JPH07155723A - ごみ焼却炉の飛灰処理方法及び装置 - Google Patents
ごみ焼却炉の飛灰処理方法及び装置Info
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- JPH07155723A JPH07155723A JP5301661A JP30166193A JPH07155723A JP H07155723 A JPH07155723 A JP H07155723A JP 5301661 A JP5301661 A JP 5301661A JP 30166193 A JP30166193 A JP 30166193A JP H07155723 A JPH07155723 A JP H07155723A
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- heating
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 都市ごみ及び産業廃棄物に含まれる有害な有
機塩素化合物、水銀を除去するごみ焼却炉の飛灰処理方
法及び装置を提供する。 【構成】 まず、水銀が揮散する温度（２５０〜３５０
℃）で加熱することにより、水銀を除去する前処理を行
い、次いで４００〜６００℃で加熱することによりダイ
オキシン類を分解する。水銀の除去及びダイオキシン類
有機塩素化合物の分解はボイラ下部の燃焼排ガスにより
飛灰を直接加熱して行なう。水銀を除去する際に除去効
果を高めるために還元剤を加えてもよい。
機塩素化合物、水銀を除去するごみ焼却炉の飛灰処理方
法及び装置を提供する。 【構成】 まず、水銀が揮散する温度（２５０〜３５０
℃）で加熱することにより、水銀を除去する前処理を行
い、次いで４００〜６００℃で加熱することによりダイ
オキシン類を分解する。水銀の除去及びダイオキシン類
有機塩素化合物の分解はボイラ下部の燃焼排ガスにより
飛灰を直接加熱して行なう。水銀を除去する際に除去効
果を高めるために還元剤を加えてもよい。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はごみ焼却炉の飛灰処理方
法及びその装置に係わる。さらに詳しくは都市ごみ及び
産業廃棄物に含まれる有害な有機塩素化合物、水銀を除
去するごみ焼却炉の飛灰処理方法及び装置に関するもの
である。
法及びその装置に係わる。さらに詳しくは都市ごみ及び
産業廃棄物に含まれる有害な有機塩素化合物、水銀を除
去するごみ焼却炉の飛灰処理方法及び装置に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】ごみ焼却炉から回収される飛灰には非常
に毒性の強いダイオキシン等やクロロベンゼン、クロロ
フェノ−ル等のダイオキシン類前駆物質などの有機塩素
化合物、水銀等の有害な重金属が含まれる。また、産業
廃棄物の焼却処理や金属精錬工場などで可燃性の付着物
を含むスクラップを予熱、溶解する際にもダイオキシン
類やクロロベンゼン、クロロフェノ−ル等のダイオキシ
ン類前駆物質などが発生する。
に毒性の強いダイオキシン等やクロロベンゼン、クロロ
フェノ−ル等のダイオキシン類前駆物質などの有機塩素
化合物、水銀等の有害な重金属が含まれる。また、産業
廃棄物の焼却処理や金属精錬工場などで可燃性の付着物
を含むスクラップを予熱、溶解する際にもダイオキシン
類やクロロベンゼン、クロロフェノ−ル等のダイオキシ
ン類前駆物質などが発生する。
【０００３】飛灰に含まれるダイオキシン類の無害化方
法として、特開平２−７８４７９号公報には、密閉され
たコンベア内で窒素等の還元雰囲気や５％以下の低酸素
雰囲気中において、電熱ヒ−タまたは排ガスによって間
接的に飛灰を再加熱して、飛灰中に含まれる有機塩素化
合物等を分解して飛灰を無害化する方法が開示されてい
る。
法として、特開平２−７８４７９号公報には、密閉され
たコンベア内で窒素等の還元雰囲気や５％以下の低酸素
雰囲気中において、電熱ヒ−タまたは排ガスによって間
接的に飛灰を再加熱して、飛灰中に含まれる有機塩素化
合物等を分解して飛灰を無害化する方法が開示されてい
る。
【０００４】また、本出願人により、ボイラ−下部に飛
灰加熱装置を設置し、ごみ焼却炉から排出される高温の
排ガスによって前記飛灰を４００℃〜６００℃で直接加
熱することを特徴とする飛灰処理方法及び装置が出願さ
れている（特願平０３−３０１０３６号、特願平０４−
２９９３１０号）。
灰加熱装置を設置し、ごみ焼却炉から排出される高温の
排ガスによって前記飛灰を４００℃〜６００℃で直接加
熱することを特徴とする飛灰処理方法及び装置が出願さ
れている（特願平０３−３０１０３６号、特願平０４−
２９９３１０号）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら特開平２
−７８４７９号公報に記載されている方法では窒素など
の不活性ガスを必要とし、加熱のため、電力等の余分な
エネルギ−を必要とするという欠点を有している。
−７８４７９号公報に記載されている方法では窒素など
の不活性ガスを必要とし、加熱のため、電力等の余分な
エネルギ−を必要とするという欠点を有している。
【０００６】また、特願平０３−３０１０３６号、特願
平０４−２９９３１０号により出願された方法は、飛灰
の間接加熱ではダイオキシン類の分解する温度の確保が
難しいため、飛灰を直接加熱し、有機化合物の分解を行
なっている。しかしながらこの方法では、有機塩素化合
物の分解とともに、揮発性の高い水銀の揮散が起こる。
揮散した重金属は再び燃焼排ガス中に同伴し、燃焼排ガ
ス中の水銀の濃度を増加させる。通常、排ガスは後段の
集塵装置によって処理される。そこで水銀は吸着され、
捕捉飛灰として分離される。
平０４−２９９３１０号により出願された方法は、飛灰
の間接加熱ではダイオキシン類の分解する温度の確保が
難しいため、飛灰を直接加熱し、有機化合物の分解を行
なっている。しかしながらこの方法では、有機塩素化合
物の分解とともに、揮発性の高い水銀の揮散が起こる。
揮散した重金属は再び燃焼排ガス中に同伴し、燃焼排ガ
ス中の水銀の濃度を増加させる。通常、排ガスは後段の
集塵装置によって処理される。そこで水銀は吸着され、
捕捉飛灰として分離される。
【０００７】そして、この捕捉飛灰は再び飛灰加熱装置
に送られ再度直接加熱される。水銀の揮散が起こる場
合、前述したように水銀の揮散と捕捉から処理が繰り返
えされるため、排ガス中の水銀の濃度はますます高くな
っていく。その結果、水銀は集塵装置等で捕集しきれな
くなり、出口排ガス中の濃度が高くなるという問題点を
有している。従って、本発明は上記問題点を解決すべ
く、省エネルギ−化が図れかつ優れた飛灰処理効率が得
られる、ごみ焼却炉の飛灰処理方法及び装置を提供する
ものである。
に送られ再度直接加熱される。水銀の揮散が起こる場
合、前述したように水銀の揮散と捕捉から処理が繰り返
えされるため、排ガス中の水銀の濃度はますます高くな
っていく。その結果、水銀は集塵装置等で捕集しきれな
くなり、出口排ガス中の濃度が高くなるという問題点を
有している。従って、本発明は上記問題点を解決すべ
く、省エネルギ−化が図れかつ優れた飛灰処理効率が得
られる、ごみ焼却炉の飛灰処理方法及び装置を提供する
ものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】第一の発明は、ごみ焼却
処理装置から回収される飛灰中に含まれるダイオキシン
等の有機塩素化合物及び水銀を除去する際に、まず、水
銀が揮散する温度以上で、ごみ焼却処理装置に付属する
ボイラ下部の燃焼排ガスの一部により飛灰を加熱するこ
とによって、水銀を除去する前処理を行う。次いでダイ
オキシン類が分解する温度以上で、ボイラ下部の燃焼排
ガスにより飛灰を加熱することによって、ダイオキシン
類を分解することを特徴とする。
処理装置から回収される飛灰中に含まれるダイオキシン
等の有機塩素化合物及び水銀を除去する際に、まず、水
銀が揮散する温度以上で、ごみ焼却処理装置に付属する
ボイラ下部の燃焼排ガスの一部により飛灰を加熱するこ
とによって、水銀を除去する前処理を行う。次いでダイ
オキシン類が分解する温度以上で、ボイラ下部の燃焼排
ガスにより飛灰を加熱することによって、ダイオキシン
類を分解することを特徴とする。
【０００９】第二の発明は、２５０〜３５０℃の温度で
加熱し、水銀を除去することを特徴とする。第三の発明
は、４００〜６００℃で加熱し、ダイオキシン等有機塩
素化合物を分解することを特徴とする。第四の発明は、
前記前処理装置を用いて水銀を除去する際に還元剤を添
加することを特徴とする。
加熱し、水銀を除去することを特徴とする。第三の発明
は、４００〜６００℃で加熱し、ダイオキシン等有機塩
素化合物を分解することを特徴とする。第四の発明は、
前記前処理装置を用いて水銀を除去する際に還元剤を添
加することを特徴とする。
【００１０】第五の発明は、集塵装置と有害ガス処理装
置を備えたごみ焼却炉飛灰処理装置において、ボイラ下
部の燃焼排ガスにより飛灰を加熱することにより、水銀
を揮散除去する前処理装置と、ボイラ−下部に設置さ
れ、上面が開放形であり、ダイオキシンを加熱分解する
飛灰加熱装置と、集塵装置より排出された飛灰を前記前
処理装置次いで前記飛灰加熱装置に搬送する飛灰搬送装
置とを備えたことを特徴とする。
置を備えたごみ焼却炉飛灰処理装置において、ボイラ下
部の燃焼排ガスにより飛灰を加熱することにより、水銀
を揮散除去する前処理装置と、ボイラ−下部に設置さ
れ、上面が開放形であり、ダイオキシンを加熱分解する
飛灰加熱装置と、集塵装置より排出された飛灰を前記前
処理装置次いで前記飛灰加熱装置に搬送する飛灰搬送装
置とを備えたことを特徴とする。
【００１１】
【作用】ごみ焼却処理施設から回収される飛灰中に含ま
れるダイオキシン等有機塩素化合物及び水銀は、まず前
処理装置にて加熱され水銀が揮散除去される。次いで飛
灰加熱装置にて加熱され、ダイオキシンが加熱分解され
る。前処理装置にて飛灰を加熱するのに用いるボイラ下
部の燃焼排ガスの量は排ガス全量に対し１／１０〜１／
１００となる。
れるダイオキシン等有機塩素化合物及び水銀は、まず前
処理装置にて加熱され水銀が揮散除去される。次いで飛
灰加熱装置にて加熱され、ダイオキシンが加熱分解され
る。前処理装置にて飛灰を加熱するのに用いるボイラ下
部の燃焼排ガスの量は排ガス全量に対し１／１０〜１／
１００となる。
【００１２】前処理装置の加熱温度は、２５０℃以下で
は水銀の揮散が起こらず、好ましくなく、３５０℃以上
では余分なエネルギ−が必要となりエネルギ−効率が悪
くなる。飛灰加熱装置の加熱温度は、４００℃以下では
ダイオキンの分解が起こらず分解除去できない。６００
℃以上では飛灰の部分的に溶融が起こってしまい好まし
くない。
は水銀の揮散が起こらず、好ましくなく、３５０℃以上
では余分なエネルギ−が必要となりエネルギ−効率が悪
くなる。飛灰加熱装置の加熱温度は、４００℃以下では
ダイオキンの分解が起こらず分解除去できない。６００
℃以上では飛灰の部分的に溶融が起こってしまい好まし
くない。
【００１３】還元剤を加えなくても水銀は除去される
が、還元剤を添加した場合には、飛灰中の水銀が金属水
銀に還元され、水銀の除去効果はさらに高まる。還元剤
について特に限定はしないが、望ましくは塩化第二錫、
硫酸ヒドロキシルアミン等が好ましい。集塵機より排出
される飛灰は、まず前処理装置に搬送され、水銀が除去
される。次いで飛灰加熱装置に搬送され、ダイオキシン
が加熱分解される。加熱処理後、飛灰は排出部より灰ピ
ットに排出される。
が、還元剤を添加した場合には、飛灰中の水銀が金属水
銀に還元され、水銀の除去効果はさらに高まる。還元剤
について特に限定はしないが、望ましくは塩化第二錫、
硫酸ヒドロキシルアミン等が好ましい。集塵機より排出
される飛灰は、まず前処理装置に搬送され、水銀が除去
される。次いで飛灰加熱装置に搬送され、ダイオキシン
が加熱分解される。加熱処理後、飛灰は排出部より灰ピ
ットに排出される。
【００１４】ボイラ下部の燃焼排ガスは、まず、ボイラ
下部に設置されている飛灰加熱装置に入る。次いで、前
処理装置に入る。この時、排ガスは排出部より入口に流
れ、飛灰の流れと向流になる。 飛灰加熱装置は上面が
開放形であるため、ボイラ−下部の燃焼排ガスによって
飛灰を直接加熱することができる。
下部に設置されている飛灰加熱装置に入る。次いで、前
処理装置に入る。この時、排ガスは排出部より入口に流
れ、飛灰の流れと向流になる。 飛灰加熱装置は上面が
開放形であるため、ボイラ−下部の燃焼排ガスによって
飛灰を直接加熱することができる。
【００１５】
【実施例】次に本願発明のごみ焼却炉の飛灰処理方法の
一実施態様を図面を参照しながら説明する。図１、図２
は本発明の飛灰処理装置の一実施例を組み込んだ焼却処
理設備を示す図である。
一実施態様を図面を参照しながら説明する。図１、図２
は本発明の飛灰処理装置の一実施例を組み込んだ焼却処
理設備を示す図である。
【００１６】図１、図２において１はボイラ、２は有害
ガス処理装置、３は集塵機、４は煙突、５は飛灰ピッ
ト、６はボイラ下部に設けられた飛灰加熱装置、７は前
処理装置、８は飛灰加熱装置６と前処理装置７に各々具
備しているスクリュ−フィダ−（飛灰搬送装置）、９は
水銀吸着装置、１０は還元剤供給装置、１１は還元剤、
１２は誘引送風機、１３は排ガス流れ、１４は加熱用排
ガス流れ、１５は飛灰流れである。さらに図２において
１６は電気ヒ−タ−である。
ガス処理装置、３は集塵機、４は煙突、５は飛灰ピッ
ト、６はボイラ下部に設けられた飛灰加熱装置、７は前
処理装置、８は飛灰加熱装置６と前処理装置７に各々具
備しているスクリュ−フィダ−（飛灰搬送装置）、９は
水銀吸着装置、１０は還元剤供給装置、１１は還元剤、
１２は誘引送風機、１３は排ガス流れ、１４は加熱用排
ガス流れ、１５は飛灰流れである。さらに図２において
１６は電気ヒ−タ−である。
【００１７】（実施例１）図１において集塵機３から排
出された飛灰をコンベヤ−によって前処理装置７に熱い
まま搬送する。前処理装置７はボイラ下部の排ガスが飛
灰加熱装置通過後、飛灰の排出部より入るようになって
おり、ボイラ排ガスにより飛灰を直接加熱できるように
なっている。さらに、前処理装置７にはスクリュ−フィ
ダ−８が具備されており、飛灰は供給部から排出部へと
攪拌されながら移動する。スクリュ−フィダ−の回転数
を調整することによって前処理装置での処理時間を１０
〜６０分の範囲で調整することができる。前処理装置で
水銀を約２５０℃で３０分間加熱し、揮散除去する。
出された飛灰をコンベヤ−によって前処理装置７に熱い
まま搬送する。前処理装置７はボイラ下部の排ガスが飛
灰加熱装置通過後、飛灰の排出部より入るようになって
おり、ボイラ排ガスにより飛灰を直接加熱できるように
なっている。さらに、前処理装置７にはスクリュ−フィ
ダ−８が具備されており、飛灰は供給部から排出部へと
攪拌されながら移動する。スクリュ−フィダ−の回転数
を調整することによって前処理装置での処理時間を１０
〜６０分の範囲で調整することができる。前処理装置で
水銀を約２５０℃で３０分間加熱し、揮散除去する。
【００１８】次いで飛灰を供給フィ−ダによってボイラ
−下部に設置された飛灰加熱装置６へ供給する。飛灰加
熱装置６は上面が開放形であり、ボイラ排ガスにより飛
灰を直接加熱できるようになっている。さらに飛灰加熱
装置６にはスクリュウ−フィダ−８が具備されており、
排出部へと攪拌されながら移動する。スクリュ−フィダ
−の回転数を調整することによって飛灰加熱装置での処
理時間を１０〜６０分の範囲で調整することができる。
飛灰加熱装置６にてボイラの熱によって直接約５００℃
で３０分間加熱する。
−下部に設置された飛灰加熱装置６へ供給する。飛灰加
熱装置６は上面が開放形であり、ボイラ排ガスにより飛
灰を直接加熱できるようになっている。さらに飛灰加熱
装置６にはスクリュウ−フィダ−８が具備されており、
排出部へと攪拌されながら移動する。スクリュ−フィダ
−の回転数を調整することによって飛灰加熱装置での処
理時間を１０〜６０分の範囲で調整することができる。
飛灰加熱装置６にてボイラの熱によって直接約５００℃
で３０分間加熱する。
【００１９】ボイラ下部の燃焼排ガスは誘引送風機によ
り飛灰に対して、向流になるように飛灰加熱装置に入
る。次いで前処理装置の飛灰の排出部より入口へと流れ
る。燃焼排ガスにより飛灰が加熱され、飛灰加熱装置に
てダイオキシンが分解され、前処理装置にて水銀が揮散
除去される。
り飛灰に対して、向流になるように飛灰加熱装置に入
る。次いで前処理装置の飛灰の排出部より入口へと流れ
る。燃焼排ガスにより飛灰が加熱され、飛灰加熱装置に
てダイオキシンが分解され、前処理装置にて水銀が揮散
除去される。
【００２０】前処理装置を用いて水銀を除去する際に還
元剤を添加することにより、揮散率が上がり、除去効果
がさらに高まる。還元剤は飛灰供給部に添加されスクリ
ュ−フィダ−の回転によって飛灰と混合される。還元剤
については特に限定はないが、望ましくは塩化第二錫、
硫酸ヒドロキシルアミン等が好ましい。添加量は飛灰に
対し、．０．５〜３ｗｔ％が好ましい。実施例では塩化
第二錫を用い、飛灰に対し、０．２ｗｔ％加えた。
元剤を添加することにより、揮散率が上がり、除去効果
がさらに高まる。還元剤は飛灰供給部に添加されスクリ
ュ−フィダ−の回転によって飛灰と混合される。還元剤
については特に限定はないが、望ましくは塩化第二錫、
硫酸ヒドロキシルアミン等が好ましい。添加量は飛灰に
対し、．０．５〜３ｗｔ％が好ましい。実施例では塩化
第二錫を用い、飛灰に対し、０．２ｗｔ％加えた。
【００２１】加熱処理終了後、飛灰を排出部より灰ピッ
トに排出する。一方、前処理装置から排出された排ガス
を活性炭等の水銀吸着装置によって１２０〜１８０℃の
温度によって処理する。そして、水銀を除去した後、有
害ガス除去装置の入口煙道に戻される。水銀吸着装置の
代わりに水銀回収装置を用いても良い。水銀回収装置を
用いる場合、装置での腐食を避けるため還元装置と冷却
装置との間にガス冷却を兼ねた湿式アルカリ洗浄装置を
設け、酸性有害ガスを除去することもできる。この場
合、水銀回収処理排ガスは直接煙道に戻すことができ
る。
トに排出する。一方、前処理装置から排出された排ガス
を活性炭等の水銀吸着装置によって１２０〜１８０℃の
温度によって処理する。そして、水銀を除去した後、有
害ガス除去装置の入口煙道に戻される。水銀吸着装置の
代わりに水銀回収装置を用いても良い。水銀回収装置を
用いる場合、装置での腐食を避けるため還元装置と冷却
装置との間にガス冷却を兼ねた湿式アルカリ洗浄装置を
設け、酸性有害ガスを除去することもできる。この場
合、水銀回収処理排ガスは直接煙道に戻すことができ
る。
【００２２】飛灰加熱装置及び前処理装置にて飛灰加熱
に用いるボイラ下部燃焼排ガス量は全処理ガス量の１／
１０〜１／１００であり、今回用いた排ガス量は１／５
０程度である。またボイラ−下部温度は４００〜８００
℃である。飛灰加熱装置は、ボイラ−下部の流速が小さ
いところ、もしくはじゃま板等を設け流速を小さくした
ところに設置するのが良い。
に用いるボイラ下部燃焼排ガス量は全処理ガス量の１／
１０〜１／１００であり、今回用いた排ガス量は１／５
０程度である。またボイラ−下部温度は４００〜８００
℃である。飛灰加熱装置は、ボイラ−下部の流速が小さ
いところ、もしくはじゃま板等を設け流速を小さくした
ところに設置するのが良い。
【００２３】表１は実施例１による飛灰中のダイオキシ
ン類および水銀の除去結果を表したものである。集塵灰
に比べ、前処理装置での処理温度が２５０℃近辺であり
再合成に適した温度であるため、前処理を行うことによ
って飛灰中のダイオキシン類は一旦増加するが、加熱装
置から排出された処理灰中のダイオキシン類濃度は０．
００１ｎｇ−ＴＥＱ／ｇ以下となり、無害化されてい
た。水銀は前処理装置出口では８０％除去されており、
さらに飛灰加熱装置出口では９９％除去されていた。ま
た、活性炭吸着層で処理された排ガス中の水銀及びダイ
オキシン類はそれぞれ０．０１ｍｇ／Ｎｍ3 、０．１ｎ
ｇ−ＴＥＱ／Ｎｍ3 以下であった。
ン類および水銀の除去結果を表したものである。集塵灰
に比べ、前処理装置での処理温度が２５０℃近辺であり
再合成に適した温度であるため、前処理を行うことによ
って飛灰中のダイオキシン類は一旦増加するが、加熱装
置から排出された処理灰中のダイオキシン類濃度は０．
００１ｎｇ−ＴＥＱ／ｇ以下となり、無害化されてい
た。水銀は前処理装置出口では８０％除去されており、
さらに飛灰加熱装置出口では９９％除去されていた。ま
た、活性炭吸着層で処理された排ガス中の水銀及びダイ
オキシン類はそれぞれ０．０１ｍｇ／Ｎｍ3 、０．１ｎ
ｇ−ＴＥＱ／Ｎｍ3 以下であった。
【００２４】
【表１】
【００２５】図３は２種類の飛灰Ａ、Ｂに対して水銀の
除去効果を表したものである。飛灰Ａは飛灰Ｂに比べ除
去効果が高かった。除去効果の悪い飛灰Ｂに対して還元
剤を添加すると（図３において、還元剤を添加した場合
はＣで示す）、添加しなかった場合（図３においてＢ）
に比べ水銀揮散率が上がり除去効果が高くなった。この
結果、処理温度を低くすることが可能である。
除去効果を表したものである。飛灰Ａは飛灰Ｂに比べ除
去効果が高かった。除去効果の悪い飛灰Ｂに対して還元
剤を添加すると（図３において、還元剤を添加した場合
はＣで示す）、添加しなかった場合（図３においてＢ）
に比べ水銀揮散率が上がり除去効果が高くなった。この
結果、処理温度を低くすることが可能である。
【００２６】（実施例２）前処理装置の外側に電気ヒ−
タ−を設け、間接加熱を行なう。間接加熱を行なうこと
により、飛灰加熱装置、前処理装置にて加熱に用いられ
るボイラの燃焼排ガス量は、実施例１よりさらに少な
く、全処理ガス量の１／１００程度で行なうことができ
る。それ以外の操作は実施例１と同様である。
タ−を設け、間接加熱を行なう。間接加熱を行なうこと
により、飛灰加熱装置、前処理装置にて加熱に用いられ
るボイラの燃焼排ガス量は、実施例１よりさらに少な
く、全処理ガス量の１／１００程度で行なうことができ
る。それ以外の操作は実施例１と同様である。
【００２７】
【発明の効果】本願発明によれば、飛灰中に含まれる水
銀を予め前処理装置にて揮散除去した後、飛灰をボイラ
−下部飛灰加熱装置で直接加熱することにより、ダイオ
キシン等の有機塩素化合物が脱塩素化され無害化され
る。飛灰加熱装置に投入する前に水銀は除去されている
ため、飛灰加熱装置での水銀の揮散は無視でき、水銀の
濃度が上がることなく、効率良く飛灰処理が行なえる。
さらに、前処理装置から排出される水銀を含む排ガス
は、活性炭等の水銀吸着装置もしくは還元・冷却法によ
る水銀回収装置によって処理されるため、排ガスを煙道
に戻した場合でも水銀の濃度が上がることはなく、環境
中に排出されることはない。
銀を予め前処理装置にて揮散除去した後、飛灰をボイラ
−下部飛灰加熱装置で直接加熱することにより、ダイオ
キシン等の有機塩素化合物が脱塩素化され無害化され
る。飛灰加熱装置に投入する前に水銀は除去されている
ため、飛灰加熱装置での水銀の揮散は無視でき、水銀の
濃度が上がることなく、効率良く飛灰処理が行なえる。
さらに、前処理装置から排出される水銀を含む排ガス
は、活性炭等の水銀吸着装置もしくは還元・冷却法によ
る水銀回収装置によって処理されるため、排ガスを煙道
に戻した場合でも水銀の濃度が上がることはなく、環境
中に排出されることはない。
【００２８】前処理装置にて水銀を加熱し、揮散除去を
行う際の排ガス量は、燃焼排ガスの一部（全量に対し１
／１０〜１／１００）と少量のため後段の水銀吸着装置
または水銀回収装置を小型化することができ、薬剤、エ
ネルギ−使用量が少なくてすむ。
行う際の排ガス量は、燃焼排ガスの一部（全量に対し１
／１０〜１／１００）と少量のため後段の水銀吸着装置
または水銀回収装置を小型化することができ、薬剤、エ
ネルギ−使用量が少なくてすむ。
【図１】本発明の飛灰処理装置の一実施例を組み込んだ
焼却処理設備を示す図である。
焼却処理設備を示す図である。
【図２】本発明の飛灰処理装置の一実施例を組み込んだ
焼却処理設備を示す図である。
焼却処理設備を示す図である。
【図３】還元剤添加の有無による水銀の除去効果を示す
図である。
図である。
１ ボイラ ２ 有害ガス処理装置 ３ 集塵装置 ６ 飛灰加熱装置 ７ 前処理装置 ８ 飛灰搬送装置 ９ 水銀除去装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥山 契一 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 中村 佐三 東京都千代田区丸の内一丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内
Claims (5)
- 【請求項１】 ごみ焼却処理装置から回収される飛灰中
に含まれるダイオキシン等の有機塩素化合物及び水銀を
除去する際に、まず、水銀が揮散する温度以上で、ごみ
焼却処理装置に付属するボイラ下部の燃焼排ガスの一部
により飛灰を加熱することによって、水銀を除去する前
処理を行い、次いでダイオキシン類が分解する温度以上
で、ボイラ下部の燃焼排ガスにより飛灰を加熱すること
によって、ダイオキシン類を分解することを特徴とする
ごみ焼却炉の飛灰処理方法。 - 【請求項２】 水銀の除去は２５０〜３５０℃の温度で
加熱することを特徴とする請求項１に記載のごみ焼却炉
飛灰処理方法。 - 【請求項３】 ダイオキシン等有機塩素化合物の分解
は、４００〜６００℃で加熱することを特徴とする請求
項１又は請求項２に記載のごみ焼却炉飛灰処理方法。 - 【請求項４】 前記前処理装置を用いて水銀を除去する
際に飛灰に還元剤を添加することを特徴とする請求項１
ないし請求項３のいずれか１項に記載の飛灰処理方法。 - 【請求項５】 集塵装置と有害ガス処理装置を備えたご
み焼却炉飛灰処理装置において イ）ボイラ下部の燃焼排ガスにより飛灰を加熱すること
によって、水銀を揮散除去する前処理装置と ロ）ボイラ−下部に設置され、上面がボイラ内部に開放
された、ダイオキシンを加熱分解する飛灰加熱装置と ハ）集塵装置より排出された飛灰を前記前処理装置次い
で前記飛灰加熱装置に搬送する飛灰搬送装置とを備えた
ことを特徴とするごみ焼却炉飛灰処理装置。
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|---|---|---|---|
| JP30166193A JP3248319B2 (ja) | 1993-12-01 | 1993-12-01 | ごみ焼却炉の飛灰処理方法及び装置 |
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| JP (1) | JP3248319B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11244825A (ja) * | 1998-03-05 | 1999-09-14 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 飛灰無害化処理方法とその装置 |
| JP2002052376A (ja) * | 2000-08-09 | 2002-02-19 | Taisei Corp | 汚染土壌浄化方法 |
| US7217401B2 (en) * | 1999-08-17 | 2007-05-15 | Wisconsin Electric Power Company | Mercury removal from activated carbon and/or fly ash |
| JP2008151480A (ja) * | 2006-12-20 | 2008-07-03 | Chugoku Electric Power Co Inc:The | ボイラ設備および、灰を灰処理設備側に搬送するフィーダの制御方法 |
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-
1993
- 1993-12-01 JP JP30166193A patent/JP3248319B2/ja not_active Expired - Fee Related
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