JPH0715131Y2 - 有機金属気相成長装置 - Google Patents
有機金属気相成長装置Info
- Publication number
- JPH0715131Y2 JPH0715131Y2 JP1989005347U JP534789U JPH0715131Y2 JP H0715131 Y2 JPH0715131 Y2 JP H0715131Y2 JP 1989005347 U JP1989005347 U JP 1989005347U JP 534789 U JP534789 U JP 534789U JP H0715131 Y2 JPH0715131 Y2 JP H0715131Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oil
- reactor
- vapor phase
- waste gas
- gas treatment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Description
【考案の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本考案は、基板上に有機金属気相成長法によって薄膜を
成長させる有機金属気相成長装置に関するものである。
成長させる有機金属気相成長装置に関するものである。
［従来技術］ この有機金属気相成長装置は、IV族の有機金属とＶ族の
AsH3又はPH3等を用いて行われる。ドーパントとして、S
iH4，H2S，H2Se,TMZn等が用いられ、キャリアガスとし
て水素が用いられている。これをリアクタに送り、該リ
アクタ内の高温に加熱されているサセプタ上のGaAs或い
はInP等の基板に薄膜を成長させることにより実施され
る。この場合、リアクタ内は常圧に近い圧力で実施され
ていたが、ガス速度を早くした方が膜圧の均一性が向上
し、ガス切換え速度が良くなるので、リアクタ内を減圧
する減圧方式が現在各社で開発中である。
AsH3又はPH3等を用いて行われる。ドーパントとして、S
iH4，H2S，H2Se,TMZn等が用いられ、キャリアガスとし
て水素が用いられている。これをリアクタに送り、該リ
アクタ内の高温に加熱されているサセプタ上のGaAs或い
はInP等の基板に薄膜を成長させることにより実施され
る。この場合、リアクタ内は常圧に近い圧力で実施され
ていたが、ガス速度を早くした方が膜圧の均一性が向上
し、ガス切換え速度が良くなるので、リアクタ内を減圧
する減圧方式が現在各社で開発中である。
減圧方式は、圧力補償や、大気から真空或いはその逆に
する設備上の工夫が常圧方式のものよりも必要である。
する設備上の工夫が常圧方式のものよりも必要である。
第３図は従来の減圧方式の有機金属気相成長装置の構成
を示したものである。図において、１はリアクタ、２は
リアクタ１内を例えば100Torrに減圧する減圧機として
の油回路ポンプ、３はリアクタ１と油回路ポンプ２との
間に設けられた廃ガス処理機である。該廃ガス処理機３
は、リアクタ１からの排気ガス中に存在するAsH3，PH3
等の毒性ガス,TMA,TMG等の可燃性ガスを許容限度以下に
処理した後、油回転ポンプ２を経て屋外に排出するよう
になっている。
を示したものである。図において、１はリアクタ、２は
リアクタ１内を例えば100Torrに減圧する減圧機として
の油回路ポンプ、３はリアクタ１と油回路ポンプ２との
間に設けられた廃ガス処理機である。該廃ガス処理機３
は、リアクタ１からの排気ガス中に存在するAsH3，PH3
等の毒性ガス,TMA,TMG等の可燃性ガスを許容限度以下に
処理した後、油回転ポンプ２を経て屋外に排出するよう
になっている。
しかしながら、このような有機金属気相成長装置では、
排ガス処理機３内も油回転ポンプ２により例えば100Tor
rに減圧されて廃ガス処理が行われるので、廃ガス処理
機３中の流速が早くなり過ぎ、廃ガス処理能力が低下し
てしまう問題点があった。
排ガス処理機３内も油回転ポンプ２により例えば100Tor
rに減圧されて廃ガス処理が行われるので、廃ガス処理
機３中の流速が早くなり過ぎ、廃ガス処理能力が低下し
てしまう問題点があった。
これを改善するため、第４図に示すように廃ガス処理機
３の前に油回転ポンプ２を置き、油回転ポンプ２を経て
760Torr（大気圧）になった排気ガスを廃ガス処理機３
で処理することが提案されている。この場合には、リア
クタ１から排出される排気ガスが、油回転ポンプ２中を
通ると、該油回転ポンプ２中の油と排気ガス中の有機金
属が反応して例えばTMAからはアルミナ、TMGからはGaの
酸化物等の反応生成物が発生する。これが多くなると、
油回転ポンプ２中のブレードと摩擦し、該ブレードを傷
めたり、或いはポンプモータに過負荷がかかったりす
る。これを避けるため、油回転ポンプ２にはオイルフィ
ルターが設けられている。また、廃ガス処理機３からの
排気を良好に行わせるため該廃ガス処理機３の後には、
吸引ブロワー５が設けられている。
３の前に油回転ポンプ２を置き、油回転ポンプ２を経て
760Torr（大気圧）になった排気ガスを廃ガス処理機３
で処理することが提案されている。この場合には、リア
クタ１から排出される排気ガスが、油回転ポンプ２中を
通ると、該油回転ポンプ２中の油と排気ガス中の有機金
属が反応して例えばTMAからはアルミナ、TMGからはGaの
酸化物等の反応生成物が発生する。これが多くなると、
油回転ポンプ２中のブレードと摩擦し、該ブレードを傷
めたり、或いはポンプモータに過負荷がかかったりす
る。これを避けるため、油回転ポンプ２にはオイルフィ
ルターが設けられている。また、廃ガス処理機３からの
排気を良好に行わせるため該廃ガス処理機３の後には、
吸引ブロワー５が設けられている。
［考案が解決しようとする課題］ しかしながら、油回転ポンプ２にオイルフィルター４を
取付けると、今度はオイルフィルター４が詰り易く、そ
のメンテナンスに手数がかかる問題点がある。
取付けると、今度はオイルフィルター４が詰り易く、そ
のメンテナンスに手数がかかる問題点がある。
また、リアクタ１の後に油回転ポンプ２が存在すると、
両者の間にバルブが存在していても、使用中の操作時に
或いは保守の際に、油回転ポンプ２で使用している油が
不純物として霧のような状態でリアクタ１内に入り込
み、該リアクタ１内で処理する基板の歩留まりが低下す
る問題点があった。このような不純物の排除は、基板上
に形成する回路の集積度が上がるほど、ますますきびし
く要求されるようになってきている。
両者の間にバルブが存在していても、使用中の操作時に
或いは保守の際に、油回転ポンプ２で使用している油が
不純物として霧のような状態でリアクタ１内に入り込
み、該リアクタ１内で処理する基板の歩留まりが低下す
る問題点があった。このような不純物の排除は、基板上
に形成する回路の集積度が上がるほど、ますますきびし
く要求されるようになってきている。
本考案の目的は、廃ガス処理機の問題点及び油回転ポン
プの問題点を共に解決できる有機金属気相成長装置を提
供することにある。
プの問題点を共に解決できる有機金属気相成長装置を提
供することにある。
［課題を解決するための手段］ 上記の目的を達成するための本考案の構成を説明する
と、本考案は有機金属気相成長を行わせるリアクタと、
該リアクタからの排気ガスを処理する廃ガス処理機との
間には、ロータとそのハウジングとの間に油を介在させ
ないドライ回転吸引機を設けて油回転ポンプ等の油の汚
染源を存在させないようにしたことを特徴とする。
と、本考案は有機金属気相成長を行わせるリアクタと、
該リアクタからの排気ガスを処理する廃ガス処理機との
間には、ロータとそのハウジングとの間に油を介在させ
ないドライ回転吸引機を設けて油回転ポンプ等の油の汚
染源を存在させないようにしたことを特徴とする。
［作用］ このように廃ガス処理機の前段に設ける減圧機として、
ロータとハウジングとの間に油を介在させてないドライ
回転吸引機を用いると、このようなドライ回転吸引機は
ロータとハウジングとの間のクリアランスを油回転ポン
プに比べて必然的に大きくしており、しかもロータとハ
ウジングとの間に油を用いていないので、油と有機金属
との反応生成物が発生しなくなる。従って、オイルフィ
ルターも不要になる。
ロータとハウジングとの間に油を介在させてないドライ
回転吸引機を用いると、このようなドライ回転吸引機は
ロータとハウジングとの間のクリアランスを油回転ポン
プに比べて必然的に大きくしており、しかもロータとハ
ウジングとの間に油を用いていないので、油と有機金属
との反応生成物が発生しなくなる。従って、オイルフィ
ルターも不要になる。
また、リアクタと廃ガス処理機との間にはドライ回転吸
引機を設けて油回転ポンプ等の油の汚染源を存在させな
いようにしたので、使用中の操作時に或いは保守の際に
も、該ドライ回転吸引機側からリアクタへは油が不純物
として入り込まなくなり、該リアクタ内で処理する基板
の歩留まりを向上させることができる。従って、基板上
に形成する回路の集積度が上がっても、容易にこれに対
処することができる。
引機を設けて油回転ポンプ等の油の汚染源を存在させな
いようにしたので、使用中の操作時に或いは保守の際に
も、該ドライ回転吸引機側からリアクタへは油が不純物
として入り込まなくなり、該リアクタ内で処理する基板
の歩留まりを向上させることができる。従って、基板上
に形成する回路の集積度が上がっても、容易にこれに対
処することができる。
［実施例］ 以下、本考案の実施例を第１図を参照して詳細に説明す
る。なお、前述した第３図と対応する部分には、同一符
号を付けて示している。本実施例の有機金属気相成長装
置では、有機金属気相成長を行わせるリアクタ１と、該
リアクタ１からの排気ガスを処理する廃ガス処理機３と
の間には、該廃ガス処理機３の前段に設ける減圧機とし
て、ロータとハウジングとの間に油を介在させてないド
ライ回転吸引機６を設けて油回転ポンプ等の油を汚染源
を存在させないようにしている。該ドライ回転吸引機６
としては、例えば第２図に示すようにハウジング７内で
２個のロータ８が噛み合いながら回転して吸引を行う構
造のもの等を用いる。このドライ回転吸引機６は、ロー
タ８相互間及びロータ８とハウジング７との間に0.2〜
0.3程度のクリアランスが設けられ、且つロータ８とハ
ウジング７との間に油が介在されてない構造になってい
る。このドライ回転吸引機６内には、N2ガス等のパージ
ガスが常に流されて内部を常に洗浄化し、排気ガスが溜
らないようになっている。ドライ回転吸収機６はキャビ
ネト９内に収容され、該キャビネト９には吸引管10が接
続され、万一ドライ回転吸引機６から毒ガスが漏れて
も、これが作業室内に漏れないようになっている。
る。なお、前述した第３図と対応する部分には、同一符
号を付けて示している。本実施例の有機金属気相成長装
置では、有機金属気相成長を行わせるリアクタ１と、該
リアクタ１からの排気ガスを処理する廃ガス処理機３と
の間には、該廃ガス処理機３の前段に設ける減圧機とし
て、ロータとハウジングとの間に油を介在させてないド
ライ回転吸引機６を設けて油回転ポンプ等の油を汚染源
を存在させないようにしている。該ドライ回転吸引機６
としては、例えば第２図に示すようにハウジング７内で
２個のロータ８が噛み合いながら回転して吸引を行う構
造のもの等を用いる。このドライ回転吸引機６は、ロー
タ８相互間及びロータ８とハウジング７との間に0.2〜
0.3程度のクリアランスが設けられ、且つロータ８とハ
ウジング７との間に油が介在されてない構造になってい
る。このドライ回転吸引機６内には、N2ガス等のパージ
ガスが常に流されて内部を常に洗浄化し、排気ガスが溜
らないようになっている。ドライ回転吸収機６はキャビ
ネト９内に収容され、該キャビネト９には吸引管10が接
続され、万一ドライ回転吸引機６から毒ガスが漏れて
も、これが作業室内に漏れないようになっている。
具体例 リアクタ内圧力 :100Torr リアクタ内へのガス：H280l/min（水素換算の総流量） AsH3,TMG,TMA（水素をキャリアガスとする） サセプタ温度 :650〜700℃ 基板 :GaAsウエハ 基板上の薄膜 :GaAsとGaAlAsの薄膜 ドライ回転吸引機内へのN2量:20l/min リアクタ内の圧力が、該リアクタに流すガス量，ガス種
を変えても一定となるように、排気圧制御を行った。
を変えても一定となるように、排気圧制御を行った。
リアクタ内圧力は、減圧有機金属気相成長装置では、数
Torr〜200Torrのどこにしてもよい。要は、圧力が安定
し、そのときの各種条件が安定することが重要である。
Torr〜200Torrのどこにしてもよい。要は、圧力が安定
し、そのときの各種条件が安定することが重要である。
廃ガス処理機３の後には、吸引ブロワー５を設置する方
が、ガスの滞溜がないので望ましいが、場合によっては
省略してもよい。吸引ブロワー５を設けたときの廃ガス
処理機３内の圧力は、740〜760Torrとする。
が、ガスの滞溜がないので望ましいが、場合によっては
省略してもよい。吸引ブロワー５を設けたときの廃ガス
処理機３内の圧力は、740〜760Torrとする。
なお、ドライ回転吸引機６はその吸引能力が低くて所定
の減圧状態が得られないときには、複数台を縦続接続し
て使用する。
の減圧状態が得られないときには、複数台を縦続接続し
て使用する。
また、ドライ回転吸引機６は、羽根車が回転する等のタ
イプのものでもよい。
イプのものでもよい。
［考案の効果］ 以上説明したように本考案に係る有機金属気相成長装置
によれば、下記のような優れた効果を得ることができ
る。
によれば、下記のような優れた効果を得ることができ
る。
（イ）リアクタと廃ガス処理機との間に減圧機として、
ロータとハウジングとの間に油を介在させてないドライ
回転吸収機を設置したので、このようなドライ回転吸引
機の場合にはロータとハウジングとの間のクリアランス
が油回転ポンプに比べて大きく、しかもロータとハウジ
ングとの間に油を用いてないので、油と有機金属との反
応生成物が発生しなくなり、しかもオイルフィルターが
不要になり、保守が容易になる利点がある。
ロータとハウジングとの間に油を介在させてないドライ
回転吸収機を設置したので、このようなドライ回転吸引
機の場合にはロータとハウジングとの間のクリアランス
が油回転ポンプに比べて大きく、しかもロータとハウジ
ングとの間に油を用いてないので、油と有機金属との反
応生成物が発生しなくなり、しかもオイルフィルターが
不要になり、保守が容易になる利点がある。
（ロ）また、本考案のようにリアクタと廃ガス処理機と
の間には、ドライ回転吸引機を設けて油回転ポンプ等の
油の汚染源を存在させないようにすると、処理系に油の
汚染源を存在させないようにして装置を構成することが
できる利点がある。
の間には、ドライ回転吸引機を設けて油回転ポンプ等の
油の汚染源を存在させないようにすると、処理系に油の
汚染源を存在させないようにして装置を構成することが
できる利点がある。
（ハ）また、本考案ではリアクタ内が油で汚染されるの
を防止するために、油使用吸引機器の入口側にパージガ
ス供給源からパージガスを供給する必要もない利点があ
る。
を防止するために、油使用吸引機器の入口側にパージガ
ス供給源からパージガスを供給する必要もない利点があ
る。
（ニ）また、ドライ回転吸引機はロータとそのハウジン
グとの間に油を介在させないので、使用中の操作時に或
いは保守の際にも、該ドライ回転吸引機からリアクタへ
は油が不純物として入り込まなくなり、該リアクタ内で
処理する基板の歩留まりを向上させることができる。従
って、基板上に形成する回路の集積度が上がっても、容
易にこれに対処することができる利点がある。
グとの間に油を介在させないので、使用中の操作時に或
いは保守の際にも、該ドライ回転吸引機からリアクタへ
は油が不純物として入り込まなくなり、該リアクタ内で
処理する基板の歩留まりを向上させることができる。従
って、基板上に形成する回路の集積度が上がっても、容
易にこれに対処することができる利点がある。
（ホ）更に、ドライ回転吸引機を廃ガス処理機の前段に
設けることにより、リアクタ内の圧力制御もドライ回転
吸引機が安定するのでやり易くなり、しかも廃ガス処理
機も流速が早くなり過ぎず、処理能力を低下させない利
点がある。
設けることにより、リアクタ内の圧力制御もドライ回転
吸引機が安定するのでやり易くなり、しかも廃ガス処理
機も流速が早くなり過ぎず、処理能力を低下させない利
点がある。
第１図は本考案に係る有機金属気相成長装置の一実施例
の系統図、第２図はドライ回転吸引機の一例を示す縦断
面図、第３図及び第４図は従来の有機金属気相成長装置
の２種の系統図である。 １……リアクタ、２……油回転ポンプ、３……廃ガス処
理機、５……ブロワー、６……ドライ回転吸引機、７…
…ハウジング、８……ローラ、９……キャビネット、10
……吸引管。
の系統図、第２図はドライ回転吸引機の一例を示す縦断
面図、第３図及び第４図は従来の有機金属気相成長装置
の２種の系統図である。 １……リアクタ、２……油回転ポンプ、３……廃ガス処
理機、５……ブロワー、６……ドライ回転吸引機、７…
…ハウジング、８……ローラ、９……キャビネット、10
……吸引管。
Claims (1)
- 【請求項１】有機金属気相成長を行わせるリアクタと、
該リアクタからの排気ガスを処理する廃ガス処理機との
間には、ロータとそのハウジングとの間に油を介在させ
ないドライ回転吸引機を設けて油回転ポンプ等の油の汚
染源を存在させないようにしたことを特徴とする有機金
属気相成長装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989005347U JPH0715131Y2 (ja) | 1989-01-20 | 1989-01-20 | 有機金属気相成長装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1989005347U JPH0715131Y2 (ja) | 1989-01-20 | 1989-01-20 | 有機金属気相成長装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0296725U JPH0296725U (ja) | 1990-08-01 |
| JPH0715131Y2 true JPH0715131Y2 (ja) | 1995-04-10 |
Family
ID=31208645
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1989005347U Expired - Lifetime JPH0715131Y2 (ja) | 1989-01-20 | 1989-01-20 | 有機金属気相成長装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0715131Y2 (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5534158A (en) * | 1978-09-01 | 1980-03-10 | Sony Corp | Vacuum reaction apparatus |
| JPH0732133B2 (ja) * | 1987-05-19 | 1995-04-10 | 株式会社日立製作所 | 半導体製造装置 |
| JPS63291624A (ja) * | 1987-05-23 | 1988-11-29 | Showa Denko Kk | ガリウム・ヒ素ウェハ−のドライエッチング排ガスの処理方法 |
-
1989
- 1989-01-20 JP JP1989005347U patent/JPH0715131Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0296725U (ja) | 1990-08-01 |
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