JPH0717598B2 - 3―フェニルピロール誘導体の製造方法 - Google Patents

3―フェニルピロール誘導体の製造方法

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JPH0717598B2
JPH0717598B2 JP1322471A JP32247189A JPH0717598B2 JP H0717598 B2 JPH0717598 B2 JP H0717598B2 JP 1322471 A JP1322471 A JP 1322471A JP 32247189 A JP32247189 A JP 32247189A JP H0717598 B2 JPH0717598 B2 JP H0717598B2
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、次式I (式中、 Xはシアノ基、−CO−R3,−CO−OR3または を表わし、 R1とR2は互に他と独立して、水素原子、炭素原子数が1
乃至6のアルキル基、炭素原子数が1乃至6のアルコキ
シ基、炭素原子数が1乃至6のアルキルチオ基、ニトロ
基、シアノ基、ハロゲン原子または炭素原子数が1乃至
6のハロアルキル基を表わすか、または R1とR2は一緒になって、メチレンジオキシ基またはジフ
ルオロメチレンジオキシ基を表わし、 R3は炭素原子数が1乃至6のアルキル基、炭素原子数が
1乃至6のハロアルキル基、フエニル基、またはベンジ
ル基、もしくは各々ハロゲン原子、メチル基、メトキシ
基またはメチルチオ基により置換されたフエニル基また
はベンジル基を表わし、 R4は水素原子、炭素原子数1乃至6のアルキル基、炭素
原子数1乃至6のハロアルキル基、フエニル基またはベ
ンジル基もしくは各々ハロゲン原子、メチル基、メトキ
シ基またはメチルチオ基により置換されたフエニル基ま
たはベンジル基を表わす。) で表わされる3−フエニルピロール誘導体の新規な製造
方法に関する。
式Iで表わされる化合物に於て、 アルキル着は直鎖または分枝鎖アルキル基を意味するも
のとして理解されるであろう。
適当な炭素原子数1乃至6のアルキル基の例は、メチル
基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−
ブチル基、イソブチル基、第2ブチル基、第3ブチル
基、n−ペンチル基またはペンチル異性体、ヘキシル基
またはヘキシル異性体である。
好ましいアルキル基は4より多くない炭素原子を含有す
るものである。
ハロゲン原子それ自身または例えばハロベンジル基、ハ
ロフエニル基またはハロアルキル基のような置換基の一
部としてのハロゲン原子は弗素原子、塩素原子または臭
素原子、好ましくは弗素原子または塩素原子を意味する
ものとして理解されるであろう。
ハロアルキル基は、典型的にはクロロメチル基、フルオ
ロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル
基、2−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル
基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、ペンタフルオ
ロエチル基、1,1,2−トリフルオロ−2−クロロエチル
基、2,2,2−トリフルオロ−1,1−ジクロロエチル基、ペ
ンタクロロエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル
基、2,3−ジクロロプロピル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフ
ルオロプロピル基、1−クロロペンチル基、1−クロロ
ヘキシル基及び特別にはフルオロメチル基、クロロメチ
ル基、ジフルオロメチル基またはトリフルオロメチル基
である。
置換ベンジル及びフエニル基の例は;2−クロロフエニル
基、3−クロロフエニル基、4−クロロフエニル基、2,
4−ジクロロフエニル基、3,4−ジクロロフエニル基、2,
3−ジクロロフエニル基、2,4,6−トリクロロフエニル
基、2,5−ジクロロベンジル基、4−フルオロフエニル
基、2−フルオロベンジル基、4−メチルフエニル基、
2,4−ジメチルフエニル基、4−トリフルオロメチルフ
エニル基、4−ブロモベンジル基、4−メトキシフエニ
ル基、2,4−ジメトキシフエニル基及び4−メチルチオ
フエニル基である。
アルコキシ基は典型的には、メトキシ基、エトキシ基、
n−プロポキシ基、イソプロポキシ基または4つのブト
キシ異性体、n−ペンチルオキシ基またはペンチルオキ
シ異性体、n−ヘキシルオキシ基またはヘキシルオキシ
異性体であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基ま
たはイソプロポキシ基である。
アルキルチオ基は、例えば、メチルチオ基、エチルチオ
基、n−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基または4
つのブチルチオ異性体、n−ペンチルチオ基またはその
ペンチルチオ異性体、n−ヘキシルチオ基またはそのヘ
キシルチオ異性体であり、好ましくはメチルチオ基であ
る。
(従来の技術及び発明が解決しようとする課題) 式Iで表わされる3−フエニルピロール誘導体でR1とR2
が一緒になってジフルオロメチレンジオキシ基を表わ
し、Xがシアノ基を表わす化合物は殺菌剤としてヨーロ
ッパ特許出願A−206999に開示されている。
式Iで表わされる3−フエニルピロール誘導体でR1及び
R2が互に他と独立して、水素原子、ハロゲン原子メトキ
シ基またはメチルチオ基を表わし、Xがシアノ基を表わ
す化合物は、殺菌剤の合成のための中間体としてヨーロ
ッパ特許出願A−133247に開示されている。ヨーロッパ
特許出願A−236272に於ては、 式Iで表わされる化合物に於てR1が2−クロロ基を表わ
し、R2が3−クロロ基を表わし、そしてXがシアノ基を
表わす化合物が顕著な殺真菌活性を有するものとして開
示されている。
テトラヘドラン レター(Tetrahedron Letters),197
2,52 5337〜5340に開示された方法に従って、 次式III: で表わされるシンナモニトリルは 次式IV: で表わされる(p−トリルスルホニル)メチルイソシア
ナイド(TOSMIC)でもって、水素化ナトリウムのような
強塩基の存在下で 次式V: で表わされる4−シアノ−3−フエニルピロールに環化
される。
工業的な規模に於ける合成としては、非常に低い、わず
か35%程度の収率である点は別にして、この方法の本質
的な欠点はこの方法が単離され、再結晶化した(p−ト
リルスルホニル)−メチル−イソシアナイドでもっての
みしか実施することができないという点にある。
単離され、再結晶化した(p−トリルスルホニル)メチ
ルイソシアナイドは高められた温度に於て爆発的に分解
しやすいため、該化合物の取扱には非常に高い安全性に
ついての保障を併なう。
更に、反応が実施されるのに必要な完全に無水の条件は
上述の工程を、費用がかかりそして複雑なものとしてい
る。
これらの欠点のため、上記方法は、式Iで表わされる3
−フエニルピロールの工業的製法としては不適当であ
る。
特開昭61−30571号公報には、次式VI (式中: Zはハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アル
キルアミノ基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基また
はメチレンジオキシ基を表わし、そしてnは0,1,または
2を表わす。)で表わされる4−シアノ−3−フエニル
ピロールを、 次式VII (式中、Z及びnは上記定義と同じであり、そしてRは
水素原子またはアルキル基を表わす。)で表わされるシ
アノシンナメートと(p−トリルスルホニル)メチルイ
ソシアナイドとを塩基の存在下で反応させることにより
製造する方法が開示されている。
前述の方法と同様に、この方法も満足する収率で式VIで
表わされる化合物を合成するためには、単離され、精製
され、再結晶化した(p−トリルスルホニル)メチルイ
ソシアナイドしか使用することができないという重大な
欠点を有する。既に述べたように、結晶化(p−トリル
スルホニル)メチルイソシアナイドは熱的に不安定であ
り、曝燃しやすく、爆発の鋭敏な危険性のため、工業的
規模で実施される合成に於てはかなりの危険源である。
(課題を解決するための手段) 今や工業的規模に於て、良好の収率で、危険を伴うこと
なく、経済的に有利な方法に於て式Iで表わされる化合
物を製造することを可能とする新規な方法が見出され
た。
式Iで表わされる3−フエニルピロール誘導体を製造す
るための本発明の新規な方法は、 a)N−(p−トリルスルホニル)メチルホルムアミド
を不活性溶媒中で、有機塩基の存在下に、ホスホロオキ
シクロライドと反応させ、反応溶媒を水と混合し、得ら
れた二相混合物の水性層を分離し、そして b)(p−トリルスルホニル)メチルイソシアナイドを
含有する有機相を、次式II (式中、X,R1およびR2は式Iの定義と同じであり、Yは
−CO−NHR4,−CO−R5または−S−R5を表わし、R5は炭
素原子数1乃至6のアルキル基、炭素原子数が1乃至6
のハロアルキル基、フエニル基またはベンジル基もしく
は、各々ハロゲン原子、メチル基、メトキシ基またはメ
チルチオ基で置換されたフエニル基またはベンジル基を
表わし、そしてR4は式Iの定義と同じである。) で表わされる化合物と、塩基の存在下で、直接反応させ
ることからなる。
適当な不活性溶媒の例は、開鎖または環状エーテルの群
例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、1,
2−ジメトキシメタン;またはクロロアルカン類の群例
えばメチレンクロライド、クロロホルムまたは四塩化炭
素;から選ばれた化合物または化合物の混合物;或い
は、ケトン類の群、例えばアセトン、メチルエチルケト
ン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソプ
ロピルケトンまたはメチルイソブチルケトンまたは低級
カルボン酸のアルキルエステルの群、例えば酢酸メチル
エステル、酢酸エチルエステル、またはプロピオン酸の
エチルエステルから選ばれた化合物である。
好ましい溶剤は、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシメタン、酢酸エチルエステル及び1,2−ジメト
キシエタンである。
特に好ましい溶剤は1,2−ジメトキシエタン及び酢酸エ
チルエステルである。
N−(p−トリルスルホニル)メチルホルムアミドから
(p−トリルスルホニル)メチルイソシアナイドを製造
するための適当な有機塩基は、例えば、キノリン、ピリ
ジン、ジイソプロピルアミン、好ましくは、キヌクリジ
ン、N,N−ジメチルアニリンジメチルアミノピリジン、
N−メチルピロリジンまたはN,N,N′,N′−テトラメチ
ルエチレンジアミンのような第3級アミン、そして最も
好ましくは、トリエチルアミンまたはトリ−n−プロピ
ルアミンである。トリエチルアミンが特に好ましい。
(p−トリルスルホニル)メチルイソシアナイドと式II
で表わされる化合物との反応のための適当な塩基の例
は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の酸化物、水
素化物、水酸化物、炭酸塩、カルボン酸塩またはアルコ
レート;トリアルキルアミンまたはピリジン塩基であ
る。特に適当な塩基は、ナトリウムメチレート、ナトリ
ウムエチレート、水性水酸化ナトリウム、水性水酸化カ
リウム、メタノール中の水酸化ナトリウム、メタノール
中の水酸化カリウム、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウ
ムである。
特に好ましい塩基は、水性水酸化ナトリウム、メタノー
ル中の水酸化ナトリウム、水性水酸化カルシウム、メタ
ノール中の水酸化カルシウム及びナトリウムメチレート
である。
本発明の方法の好ましい態様に於ては、式IIの化合物は
(p−トリルスルホニル)メチルイソシアナイドの溶液
に添加され、そして続いて反応混合物に塩基が添加され
る。
式IIの化合物と(p−トリルスルホニル)メチルイソシ
アナイドとの反応のためには、塩基は通常式IIの化合物
1モル当り2〜3モル、好ましくは2〜2.4モルの量に
於て添加される。式IIの化合物と(p−トリルスルホニ
ル)メチルイソシアナイドとの反応は、通常−25゜〜+
25℃の温度範囲、好ましくは−10゜〜+10℃の温度範囲
で生じる。
式IIの化合物及び(p−トリルスルホニル)メチルイソ
シアナイドは通常は等モル量に於て、または式IIの化合
物が10〜20モル%過剰に使用される。
等モル量使用することが特に好ましい。
工程a)に於て、不活性溶媒として、ケトン類または低
級カルボン酸のアルキルエステル類が使用される場合に
は、塩基の水性溶液を有機層に添加し、引き続いて、工
程b)を実施する前に混合物から水性層を分離すること
が好ましい。
この工程の変形のための適当な塩基は、例えば水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素
ナトリウム及び炭酸カリウム、しかし特に水酸化ナトリ
ウム及び炭酸ナトリウムである。
酢酸エチルエステルは、この工程の変形のための不活性
溶媒媒として特に好ましいものである。
本発明の工程の特に好ましい態様は、1,2−ジメトキシ
エタン中のN−(p−トリルスルホニル)メチルホルム
アミドをホスホロオキシクロライドとトリエチルアミン
の存在下に反応させ、反応混合物を、0.5〜0.7倍容量の
水と混合し、得られる二相反応混合物から水性層を分離
し、そして、(p−トリルスルホニル)メチルイソシア
ナイドを含む有機層を、塩基の存在下に式IIの化合物と
直接反応させることからなる。
特に好ましい本発明の工程の態様は、不活性溶媒として
ジオキサンを使用し、N−(p−トリルスルホニル)メ
チルホルムアミドとホスホロオキシクロライドとの反応
により得られる反応混合物を、0.2〜0.35倍容量の水と
混合することからなる。
本発明の工程の他の変形は溶媒としてテトラヒドロフラ
ンを使用し、N−(p−トリルスルホニル)メチルホル
ムアミドとホスホロオキシクロライドとの反応により得
られる反応混合物を0.3〜0.8倍容量の水と混合すること
からなる。
更に、本発明の工程の変形は、不活性溶媒としてジメト
キシメタンを使用し、N−(p−トリルスルホニル)メ
チルホルムアミドとホスホロオキシクロライドとの反応
により得られる反応混合物を0.3〜1.2倍容量の水と混合
することからなる。
上述した本発明の工程の態様に於ては、 Yが−CO−NHR4または−CO−R5, R4が水素原子またはメチル基, R5がメチル基またはフェニル基, R1とR2が互に他と独立して、水素原子または塩素原子、
または一緒になってメチレンジオキシ基または、ジフル
オロメチレンジオキシ基、 Xがシアノ基、−CO−R3または−CO−OR3及び、 R3がメチル基である式IIの化合物を使用することが好ま
しい。
(発明の効果) 本発明の工程は、式Iの化合物を良好な収率で、簡単な
方法で製造することを可能にする。
本発明の工程の特別の利点は、中間体として得られる
(p−トリルスルホニル)メチルイソシアナイドを反応
媒体から単離し、式IIの化合物との反応のために、精製
する必要がないということである。(p−トリルスルホ
ニル)メチルイソシアナイドの単離及び精製に於て、乾
燥した結晶化物の可能性のある爆発の発生に於てこうむ
る安全性に対する危険は本発明の工程に於て完全に避け
ることができる。
無水条件下で反応を行う費用のかかるやり方なしですま
すことができる点に加うるに本発明の工程により与えら
れる(p−トリルスルホニル)イソシアナイドの実質的
に簡単な取扱が、先行技術の工程より、安全性に対する
手段がより少くてすむという点は、特記されるべきこと
として、抜擢されなければならない。
更に本発明の工程の利点は、反応混合物が水の添加に対
して二相、即ち望む中間体を含む有機層と、副産物を含
む水性層に分離する点である。かくして、二相の分離後
の中間体は使用された溶媒中の溶液の形態で直接的に得
られる。
(実施例) 次の実施例は本発明の方法により詳細に説明するもので
ある。
製造実施例 実施例P1:4−シアノ−3−(2,3−ジクロロフエニル)
ピロール a) (p−トリルスルホニル)メチルイソシアナイド
の溶液の製造 41.5g(0.27モル)のホスホロオキシクロライドを、55.
5g(0.26モル)のN−(p−トリルスルホニル)メチル
ホルムアミド、124gのトリルエチルアミン及び155gの1,
2−ジメトキシエタンを含む溶液に、0℃の温度に於
て、2〜3時間にわたって滴下する。反応混合物を0℃
で1時間撹拌し、次いで水220mlと、冷却しながら混合
する。反応混合物の温度を+20℃まで上昇させ、その後
得られた二相混合物の下方の水性相を分離し、生成物を
23.2重量%(理論値の72%)を含有する(p−トリルス
ルホニル)メチルイソシアナイドの1,2−ジメトキシエ
タン溶液157gを得る。
b) 48.3gのα−シアノ−2,3−ジクロロシンナミドを
a)により製造された(p−トリルスルホニル)メチル
イソシアナイドの溶液157gに対して、撹拌しながら添加
する。
反応混合物を0℃まで冷却し、次いで53.3g(0.4モル)
の30%水性水酸化ナトリウムを撹拌しながら2時間にわ
たって滴下する。0℃で2時間撹拌を続け次いで200gの
水を添加する。次いで反応溶液を+70℃/200mbarにて濃
縮し、室温で水300gを加えた後、生成物を過により単
離する。
過残渣をトルエン80gで洗滌し、真空下で乾燥し、149
℃で溶融する、4−シアノ−3−(2,3−ジクロロフエ
ニル)ピロール44.9g(理論値の97%)を得る。
実施例P2:4−シアノ−3−(2,3−メチレンジオキシフ
エニル)ピロール 24.9gのα−シアノ−2,3−メチレンジオキシシンナミド
を実施例P1a)に従って製造された(p−トリルスルホ
ニル)メチルイソシアナイド23.2重量%溶液96.9gに対
して撹拌しながら添加する。次いで、ナトリウムメチレ
ートの30%メタノール溶液41.4gを2時間にわたって添
加する。混合物を30分間撹拌し、次いで水300mlを滴下
し、そして生成物を過により単離する。過残渣をト
ルエンで洗滌し、真空下で乾燥し、206〜208℃で溶融す
る4−シアノ−3−(2,3−メチレンジオキシフエニ
ル)ピロール21g(理論値の86.5%)を得る。
実施例P3:4−メチルカルボニル−3−(2,3−ジクロロ
フエニル)ピロール 20gの1,1−ジ(メチルカルボニル)−2−(2,3−ジク
ロロフエニル)−エテンを、実施例P1a)に従って製造
された(p−トリルスルホニル)メチルイソシアナイド
の23.2重量%溶液65gに対して、0℃で撹拌しながら添
加する。次いでナトリウムメチレートの30%メタノール
溶液28.1gを3時間にわたって滴下する。混合物を+10
℃の温度で60分間撹拌し、次いで170mlの水を滴下しそ
して反応生成物を過により単離する。過残渣をメタ
ノール/エタノールの1:1混合物から再結晶し、次いで
真空下で乾燥すると192〜194℃で溶融する4−メチルカ
ルボニル−3−(2,3−ジクロロフエニル)ピロール8.3
g(理論量の50%)を得る。
実施例P4:4−シアノ−3−(4−クロロフエニル)ピロ
ール 28.8gのα−シアノ−4−クロロシンナミドを実施例P1
a)に従って製造された(p−トリル−スルホニル)メ
チルイソシアナイドの23.2重量%溶液117.4gに対して、
0℃の温度で撹拌しながら添加する。次いでメタノール
中ナトリウムメチレート30%溶液50.4gを、+5℃の温
度で3時間滴加する。混合物を2時間撹拌し、次いで水
70mlを添加する。次いで、溶剤混合物50gを、50℃で真
空下に反応混合物を濃縮することにより除去する。
更に140mlの水を添加した後、反応混合物を過し、
過残渣をトルエン30mlで洗滌する。乾燥過残渣をトル
エンから再結晶し、147〜148℃に於て溶融する、4−シ
アノ−3−(4−クロロフエニル)ピロール25.4g(理
論値の89.5%)を得る。
実施例P5:4−メトキシカルボニル−3−(2,3−ジクロ
ロフエニル)ピロール 20gのメチルα−メチルカルボニル−2,3−ジクロロシン
ナメートを、実施例P1a)に従って製造された(p−ト
リルスルホニル)メチルイソシアナイドの22重量%溶液
に0℃で撹拌しながら添加する。次いでメタノール中ナ
トリウムメチレート30%溶液26.3gを2時間にわたって
添加する。
混合物を2時間撹拌後、水35mlを滴加する。反応混合物
は+50℃で真空下に濃縮する。
70mlの水を添加した後、反応混合物は再度真空下に濃縮
し、次いで過する。過残渣をトルエンで洗滌し、エ
タノールから再結晶すると、200〜201℃で溶融する4−
メトキシカルボニル−3−(2,3−ジクロロフエニル)
−ピロール10.8g(理論値の58%)が得られる。
実施例P6:4−シアノ−3−(2,3−ジクロロフエニル)
ピロール a) 44.5gのホスホロオキシトリクロライドを59.6g
(0.28モル)のN−(p−トリルスルホニル)メチルホ
ルムアミド,134gのトリエチルアミン及び168gのテトラ
ヒドロフランからなる溶液に−5℃の温度に於て2時間
にわたって滴加する。0℃で1時間撹拌の後、反応混合
物を300mlの水と、滴下混合する。この滴下添加の間に
温度を+20℃まで上昇することを許す。得られる二相混
合物の下部の水性相を分離し、生成物を33g含有する
(p−トリルスルホニル)メチルイソシアナイドのテト
ラヒドロフラン溶液198gを得る。
b) 46.9gのα−シアノ−2,3−ジクロロシンナミドを
a)により製造された(p−トリルスルホニル)メチル
イソシアナイドの溶液198gに撹拌しながら添加する。反
応混合物を+5℃に冷却し、次いで撹拌しながら、水酸
化カリウム50%溶液43.6gを90分にわたり滴加する。混
合物を2時間撹拌し、次いで水80mlを添加する。次いで
溶媒混合物50mlを蒸溜により除去する。
更に水150mlを添加した後、反応混合物を再度濃縮し、
次いで過する過残渣をトルエンで洗滌し、メタノー
ルから再結晶すると、146〜148℃で溶融する4−シアノ
−3−(2,3−ジクロロフエニル)ピロール34.2g(理論
値の85%)を得る。
実施例P7:4−シアノ−3−(2,3−ジクロロフエニル)
ピロール a) (p−トリルスルホニル)メチルイソシアナイド
の溶液の製造 31.5gのホスホロオキシクロライドを、43g(0.2モル)
のN−(p−トリルスルホニル)メチルホルムアミド,9
2.1gのトリルエチルアミン及び145gの酢酸エチルエステ
ルからなる溶液に0〜5℃の温度で2時間にわたって滴
加する。
反応混合物を0〜5℃で30分間撹拌し、次いで150mlの
水と混合する。撹拌を+20℃で10分間続け、その後水性
相を分離する。1Nの水酸化ナトリウム水溶液100mlを添
加し、10分間撹拌を続ける。水性相を分離し、その後有
機相を50mlの水で洗滌し、生成物31gを含有する(p−
トリルスルホニル)メチルイソシアナイドの酢酸エチル
エステル溶液150gを得る。
b) 38.6gのα−シアノ−2,3−ジクロロシンナミドを
a)により製造された(p−トリルスルホニル)メチル
イソシアナイドの溶液150gに滴加する。反応混合物を0
℃に冷却し、次いでメタノール中30%ナトリウムメタレ
ート溶液63.2gを3時間にわたって撹拌しながら滴加す
る。水100mlを添加後、撹拌を15分間続け、その後水性
相を分離する。水を添加後、溶媒を50〜60℃の温度で減
圧下に完全に除去する。残存する分散液を室温に冷却
し、生成物を過により単離する。過残査をトルエン
200mlで洗滌し、乾燥し、148℃で溶融する4−シアノ−
3−(2,3−ジクロロフエニル)ピロール31g(理論値の
82%)を得る。
実施例P8:4−シアノ−3−(2,3−ジフルオロメチレン
ジオキサン)ピロール a) (p−トリルスルホニル)メチルイソシアナイド
の溶液の製造 31.8g(0.208モル)のホスホロオキシクロライドを42.6
g(0.2モル)のN−(p−トリルスルホニル)メチルホ
ルムアミド,96gのトリエチルアミン及び160gの酢酸エチ
ルエステルからなる溶液に0〜5℃の温度で1〜2時間
にわたって滴加する。反応混合物を0〜5℃で1時間撹
拌し、次いで水150mlと混合する。反応混合物の温度を
+20℃まで上昇することを許し、その後低部の水性相を
分離する。10%炭酸ナトリウム水溶液100mlを添加し、1
0分間撹拌を続ける。その後水性相を分離し、生成物33.
2g(理論値の85%)を含有する(p−トリルスルホニ
ル)メチルイソシアナイドの酢酸エチルエステル溶液21
0gを得る。
b) 42.8gのα−シアノ−2,3−ジフルオロメチレンジ
オキシシンナミドをa)により製造された(p−トリル
スルホニル)−メチルイソシアナイド溶液210gに撹拌し
ながら添加する。反応混合物を0〜5℃に冷却し、次い
でメタノール中35%の水酸化ナトリウム溶液45.8g(0.2
04モル)を撹拌しながら1時間にわたって滴加する。撹
拌を+20℃で1時間続ける。製造は次の方法の1つによ
って経続される。
方法1:120mlの酢酸エチルエステル/メタノール混合物
を65〜70℃の温度で蒸溜により除く。30mlのメタノール
を添加した後、反応混合物を再度170mlの溶媒を蒸発す
ることにより濃縮する。水90mlを添加した後、反応混合
物を過する。過残渣をメタノール/水混合物で洗滌
し、190〜195℃で溶融する4−シアノ−3−(2,3−ジ
フルオロメチレンジオキシフエニル)ピロール35.8g
(理論値の85%)を得る。
方法2:120mlの酢酸エチルエステル/メタノール混合物
を65〜70℃の温度で蒸溜により除く。120mlの水を添加
した後、反応混合物を再度蒸溜により、濃縮する。メタ
ノール120mlを添加した後、反応混合物を過する。
過残渣をメタノール/水の混合物で洗滌し、190〜195℃
で溶融する4−シアノ−3−(2,3−ジフルオロメチレ
ンジオキシ)ピロール34.3g(理論値の83%)を得る。
方法3:200mlの水を添加し、水性相を分離した後、120ml
の酢酸エチルエステルを蒸溜により除く。残渣に対して
メタノール300mlを添加後、反応混合物を再度170mlの溶
媒を蒸発させることにより濃縮する。90mlの水を添加
後、反応混合物を過する。過残渣をメタノール/水
の混合物で洗滌し、190〜195℃で溶融する4−シアノ−
3−(2,3−ジフルオロメチレンジオキシフエニル)ピ
ロール34.3g(理論値の83%)を得る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平1−316352(JP,A) 特開 平1−157954(JP,A) 特開 昭61−30571(JP,A)

Claims (26)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】次式I (式中、 Xは、シアノ基、−CO−R3,−CO−OR3または を表わし、 R1とR2は互に他と独立して、水素原子、炭素原子数が1
    乃至6のアルキル基、炭素原子数が1乃至6のアルコキ
    シ基、炭素原子数が1乃至6のアルキルチオ基、ニトロ
    基、シアノ基、ハロゲン原子または炭素原子数が1乃至
    6のハロアルキル基を表わすか、またはR1とR2は一緒に
    なって、メチレンジオキシ基またはジフルオロメチレン
    ジオキシ基を表わし、 R3は炭素原子数が1乃至6のアルキル基、炭素原子数が
    1乃至6のハロアルキル基、フエニル基、またはベンジ
    ル基、もしくは各々ハロゲン原子、メチル基、メトキシ
    基またはメチルチオ基により置換されたフエニル基また
    はベンジル基を表わし、 R4は水素原子、炭素原子数1乃至6のアルキル基、炭素
    原子数1乃至6のハロアルキル基、フエニル基またはベ
    ンジル基もしくは各々ハロゲン原子、メチル基、メトキ
    シ基またはメチルチオ基により置換されたフエニル基ま
    たはベンジル基を表わす。) で表わされる3−フエニルピロール誘導体を製造するに
    際して、 a)N−(p−トリルスルホニル)メチルホルムアミド
    を不活性溶媒中に於て、有機塩基の存在下に、ホスホロ
    オキシクロライドと反応させ、反応溶液を水と混合し、
    得られる二相混合物の水性相を分離し、そして b)(p−トリルスルホニル)メチルイソシアナイドを
    含む有機相を、次式II (式中: X,R1及びR2は式Iで定義したのと同じ意味を表わし、 Yは−CONHR4,−CO−R5または−S−R5を表わし、 R5は炭素原子数が1乃至6のアルキル基、炭素原子数が
    1乃至6のハロアルキル基、フエニル基またはベンジル
    基、もしくは各々ハロゲン原子、メチル基、メトキシ基
    またはメチルチオ基で置換されたフエニル基またはベン
    ジル基を表わし、そして R4は式Iで定義したのと同じ意味を表わす。)で表わさ
    れる化合物と、塩基の存在下に直接反応させることを特
    徴とする、3−フエニルピロール誘導体の製造方法。
  2. 【請求項2】a)式IIで表わされる化合物を(p−トリ
    ルスルホニル)メチルイソシアナイド溶液に添加し、そ
    して b)反応混合物に対して塩基を添加することからなる請
    求項(1)記載の方法。
  3. 【請求項3】(p−トリルスルホニル)メチルイソシア
    ナイドと式IIで表わされる化合物の反応に於て、式IIで
    表わされる化合物の1モル当り2〜3モルの量の塩基を
    添加することからなる請求項(1)記載の方法。
  4. 【請求項4】R1とR2が各々他と独立して、水素原子、ハ
    ロゲン原子、メトキシ基またはメチルチオ基を表わす
    か、或いは一緒になってメチレンジオキシ基またはジフ
    ルオロメチレンジオキシ基を表わし、R3とR5が互に他を
    独立して炭素原子数1乃至4のアルキル基または炭素原
    子数が1乃至4のハロアルキル基を表わし、R4が水素原
    子、炭素原子数1乃至4のアルキル基または炭素原子数
    1乃至4のハロアルキル基を表わし、そしてYが−CO−
    NHR4または−CO−R5を表わす請求項(1)記載の方法。
  5. 【請求項5】式IIで表わされる化合物が(p−トリルス
    ルホニル)メチルイソシアナイドの量にもとづいて10〜
    20モル%過剰に使用される請求項(1)記載の方法。
  6. 【請求項6】(p−トリルスルホニル)メチルイソシア
    ナイドと式IIで表わされる化合物が等モル量に於て使用
    される請求項(1)記載の方法。
  7. 【請求項7】不活性溶媒が開鎖または環状エーテル類、
    クロロアルカン類、ケトン類からなる群、または低級カ
    ルボン酸のアルキルエステル類からなる群から選ばれた
    化合物または化合物の混合物である請求項(1)記載の
    方法。
  8. 【請求項8】不活性溶媒が開鎖または環状エーテル類か
    らなる群またはクロロアルカン類からなる群から選ばれ
    た化合物または化合物の混合物である請求項(1)記載
    の方法。
  9. 【請求項9】N−(p−トリルスルホニル)メチルホル
    ムアミドとホスホロオキシクロライドとの反応に於て、
    第3級アミンが塩基として使用される請求項(1)記載
    の方法。
  10. 【請求項10】(p−トリルスルホニル)メチルイソシ
    アナイドの溶液と式IIで表わされる化合物との反応のた
    めの塩基として、アルカリ金属またはアルカリ土類金属
    の酸化物、水素化物、水酸化物、炭酸塩、カルボン酸塩
    またはアルコレートもしくはトリアルキルアミン或いは
    ピリジン塩基が使用される請求項(1)記載の方法。
  11. 【請求項11】式IIで表わされる化合物と(p−トリル
    スルホニル)メチルイソシアナイドとの反応が−25〜+
    25℃の範囲の温度で実施される請求項(1)記載の方
    法。
  12. 【請求項12】式IIで表わされる化合物と(p−トリル
    スルホニル)メチルイソシアナイドとの反応が−10〜+
    10℃の範囲の温度で実施される請求項(1)記載の方
    法。
  13. 【請求項13】塩基がナトリウムメチレート、ナトリウ
    ムエチレート、水性水酸化ナトリウム、水性水酸化カリ
    ウム、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムである請求項
    (10)記載の方法。
  14. 【請求項14】塩基が式IIで表わされる化合物1モル当
    り2〜2.4モルの量に於て使用される請求項(10)記載
    の方法。
  15. 【請求項15】塩基がトリルエチルアミンである請求項
    (9)記載の方法。
  16. 【請求項16】不活性溶媒がジメトキシメタン、1,2−
    ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、ジイソプロピル
    エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メチレン
    クロライド、クロロホルム、四塩化炭素または酢酸エチ
    ルエステルである請求項(1)記載の方法。
  17. 【請求項17】不活性溶媒が、ジメトキシメタン、1,2
    −ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、ジイソプロピ
    ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メチレ
    ンクロライド、クロロホルムまたは四塩化炭素である請
    求項(1)記載の方法。
  18. 【請求項18】不活性溶媒が、ジメトキシメタン、1,2
    −ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン
    または酢酸エチルエステルである請求項(1)記載の方
    法。
  19. 【請求項19】不活性溶媒がジメトキシメタン、1,2−
    ジメトキシエタン、テトラヒドロフランまたはジオキサ
    ンである請求項(1)記載の方法。
  20. 【請求項20】不活性溶媒が、1,2−ジメトキシエタン
    であり、N−(p−トリルスルホニル)メチルホルムア
    ミドとホスホロオキシクロライドとの反応の後に得られ
    る反応混合物が0.5〜0.7倍容量の水と混合される請求項
    (1)記載の方法。
  21. 【請求項21】不活性溶媒がジオキサンであり、N−
    (p−トリルスルホニル)メチルホルムアミドとホスホ
    ロオキシクロライドとの反応から得られる反応混合物が
    0.2〜0.35倍容量の水と混合される請求項(1)記載の
    方法。
  22. 【請求項22】不活性溶媒がテトラヒドロフランであ
    り、N−(p−トリルスルホニル)メチルホルムアミド
    とホスホロオキシクロライドとの反応から得られる反応
    混合物が0.3〜0.8倍容量の水と混合される請求項(1)
    記載の方法。
  23. 【請求項23】不活性溶媒がジメトキシメタンであり、
    N−(p−トリルスルホニル)メチルホルムアミドとホ
    スホロオキシクロライドとの反応から得られる反応混合
    物が0.3〜1.2倍容量の水と混合される請求項(1)記載
    の方法。
  24. 【請求項24】Xがシアノ基、−CO−OR3または−CO−R
    3を表わし、R1とR2が互に他と独立して水素原子、塩素
    原子を表わすか、または一緒になってメチレンジオキシ
    基またはジフルオロメチレンジオキシ基を表わし、R3
    メチル基を表わし、Yが−CO−NHR4または−CO−R5を表
    わし、R4が水素原子またはメチル基を表わし、そしてR5
    がメチル基またはフエニル基を表わす請求項(1)記載
    の方法。
  25. 【請求項25】a)N−(p−トリルスルホニル)メチ
    ルホルムアミドとホスホロオキシクロライドとの反応
    を、1,2−ジメトキシエタン中でトリエチルアミンの存
    在下に実施し、反応混合物を0.55〜0.6倍容量の水と混
    合し、得られる二相反応混合物から水性相を分離し、そ
    して b)(p−トリルスルホニル)メチルイソシアナイドを
    含有する有機相を(p−トリルスルホニル)メチルイソ
    シアナイドの量にもとづいて等モル量の式IIで表わされ
    る化合物と、式IIで表わされる化合物にもとづいて2〜
    2.4モルの水性水酸化ナトリウムの存在下、−10〜+10
    ℃の範囲の温度に於て反応させることからなる請求項
    (1)記載の方法。
  26. 【請求項26】a)式IIで表わされる化合物を(p−ト
    リルスルホニル)メチルイソシアナイドの溶液に添加
    し、そして b)反応混合物に対して、水性水酸ナトリウムを添加す
    ることからなる請求項(22)記載の方法。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5252746A (en) * 1990-12-11 1993-10-12 American Cyanamid Company Process for the preparation of insecticidal, nematicidal and acaricidal 2-halo-3-substituted-5-arylpyrrole compounds
US6204397B1 (en) 1991-03-08 2001-03-20 Bayer Aktiengesellschaft Process for the preparation of 3-substituted 4-cyano-pyrrole compounds
DE4107398A1 (de) * 1991-03-08 1992-11-05 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von in 3-stellung substituierten 4-cyano-pyrrolverbindungen
US7102010B2 (en) 2001-03-23 2006-09-05 Nippon Soda Co., Ltd. Process for producing 5-substituted oxazole compounds and 5-substituted imidazole compounds

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0111452A1 (de) * 1982-12-10 1984-06-20 Ciba-Geigy Ag Verwendung von Pyrrolen als Biocide für den Materialschutz
US4546099A (en) * 1983-07-22 1985-10-08 Ciba-Geigy Corporation N-Aminomethyl-3-phenyl-4-cyanopyrrole derivatives, compositions and use thereof as microbicides
US4705801A (en) * 1984-10-16 1987-11-10 Ciba-Geigy Corporation Production for producing 3-cyano-4-phenyl indoles and intermediates
US4687861A (en) * 1984-11-28 1987-08-18 Ciba-Geigy Corporation Microbicidal compositions
US4705800A (en) * 1985-06-21 1987-11-10 Ciba-Geigy Corporation Difluorbenzodioxyl cyanopyrrole microbicidal compositions
US4680413A (en) * 1986-01-17 1987-07-14 Nippon Soda Co., Ltd. Process for the production of 3-phenyl-4-cyanopyrroles
JPS6430571A (en) * 1987-07-24 1989-02-01 Sanwa Kosan Kk Expanded food and preparation thereof
DE3800387A1 (de) * 1988-01-09 1989-07-20 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von 3-cyano-4-aryl-pyrrolen
JPH06130571A (ja) * 1992-10-21 1994-05-13 Konica Corp 錠剤状ハロゲン化銀写真感光材料用漂白定着剤及び処理方法

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