JPH0717598B2 - ３―フェニルピロール誘導体の製造方法 - Google Patents
３―フェニルピロール誘導体の製造方法Info
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- JPH0717598B2 JPH0717598B2 JP1322471A JP32247189A JPH0717598B2 JP H0717598 B2 JPH0717598 B2 JP H0717598B2 JP 1322471 A JP1322471 A JP 1322471A JP 32247189 A JP32247189 A JP 32247189A JP H0717598 B2 JPH0717598 B2 JP H0717598B2
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Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、次式Ｉ （式中、 Ｘはシアノ基、−CO−R3,−CO−OR3または を表わし、 R1とR2は互に他と独立して、水素原子、炭素原子数が１
乃至６のアルキル基、炭素原子数が１乃至６のアルコキ
シ基、炭素原子数が１乃至６のアルキルチオ基、ニトロ
基、シアノ基、ハロゲン原子または炭素原子数が１乃至
６のハロアルキル基を表わすか、または R1とR2は一緒になって、メチレンジオキシ基またはジフ
ルオロメチレンジオキシ基を表わし、 R3は炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が
１乃至６のハロアルキル基、フエニル基、またはベンジ
ル基、もしくは各々ハロゲン原子、メチル基、メトキシ
基またはメチルチオ基により置換されたフエニル基また
はベンジル基を表わし、 R4は水素原子、炭素原子数１乃至６のアルキル基、炭素
原子数１乃至６のハロアルキル基、フエニル基またはベ
ンジル基もしくは各々ハロゲン原子、メチル基、メトキ
シ基またはメチルチオ基により置換されたフエニル基ま
たはベンジル基を表わす。） で表わされる３−フエニルピロール誘導体の新規な製造
方法に関する。
乃至６のアルキル基、炭素原子数が１乃至６のアルコキ
シ基、炭素原子数が１乃至６のアルキルチオ基、ニトロ
基、シアノ基、ハロゲン原子または炭素原子数が１乃至
６のハロアルキル基を表わすか、または R1とR2は一緒になって、メチレンジオキシ基またはジフ
ルオロメチレンジオキシ基を表わし、 R3は炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が
１乃至６のハロアルキル基、フエニル基、またはベンジ
ル基、もしくは各々ハロゲン原子、メチル基、メトキシ
基またはメチルチオ基により置換されたフエニル基また
はベンジル基を表わし、 R4は水素原子、炭素原子数１乃至６のアルキル基、炭素
原子数１乃至６のハロアルキル基、フエニル基またはベ
ンジル基もしくは各々ハロゲン原子、メチル基、メトキ
シ基またはメチルチオ基により置換されたフエニル基ま
たはベンジル基を表わす。） で表わされる３−フエニルピロール誘導体の新規な製造
方法に関する。
式Ｉで表わされる化合物に於て、 アルキル着は直鎖または分枝鎖アルキル基を意味するも
のとして理解されるであろう。
のとして理解されるであろう。
適当な炭素原子数１乃至６のアルキル基の例は、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、イソブチル基、第２ブチル基、第３ブチル
基、ｎ−ペンチル基またはペンチル異性体、ヘキシル基
またはヘキシル異性体である。
基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−
ブチル基、イソブチル基、第２ブチル基、第３ブチル
基、ｎ−ペンチル基またはペンチル異性体、ヘキシル基
またはヘキシル異性体である。
好ましいアルキル基は４より多くない炭素原子を含有す
るものである。
るものである。
ハロゲン原子それ自身または例えばハロベンジル基、ハ
ロフエニル基またはハロアルキル基のような置換基の一
部としてのハロゲン原子は弗素原子、塩素原子または臭
素原子、好ましくは弗素原子または塩素原子を意味する
ものとして理解されるであろう。
ロフエニル基またはハロアルキル基のような置換基の一
部としてのハロゲン原子は弗素原子、塩素原子または臭
素原子、好ましくは弗素原子または塩素原子を意味する
ものとして理解されるであろう。
ハロアルキル基は、典型的にはクロロメチル基、フルオ
ロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル
基、２−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル
基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、ペンタフルオ
ロエチル基、1,1,2−トリフルオロ−２−クロロエチル
基、2,2,2−トリフルオロ−1,1−ジクロロエチル基、ペ
ンタクロロエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル
基、2,3−ジクロロプロピル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフ
ルオロプロピル基、１−クロロペンチル基、１−クロロ
ヘキシル基及び特別にはフルオロメチル基、クロロメチ
ル基、ジフルオロメチル基またはトリフルオロメチル基
である。
ロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル
基、２−クロロエチル基、2,2,2−トリフルオロエチル
基、1,1,2,2−テトラフルオロエチル基、ペンタフルオ
ロエチル基、1,1,2−トリフルオロ−２−クロロエチル
基、2,2,2−トリフルオロ−1,1−ジクロロエチル基、ペ
ンタクロロエチル基、3,3,3−トリフルオロプロピル
基、2,3−ジクロロプロピル基、1,1,2,3,3,3−ヘキサフ
ルオロプロピル基、１−クロロペンチル基、１−クロロ
ヘキシル基及び特別にはフルオロメチル基、クロロメチ
ル基、ジフルオロメチル基またはトリフルオロメチル基
である。
置換ベンジル及びフエニル基の例は;2−クロロフエニル
基、３−クロロフエニル基、４−クロロフエニル基、2,
4−ジクロロフエニル基、3,4−ジクロロフエニル基、2,
3−ジクロロフエニル基、2,4,6−トリクロロフエニル
基、2,5−ジクロロベンジル基、４−フルオロフエニル
基、２−フルオロベンジル基、４−メチルフエニル基、
2,4−ジメチルフエニル基、４−トリフルオロメチルフ
エニル基、４−ブロモベンジル基、４−メトキシフエニ
ル基、2,4−ジメトキシフエニル基及び４−メチルチオ
フエニル基である。
基、３−クロロフエニル基、４−クロロフエニル基、2,
4−ジクロロフエニル基、3,4−ジクロロフエニル基、2,
3−ジクロロフエニル基、2,4,6−トリクロロフエニル
基、2,5−ジクロロベンジル基、４−フルオロフエニル
基、２−フルオロベンジル基、４−メチルフエニル基、
2,4−ジメチルフエニル基、４−トリフルオロメチルフ
エニル基、４−ブロモベンジル基、４−メトキシフエニ
ル基、2,4−ジメトキシフエニル基及び４−メチルチオ
フエニル基である。
アルコキシ基は典型的には、メトキシ基、エトキシ基、
ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基または４つのブト
キシ異性体、ｎ−ペンチルオキシ基またはペンチルオキ
シ異性体、ｎ−ヘキシルオキシ基またはヘキシルオキシ
異性体であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基ま
たはイソプロポキシ基である。
ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基または４つのブト
キシ異性体、ｎ−ペンチルオキシ基またはペンチルオキ
シ異性体、ｎ−ヘキシルオキシ基またはヘキシルオキシ
異性体であり、好ましくは、メトキシ基、エトキシ基ま
たはイソプロポキシ基である。
アルキルチオ基は、例えば、メチルチオ基、エチルチオ
基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基または４
つのブチルチオ異性体、ｎ−ペンチルチオ基またはその
ペンチルチオ異性体、ｎ−ヘキシルチオ基またはそのヘ
キシルチオ異性体であり、好ましくはメチルチオ基であ
る。
基、ｎ−プロピルチオ基、イソプロピルチオ基または４
つのブチルチオ異性体、ｎ−ペンチルチオ基またはその
ペンチルチオ異性体、ｎ−ヘキシルチオ基またはそのヘ
キシルチオ異性体であり、好ましくはメチルチオ基であ
る。
（従来の技術及び発明が解決しようとする課題） 式Ｉで表わされる３−フエニルピロール誘導体でR1とR2
が一緒になってジフルオロメチレンジオキシ基を表わ
し、Ｘがシアノ基を表わす化合物は殺菌剤としてヨーロ
ッパ特許出願Ａ−206999に開示されている。
が一緒になってジフルオロメチレンジオキシ基を表わ
し、Ｘがシアノ基を表わす化合物は殺菌剤としてヨーロ
ッパ特許出願Ａ−206999に開示されている。
式Ｉで表わされる３−フエニルピロール誘導体でR1及び
R2が互に他と独立して、水素原子、ハロゲン原子メトキ
シ基またはメチルチオ基を表わし、Ｘがシアノ基を表わ
す化合物は、殺菌剤の合成のための中間体としてヨーロ
ッパ特許出願Ａ−133247に開示されている。ヨーロッパ
特許出願Ａ−236272に於ては、 式Ｉで表わされる化合物に於てR1が２−クロロ基を表わ
し、R2が３−クロロ基を表わし、そしてＸがシアノ基を
表わす化合物が顕著な殺真菌活性を有するものとして開
示されている。
R2が互に他と独立して、水素原子、ハロゲン原子メトキ
シ基またはメチルチオ基を表わし、Ｘがシアノ基を表わ
す化合物は、殺菌剤の合成のための中間体としてヨーロ
ッパ特許出願Ａ−133247に開示されている。ヨーロッパ
特許出願Ａ−236272に於ては、 式Ｉで表わされる化合物に於てR1が２−クロロ基を表わ
し、R2が３−クロロ基を表わし、そしてＸがシアノ基を
表わす化合物が顕著な殺真菌活性を有するものとして開
示されている。
テトラヘドラン レター（Tetrahedron Letters）,197
2,52 5337〜5340に開示された方法に従って、 次式III: で表わされるシンナモニトリルは 次式IV: で表わされる（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシア
ナイド（TOSMIC）でもって、水素化ナトリウムのような
強塩基の存在下で 次式V: で表わされる４−シアノ−３−フエニルピロールに環化
される。
2,52 5337〜5340に開示された方法に従って、 次式III: で表わされるシンナモニトリルは 次式IV: で表わされる（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシア
ナイド（TOSMIC）でもって、水素化ナトリウムのような
強塩基の存在下で 次式V: で表わされる４−シアノ−３−フエニルピロールに環化
される。
工業的な規模に於ける合成としては、非常に低い、わず
か35％程度の収率である点は別にして、この方法の本質
的な欠点はこの方法が単離され、再結晶化した（ｐ−ト
リルスルホニル）−メチル−イソシアナイドでもっての
みしか実施することができないという点にある。
か35％程度の収率である点は別にして、この方法の本質
的な欠点はこの方法が単離され、再結晶化した（ｐ−ト
リルスルホニル）−メチル−イソシアナイドでもっての
みしか実施することができないという点にある。
単離され、再結晶化した（ｐ−トリルスルホニル）メチ
ルイソシアナイドは高められた温度に於て爆発的に分解
しやすいため、該化合物の取扱には非常に高い安全性に
ついての保障を併なう。
ルイソシアナイドは高められた温度に於て爆発的に分解
しやすいため、該化合物の取扱には非常に高い安全性に
ついての保障を併なう。
更に、反応が実施されるのに必要な完全に無水の条件は
上述の工程を、費用がかかりそして複雑なものとしてい
る。
上述の工程を、費用がかかりそして複雑なものとしてい
る。
これらの欠点のため、上記方法は、式Ｉで表わされる３
−フエニルピロールの工業的製法としては不適当であ
る。
−フエニルピロールの工業的製法としては不適当であ
る。
特開昭61−30571号公報には、次式VI （式中： Ｚはハロゲン原子、アルキル基、ハロアルキル基、アル
キルアミノ基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基また
はメチレンジオキシ基を表わし、そしてｎは0,1,または
２を表わす。）で表わされる４−シアノ−３−フエニル
ピロールを、 次式VII （式中、Ｚ及びｎは上記定義と同じであり、そしてＲは
水素原子またはアルキル基を表わす。）で表わされるシ
アノシンナメートと（ｐ−トリルスルホニル）メチルイ
ソシアナイドとを塩基の存在下で反応させることにより
製造する方法が開示されている。
キルアミノ基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基また
はメチレンジオキシ基を表わし、そしてｎは0,1,または
２を表わす。）で表わされる４−シアノ−３−フエニル
ピロールを、 次式VII （式中、Ｚ及びｎは上記定義と同じであり、そしてＲは
水素原子またはアルキル基を表わす。）で表わされるシ
アノシンナメートと（ｐ−トリルスルホニル）メチルイ
ソシアナイドとを塩基の存在下で反応させることにより
製造する方法が開示されている。
前述の方法と同様に、この方法も満足する収率で式VIで
表わされる化合物を合成するためには、単離され、精製
され、再結晶化した（ｐ−トリルスルホニル）メチルイ
ソシアナイドしか使用することができないという重大な
欠点を有する。既に述べたように、結晶化（ｐ−トリル
スルホニル）メチルイソシアナイドは熱的に不安定であ
り、曝燃しやすく、爆発の鋭敏な危険性のため、工業的
規模で実施される合成に於てはかなりの危険源である。
表わされる化合物を合成するためには、単離され、精製
され、再結晶化した（ｐ−トリルスルホニル）メチルイ
ソシアナイドしか使用することができないという重大な
欠点を有する。既に述べたように、結晶化（ｐ−トリル
スルホニル）メチルイソシアナイドは熱的に不安定であ
り、曝燃しやすく、爆発の鋭敏な危険性のため、工業的
規模で実施される合成に於てはかなりの危険源である。
（課題を解決するための手段） 今や工業的規模に於て、良好の収率で、危険を伴うこと
なく、経済的に有利な方法に於て式Ｉで表わされる化合
物を製造することを可能とする新規な方法が見出され
た。
なく、経済的に有利な方法に於て式Ｉで表わされる化合
物を製造することを可能とする新規な方法が見出され
た。
式Ｉで表わされる３−フエニルピロール誘導体を製造す
るための本発明の新規な方法は、 ａ）Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホルムアミド
を不活性溶媒中で、有機塩基の存在下に、ホスホロオキ
シクロライドと反応させ、反応溶媒を水と混合し、得ら
れた二相混合物の水性層を分離し、そして ｂ）（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドを
含有する有機相を、次式II （式中、X,R1およびR2は式Ｉの定義と同じであり、Ｙは
−CO−NHR4,−CO−R5または−Ｓ−R5を表わし、R5は炭
素原子数１乃至６のアルキル基、炭素原子数が１乃至６
のハロアルキル基、フエニル基またはベンジル基もしく
は、各々ハロゲン原子、メチル基、メトキシ基またはメ
チルチオ基で置換されたフエニル基またはベンジル基を
表わし、そしてR4は式Ｉの定義と同じである。） で表わされる化合物と、塩基の存在下で、直接反応させ
ることからなる。
るための本発明の新規な方法は、 ａ）Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホルムアミド
を不活性溶媒中で、有機塩基の存在下に、ホスホロオキ
シクロライドと反応させ、反応溶媒を水と混合し、得ら
れた二相混合物の水性層を分離し、そして ｂ）（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドを
含有する有機相を、次式II （式中、X,R1およびR2は式Ｉの定義と同じであり、Ｙは
−CO−NHR4,−CO−R5または−Ｓ−R5を表わし、R5は炭
素原子数１乃至６のアルキル基、炭素原子数が１乃至６
のハロアルキル基、フエニル基またはベンジル基もしく
は、各々ハロゲン原子、メチル基、メトキシ基またはメ
チルチオ基で置換されたフエニル基またはベンジル基を
表わし、そしてR4は式Ｉの定義と同じである。） で表わされる化合物と、塩基の存在下で、直接反応させ
ることからなる。
適当な不活性溶媒の例は、開鎖または環状エーテルの群
例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、1,
2−ジメトキシメタン；またはクロロアルカン類の群例
えばメチレンクロライド、クロロホルムまたは四塩化炭
素；から選ばれた化合物または化合物の混合物；或い
は、ケトン類の群、例えばアセトン、メチルエチルケト
ン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソプ
ロピルケトンまたはメチルイソブチルケトンまたは低級
カルボン酸のアルキルエステルの群、例えば酢酸メチル
エステル、酢酸エチルエステル、またはプロピオン酸の
エチルエステルから選ばれた化合物である。
例えばジオキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエー
テル、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、1,
2−ジメトキシメタン；またはクロロアルカン類の群例
えばメチレンクロライド、クロロホルムまたは四塩化炭
素；から選ばれた化合物または化合物の混合物；或い
は、ケトン類の群、例えばアセトン、メチルエチルケト
ン、ジエチルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソプ
ロピルケトンまたはメチルイソブチルケトンまたは低級
カルボン酸のアルキルエステルの群、例えば酢酸メチル
エステル、酢酸エチルエステル、またはプロピオン酸の
エチルエステルから選ばれた化合物である。
好ましい溶剤は、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジ
メトキシメタン、酢酸エチルエステル及び1,2−ジメト
キシエタンである。
メトキシメタン、酢酸エチルエステル及び1,2−ジメト
キシエタンである。
特に好ましい溶剤は1,2−ジメトキシエタン及び酢酸エ
チルエステルである。
チルエステルである。
Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホルムアミドから
（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドを製造
するための適当な有機塩基は、例えば、キノリン、ピリ
ジン、ジイソプロピルアミン、好ましくは、キヌクリジ
ン、N,N−ジメチルアニリンジメチルアミノピリジン、
Ｎ−メチルピロリジンまたはN,N,N′,N′−テトラメチ
ルエチレンジアミンのような第３級アミン、そして最も
好ましくは、トリエチルアミンまたはトリ−ｎ−プロピ
ルアミンである。トリエチルアミンが特に好ましい。
（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドを製造
するための適当な有機塩基は、例えば、キノリン、ピリ
ジン、ジイソプロピルアミン、好ましくは、キヌクリジ
ン、N,N−ジメチルアニリンジメチルアミノピリジン、
Ｎ−メチルピロリジンまたはN,N,N′,N′−テトラメチ
ルエチレンジアミンのような第３級アミン、そして最も
好ましくは、トリエチルアミンまたはトリ−ｎ−プロピ
ルアミンである。トリエチルアミンが特に好ましい。
（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドと式II
で表わされる化合物との反応のための適当な塩基の例
は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の酸化物、水
素化物、水酸化物、炭酸塩、カルボン酸塩またはアルコ
レート；トリアルキルアミンまたはピリジン塩基であ
る。特に適当な塩基は、ナトリウムメチレート、ナトリ
ウムエチレート、水性水酸化ナトリウム、水性水酸化カ
リウム、メタノール中の水酸化ナトリウム、メタノール
中の水酸化カリウム、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウ
ムである。
で表わされる化合物との反応のための適当な塩基の例
は、アルカリ金属またはアルカリ土類金属の酸化物、水
素化物、水酸化物、炭酸塩、カルボン酸塩またはアルコ
レート；トリアルキルアミンまたはピリジン塩基であ
る。特に適当な塩基は、ナトリウムメチレート、ナトリ
ウムエチレート、水性水酸化ナトリウム、水性水酸化カ
リウム、メタノール中の水酸化ナトリウム、メタノール
中の水酸化カリウム、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウ
ムである。
特に好ましい塩基は、水性水酸化ナトリウム、メタノー
ル中の水酸化ナトリウム、水性水酸化カルシウム、メタ
ノール中の水酸化カルシウム及びナトリウムメチレート
である。
ル中の水酸化ナトリウム、水性水酸化カルシウム、メタ
ノール中の水酸化カルシウム及びナトリウムメチレート
である。
本発明の方法の好ましい態様に於ては、式IIの化合物は
（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドの溶液
に添加され、そして続いて反応混合物に塩基が添加され
る。
（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドの溶液
に添加され、そして続いて反応混合物に塩基が添加され
る。
式IIの化合物と（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシ
アナイドとの反応のためには、塩基は通常式IIの化合物
１モル当り２〜３モル、好ましくは２〜2.4モルの量に
於て添加される。式IIの化合物と（ｐ−トリルスルホニ
ル）メチルイソシアナイドとの反応は、通常−25゜〜＋
25℃の温度範囲、好ましくは−10゜〜＋10℃の温度範囲
で生じる。
アナイドとの反応のためには、塩基は通常式IIの化合物
１モル当り２〜３モル、好ましくは２〜2.4モルの量に
於て添加される。式IIの化合物と（ｐ−トリルスルホニ
ル）メチルイソシアナイドとの反応は、通常−25゜〜＋
25℃の温度範囲、好ましくは−10゜〜＋10℃の温度範囲
で生じる。
式IIの化合物及び（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソ
シアナイドは通常は等モル量に於て、または式IIの化合
物が10〜20モル％過剰に使用される。
シアナイドは通常は等モル量に於て、または式IIの化合
物が10〜20モル％過剰に使用される。
等モル量使用することが特に好ましい。
工程ａ）に於て、不活性溶媒として、ケトン類または低
級カルボン酸のアルキルエステル類が使用される場合に
は、塩基の水性溶液を有機層に添加し、引き続いて、工
程ｂ）を実施する前に混合物から水性層を分離すること
が好ましい。
級カルボン酸のアルキルエステル類が使用される場合に
は、塩基の水性溶液を有機層に添加し、引き続いて、工
程ｂ）を実施する前に混合物から水性層を分離すること
が好ましい。
この工程の変形のための適当な塩基は、例えば水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素
ナトリウム及び炭酸カリウム、しかし特に水酸化ナトリ
ウム及び炭酸ナトリウムである。
トリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素
ナトリウム及び炭酸カリウム、しかし特に水酸化ナトリ
ウム及び炭酸ナトリウムである。
酢酸エチルエステルは、この工程の変形のための不活性
溶媒媒として特に好ましいものである。
溶媒媒として特に好ましいものである。
本発明の工程の特に好ましい態様は、1,2−ジメトキシ
エタン中のＮ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホルム
アミドをホスホロオキシクロライドとトリエチルアミン
の存在下に反応させ、反応混合物を、0.5〜0.7倍容量の
水と混合し、得られる二相反応混合物から水性層を分離
し、そして、（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシア
ナイドを含む有機層を、塩基の存在下に式IIの化合物と
直接反応させることからなる。
エタン中のＮ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホルム
アミドをホスホロオキシクロライドとトリエチルアミン
の存在下に反応させ、反応混合物を、0.5〜0.7倍容量の
水と混合し、得られる二相反応混合物から水性層を分離
し、そして、（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシア
ナイドを含む有機層を、塩基の存在下に式IIの化合物と
直接反応させることからなる。
特に好ましい本発明の工程の態様は、不活性溶媒として
ジオキサンを使用し、Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メ
チルホルムアミドとホスホロオキシクロライドとの反応
により得られる反応混合物を、0.2〜0.35倍容量の水と
混合することからなる。
ジオキサンを使用し、Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メ
チルホルムアミドとホスホロオキシクロライドとの反応
により得られる反応混合物を、0.2〜0.35倍容量の水と
混合することからなる。
本発明の工程の他の変形は溶媒としてテトラヒドロフラ
ンを使用し、Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホル
ムアミドとホスホロオキシクロライドとの反応により得
られる反応混合物を0.3〜0.8倍容量の水と混合すること
からなる。
ンを使用し、Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホル
ムアミドとホスホロオキシクロライドとの反応により得
られる反応混合物を0.3〜0.8倍容量の水と混合すること
からなる。
更に、本発明の工程の変形は、不活性溶媒としてジメト
キシメタンを使用し、Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メ
チルホルムアミドとホスホロオキシクロライドとの反応
により得られる反応混合物を0.3〜1.2倍容量の水と混合
することからなる。
キシメタンを使用し、Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メ
チルホルムアミドとホスホロオキシクロライドとの反応
により得られる反応混合物を0.3〜1.2倍容量の水と混合
することからなる。
上述した本発明の工程の態様に於ては、 Ｙが−CO−NHR4または−CO−R5, R4が水素原子またはメチル基， R5がメチル基またはフェニル基， R1とR2が互に他と独立して、水素原子または塩素原子、
または一緒になってメチレンジオキシ基または、ジフル
オロメチレンジオキシ基、 Ｘがシアノ基、−CO−R3または−CO−OR3及び、 R3がメチル基である式IIの化合物を使用することが好ま
しい。
または一緒になってメチレンジオキシ基または、ジフル
オロメチレンジオキシ基、 Ｘがシアノ基、−CO−R3または−CO−OR3及び、 R3がメチル基である式IIの化合物を使用することが好ま
しい。
（発明の効果） 本発明の工程は、式Ｉの化合物を良好な収率で、簡単な
方法で製造することを可能にする。
方法で製造することを可能にする。
本発明の工程の特別の利点は、中間体として得られる
（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドを反応
媒体から単離し、式IIの化合物との反応のために、精製
する必要がないということである。（ｐ−トリルスルホ
ニル）メチルイソシアナイドの単離及び精製に於て、乾
燥した結晶化物の可能性のある爆発の発生に於てこうむ
る安全性に対する危険は本発明の工程に於て完全に避け
ることができる。
（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドを反応
媒体から単離し、式IIの化合物との反応のために、精製
する必要がないということである。（ｐ−トリルスルホ
ニル）メチルイソシアナイドの単離及び精製に於て、乾
燥した結晶化物の可能性のある爆発の発生に於てこうむ
る安全性に対する危険は本発明の工程に於て完全に避け
ることができる。
無水条件下で反応を行う費用のかかるやり方なしですま
すことができる点に加うるに本発明の工程により与えら
れる（ｐ−トリルスルホニル）イソシアナイドの実質的
に簡単な取扱が、先行技術の工程より、安全性に対する
手段がより少くてすむという点は、特記されるべきこと
として、抜擢されなければならない。
すことができる点に加うるに本発明の工程により与えら
れる（ｐ−トリルスルホニル）イソシアナイドの実質的
に簡単な取扱が、先行技術の工程より、安全性に対する
手段がより少くてすむという点は、特記されるべきこと
として、抜擢されなければならない。
更に本発明の工程の利点は、反応混合物が水の添加に対
して二相、即ち望む中間体を含む有機層と、副産物を含
む水性層に分離する点である。かくして、二相の分離後
の中間体は使用された溶媒中の溶液の形態で直接的に得
られる。
して二相、即ち望む中間体を含む有機層と、副産物を含
む水性層に分離する点である。かくして、二相の分離後
の中間体は使用された溶媒中の溶液の形態で直接的に得
られる。
（実施例） 次の実施例は本発明の方法により詳細に説明するもので
ある。
ある。
製造実施例 実施例P1:4−シアノ−３−（2,3−ジクロロフエニル）
ピロール ａ） （ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイド
の溶液の製造 41.5g（0.27モル）のホスホロオキシクロライドを、55.
5g（0.26モル）のＮ−（ｐ−トリルスルホニル）メチル
ホルムアミド、124gのトリルエチルアミン及び155gの1,
2−ジメトキシエタンを含む溶液に、０℃の温度に於
て、２〜３時間にわたって滴下する。反応混合物を０℃
で１時間撹拌し、次いで水220mlと、冷却しながら混合
する。反応混合物の温度を＋20℃まで上昇させ、その後
得られた二相混合物の下方の水性相を分離し、生成物を
23.2重量％（理論値の72％）を含有する（ｐ−トリルス
ルホニル）メチルイソシアナイドの1,2−ジメトキシエ
タン溶液157gを得る。
ピロール ａ） （ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイド
の溶液の製造 41.5g（0.27モル）のホスホロオキシクロライドを、55.
5g（0.26モル）のＮ−（ｐ−トリルスルホニル）メチル
ホルムアミド、124gのトリルエチルアミン及び155gの1,
2−ジメトキシエタンを含む溶液に、０℃の温度に於
て、２〜３時間にわたって滴下する。反応混合物を０℃
で１時間撹拌し、次いで水220mlと、冷却しながら混合
する。反応混合物の温度を＋20℃まで上昇させ、その後
得られた二相混合物の下方の水性相を分離し、生成物を
23.2重量％（理論値の72％）を含有する（ｐ−トリルス
ルホニル）メチルイソシアナイドの1,2−ジメトキシエ
タン溶液157gを得る。
ｂ） 48.3gのα−シアノ−2,3−ジクロロシンナミドを
ａ）により製造された（ｐ−トリルスルホニル）メチル
イソシアナイドの溶液157gに対して、撹拌しながら添加
する。
ａ）により製造された（ｐ−トリルスルホニル）メチル
イソシアナイドの溶液157gに対して、撹拌しながら添加
する。
反応混合物を０℃まで冷却し、次いで53.3g（0.4モル）
の30％水性水酸化ナトリウムを撹拌しながら２時間にわ
たって滴下する。０℃で２時間撹拌を続け次いで200gの
水を添加する。次いで反応溶液を＋70℃/200mbarにて濃
縮し、室温で水300gを加えた後、生成物を過により単
離する。
の30％水性水酸化ナトリウムを撹拌しながら２時間にわ
たって滴下する。０℃で２時間撹拌を続け次いで200gの
水を添加する。次いで反応溶液を＋70℃/200mbarにて濃
縮し、室温で水300gを加えた後、生成物を過により単
離する。
過残渣をトルエン80gで洗滌し、真空下で乾燥し、149
℃で溶融する、４−シアノ−３−（2,3−ジクロロフエ
ニル）ピロール44.9g（理論値の97％）を得る。
℃で溶融する、４−シアノ−３−（2,3−ジクロロフエ
ニル）ピロール44.9g（理論値の97％）を得る。
実施例P2:4−シアノ−３−（2,3−メチレンジオキシフ
エニル）ピロール 24.9gのα−シアノ−2,3−メチレンジオキシシンナミド
を実施例P1a）に従って製造された（ｐ−トリルスルホ
ニル）メチルイソシアナイド23.2重量％溶液96.9gに対
して撹拌しながら添加する。次いで、ナトリウムメチレ
ートの30％メタノール溶液41.4gを２時間にわたって添
加する。混合物を30分間撹拌し、次いで水300mlを滴下
し、そして生成物を過により単離する。過残渣をト
ルエンで洗滌し、真空下で乾燥し、206〜208℃で溶融す
る４−シアノ−３−（2,3−メチレンジオキシフエニ
ル）ピロール21g（理論値の86.5％）を得る。
エニル）ピロール 24.9gのα−シアノ−2,3−メチレンジオキシシンナミド
を実施例P1a）に従って製造された（ｐ−トリルスルホ
ニル）メチルイソシアナイド23.2重量％溶液96.9gに対
して撹拌しながら添加する。次いで、ナトリウムメチレ
ートの30％メタノール溶液41.4gを２時間にわたって添
加する。混合物を30分間撹拌し、次いで水300mlを滴下
し、そして生成物を過により単離する。過残渣をト
ルエンで洗滌し、真空下で乾燥し、206〜208℃で溶融す
る４−シアノ−３−（2,3−メチレンジオキシフエニ
ル）ピロール21g（理論値の86.5％）を得る。
実施例P3:4−メチルカルボニル−３−（2,3−ジクロロ
フエニル）ピロール 20gの1,1−ジ（メチルカルボニル）−２−（2,3−ジク
ロロフエニル）−エテンを、実施例P1a）に従って製造
された（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイド
の23.2重量％溶液65gに対して、０℃で撹拌しながら添
加する。次いでナトリウムメチレートの30％メタノール
溶液28.1gを３時間にわたって滴下する。混合物を＋10
℃の温度で60分間撹拌し、次いで170mlの水を滴下しそ
して反応生成物を過により単離する。過残渣をメタ
ノール／エタノールの1:1混合物から再結晶し、次いで
真空下で乾燥すると192〜194℃で溶融する４−メチルカ
ルボニル−３−（2,3−ジクロロフエニル）ピロール8.3
g（理論量の50％）を得る。
フエニル）ピロール 20gの1,1−ジ（メチルカルボニル）−２−（2,3−ジク
ロロフエニル）−エテンを、実施例P1a）に従って製造
された（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイド
の23.2重量％溶液65gに対して、０℃で撹拌しながら添
加する。次いでナトリウムメチレートの30％メタノール
溶液28.1gを３時間にわたって滴下する。混合物を＋10
℃の温度で60分間撹拌し、次いで170mlの水を滴下しそ
して反応生成物を過により単離する。過残渣をメタ
ノール／エタノールの1:1混合物から再結晶し、次いで
真空下で乾燥すると192〜194℃で溶融する４−メチルカ
ルボニル−３−（2,3−ジクロロフエニル）ピロール8.3
g（理論量の50％）を得る。
実施例P4:4−シアノ−３−（４−クロロフエニル）ピロ
ール 28.8gのα−シアノ−４−クロロシンナミドを実施例P1
a）に従って製造された（ｐ−トリル−スルホニル）メ
チルイソシアナイドの23.2重量％溶液117.4gに対して、
０℃の温度で撹拌しながら添加する。次いでメタノール
中ナトリウムメチレート30％溶液50.4gを、＋５℃の温
度で３時間滴加する。混合物を２時間撹拌し、次いで水
70mlを添加する。次いで、溶剤混合物50gを、50℃で真
空下に反応混合物を濃縮することにより除去する。
ール 28.8gのα−シアノ−４−クロロシンナミドを実施例P1
a）に従って製造された（ｐ−トリル−スルホニル）メ
チルイソシアナイドの23.2重量％溶液117.4gに対して、
０℃の温度で撹拌しながら添加する。次いでメタノール
中ナトリウムメチレート30％溶液50.4gを、＋５℃の温
度で３時間滴加する。混合物を２時間撹拌し、次いで水
70mlを添加する。次いで、溶剤混合物50gを、50℃で真
空下に反応混合物を濃縮することにより除去する。
更に140mlの水を添加した後、反応混合物を過し、
過残渣をトルエン30mlで洗滌する。乾燥過残渣をトル
エンから再結晶し、147〜148℃に於て溶融する、４−シ
アノ−３−（４−クロロフエニル）ピロール25.4g（理
論値の89.5％）を得る。
過残渣をトルエン30mlで洗滌する。乾燥過残渣をトル
エンから再結晶し、147〜148℃に於て溶融する、４−シ
アノ−３−（４−クロロフエニル）ピロール25.4g（理
論値の89.5％）を得る。
実施例P5:4−メトキシカルボニル−３−（2,3−ジクロ
ロフエニル）ピロール 20gのメチルα−メチルカルボニル−2,3−ジクロロシン
ナメートを、実施例P1a）に従って製造された（ｐ−ト
リルスルホニル）メチルイソシアナイドの22重量％溶液
に０℃で撹拌しながら添加する。次いでメタノール中ナ
トリウムメチレート30％溶液26.3gを２時間にわたって
添加する。
ロフエニル）ピロール 20gのメチルα−メチルカルボニル−2,3−ジクロロシン
ナメートを、実施例P1a）に従って製造された（ｐ−ト
リルスルホニル）メチルイソシアナイドの22重量％溶液
に０℃で撹拌しながら添加する。次いでメタノール中ナ
トリウムメチレート30％溶液26.3gを２時間にわたって
添加する。
混合物を２時間撹拌後、水35mlを滴加する。反応混合物
は＋50℃で真空下に濃縮する。
は＋50℃で真空下に濃縮する。
70mlの水を添加した後、反応混合物は再度真空下に濃縮
し、次いで過する。過残渣をトルエンで洗滌し、エ
タノールから再結晶すると、200〜201℃で溶融する４−
メトキシカルボニル−３−（2,3−ジクロロフエニル）
−ピロール10.8g（理論値の58％）が得られる。
し、次いで過する。過残渣をトルエンで洗滌し、エ
タノールから再結晶すると、200〜201℃で溶融する４−
メトキシカルボニル−３−（2,3−ジクロロフエニル）
−ピロール10.8g（理論値の58％）が得られる。
実施例P6:4−シアノ−３−（2,3−ジクロロフエニル）
ピロール ａ） 44.5gのホスホロオキシトリクロライドを59.6g
（0.28モル）のＮ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホ
ルムアミド,134gのトリエチルアミン及び168gのテトラ
ヒドロフランからなる溶液に−５℃の温度に於て２時間
にわたって滴加する。０℃で１時間撹拌の後、反応混合
物を300mlの水と、滴下混合する。この滴下添加の間に
温度を＋20℃まで上昇することを許す。得られる二相混
合物の下部の水性相を分離し、生成物を33g含有する
（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドのテト
ラヒドロフラン溶液198gを得る。
ピロール ａ） 44.5gのホスホロオキシトリクロライドを59.6g
（0.28モル）のＮ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホ
ルムアミド,134gのトリエチルアミン及び168gのテトラ
ヒドロフランからなる溶液に−５℃の温度に於て２時間
にわたって滴加する。０℃で１時間撹拌の後、反応混合
物を300mlの水と、滴下混合する。この滴下添加の間に
温度を＋20℃まで上昇することを許す。得られる二相混
合物の下部の水性相を分離し、生成物を33g含有する
（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドのテト
ラヒドロフラン溶液198gを得る。
ｂ） 46.9gのα−シアノ−2,3−ジクロロシンナミドを
ａ）により製造された（ｐ−トリルスルホニル）メチル
イソシアナイドの溶液198gに撹拌しながら添加する。反
応混合物を＋５℃に冷却し、次いで撹拌しながら、水酸
化カリウム50％溶液43.6gを90分にわたり滴加する。混
合物を２時間撹拌し、次いで水80mlを添加する。次いで
溶媒混合物50mlを蒸溜により除去する。
ａ）により製造された（ｐ−トリルスルホニル）メチル
イソシアナイドの溶液198gに撹拌しながら添加する。反
応混合物を＋５℃に冷却し、次いで撹拌しながら、水酸
化カリウム50％溶液43.6gを90分にわたり滴加する。混
合物を２時間撹拌し、次いで水80mlを添加する。次いで
溶媒混合物50mlを蒸溜により除去する。
更に水150mlを添加した後、反応混合物を再度濃縮し、
次いで過する過残渣をトルエンで洗滌し、メタノー
ルから再結晶すると、146〜148℃で溶融する４−シアノ
−３−（2,3−ジクロロフエニル）ピロール34.2g（理論
値の85％）を得る。
次いで過する過残渣をトルエンで洗滌し、メタノー
ルから再結晶すると、146〜148℃で溶融する４−シアノ
−３−（2,3−ジクロロフエニル）ピロール34.2g（理論
値の85％）を得る。
実施例P7:4−シアノ−３−（2,3−ジクロロフエニル）
ピロール ａ） （ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイド
の溶液の製造 31.5gのホスホロオキシクロライドを、43g（0.2モル）
のＮ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホルムアミド,9
2.1gのトリルエチルアミン及び145gの酢酸エチルエステ
ルからなる溶液に０〜５℃の温度で２時間にわたって滴
加する。
ピロール ａ） （ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイド
の溶液の製造 31.5gのホスホロオキシクロライドを、43g（0.2モル）
のＮ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホルムアミド,9
2.1gのトリルエチルアミン及び145gの酢酸エチルエステ
ルからなる溶液に０〜５℃の温度で２時間にわたって滴
加する。
反応混合物を０〜５℃で30分間撹拌し、次いで150mlの
水と混合する。撹拌を＋20℃で10分間続け、その後水性
相を分離する。1Nの水酸化ナトリウム水溶液100mlを添
加し、10分間撹拌を続ける。水性相を分離し、その後有
機相を50mlの水で洗滌し、生成物31gを含有する（ｐ−
トリルスルホニル）メチルイソシアナイドの酢酸エチル
エステル溶液150gを得る。
水と混合する。撹拌を＋20℃で10分間続け、その後水性
相を分離する。1Nの水酸化ナトリウム水溶液100mlを添
加し、10分間撹拌を続ける。水性相を分離し、その後有
機相を50mlの水で洗滌し、生成物31gを含有する（ｐ−
トリルスルホニル）メチルイソシアナイドの酢酸エチル
エステル溶液150gを得る。
ｂ） 38.6gのα−シアノ−2,3−ジクロロシンナミドを
ａ）により製造された（ｐ−トリルスルホニル）メチル
イソシアナイドの溶液150gに滴加する。反応混合物を０
℃に冷却し、次いでメタノール中30％ナトリウムメタレ
ート溶液63.2gを３時間にわたって撹拌しながら滴加す
る。水100mlを添加後、撹拌を15分間続け、その後水性
相を分離する。水を添加後、溶媒を50〜60℃の温度で減
圧下に完全に除去する。残存する分散液を室温に冷却
し、生成物を過により単離する。過残査をトルエン
200mlで洗滌し、乾燥し、148℃で溶融する４−シアノ−
３−（2,3−ジクロロフエニル）ピロール31g（理論値の
82％）を得る。
ａ）により製造された（ｐ−トリルスルホニル）メチル
イソシアナイドの溶液150gに滴加する。反応混合物を０
℃に冷却し、次いでメタノール中30％ナトリウムメタレ
ート溶液63.2gを３時間にわたって撹拌しながら滴加す
る。水100mlを添加後、撹拌を15分間続け、その後水性
相を分離する。水を添加後、溶媒を50〜60℃の温度で減
圧下に完全に除去する。残存する分散液を室温に冷却
し、生成物を過により単離する。過残査をトルエン
200mlで洗滌し、乾燥し、148℃で溶融する４−シアノ−
３−（2,3−ジクロロフエニル）ピロール31g（理論値の
82％）を得る。
実施例P8:4−シアノ−３−（2,3−ジフルオロメチレン
ジオキサン）ピロール ａ） （ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイド
の溶液の製造 31.8g（0.208モル）のホスホロオキシクロライドを42.6
g（0.2モル）のＮ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホ
ルムアミド,96gのトリエチルアミン及び160gの酢酸エチ
ルエステルからなる溶液に０〜５℃の温度で１〜２時間
にわたって滴加する。反応混合物を０〜５℃で１時間撹
拌し、次いで水150mlと混合する。反応混合物の温度を
＋20℃まで上昇することを許し、その後低部の水性相を
分離する。10％炭酸ナトリウム水溶液100mlを添加し、1
0分間撹拌を続ける。その後水性相を分離し、生成物33.
2g（理論値の85％）を含有する（ｐ−トリルスルホニ
ル）メチルイソシアナイドの酢酸エチルエステル溶液21
0gを得る。
ジオキサン）ピロール ａ） （ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイド
の溶液の製造 31.8g（0.208モル）のホスホロオキシクロライドを42.6
g（0.2モル）のＮ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホ
ルムアミド,96gのトリエチルアミン及び160gの酢酸エチ
ルエステルからなる溶液に０〜５℃の温度で１〜２時間
にわたって滴加する。反応混合物を０〜５℃で１時間撹
拌し、次いで水150mlと混合する。反応混合物の温度を
＋20℃まで上昇することを許し、その後低部の水性相を
分離する。10％炭酸ナトリウム水溶液100mlを添加し、1
0分間撹拌を続ける。その後水性相を分離し、生成物33.
2g（理論値の85％）を含有する（ｐ−トリルスルホニ
ル）メチルイソシアナイドの酢酸エチルエステル溶液21
0gを得る。
ｂ） 42.8gのα−シアノ−2,3−ジフルオロメチレンジ
オキシシンナミドをａ）により製造された（ｐ−トリル
スルホニル）−メチルイソシアナイド溶液210gに撹拌し
ながら添加する。反応混合物を０〜５℃に冷却し、次い
でメタノール中35％の水酸化ナトリウム溶液45.8g（0.2
04モル）を撹拌しながら１時間にわたって滴加する。撹
拌を＋20℃で１時間続ける。製造は次の方法の１つによ
って経続される。
オキシシンナミドをａ）により製造された（ｐ−トリル
スルホニル）−メチルイソシアナイド溶液210gに撹拌し
ながら添加する。反応混合物を０〜５℃に冷却し、次い
でメタノール中35％の水酸化ナトリウム溶液45.8g（0.2
04モル）を撹拌しながら１時間にわたって滴加する。撹
拌を＋20℃で１時間続ける。製造は次の方法の１つによ
って経続される。
方法1:120mlの酢酸エチルエステル／メタノール混合物
を65〜70℃の温度で蒸溜により除く。30mlのメタノール
を添加した後、反応混合物を再度170mlの溶媒を蒸発す
ることにより濃縮する。水90mlを添加した後、反応混合
物を過する。過残渣をメタノール／水混合物で洗滌
し、190〜195℃で溶融する４−シアノ−３−（2,3−ジ
フルオロメチレンジオキシフエニル）ピロール35.8g
（理論値の85％）を得る。
を65〜70℃の温度で蒸溜により除く。30mlのメタノール
を添加した後、反応混合物を再度170mlの溶媒を蒸発す
ることにより濃縮する。水90mlを添加した後、反応混合
物を過する。過残渣をメタノール／水混合物で洗滌
し、190〜195℃で溶融する４−シアノ−３−（2,3−ジ
フルオロメチレンジオキシフエニル）ピロール35.8g
（理論値の85％）を得る。
方法2:120mlの酢酸エチルエステル／メタノール混合物
を65〜70℃の温度で蒸溜により除く。120mlの水を添加
した後、反応混合物を再度蒸溜により、濃縮する。メタ
ノール120mlを添加した後、反応混合物を過する。
過残渣をメタノール／水の混合物で洗滌し、190〜195℃
で溶融する４−シアノ−３−（2,3−ジフルオロメチレ
ンジオキシ）ピロール34.3g（理論値の83％）を得る。
を65〜70℃の温度で蒸溜により除く。120mlの水を添加
した後、反応混合物を再度蒸溜により、濃縮する。メタ
ノール120mlを添加した後、反応混合物を過する。
過残渣をメタノール／水の混合物で洗滌し、190〜195℃
で溶融する４−シアノ−３−（2,3−ジフルオロメチレ
ンジオキシ）ピロール34.3g（理論値の83％）を得る。
方法3:200mlの水を添加し、水性相を分離した後、120ml
の酢酸エチルエステルを蒸溜により除く。残渣に対して
メタノール300mlを添加後、反応混合物を再度170mlの溶
媒を蒸発させることにより濃縮する。90mlの水を添加
後、反応混合物を過する。過残渣をメタノール／水
の混合物で洗滌し、190〜195℃で溶融する４−シアノ−
３−（2,3−ジフルオロメチレンジオキシフエニル）ピ
ロール34.3g（理論値の83％）を得る。
の酢酸エチルエステルを蒸溜により除く。残渣に対して
メタノール300mlを添加後、反応混合物を再度170mlの溶
媒を蒸発させることにより濃縮する。90mlの水を添加
後、反応混合物を過する。過残渣をメタノール／水
の混合物で洗滌し、190〜195℃で溶融する４−シアノ−
３−（2,3−ジフルオロメチレンジオキシフエニル）ピ
ロール34.3g（理論値の83％）を得る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平１−316352（ＪＰ，Ａ) 特開 平１−157954（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−30571（ＪＰ，Ａ)
Claims (26)
- 【請求項１】次式Ｉ （式中、 Ｘは、シアノ基、−CO−R3,−CO−OR3または を表わし、 R1とR2は互に他と独立して、水素原子、炭素原子数が１
乃至６のアルキル基、炭素原子数が１乃至６のアルコキ
シ基、炭素原子数が１乃至６のアルキルチオ基、ニトロ
基、シアノ基、ハロゲン原子または炭素原子数が１乃至
６のハロアルキル基を表わすか、またはR1とR2は一緒に
なって、メチレンジオキシ基またはジフルオロメチレン
ジオキシ基を表わし、 R3は炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が
１乃至６のハロアルキル基、フエニル基、またはベンジ
ル基、もしくは各々ハロゲン原子、メチル基、メトキシ
基またはメチルチオ基により置換されたフエニル基また
はベンジル基を表わし、 R4は水素原子、炭素原子数１乃至６のアルキル基、炭素
原子数１乃至６のハロアルキル基、フエニル基またはベ
ンジル基もしくは各々ハロゲン原子、メチル基、メトキ
シ基またはメチルチオ基により置換されたフエニル基ま
たはベンジル基を表わす。） で表わされる３−フエニルピロール誘導体を製造するに
際して、 ａ）Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホルムアミド
を不活性溶媒中に於て、有機塩基の存在下に、ホスホロ
オキシクロライドと反応させ、反応溶液を水と混合し、
得られる二相混合物の水性相を分離し、そして ｂ）（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドを
含む有機相を、次式II （式中： X,R1及びR2は式Ｉで定義したのと同じ意味を表わし、 Ｙは−CONHR4,−CO−R5または−Ｓ−R5を表わし、 R5は炭素原子数が１乃至６のアルキル基、炭素原子数が
１乃至６のハロアルキル基、フエニル基またはベンジル
基、もしくは各々ハロゲン原子、メチル基、メトキシ基
またはメチルチオ基で置換されたフエニル基またはベン
ジル基を表わし、そして R4は式Ｉで定義したのと同じ意味を表わす。）で表わさ
れる化合物と、塩基の存在下に直接反応させることを特
徴とする、３−フエニルピロール誘導体の製造方法。 - 【請求項２】ａ）式IIで表わされる化合物を（ｐ−トリ
ルスルホニル）メチルイソシアナイド溶液に添加し、そ
して ｂ）反応混合物に対して塩基を添加することからなる請
求項（１）記載の方法。 - 【請求項３】（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシア
ナイドと式IIで表わされる化合物の反応に於て、式IIで
表わされる化合物の１モル当り２〜３モルの量の塩基を
添加することからなる請求項（１）記載の方法。 - 【請求項４】R1とR2が各々他と独立して、水素原子、ハ
ロゲン原子、メトキシ基またはメチルチオ基を表わす
か、或いは一緒になってメチレンジオキシ基またはジフ
ルオロメチレンジオキシ基を表わし、R3とR5が互に他を
独立して炭素原子数１乃至４のアルキル基または炭素原
子数が１乃至４のハロアルキル基を表わし、R4が水素原
子、炭素原子数１乃至４のアルキル基または炭素原子数
１乃至４のハロアルキル基を表わし、そしてＹが−CO−
NHR4または−CO−R5を表わす請求項（１）記載の方法。 - 【請求項５】式IIで表わされる化合物が（ｐ−トリルス
ルホニル）メチルイソシアナイドの量にもとづいて10〜
20モル％過剰に使用される請求項（１）記載の方法。 - 【請求項６】（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシア
ナイドと式IIで表わされる化合物が等モル量に於て使用
される請求項（１）記載の方法。 - 【請求項７】不活性溶媒が開鎖または環状エーテル類、
クロロアルカン類、ケトン類からなる群、または低級カ
ルボン酸のアルキルエステル類からなる群から選ばれた
化合物または化合物の混合物である請求項（１）記載の
方法。 - 【請求項８】不活性溶媒が開鎖または環状エーテル類か
らなる群またはクロロアルカン類からなる群から選ばれ
た化合物または化合物の混合物である請求項（１）記載
の方法。 - 【請求項９】Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホル
ムアミドとホスホロオキシクロライドとの反応に於て、
第３級アミンが塩基として使用される請求項（１）記載
の方法。 - 【請求項１０】（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシ
アナイドの溶液と式IIで表わされる化合物との反応のた
めの塩基として、アルカリ金属またはアルカリ土類金属
の酸化物、水素化物、水酸化物、炭酸塩、カルボン酸塩
またはアルコレートもしくはトリアルキルアミン或いは
ピリジン塩基が使用される請求項（１）記載の方法。 - 【請求項１１】式IIで表わされる化合物と（ｐ−トリル
スルホニル）メチルイソシアナイドとの反応が−25〜＋
25℃の範囲の温度で実施される請求項（１）記載の方
法。 - 【請求項１２】式IIで表わされる化合物と（ｐ−トリル
スルホニル）メチルイソシアナイドとの反応が−10〜＋
10℃の範囲の温度で実施される請求項（１）記載の方
法。 - 【請求項１３】塩基がナトリウムメチレート、ナトリウ
ムエチレート、水性水酸化ナトリウム、水性水酸化カリ
ウム、炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムである請求項
（10）記載の方法。 - 【請求項１４】塩基が式IIで表わされる化合物１モル当
り２〜2.4モルの量に於て使用される請求項（10）記載
の方法。 - 【請求項１５】塩基がトリルエチルアミンである請求項
（９）記載の方法。 - 【請求項１６】不活性溶媒がジメトキシメタン、1,2−
ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、ジイソプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メチレン
クロライド、クロロホルム、四塩化炭素または酢酸エチ
ルエステルである請求項（１）記載の方法。 - 【請求項１７】不活性溶媒が、ジメトキシメタン、1,2
−ジメトキシエタン、ジエチルエーテル、ジイソプロピ
ルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メチレ
ンクロライド、クロロホルムまたは四塩化炭素である請
求項（１）記載の方法。 - 【請求項１８】不活性溶媒が、ジメトキシメタン、1,2
−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン
または酢酸エチルエステルである請求項（１）記載の方
法。 - 【請求項１９】不活性溶媒がジメトキシメタン、1,2−
ジメトキシエタン、テトラヒドロフランまたはジオキサ
ンである請求項（１）記載の方法。 - 【請求項２０】不活性溶媒が、1,2−ジメトキシエタン
であり、Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホルムア
ミドとホスホロオキシクロライドとの反応の後に得られ
る反応混合物が0.5〜0.7倍容量の水と混合される請求項
（１）記載の方法。 - 【請求項２１】不活性溶媒がジオキサンであり、Ｎ−
（ｐ−トリルスルホニル）メチルホルムアミドとホスホ
ロオキシクロライドとの反応から得られる反応混合物が
0.2〜0.35倍容量の水と混合される請求項（１）記載の
方法。 - 【請求項２２】不活性溶媒がテトラヒドロフランであ
り、Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホルムアミド
とホスホロオキシクロライドとの反応から得られる反応
混合物が0.3〜0.8倍容量の水と混合される請求項（１）
記載の方法。 - 【請求項２３】不活性溶媒がジメトキシメタンであり、
Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メチルホルムアミドとホ
スホロオキシクロライドとの反応から得られる反応混合
物が0.3〜1.2倍容量の水と混合される請求項（１）記載
の方法。 - 【請求項２４】Ｘがシアノ基、−CO−OR3または−CO−R
3を表わし、R1とR2が互に他と独立して水素原子、塩素
原子を表わすか、または一緒になってメチレンジオキシ
基またはジフルオロメチレンジオキシ基を表わし、R3が
メチル基を表わし、Ｙが−CO−NHR4または−CO−R5を表
わし、R4が水素原子またはメチル基を表わし、そしてR5
がメチル基またはフエニル基を表わす請求項（１）記載
の方法。 - 【請求項２５】ａ）Ｎ−（ｐ−トリルスルホニル）メチ
ルホルムアミドとホスホロオキシクロライドとの反応
を、1,2−ジメトキシエタン中でトリエチルアミンの存
在下に実施し、反応混合物を0.55〜0.6倍容量の水と混
合し、得られる二相反応混合物から水性相を分離し、そ
して ｂ）（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソシアナイドを
含有する有機相を（ｐ−トリルスルホニル）メチルイソ
シアナイドの量にもとづいて等モル量の式IIで表わされ
る化合物と、式IIで表わされる化合物にもとづいて２〜
2.4モルの水性水酸化ナトリウムの存在下、−10〜＋10
℃の範囲の温度に於て反応させることからなる請求項
（１）記載の方法。 - 【請求項２６】ａ）式IIで表わされる化合物を（ｐ−ト
リルスルホニル）メチルイソシアナイドの溶液に添加
し、そして ｂ）反応混合物に対して、水性水酸ナトリウムを添加す
ることからなる請求項（22）記載の方法。
Applications Claiming Priority (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US28334188A | 1988-12-12 | 1988-12-12 | |
| US07/419,793 US4958030A (en) | 1988-12-12 | 1989-10-11 | Process for the preparation of 3-phenylpyrrole derivatives |
| US283,341 | 1989-10-11 | ||
| US419,793 | 1989-10-11 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02202871A JPH02202871A (ja) | 1990-08-10 |
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|---|---|---|---|
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|---|---|
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| EP (1) | EP0378046B1 (ja) |
| JP (1) | JPH0717598B2 (ja) |
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| DE4107398A1 (de) * | 1991-03-08 | 1992-11-05 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von in 3-stellung substituierten 4-cyano-pyrrolverbindungen |
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-
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- 1989-12-05 AT AT89810918T patent/ATE117293T1/de not_active IP Right Cessation
- 1989-12-05 DE DE58908916T patent/DE58908916D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1989-12-12 JP JP1322471A patent/JPH0717598B2/ja not_active Expired - Lifetime
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