JPH07142667A - リードフレーム半導体素子搭載部のディンプルの形成方法 - Google Patents

リードフレーム半導体素子搭載部のディンプルの形成方法

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JPH07142667A
JPH07142667A JP28652393A JP28652393A JPH07142667A JP H07142667 A JPH07142667 A JP H07142667A JP 28652393 A JP28652393 A JP 28652393A JP 28652393 A JP28652393 A JP 28652393A JP H07142667 A JPH07142667 A JP H07142667A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
dimple
lead frame
die
semiconductor chip
forming
Prior art date
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Pending
Application number
JP28652393A
Other languages
English (en)
Inventor
Eiju Akiba
英寿 秋葉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Metal Mining Co Ltd filed Critical Sumitomo Metal Mining Co Ltd
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Pending legal-status Critical Current

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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 リードフレーム半導体素子搭載部には、モー
ルド材との密着性を高めるため、ディンプルを形成する
が、従来は単純形状のディンプルではく離を起こして、
半導体製造工程に支障をきたしていた。これを解決する
ことを目的とする。 【構成】 第1の工程のダイにより一定の深さのディン
プルを形成し、次にその側縁部を、角度を持った第2の
工程のダイにより、ディンプル周辺の肉を寄せて、ディ
ンプル内に段差を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、リードフレームの製造
方法に係わり、特にプレス加工を用いた方法によるリー
ドフレームの半導体素子搭載部のディンプルの形成方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】リードフレームの半導体素子搭載部に
は、モールド材との密着性を高めるためのくぼみである
ディンプルを形成する。この半導体素子搭載部のディン
プルの形成方法には、エッチングの方法を用いる場合
と、順送金型によるプレス加工の方法を用いる場合とが
ある。
【0003】このプレス加工を用いて形状加工を行う際
には、パンチ側あるいはダイ側に所望の形状を持った部
品を作り、それによってディンプルを形成する。この場
合、通常は単なる凸凹形状によるディンプル形成方法を
用いており、単純形状の凹部を作り、モールド材との密
着性を求めていた。
【0004】すなわち、従来の製造方法では、ディンプ
ルの形状が極めて単純であり、半導体素子をシールドす
るモールド材に対して密着性が不十分で、はく離現象を
起こし、製品を不良にし、半導体製造工程に支障をきた
す。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記した不
具合を解決し、よりモールド材との密着性を高め、はく
離の少ないリードフレームを提供することを課題とす
る。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は、リードフレーム半導体素子搭載部に所定
の間隔をおいて配列されたディンプルの形成方法におい
て、第1の工程のダイにより一定の深さを持ったディン
プルを形成し、次にその側縁部を、角度を持った第2の
工程のダイにより、ディンプル周辺の肉を寄せることで
ディンプル内に段差を形成し、半導体素子をシールドす
るモールド材との密着性を高めるディンプルを形成する
ことを特徴とするリードフレーム半導体素子搭載部のデ
ィンプルの形成方法にある。
【0007】なお、通常、この第2の工程のダイの角度
は80〜160度にするのがよい。
【0008】
【作用】上記した工程で形成されたディンプルは、ディ
ンプル内に段差(突起)が形成されるので、半導体素子
搭載部をシールドするモールド材の密着性が、単純形状
のディンプルの場合より向上する。
【0009】
【実施例】次に本発明のディンプルの形成方法の実施例
を、図1を参照して説明する。図において、1は第1の
工程のダイであり、2は第2の工程のダイであり、3は
リードフレームである。4は形成されたディンプルであ
る。5はダイであるが、特に本発明を構成しない。
【0010】第1の工程において、図1(1)に示す如
く、1.0×1.0mmの寸法を持った四角形状のダイ
1を用いて、深さ0.1mmの四角形状のディンプル
を、リードフレーム3に形成する。それによってできた
断面形状が図1(2)である。
【0011】次に、第1の工程において生成した肉盛部
を、第2の工程において、内角80〜160度の範囲内
の角度を持ち、1.5×1.5mmの寸法の四角形状の
ダイ2により、ディンプル内部に押し込む。その断面形
状を図1(3)に示す。形成されたディンプル4は、単
純形状でなく、開口側に突起を有する。
【0012】そして最終的に、表面形状の平坦なダイ5
により、押圧して表面の平坦を得る。これを図1(4)
に示す。なお、この第3の工程は、特に本発明を構成し
ないが、リードフレーム加工工程に伴うものである。
【0013】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のディンプ
ルの形成方法によれば、リードフレームの半導体素子搭
載部に、内部に段差(突起)を有するディンプルを形成
できる。したがって半導体素子をシールドするモールド
の密着性が増し、半導体製造において歩留りの向上をは
かることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のディンプルの形成方法を示す工程図で
ある。
【符号の説明】
1 ダイ1 2 ダイ2 3 リードフレーム 4 ディンプル 5 ダイ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リードフレーム半導体素子搭載部に所定
    の間隔をおいて配列されたディンプルの形成方法におい
    て、第1の工程のダイにより一定の深さを持ったディン
    プルを形成し、次にその側縁部を、角度を持った第2の
    工程のダイにより、ディンプル周辺の肉を寄せることで
    ディンプル内に段差を形成し、半導体素子をシールドす
    るモールド材との密着性を高めるディンプルを形成する
    ことを特徴とするリードフレーム半導体素子搭載部のデ
    ィンプルの形成方法。
JP28652393A 1993-11-16 1993-11-16 リードフレーム半導体素子搭載部のディンプルの形成方法 Pending JPH07142667A (ja)

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