチル、ブロモメチル、トリフルオロメ
チルまたは２−ブロモエチル等が挙げられる。低級アルキル基またはハロゲン原子で置換されていても
よいアラルキル基 例えば、ベンジル、２−メチルベンジル、３−メチルベ
ンジル、４−メチルベンジル、２−クロロベンジル、３
−クロロベンジル、４−クロロベンジル、２−ブロモベ
ンジル、３−ブロモベンジルまたは４−ブロモベンジル
基等が挙げられる。これら例示された基は、それぞれ任
意に、あるいは一般的な常識に従って組み合わせて選択
され得るが、例えば、Ｒ、Ｑ1およびＱ2が全てメチル基
である組み合わせ、ならびにＷがメチル基であり、Ｒが
メチル、エチル、ノルマルプロピルまたはベンジル基で
あり、かつＱ1およびＱ2が共にメチルまたはエチル基で
ある組み合わせが、特に好ましい。
級」なる術語は、この語が付された基または化合物の炭
素数が６以下、特に好ましくは１〜４であることを意味
する。本明細書の一般式において定義されている基の具
体例を以下に説明する。ハロゲン原子 フッ素、塩素、臭素またはヨウ素が挙げられる。低級アルキル基 直鎖状、環状または分岐鎖状のいずれの形態であっても
よく、例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル、イ
ソプロピル、ノルマルブチル、第二ブチル、第三ブチル
基等が挙げられる。ハロゲン原子で置換された低級アルキル基 １〜３個のハロゲン原子で置換された低級アルキル基、
例えば、クロロメチル、ブロモメチル、トリフルオロメ
チルまたは２−ブロモエチル等が挙げられる。低級アルキル基またはハロゲン原子で置換されていても
よいアラルキル基 例えば、ベンジル、２−メチルベンジル、３−メチルベ
ンジル、４−メチルベンジル、２−クロロベンジル、３
−クロロベンジル、４−クロロベンジル、２−ブロモベ
ンジル、３−ブロモベンジルまたは４−ブロモベンジル
基等が挙げられる。これら例示された基は、それぞれ任
意に、あるいは一般的な常識に従って組み合わせて選択
され得るが、例えば、Ｒ、Ｑ1およびＱ2が全てメチル基
である組み合わせ、ならびにＷがメチル基であり、Ｒが
メチル、エチル、ノルマルプロピルまたはベンジル基で
あり、かつＱ1およびＱ2が共にメチルまたはエチル基で
ある組み合わせが、特に好ましい。
【００２５】本発明による製造法は、ジアルキルプロパ
ンジイミデイト二塩酸塩誘導体と酸ハロゲン化物との反
応により２−アルキルカルボニルオキシメチル−４，６
−ジアルコキシピリミジン誘導体を製造する第１工程、
２−アルキルカルボニルオキシメチル−４，６−ジアル
コキシピリミジン誘導体の加水分解により４，６−ジア
ルコキシ−２−ヒドロキシメチルピリミジン誘導体を製
造する第２工程、および４，６−ジアルコキシ−２−ヒ
ドロキシメチルピリミジン誘導体とスルホニルクロライ
ド類との反応により４，６−ジアルコキシ−２−スルホ
ニルオキシメチルピリミジン誘導体を製造する第３工程
とに分けることができる。
ンジイミデイト二塩酸塩誘導体と酸ハロゲン化物との反
応により２−アルキルカルボニルオキシメチル−４，６
−ジアルコキシピリミジン誘導体を製造する第１工程、
２−アルキルカルボニルオキシメチル−４，６−ジアル
コキシピリミジン誘導体の加水分解により４，６−ジア
ルコキシ−２−ヒドロキシメチルピリミジン誘導体を製
造する第２工程、および４，６−ジアルコキシ−２−ヒ
ドロキシメチルピリミジン誘導体とスルホニルクロライ
ド類との反応により４，６−ジアルコキシ−２−スルホ
ニルオキシメチルピリミジン誘導体を製造する第３工程
とに分けることができる。
【００２６】本発明の第１工程には、必要に応じて適当
な塩基および溶媒を用いることができる。使用される塩
基としては、例えば、エチルジイソプロピルアミン、ト
リエチルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジ
ン、ジアザビシクロウンデセン等の有機塩基；炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類；水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム等の水素化アルカリ金属類；あるい
はナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート等の金
属アルコラート類等を挙げることができる。塩基の使用
量は、特に制限されるものではなく種々の反応条件によ
り変わり得るが、例えば一般式（Ｖ）で表される化合物
１当量に対して３〜１０当量の範囲内の塩基を用いるこ
とが好ましい。また上記塩基は、第３工程においても使
用することができる。
な塩基および溶媒を用いることができる。使用される塩
基としては、例えば、エチルジイソプロピルアミン、ト
リエチルアミン、Ｎ,Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジ
ン、ジアザビシクロウンデセン等の有機塩基；炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム等の炭酸塩類；水素化ナトリウ
ム、水素化カリウム等の水素化アルカリ金属類；あるい
はナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート等の金
属アルコラート類等を挙げることができる。塩基の使用
量は、特に制限されるものではなく種々の反応条件によ
り変わり得るが、例えば一般式（Ｖ）で表される化合物
１当量に対して３〜１０当量の範囲内の塩基を用いるこ
とが好ましい。また上記塩基は、第３工程においても使
用することができる。
【００２７】第１工程において使用される溶媒として
は、本反応に対して実質的に不活性なものであれば特に
制限はないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム
等のハロゲン化炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、１,４−
ジオキサン等のエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；酢酸メチル、酢酸
エチル等のエステル系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等の非プロ
トン性極性溶媒等を挙げることができ、これらの溶媒
は、第２工程および第３工程においても使用することが
できる。溶媒の量も特に制限されるものではないが、本
工程においては、一般式（Ｖ）で表される化合物１ｇ当
たり１〜１００ｍｌの範囲の溶媒を用いることが好まし
い。第１工程の反応の際の圧力には特に制限はないが、
通常は常圧下で行われる。また、反応の際の温度にも特
に制限はないが、例えば、−７８℃から溶媒の沸点の温
度範囲で反応を行うことができる。反応時間は、反応条
件により異なるが、一般的には１〜２４時間の反応時間
で目的化合物である２−アルキルカルボニルオキシメチ
ル−４,６−ジアルコキシピリミジン誘導体を得ること
ができる。
は、本反応に対して実質的に不活性なものであれば特に
制限はないが、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム
等のハロゲン化炭化水素系溶媒；ジエチルエーテル、ジ
イソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、１,４−
ジオキサン等のエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン、
キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；酢酸メチル、酢酸
エチル等のエステル系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジ
メチルスルホキシド、ジメチルアセトアミド等の非プロ
トン性極性溶媒等を挙げることができ、これらの溶媒
は、第２工程および第３工程においても使用することが
できる。溶媒の量も特に制限されるものではないが、本
工程においては、一般式（Ｖ）で表される化合物１ｇ当
たり１〜１００ｍｌの範囲の溶媒を用いることが好まし
い。第１工程の反応の際の圧力には特に制限はないが、
通常は常圧下で行われる。また、反応の際の温度にも特
に制限はないが、例えば、−７８℃から溶媒の沸点の温
度範囲で反応を行うことができる。反応時間は、反応条
件により異なるが、一般的には１〜２４時間の反応時間
で目的化合物である２−アルキルカルボニルオキシメチ
ル−４,６−ジアルコキシピリミジン誘導体を得ること
ができる。
【００２８】本発明の第２工程における反応には、第１
工程に記載の溶媒の他に、メタノール、エタノールまた
はｎ−ブタノール等のアルコール系溶媒を使用すること
ができ、アルコール系以外の溶媒を使用する際にはアル
コール系溶媒との混合溶媒も用いることができる。ま
た、アルコール系溶媒を使用する際には、アルコールの
炭化水素部分は一般式（II）で表される目的化合物のＱ
1および／またはＱ2部分と同一の炭化水素が選択される
ことが望ましい。溶媒の量には特に制限はないが、一般
式（IV）で表される化合物１ｇあたり１〜１００ｍｌが
適当である。第２工程の反応の際の圧力には特に制限は
ないが、常圧から２００kg/cm2の範囲で行われる。ま
た、反応の際の温度にも特に制限はないが、反応液の凝
固点から３００℃の範囲で行うことができる。反応時間
は、反応条件により異なるが、通常、１時間から２４時
間の反応時間で目的の４，６−ジアルコキシ−２−ヒド
ロキシメチルピリミジン誘導体を得ることができる。
工程に記載の溶媒の他に、メタノール、エタノールまた
はｎ−ブタノール等のアルコール系溶媒を使用すること
ができ、アルコール系以外の溶媒を使用する際にはアル
コール系溶媒との混合溶媒も用いることができる。ま
た、アルコール系溶媒を使用する際には、アルコールの
炭化水素部分は一般式（II）で表される目的化合物のＱ
1および／またはＱ2部分と同一の炭化水素が選択される
ことが望ましい。溶媒の量には特に制限はないが、一般
式（IV）で表される化合物１ｇあたり１〜１００ｍｌが
適当である。第２工程の反応の際の圧力には特に制限は
ないが、常圧から２００kg/cm2の範囲で行われる。ま
た、反応の際の温度にも特に制限はないが、反応液の凝
固点から３００℃の範囲で行うことができる。反応時間
は、反応条件により異なるが、通常、１時間から２４時
間の反応時間で目的の４，６−ジアルコキシ−２−ヒド
ロキシメチルピリミジン誘導体を得ることができる。
【００２９】本発明の第３工程には、必要に応じて第１
工程に記載の塩基、第１工程に記載の溶媒および活性化
剤が用いられる。使用される活性化剤としては、例え
ば、４―ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。使用
される活性化剤の量としては、一般式（II）で表される
化合物１当量に対して０.０１〜１０当量、特に０.１〜
１当量の範囲内で用いられるのが好都合である。塩基の
使用量にも特に制限は無いが、一般式（II）で表される
化合物１当量に対して１〜１００当量、特に１〜３当量
の範囲内で用いられることが好都合である。また、使用
される溶媒の量に特に制限は無いが、一般式（II）で表
される化合物１ｇ当たり１〜１００ｍｌが適当である。
第３工程の圧力に特に制限はないが、通常は常圧から２
００kg/cm2の範囲で行われる。反応温度についても特に
制限は無く、反応液の凝固点から溶媒沸点の範囲で行う
ことができる。反応時間は、反応条件によって異なる
が、１時間から２４時間の反応時間で目的の４，６−ジ
アルコキシ−２−スルホニルオキシメチルピリミジン誘
導体を得ることができる。各工程における反応の終了
後、それぞれの目的化合物は、有機溶媒で抽出し、有機
層の濃縮残差を蒸留、再結晶、またはシリカゲルカラム
クロマトグラフィー等の手段で精製することにより単離
することができる。
工程に記載の塩基、第１工程に記載の溶媒および活性化
剤が用いられる。使用される活性化剤としては、例え
ば、４―ジメチルアミノピリジン等が挙げられる。使用
される活性化剤の量としては、一般式（II）で表される
化合物１当量に対して０.０１〜１０当量、特に０.１〜
１当量の範囲内で用いられるのが好都合である。塩基の
使用量にも特に制限は無いが、一般式（II）で表される
化合物１当量に対して１〜１００当量、特に１〜３当量
の範囲内で用いられることが好都合である。また、使用
される溶媒の量に特に制限は無いが、一般式（II）で表
される化合物１ｇ当たり１〜１００ｍｌが適当である。
第３工程の圧力に特に制限はないが、通常は常圧から２
００kg/cm2の範囲で行われる。反応温度についても特に
制限は無く、反応液の凝固点から溶媒沸点の範囲で行う
ことができる。反応時間は、反応条件によって異なる
が、１時間から２４時間の反応時間で目的の４，６−ジ
アルコキシ−２−スルホニルオキシメチルピリミジン誘
導体を得ることができる。各工程における反応の終了
後、それぞれの目的化合物は、有機溶媒で抽出し、有機
層の濃縮残差を蒸留、再結晶、またはシリカゲルカラム
クロマトグラフィー等の手段で精製することにより単離
することができる。
【００３０】このようにして得られた４，６−ジアルコ
キシ−２−スルホニルオキシメチルピリミジン誘導体
は、前記特開平４−３２７５７８号公報に記載の方法に
従い、無溶媒または適当な溶媒の存在下に適当な塩基を
用い、下記一般式（VII）で表されるサリチル酸誘導体
と−７８℃ないし溶媒の沸点の温度範囲で反応させるこ
とにより、下記一般式（VIII）で表される、除草活性を
有するフェノキシメチルピリミジン誘導体へ導くことが
できる。上述したこれらの反応を以下に示す。
キシ−２−スルホニルオキシメチルピリミジン誘導体
は、前記特開平４−３２７５７８号公報に記載の方法に
従い、無溶媒または適当な溶媒の存在下に適当な塩基を
用い、下記一般式（VII）で表されるサリチル酸誘導体
と−７８℃ないし溶媒の沸点の温度範囲で反応させるこ
とにより、下記一般式（VIII）で表される、除草活性を
有するフェノキシメチルピリミジン誘導体へ導くことが
できる。上述したこれらの反応を以下に示す。
【００３１】
【化２２】
【００３２】［式中、Ｘはハロゲン原子、低級アルキル
基、低級アルコキシ基、低級アシルオキシ基またはニト
ロ基を示し、ｎは０、１または２を示し、Ｙは水素原
子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニ
ル基、置換低級アルキル基、置換低級アルケニル基、置
換低級アルキニル基、アルカリ金属原子またはアルカリ
土類金属原子、あるいはアルキル基で置換されていても
よいアンモニウムカチオンを示し、Ｒ、Ｑ1およびＱ2は
上記と同じ意味を示す］。以下実施例により本発明をさ
らに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により
些かも制限されるものではない。
基、低級アルコキシ基、低級アシルオキシ基またはニト
ロ基を示し、ｎは０、１または２を示し、Ｙは水素原
子、低級アルキル基、低級アルケニル基、低級アルキニ
ル基、置換低級アルキル基、置換低級アルケニル基、置
換低級アルキニル基、アルカリ金属原子またはアルカリ
土類金属原子、あるいはアルキル基で置換されていても
よいアンモニウムカチオンを示し、Ｒ、Ｑ1およびＱ2は
上記と同じ意味を示す］。以下実施例により本発明をさ
らに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例により
些かも制限されるものではない。
【００３３】
実施例１（１） ２−アセトキシメチル−４，６−ジメトキシピ
リミジンの合成 ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテ
ィー、７１巻、４０〜４６頁（１９４９年）に記載の方
法に従い製造したジメチルプロパンジイミデイト二塩酸
塩 １.０１ｇ（５ mmol）をジクロロメタン ４ｍｌに懸
濁させ、この懸濁液を−３５℃に冷却し、エチルジイソ
プロピルアミン ３.０５ｍｌ（１７.９mmol）を添加し
た。液を−４５〜−３５℃にて１５分間撹拌した後、ア
セトキシアセチルクロライド ０.５４ｍｌ（５.０５ mm
ol）を添加し、次いで、−４５〜−３５℃にて１時間撹
拌し、その後室温にて４時間撹拌した。反応溶液を８ｍ
ｌの冷水に注いだ後、ジクロロメタンで抽出し、抽出し
た有機層を飽和食塩水で洗浄した。次に、これを硫酸マ
グネシウムを用いて乾燥させて溶媒を留去した。得られ
た濃縮残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展
開溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝７：１）で精製し、目的
化合物である２−アセトキシメチル−４,６−ジメトキ
シピリミジン ５２０ｍｇ（収率４９％）を得た。 ［1Ｈ-ＮＭＲ（δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：２.２１(３Ｈ,
ｓ)、３.９２(６Ｈ,ｓ)、５.１２(２Ｈ,ｓ)、５.９２(１
Ｈ,ｓ)］
リミジンの合成 ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテ
ィー、７１巻、４０〜４６頁（１９４９年）に記載の方
法に従い製造したジメチルプロパンジイミデイト二塩酸
塩 １.０１ｇ（５ mmol）をジクロロメタン ４ｍｌに懸
濁させ、この懸濁液を−３５℃に冷却し、エチルジイソ
プロピルアミン ３.０５ｍｌ（１７.９mmol）を添加し
た。液を−４５〜−３５℃にて１５分間撹拌した後、ア
セトキシアセチルクロライド ０.５４ｍｌ（５.０５ mm
ol）を添加し、次いで、−４５〜−３５℃にて１時間撹
拌し、その後室温にて４時間撹拌した。反応溶液を８ｍ
ｌの冷水に注いだ後、ジクロロメタンで抽出し、抽出し
た有機層を飽和食塩水で洗浄した。次に、これを硫酸マ
グネシウムを用いて乾燥させて溶媒を留去した。得られ
た濃縮残査をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展
開溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝７：１）で精製し、目的
化合物である２−アセトキシメチル−４,６−ジメトキ
シピリミジン ５２０ｍｇ（収率４９％）を得た。 ［1Ｈ-ＮＭＲ（δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：２.２１(３Ｈ,
ｓ)、３.９２(６Ｈ,ｓ)、５.１２(２Ｈ,ｓ)、５.９２(１
Ｈ,ｓ)］
【００３４】（２） ４，６−ジメトキシ−２−ヒドロ
キシルメチルピリミジンの合成 上記（１）と同様の方法にて合成した２−アセトキシメ
チル−４，６−ジメトキシピリミジン２００ｍｇ（０.
９ mmol）を、ジャーナル・オブ・ヘテロサイクリック
・ケミストリー、２６巻、９１３頁(１９８９年)に記載
の方法に従い、メタノール １０ｍｌに溶解した後炭酸
カリウム １３８ｍｇを添加し、室温で４時間撹拌し
た。その後メタノールを減圧下留去し、残渣をクロロホ
ルム １５ｍｌに溶解した。硫酸マグネシウムを用いて
乾燥させ、クロロホルムを減圧下留去し７て粗結晶を得
た。この粗結晶をメタノールで再結晶して、目的化合物
である４，６−ジメトキシ−２−ヒドロキシルメチルピ
リミジン １３０ｍｇ（収率８５％）を得た。 ［1Ｈ−ＮＭＲ(δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：３.９６(６Ｈ,
ｓ)、４.６４(２Ｈ,ｓ)、５.９４(１Ｈ,ｓ)］
キシルメチルピリミジンの合成 上記（１）と同様の方法にて合成した２−アセトキシメ
チル−４，６−ジメトキシピリミジン２００ｍｇ（０.
９ mmol）を、ジャーナル・オブ・ヘテロサイクリック
・ケミストリー、２６巻、９１３頁(１９８９年)に記載
の方法に従い、メタノール １０ｍｌに溶解した後炭酸
カリウム １３８ｍｇを添加し、室温で４時間撹拌し
た。その後メタノールを減圧下留去し、残渣をクロロホ
ルム １５ｍｌに溶解した。硫酸マグネシウムを用いて
乾燥させ、クロロホルムを減圧下留去し７て粗結晶を得
た。この粗結晶をメタノールで再結晶して、目的化合物
である４，６−ジメトキシ−２−ヒドロキシルメチルピ
リミジン １３０ｍｇ（収率８５％）を得た。 ［1Ｈ−ＮＭＲ(δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：３.９６(６Ｈ,
ｓ)、４.６４(２Ｈ,ｓ)、５.９４(１Ｈ,ｓ)］
【００３５】（３） ４，６ジメトキシ−２−メチルス
ルホニルオキシメチルピリミジンの合成 上記（２）と同様の方法により製造した４，６−ジメト
キシ−２−ヒドロキシルメチルピリミジン ３４０ｍｇ
（２ mmol）をジクロロメタン １５ｍｌに溶解し、トリ
エチルアミン ２４３ｍｇ（２.４ mmol）と、メタンス
ルホニルクロライド ２４０ｍｇ（２.１ mmol）を加
え、室温で８時間撹拌した。反応後、反応溶液を ２０
ｍｌの飽和食塩水に注ぎ、ジクロロメタン ３０ｍｌで
３回抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶
媒を留去し、濃縮残査をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で
精製し、目的化合物である４，６ジメトキシ−２−メチ
ルスルホニルオキシメチルピリミジン ４００ｍｇ（収
率８１％）を得た。 ［1Ｈ−ＮＭＲ(δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：３.２１(３Ｈ,
ｓ)、３.９６(６Ｈ,ｓ)、５.２４(２Ｈ,ｓ)、６.００(１
Ｈ,ｓ) 融点：７７．７〜７８．８℃］
ルホニルオキシメチルピリミジンの合成 上記（２）と同様の方法により製造した４，６−ジメト
キシ−２−ヒドロキシルメチルピリミジン ３４０ｍｇ
（２ mmol）をジクロロメタン １５ｍｌに溶解し、トリ
エチルアミン ２４３ｍｇ（２.４ mmol）と、メタンス
ルホニルクロライド ２４０ｍｇ（２.１ mmol）を加
え、室温で８時間撹拌した。反応後、反応溶液を ２０
ｍｌの飽和食塩水に注ぎ、ジクロロメタン ３０ｍｌで
３回抽出した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶
媒を留去し、濃縮残査をシリカゲルカラムクロマトグラ
フィー（展開溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）で
精製し、目的化合物である４，６ジメトキシ−２−メチ
ルスルホニルオキシメチルピリミジン ４００ｍｇ（収
率８１％）を得た。 ［1Ｈ−ＮＭＲ(δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：３.２１(３Ｈ,
ｓ)、３.９６(６Ｈ,ｓ)、５.２４(２Ｈ,ｓ)、６.００(１
Ｈ,ｓ) 融点：７７．７〜７８．８℃］
【００３６】実施例２（１） ２−アセトキシメチル−４，６−ジエトキシピ
リミジンの合成 ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテ
ィー、７１巻、４０〜４６頁（１９４９年）に記載の方
法に従い製造したジエチルプロパンジイミデイト二塩酸
塩 １.１５ｇ（５ mmol）をジクロロメタン ４ｍｌに懸
濁させ、この懸濁液を−３５℃に冷却し、エチルジイソ
プロピルアミン ３.０５ｍｌ（１７.９mmol）を添加し
た。−４５〜−３５℃にて１５分間撹拌した後、アセト
キシアセチルクロライド ０.５４ｍｌ（５.０５ mmol）
を添加し、次いで−４５〜−３５℃で１時間撹拌し、そ
の後室温で４時間撹拌した。反応溶液を８ｍｌの冷水に
注いだ後、ジクロロメタンで抽出し、抽出した有機層を
飽和食塩水で洗浄した。次に、これを硫酸マグネシウム
を用いて乾燥させて溶媒を留去した。得られた濃縮残査
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ヘキ
サン：酢酸エチル＝７：１）で精製し、目的化合物であ
る２−アセトキシメチル−４,６−ジエトキシピリミジ
ン ７８０ｍｇ（収率６５％）を得た。 ［1Ｈ−ＮＭＲ(δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：１.３７(６Ｈ,
ｔ,Ｊ＝６Ｈｚ)、２.１９(３Ｈ,ｓ)、４.３３(４Ｈ,ｑ,
Ｊ＝６Ｈｚ)、５.０９(２Ｈ,ｓ)、５.８７(１Ｈ,ｓ)］
リミジンの合成 ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエテ
ィー、７１巻、４０〜４６頁（１９４９年）に記載の方
法に従い製造したジエチルプロパンジイミデイト二塩酸
塩 １.１５ｇ（５ mmol）をジクロロメタン ４ｍｌに懸
濁させ、この懸濁液を−３５℃に冷却し、エチルジイソ
プロピルアミン ３.０５ｍｌ（１７.９mmol）を添加し
た。−４５〜−３５℃にて１５分間撹拌した後、アセト
キシアセチルクロライド ０.５４ｍｌ（５.０５ mmol）
を添加し、次いで−４５〜−３５℃で１時間撹拌し、そ
の後室温で４時間撹拌した。反応溶液を８ｍｌの冷水に
注いだ後、ジクロロメタンで抽出し、抽出した有機層を
飽和食塩水で洗浄した。次に、これを硫酸マグネシウム
を用いて乾燥させて溶媒を留去した。得られた濃縮残査
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ヘキ
サン：酢酸エチル＝７：１）で精製し、目的化合物であ
る２−アセトキシメチル−４,６−ジエトキシピリミジ
ン ７８０ｍｇ（収率６５％）を得た。 ［1Ｈ−ＮＭＲ(δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：１.３７(６Ｈ,
ｔ,Ｊ＝６Ｈｚ)、２.１９(３Ｈ,ｓ)、４.３３(４Ｈ,ｑ,
Ｊ＝６Ｈｚ)、５.０９(２Ｈ,ｓ)、５.８７(１Ｈ,ｓ)］
【００３７】（２） ４，６−ジエトキシ−２−ヒドロ
キシメチルピリミジンの合成 上記（１）と同様の方法にて合成した２−アセトキシメ
チル−４，６−ジエトキシピリミジン ５００ｍｇ（２.
０８ mmol）をメタノール １０ｍｌに溶解し、２８％ソ
ディウムメトキサイド ４ｍｇを添加し、室温で５時間
撹拌した。その後反応液を飽和食塩水 ２０ｍｌにあ
け、エーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し
た後、硫酸マグネシウムを用いて乾燥させ、エーテルを
減圧留去して目的化合物である４，６−ジエトキシ−２
−ヒドロキシルメチルピリミジン２９０ｍｇ（収率７０
％）を得た。 ［1Ｈ−ＮＭＲ(δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：１.３９(６Ｈ,
ｔ,Ｊ＝６Ｈｚ)、３.１８(３Ｈ,ｓ)、４.３５(４Ｈ,ｑ,
Ｊ＝６Ｈｚ)、５.２１(２Ｈ,ｓ)、５.９４(１Ｈ,ｓ)］
キシメチルピリミジンの合成 上記（１）と同様の方法にて合成した２−アセトキシメ
チル−４，６−ジエトキシピリミジン ５００ｍｇ（２.
０８ mmol）をメタノール １０ｍｌに溶解し、２８％ソ
ディウムメトキサイド ４ｍｇを添加し、室温で５時間
撹拌した。その後反応液を飽和食塩水 ２０ｍｌにあ
け、エーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し
た後、硫酸マグネシウムを用いて乾燥させ、エーテルを
減圧留去して目的化合物である４，６−ジエトキシ−２
−ヒドロキシルメチルピリミジン２９０ｍｇ（収率７０
％）を得た。 ［1Ｈ−ＮＭＲ(δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：１.３９(６Ｈ,
ｔ,Ｊ＝６Ｈｚ)、３.１８(３Ｈ,ｓ)、４.３５(４Ｈ,ｑ,
Ｊ＝６Ｈｚ)、５.２１(２Ｈ,ｓ)、５.９４(１Ｈ,ｓ)］
【００３８】（３） ４，６ジエトキシ−２−メチルス
ルホニルオキシメチルピリミジンの合成 上記（２）と同様の方法にて合成した４，６−ジエトキ
シ−２−ヒドロキシメチルピリミジン １１０ｍｇ（０.
５６ mmol）をジクロロメタン ８ｍｌに溶解し、トリエ
チルアミン ７０ｍｇ（０.６９ mmol）と、メタンスル
ホニルクロライド ７０ｍｇ（０.５９ mmol）を加え、
−５℃で３時間撹拌した後、室温で２時間撹拌した。そ
の後、反応溶液を １０ｍｌの飽和食塩水に注ぎ、ジク
ロロメタン ２０ｍｌで３回抽出した。有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、濃縮残査をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ヘキサン：酢
酸エチル＝１０：１）で精製し、目的化合物である４，
６−ジエトキシ−２−メチルスルホニルオキシメチルピ
リミジン ７０ｍｇ（収率４５％）を得た。 ［1Ｈ−ＮＭＲ(δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：１.３９(６Ｈ,
ｔ,Ｊ＝６Ｈｚ)、３.１８(３Ｈ,ｓ)、４.３７(４Ｈ,ｑ,
Ｊ＝６Ｈｚ)、５.２１(２Ｈ,ｓ)、５.９４(１Ｈ,ｓ)］
ルホニルオキシメチルピリミジンの合成 上記（２）と同様の方法にて合成した４，６−ジエトキ
シ−２−ヒドロキシメチルピリミジン １１０ｍｇ（０.
５６ mmol）をジクロロメタン ８ｍｌに溶解し、トリエ
チルアミン ７０ｍｇ（０.６９ mmol）と、メタンスル
ホニルクロライド ７０ｍｇ（０.５９ mmol）を加え、
−５℃で３時間撹拌した後、室温で２時間撹拌した。そ
の後、反応溶液を １０ｍｌの飽和食塩水に注ぎ、ジク
ロロメタン ２０ｍｌで３回抽出した。有機層を硫酸マ
グネシウムで乾燥し、溶媒を留去し、濃縮残査をシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（展開溶媒ヘキサン：酢
酸エチル＝１０：１）で精製し、目的化合物である４，
６−ジエトキシ−２−メチルスルホニルオキシメチルピ
リミジン ７０ｍｇ（収率４５％）を得た。 ［1Ｈ−ＮＭＲ(δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：１.３９(６Ｈ,
ｔ,Ｊ＝６Ｈｚ)、３.１８(３Ｈ,ｓ)、４.３７(４Ｈ,ｑ,
Ｊ＝６Ｈｚ)、５.２１(２Ｈ,ｓ)、５.９４(１Ｈ,ｓ)］
【００３９】実施例３：４，６−ジメトキシ−２−エタンスルホニルオキシメチ
ルピリミジンの合成 前記実施例１（２）と同様の方法にて合成した４，６ー
ジメトキシ−２−ヒドロキシルメチルピリミジン ０.９
ｇ（５.３ mmol）をジクロロメタン ５０ｍｌに溶解
し、これにトリエチルアミン ０.５６ｇ（５.５ mmol）
とエタンスルホニルクロライド ０.７２ｇ（５.６ mmo
l）を添加して室温で一晩撹拌した。その後反応溶液を
飽和食塩水 ５５ｍｌに注ぎ、ジクロロメタン ２０ｍｌ
で３回抽出した。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾
燥させ、溶媒を留去し、濃縮残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１
０：１）で精製し、目的化合物である２−エタンスルホ
ニルオキシメチル−４，６−ジメトキシピリミジン ０.
６１ｇ（収率４４％）を得た。 ［1Ｈ−ＮＭＲ(δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：１.４８(３Ｈ,
ｔ,Ｊ＝６Ｈｚ)、３.２９(２Ｈ,ｑ,Ｊ＝６Ｈｚ)、３.９
３(６Ｈ,ｓ)、５.１９(２Ｈ,ｓ)、５.９７(１Ｈ,ｓ)］
ルピリミジンの合成 前記実施例１（２）と同様の方法にて合成した４，６ー
ジメトキシ−２−ヒドロキシルメチルピリミジン ０.９
ｇ（５.３ mmol）をジクロロメタン ５０ｍｌに溶解
し、これにトリエチルアミン ０.５６ｇ（５.５ mmol）
とエタンスルホニルクロライド ０.７２ｇ（５.６ mmo
l）を添加して室温で一晩撹拌した。その後反応溶液を
飽和食塩水 ５５ｍｌに注ぎ、ジクロロメタン ２０ｍｌ
で３回抽出した。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾
燥させ、溶媒を留去し、濃縮残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー（展開溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１
０：１）で精製し、目的化合物である２−エタンスルホ
ニルオキシメチル−４，６−ジメトキシピリミジン ０.
６１ｇ（収率４４％）を得た。 ［1Ｈ−ＮＭＲ(δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：１.４８(３Ｈ,
ｔ,Ｊ＝６Ｈｚ)、３.２９(２Ｈ,ｑ,Ｊ＝６Ｈｚ)、３.９
３(６Ｈ,ｓ)、５.１９(２Ｈ,ｓ)、５.９７(１Ｈ,ｓ)］
【００４０】実施例４：４，６−ジメトキシ−２−ノルマルプロピルスルホニル
オキシメチルピリミジンの合成 前記実施例１（２）と同様の方法で合成した４，６−ジ
メトキシ−２−ヒドロキシルメチルピリミジン ０.９ｇ
（５.３ mmol）をジクロロメタン ５０ｍｌに溶解し、
これにトリエチルアミン ０.５６ｇ（５.５ mmol）とノ
ルマルプロピルスルホニルクロライド ０.８ｇ（５.６
mmol）を添加して室温で一晩撹拌した。その後、反応溶
液を飽和食塩水 ５５ｍｌに注ぎ、ジクロロメタン ２０
ｍｌで３回抽出した。有機層を硫酸マグネシウムを用い
て乾燥させ、溶媒を留去し、濃縮残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒ヘキサン：酢酸エチル
＝１０：１）で精製し、目的化合物である４，６−ジメ
トキシ−２−ノルマルプロピルスルホニルオキシメチル
ピリミジン ０.７３ｇ（収率５０％）を得た。 ［1Ｈ−ＮＭＲ(δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：１.０８(３Ｈ,
ｔ,Ｊ＝６Ｈｚ)、１.９１〜２.０４(２Ｈ,ｍ)、３.２３
〜３.２８(２Ｈ,ｍ)、３.９４(６Ｈ,ｓ)、５.１９(２
Ｈ,ｓ)、５.９８(１Ｈ,ｓ)］
オキシメチルピリミジンの合成 前記実施例１（２）と同様の方法で合成した４，６−ジ
メトキシ−２−ヒドロキシルメチルピリミジン ０.９ｇ
（５.３ mmol）をジクロロメタン ５０ｍｌに溶解し、
これにトリエチルアミン ０.５６ｇ（５.５ mmol）とノ
ルマルプロピルスルホニルクロライド ０.８ｇ（５.６
mmol）を添加して室温で一晩撹拌した。その後、反応溶
液を飽和食塩水 ５５ｍｌに注ぎ、ジクロロメタン ２０
ｍｌで３回抽出した。有機層を硫酸マグネシウムを用い
て乾燥させ、溶媒を留去し、濃縮残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（展開溶媒ヘキサン：酢酸エチル
＝１０：１）で精製し、目的化合物である４，６−ジメ
トキシ−２−ノルマルプロピルスルホニルオキシメチル
ピリミジン ０.７３ｇ（収率５０％）を得た。 ［1Ｈ−ＮＭＲ(δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：１.０８(３Ｈ,
ｔ,Ｊ＝６Ｈｚ)、１.９１〜２.０４(２Ｈ,ｍ)、３.２３
〜３.２８(２Ｈ,ｍ)、３.９４(６Ｈ,ｓ)、５.１９(２
Ｈ,ｓ)、５.９８(１Ｈ,ｓ)］
【００４１】実施例５：２−ベンジルスルホニルオキシメチル−４，６−ジメト
キシピリミジンの合成 前記実施例１（２）と同様の方法で合成した４，６−ジ
メトキシ−２−ヒドロキシルメチルピリミジン ０.９ｇ
（５.３ mmol）をジクロロメタン ５０ｍｌに溶解し、
これにトリエチルアミン ０.５６ｇ（５.５ mmol）とベ
ンジルスルホニルクロライド １.０７ｇ（５.６ mmol）
を添加して室温で一晩撹拌した。その後反応溶液を飽和
食塩水 ５５ｍｌに注ぎ、ジクロロメタン ２０ｍｌで３
回抽出した。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥さ
せ、溶媒を留去し、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１０：
１）で精製し、目的化合物である２−ベンジルスルホニ
ルオキシメチル−４，６−ジメトキシピリミジン ０.４
５ｇ（収率２８％）を得た。 ［1Ｈ−ＮＭＲ(δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：３.９４(６Ｈ,
ｓ)、４.５４(２Ｈ,ｓ)、５.０６(２Ｈ,ｓ)、５.９７(１
Ｈ,ｓ)、７.３８〜７.４７(５Ｈ,ｍ)］
キシピリミジンの合成 前記実施例１（２）と同様の方法で合成した４，６−ジ
メトキシ−２−ヒドロキシルメチルピリミジン ０.９ｇ
（５.３ mmol）をジクロロメタン ５０ｍｌに溶解し、
これにトリエチルアミン ０.５６ｇ（５.５ mmol）とベ
ンジルスルホニルクロライド １.０７ｇ（５.６ mmol）
を添加して室温で一晩撹拌した。その後反応溶液を飽和
食塩水 ５５ｍｌに注ぎ、ジクロロメタン ２０ｍｌで３
回抽出した。有機層を硫酸マグネシウムを用いて乾燥さ
せ、溶媒を留去し、濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（展開溶媒ヘキサン：酢酸エチル＝１０：
１）で精製し、目的化合物である２−ベンジルスルホニ
ルオキシメチル−４，６−ジメトキシピリミジン ０.４
５ｇ（収率２８％）を得た。 ［1Ｈ−ＮＭＲ(δ,ＣＤＣｌ3)；ｐｐｍ：３.９４(６Ｈ,
ｓ)、４.５４(２Ｈ,ｓ)、５.０６(２Ｈ,ｓ)、５.９７(１
Ｈ,ｓ)、７.３８〜７.４７(５Ｈ,ｍ)］
【００４２】
【発明の効果】本発明により、フェノキシメチルピリミ
ジン系除草剤の製造中間体として有用な、新規な４，６
−ジアルコキシ−２−スルホニルオキシメチルピリミジ
ン誘導体およびその効率的な製造法が提供される。
ジン系除草剤の製造中間体として有用な、新規な４，６
−ジアルコキシ−２−スルホニルオキシメチルピリミジ
ン誘導体およびその効率的な製造法が提供される。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 郷 敦 茨城県稲敷郡阿見町中央８丁目３番１号 三菱油化株式会社筑波総合研究所内
Claims (4)
- 【請求項１】 下記一般式（I）： 【化１】 ［式中、Ｒは低級アルキル基、ハロゲン原子で置換され
た低級アルキル基、あるいは低級アルキル基またはハロ
ゲン原子で置換されていてもよいアラルキル基を示し、
Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立して低級アルキル基を示
す］で表される４，６−ジアルコキシ−２−スルホニル
オキシメチルピリミジン誘導体。 - 【請求項２】 下記一般式（I）： 【化２】 ［式中、Ｒは低級アルキル基、ハロゲン原子で置換され
た低級アルキル基、あるいは低級アルキル基またはハロ
ゲン原子で置換されていてもよいアラルキル基を示し、
Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立して低級アルキル基を示
す］で表される４，６−ジアルコキシ−２−スルホニル
オキシメチルピリミジン誘導体を製造するにあたり、下
記一般式（II）： 【化３】 ［式中、Ｑ1およびＱ2は上記と同様の意味を示す］で表
される４，６−ジアルコキシ−２−ヒドロキシメチルピ
リミジン誘導体と、下記一般式（III）： 【化４】 ［式中、Ｒは上記と同様の意味を示す］で表されるスル
ホニルクロライド類を反応させることを特徴とする、
４，６−ジアルコキシ−２−スルホニルオキシメチルピ
リミジン誘導体の製造法。 - 【請求項３】 下記一般式（I）： 【化５】 ［式中、Ｒは低級アルキル基、ハロゲン原子で置換され
た低級アルキル基、あるいは低級アルキル基またはハロ
ゲン原子で置換されていてもよいアラルキル基を示し、
Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立して低級アルキル基を示
す］で表される４，６−ジアルコキシ−２−スルホニル
オキシメチルピリミジン誘導体を製造するにあたり、下
記一般式（IV）： 【化６】 ［式中、Ｗは低級アルキル基を示し、Ｑ1およびＱ2は上
記と同じ意味を示す］で表される２−アルキルカルボニ
ルオキシメチル−４，６−ジアルコキシピリミジン誘導
体を加水分解し、得られた下記一般式（II）： 【化７】 ［式中、Ｑ1およびＱ2は上記と同様の意味を示す］で表
される４，６−ジアルコキシ−２−ヒドロキシメチルピ
リミジン誘導体と、下記一般式（III）： 【化８】 ［式中、Ｒは上記と同様の意味を示す］で表されるスル
ホニルクロライド類を反応させることを特徴とする、
４，６−ジアルコキシ−２−スルホニルオキシメチルピ
リミジン誘導体の製造法。 - 【請求項４】 下記一般式（I）： 【化９】 ［式中、Ｒは低級アルキル基、ハロゲン原子で置換され
た低級アルキル基、あるいは低級アルキル基またはハロ
ゲン原子で置換されていてもよいアラルキル基を示し、
Ｑ1およびＱ2はそれぞれ独立して低級アルキル基を示
す］で表される４，６−ジアルコキシ−２−スルホニル
オキシメチルピリミジン誘導体を製造するにあたり、下
記一般式（Ｖ）： 【化１０】 ［式中、Ｑ1およびＱ2は上記と同じ意味を示す］で表さ
れるアルキルプロパンジイミデイト二塩酸塩誘導体と、
下記一般式（VI）： 【化１１】 ［式中、Ａはハロゲン原子を示し、Ｗは低級アルキル基
を示す］で表される酸ハロゲン化物とを反応させること
により下記一般式（IV）： 【化１２】 ［式中、Ｗ、Ｑ1およびＱ2は上記と同じ意味を示す］で
表される２−アルキルカルボニルオキシメチル−４，６
−ジアルコキシピリミジン誘導体を合成し、該化合物を
加水分解し、得られた下記一般式（II）： 【化１３】 ［式中、Ｑ1およびＱ2は上記と同様の意味を示す］で表
される４，６−ジアルコキシ−２−ヒドロキシメチルピ
リミジン誘導体と、下記一般式（III）： 【化１４】 ［式中、Ｒは上記と同様の意味を示す］で表されるスル
ホニルクロライド類を反応させることを特徴とする、
４，６−ジアルコキシ−２−スルホニルオキシメチルピ
リミジン誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32472493A JPH07179434A (ja) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | ４，６−ジアルコキシ−２−スルホニルオキシメチルピリミジン誘導体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32472493A JPH07179434A (ja) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | ４，６−ジアルコキシ−２−スルホニルオキシメチルピリミジン誘導体およびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07179434A true JPH07179434A (ja) | 1995-07-18 |
Family
ID=18169004
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32472493A Pending JPH07179434A (ja) | 1993-12-22 | 1993-12-22 | ４，６−ジアルコキシ−２−スルホニルオキシメチルピリミジン誘導体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07179434A (ja) |
-
1993
- 1993-12-22 JP JP32472493A patent/JPH07179434A/ja active Pending
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