JPH07134821A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
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- JPH07134821A JPH07134821A JP9511894A JP9511894A JPH07134821A JP H07134821 A JPH07134821 A JP H07134821A JP 9511894 A JP9511894 A JP 9511894A JP 9511894 A JP9511894 A JP 9511894A JP H07134821 A JPH07134821 A JP H07134821A
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- layer
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- magnetic recording
- magnetic
- lubricating oil
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明の目的は従来技術の欠点をなくし、対
ヘッド摺動において潤滑性に優れ、摩耗の少ない磁気記
録媒体を提供することにある。 【構成】 本発明の構成は基体と、この基体上に設けら
れた磁性層と、この磁性層上に設けられた保護層とから
なる磁気記録媒体において、前記保護層が水素の比率が
原子数の比で炭素の３０％以下である硬質カーボン層と
含フッ素潤滑油層からなる磁気記録媒体である。
ヘッド摺動において潤滑性に優れ、摩耗の少ない磁気記
録媒体を提供することにある。 【構成】 本発明の構成は基体と、この基体上に設けら
れた磁性層と、この磁性層上に設けられた保護層とから
なる磁気記録媒体において、前記保護層が水素の比率が
原子数の比で炭素の３０％以下である硬質カーボン層と
含フッ素潤滑油層からなる磁気記録媒体である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は記録媒体に係り、特に磁
気ディスク、磁気テープなどの磁気記録媒体に関する。
気ディスク、磁気テープなどの磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、磁気記録媒体の分野では記録密度
向上が最大の課題となっている。このためには、従来か
ら行われている磁性粉末をバインダと共に塗布し乾燥さ
せて固定して磁性媒体層を形成する方法では磁性体充て
ん率向上に限界があり、磁性物質を直接薄膜化する方法
が考案されている。
向上が最大の課題となっている。このためには、従来か
ら行われている磁性粉末をバインダと共に塗布し乾燥さ
せて固定して磁性媒体層を形成する方法では磁性体充て
ん率向上に限界があり、磁性物質を直接薄膜化する方法
が考案されている。
【０００３】上記薄膜化方法としては、例えば蒸着、め
っき、スパッタリングなどがある。これらの方法により
形成した磁性媒体薄膜は、一般に記録再生時にヘッドと
の摺動により摩耗し、脱落しやすく、かつ摩擦係数が高
いためヘッドを痛める。特にリジッドな磁気ディスクの
場合には、ヘッド浮上特性の劣下が起こり、磁気テープ
ではテープ走行性不良の原因になる。
っき、スパッタリングなどがある。これらの方法により
形成した磁性媒体薄膜は、一般に記録再生時にヘッドと
の摺動により摩耗し、脱落しやすく、かつ摩擦係数が高
いためヘッドを痛める。特にリジッドな磁気ディスクの
場合には、ヘッド浮上特性の劣下が起こり、磁気テープ
ではテープ走行性不良の原因になる。
【０００４】そこで磁性媒体層上に保護層を設けて、長
寿命化や走行性向上をはかる工夫が種々行われている。
例えば特開昭５７−１１６７７１号公報には、イミド基
を有する高分子をスパッタする方法が示されており、特
開昭５８−７７０３１号公報には高分子化合物をターゲ
ット材料としてスパッタする例がある。また、カーボン
やＢＮ、ＭｏＳ2等は以前から固体潤滑剤として知られ
ており、これらをスパッタや蒸着により薄膜化する方法
もある。
寿命化や走行性向上をはかる工夫が種々行われている。
例えば特開昭５７−１１６７７１号公報には、イミド基
を有する高分子をスパッタする方法が示されており、特
開昭５８−７７０３１号公報には高分子化合物をターゲ
ット材料としてスパッタする例がある。また、カーボン
やＢＮ、ＭｏＳ2等は以前から固体潤滑剤として知られ
ており、これらをスパッタや蒸着により薄膜化する方法
もある。
【０００５】一方、摺動面に滑性を与える潤滑油として
フッ素系潤滑油を用いることがあり、ＫＲＹＴＯＸ
(Ｒ)、ＶＯＮＢＬＩＮ(Ｒ)等が市販されている、
フッ素系潤滑油を用いることがあり、ＫＲＹＴＯＸ
(Ｒ)、ＶＯＮＢＬＩＮ(Ｒ)等が市販されている、
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】我々は上記の方法を各
々試みたが、有機高分子やカーボンなどをスパッタした
場合には保護膜なしの場合に比べ確かに摺動時の摩耗が
軽減された。しかし長時間の摺動により膜はがれを生
じ、摩耗粉が急増することにより磁性媒体層も破壊され
寿命となるため、実用上はさらに寿命を延ばす必要があ
った。また潤滑油を磁性層上に塗布した場合には、厚く
塗布するとヘッド粘着が起こり、薄く塗布すると潤滑効
果が小さく十分な効果が得られなっかた。
々試みたが、有機高分子やカーボンなどをスパッタした
場合には保護膜なしの場合に比べ確かに摺動時の摩耗が
軽減された。しかし長時間の摺動により膜はがれを生
じ、摩耗粉が急増することにより磁性媒体層も破壊され
寿命となるため、実用上はさらに寿命を延ばす必要があ
った。また潤滑油を磁性層上に塗布した場合には、厚く
塗布するとヘッド粘着が起こり、薄く塗布すると潤滑効
果が小さく十分な効果が得られなっかた。
【０００７】本発明の目的は上記した従来技術の欠点を
なくし、対ヘッド摺動において潤滑性に優れ、摩耗の少
ない磁気記録媒体を提供することにある。
なくし、対ヘッド摺動において潤滑性に優れ、摩耗の少
ない磁気記録媒体を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的は、磁気層上に
硬質カーボン膜と含フッ素潤滑油の複合層を設けること
により達成される。
硬質カーボン膜と含フッ素潤滑油の複合層を設けること
により達成される。
【０００９】この複合層により、カーボン層単独あるい
は潤滑油層単独の場合に比べ飛躍的な耐摩耗性改善が実
現されることがわかった。
は潤滑油層単独の場合に比べ飛躍的な耐摩耗性改善が実
現されることがわかった。
【００１０】一般に潤滑油による潤滑機構は、摺動面と
被摺動面との間に油膜の層ができた場合に流体潤滑とな
り、固体同志が接触しないため理想的な潤滑作用が達成
される。しかるに高密度磁気記録媒体においては、ヘッ
ドと媒体の間隔を広げることは特性劣化の原因となるた
め好ましくない。特に本発明に係わる薄膜磁気記録媒体
では、潤滑層は0.1μｍ以下、好ましくは0.03μｍ以下
とされる。
被摺動面との間に油膜の層ができた場合に流体潤滑とな
り、固体同志が接触しないため理想的な潤滑作用が達成
される。しかるに高密度磁気記録媒体においては、ヘッ
ドと媒体の間隔を広げることは特性劣化の原因となるた
め好ましくない。特に本発明に係わる薄膜磁気記録媒体
では、潤滑層は0.1μｍ以下、好ましくは0.03μｍ以下
とされる。
【００１１】しかし、このような厚さでは油膜の均一性
が保てず、部分的に破断が生じて摺動面と被摺動面が部
分的に接触するいわゆる境界摩耗の領域となる。この領
域においては油の潤滑特性が十分に生かされず、摩耗係
数が大きくなり、かつ被摺動面の摩耗が生じ、記録特性
の劣下やエラー発生又は走行性不良の原因となる。
が保てず、部分的に破断が生じて摺動面と被摺動面が部
分的に接触するいわゆる境界摩耗の領域となる。この領
域においては油の潤滑特性が十分に生かされず、摩耗係
数が大きくなり、かつ被摺動面の摩耗が生じ、記録特性
の劣下やエラー発生又は走行性不良の原因となる。
【００１２】本発明においては潤滑油層の下地となる硬
質カーボン層がそれ自身潤滑性および耐摩耗性を有する
ため境界潤滑における固体間の摺動を大巾に軽減し、潤
滑油の効果を助けていることが飛躍的な特性向上の第一
の原因である。また、これと逆に潤滑油の存在によりカ
ーボン層の摩耗作用が軽減されていることや含フッ素潤
滑油のカーボン膜に対するなじみ性等いくつかの原因の
組み合わせにより本発明の効果が発現されていると考え
られる。
質カーボン層がそれ自身潤滑性および耐摩耗性を有する
ため境界潤滑における固体間の摺動を大巾に軽減し、潤
滑油の効果を助けていることが飛躍的な特性向上の第一
の原因である。また、これと逆に潤滑油の存在によりカ
ーボン層の摩耗作用が軽減されていることや含フッ素潤
滑油のカーボン膜に対するなじみ性等いくつかの原因の
組み合わせにより本発明の効果が発現されていると考え
られる。
【００１３】なお硬質カーボン層の厚さと潤滑油層の厚
さは共に0.001〜0.1μｍであり、好ましくは0.01〜0.06
μｍである。
さは共に0.001〜0.1μｍであり、好ましくは0.01〜0.06
μｍである。
【００１４】本発明における硬質カーボン膜はカーボン
又はグラフアイト状カーボン素材を不活性ガス又は不活
性ガスと炭化水素ガスの混合ガス雰囲気中でスパッタす
るか炭化水素ガスを放電エネルギ−により分解反応さ
せ、基体上に堆積させることにより形成される。スパッ
タの場合ガス圧が高いと膜の硬度が低下するので0.01Ｔ
orr以下が好ましい。スパッタの方法には直流スパッ
タ、交流スパッタ、高周波スパッタ、直流マグネトロン
スパッタ、高周波マグネトロンスパッタ、イオンビーム
スパッタ等があり、いずれでもよいが、硬質な膜を形成
するためにはエネルギー密度を高くするのがよく、たと
えば高周波マグネトロンスパッタではターゲット面積あ
たりの投入電力は１Ｗ／cm2以上、好ましくは1.5〜0.3
Ｗ／cm2である。また、基体を保持する側の電極に０〜
−３ＫＶの範囲より選ばれる電圧を印加しつつスパッタ
することは膜の硬度を増大しかつ膜と基体との密着性を
向上させる効果がある。
又はグラフアイト状カーボン素材を不活性ガス又は不活
性ガスと炭化水素ガスの混合ガス雰囲気中でスパッタす
るか炭化水素ガスを放電エネルギ−により分解反応さ
せ、基体上に堆積させることにより形成される。スパッ
タの場合ガス圧が高いと膜の硬度が低下するので0.01Ｔ
orr以下が好ましい。スパッタの方法には直流スパッ
タ、交流スパッタ、高周波スパッタ、直流マグネトロン
スパッタ、高周波マグネトロンスパッタ、イオンビーム
スパッタ等があり、いずれでもよいが、硬質な膜を形成
するためにはエネルギー密度を高くするのがよく、たと
えば高周波マグネトロンスパッタではターゲット面積あ
たりの投入電力は１Ｗ／cm2以上、好ましくは1.5〜0.3
Ｗ／cm2である。また、基体を保持する側の電極に０〜
−３ＫＶの範囲より選ばれる電圧を印加しつつスパッタ
することは膜の硬度を増大しかつ膜と基体との密着性を
向上させる効果がある。
【００１５】上記スパッタで形成された炭素膜は硬度は
大であるがしばしば内部応力のために変形し基体からは
がれたり亀裂を生じたりする。これを防ぐためにはスパ
ッタ雰囲気に炭化水素ガスを混入するのがよい。上記炭
化水素ガスとしては、メタン、エタン、プロパン、ブタ
ン、イソブタン、シクロブタン、ペンタン、イソペタ
ン、ナオペンタン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等を
用いることができる。このようにしてスパッタ形成され
た膜には少量の水素が含まれるが、水素の比率が多いも
のは硬度が減少するため原子数の比で炭素の30％以下と
するものが好ましい。
大であるがしばしば内部応力のために変形し基体からは
がれたり亀裂を生じたりする。これを防ぐためにはスパ
ッタ雰囲気に炭化水素ガスを混入するのがよい。上記炭
化水素ガスとしては、メタン、エタン、プロパン、ブタ
ン、イソブタン、シクロブタン、ペンタン、イソペタ
ン、ナオペンタン、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等を
用いることができる。このようにしてスパッタ形成され
た膜には少量の水素が含まれるが、水素の比率が多いも
のは硬度が減少するため原子数の比で炭素の30％以下と
するものが好ましい。
【００１６】一方、炭化水素ガスを放電エネルギーで分
解する場合には真空容器中に炭化水素ガスを単独または
不活性ガスと１：0.1ないし１：20の割合で混合して導
入し、ガス圧を0.01〜１Ｔorrの中から選ばれた値に保
持し、容器内部に放電を発生させて該炭化水素を分解活
性化し、容器内に設置された被加工物基体表面に炭素お
よび水素から成る膜を堆積させる。前記炭化水素として
はスパッタの項で既に列記した化合物の中から選ぶこと
ができる。
解する場合には真空容器中に炭化水素ガスを単独または
不活性ガスと１：0.1ないし１：20の割合で混合して導
入し、ガス圧を0.01〜１Ｔorrの中から選ばれた値に保
持し、容器内部に放電を発生させて該炭化水素を分解活
性化し、容器内に設置された被加工物基体表面に炭素お
よび水素から成る膜を堆積させる。前記炭化水素として
はスパッタの項で既に列記した化合物の中から選ぶこと
ができる。
【００１７】また不活性ガスとしてはＨｅ、Ｎｅ、Ａ
ｒ、Ｋｒ、Ｘｅの中から選ぶのがよいが、この他にＨ2
を用いることもできる。前記放電の発生方法としては内
部電極に高電圧を印加するか容器外部から高周波電磁誘
導によるか、又はマイクロ波を導入して発生させる。内
部電極を用いる場合には電源としては直流から高周波ま
でのいずれの周波数を用いてもよい。ただし、硬質の膜
を得るためには放電エネルギーを大きくするのが好まし
く、かつ基体の温度は可能な限り高くするのがよい。
ｒ、Ｋｒ、Ｘｅの中から選ぶのがよいが、この他にＨ2
を用いることもできる。前記放電の発生方法としては内
部電極に高電圧を印加するか容器外部から高周波電磁誘
導によるか、又はマイクロ波を導入して発生させる。内
部電極を用いる場合には電源としては直流から高周波ま
でのいずれの周波数を用いてもよい。ただし、硬質の膜
を得るためには放電エネルギーを大きくするのが好まし
く、かつ基体の温度は可能な限り高くするのがよい。
【００１８】磁性体薄膜は、例えばＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、
Ｃｒなどの金属やこれらの合金、あるいはこれらの酸化
物などの中で強磁性を有する物質からなる薄膜であり、
蒸着、めっき、スパッタリングイオンプレーティング等
の方法で形成される。
Ｃｒなどの金属やこれらの合金、あるいはこれらの酸化
物などの中で強磁性を有する物質からなる薄膜であり、
蒸着、めっき、スパッタリングイオンプレーティング等
の方法で形成される。
【００１９】本発明で用いる含フッ素潤滑油としては、
たとえば一般式(化１）
たとえば一般式(化１）
【００２０】
【化１】
【００２１】で与えられる分子量４０００〜6200のポリ
パーフロロアルキルエーテルがあり（但し式中ＲはＦ、
ＣＦ3又はＣＨ3）、ＫＲＹＴＯＸ(Ｒ)、ＶＯＮＢＬＩＮ
(Ｒ)等の名称で市販されているものを用いることができ
る。また、上記ポリパーフロロアルキルエーテルの誘導
体も使用できる。上記誘導体としては例えば一般式(化
２)
パーフロロアルキルエーテルがあり（但し式中ＲはＦ、
ＣＦ3又はＣＨ3）、ＫＲＹＴＯＸ(Ｒ)、ＶＯＮＢＬＩＮ
(Ｒ)等の名称で市販されているものを用いることができ
る。また、上記ポリパーフロロアルキルエーテルの誘導
体も使用できる。上記誘導体としては例えば一般式(化
２)
【００２２】
【化２】
【００２３】あるいは末端をＣＯＯＨで置換した上記パ
ーフロロポリエーテルなどがある潤滑油層の形成方法と
しては潤滑油をフレオン等の溶剤に溶かし、塗布乾燥さ
せるのがよい。塗布の方法にはスピンコート、ディップ
法またはスプレーによる吹きつけ法などがあり、いずれ
を用いてもよい。
ーフロロポリエーテルなどがある潤滑油層の形成方法と
しては潤滑油をフレオン等の溶剤に溶かし、塗布乾燥さ
せるのがよい。塗布の方法にはスピンコート、ディップ
法またはスプレーによる吹きつけ法などがあり、いずれ
を用いてもよい。
【００２４】
【発明の実施例】以下、本発明を実施例により説明す
る。
る。
【００２５】(実施例１)表面に厚さ３μｍのアルマイト
層を設けたアルミ製ディスク基板上に、Ｆｅをターゲッ
トとしてＡｒ／Ｏ2混合ガス雰囲気中でスパッタし、厚
さ0.2μｍのＦｅ3Ｏ4層を形成した。該基板を空気中で
熱酸化しγ−Ｆｅ3Ｏ4磁性層を形成した。
層を設けたアルミ製ディスク基板上に、Ｆｅをターゲッ
トとしてＡｒ／Ｏ2混合ガス雰囲気中でスパッタし、厚
さ0.2μｍのＦｅ3Ｏ4層を形成した。該基板を空気中で
熱酸化しγ−Ｆｅ3Ｏ4磁性層を形成した。
【００２６】次いで該基板にカーボンをターゲットとし
てＡｒ雰囲気中で高周波マグネトロンスパッタによりス
パッタし炭素膜を形成させた。Ａｒのガス圧は0.003Ｔo
rr、スパッタ中の投入電力密度はターゲット面積あたり
３Ｗ／cm2であった。膜厚は0.02μｍとした。
てＡｒ雰囲気中で高周波マグネトロンスパッタによりス
パッタし炭素膜を形成させた。Ａｒのガス圧は0.003Ｔo
rr、スパッタ中の投入電力密度はターゲット面積あたり
３Ｗ／cm2であった。膜厚は0.02μｍとした。
【００２７】このようにして形成した炭素膜は非常に硬
く、0.1Ｒのサファイア針で50ｇの荷重をかけて引掻い
ても傷を生じなかった。該基板をＫＲＹＴＯＸ(Ｒ)をフ
レオン中に0.1vol％の濃度で溶かした溶液中に浸し、約
10cm／secの速度で引き上げて乾燥させ炭素膜上にＫＲ
ＹＴＯＸ(Ｒ)潤滑層を設けた。このようなプロセスで製
造した磁気ディスク基板に10Ｒの球面をもつサファイア
製摺動子を20ｇの荷重で押しつけ、ディスクを2000rpm
で回転させて摩擦係数と磁性層が破壊するまでの回転数
で測定した。結果を表１のNo.１に示した。特性は良好
であった。
く、0.1Ｒのサファイア針で50ｇの荷重をかけて引掻い
ても傷を生じなかった。該基板をＫＲＹＴＯＸ(Ｒ)をフ
レオン中に0.1vol％の濃度で溶かした溶液中に浸し、約
10cm／secの速度で引き上げて乾燥させ炭素膜上にＫＲ
ＹＴＯＸ(Ｒ)潤滑層を設けた。このようなプロセスで製
造した磁気ディスク基板に10Ｒの球面をもつサファイア
製摺動子を20ｇの荷重で押しつけ、ディスクを2000rpm
で回転させて摩擦係数と磁性層が破壊するまでの回転数
で測定した。結果を表１のNo.１に示した。特性は良好
であった。
【００２８】
【表１】
【００２９】(実施例２)カーボンターゲットをグラファ
イトカーボンとし、それ以外は実施例１と同様のプロセ
スで磁気ディスクを作製し、摺動評価を行った。結果を
表１のNo.２に示した。特性は良好であった。
イトカーボンとし、それ以外は実施例１と同様のプロセ
スで磁気ディスクを作製し、摺動評価を行った。結果を
表１のNo.２に示した。特性は良好であった。
【００３０】(実施例３)実施例１と同様のプロセスで磁
性層を形成した磁気ディスク基板を250mm径の平行電極
を有する真空容器の１方の電極面に取りつけ、系内を排
気した後Ａｒとメタンを５対１の割合で混合したガスを
導入し、系内圧を0.2Ｔorrに保った。その後基板を取り
つけた側の電極に13.56ＭＨｚの高周波を300Ｗ印加して
グロー放電を発生させ、基板表面に厚さ0.03μｍの膜を
堆積させた。この基板を容器から取り出し実施例１と同
様の手順で潤滑油層を設け摺動評価を行った。結果を表
１のNo.３に示した。特性は良好であった。
性層を形成した磁気ディスク基板を250mm径の平行電極
を有する真空容器の１方の電極面に取りつけ、系内を排
気した後Ａｒとメタンを５対１の割合で混合したガスを
導入し、系内圧を0.2Ｔorrに保った。その後基板を取り
つけた側の電極に13.56ＭＨｚの高周波を300Ｗ印加して
グロー放電を発生させ、基板表面に厚さ0.03μｍの膜を
堆積させた。この基板を容器から取り出し実施例１と同
様の手順で潤滑油層を設け摺動評価を行った。結果を表
１のNo.３に示した。特性は良好であった。
【００３１】(実施例４)厚さ12μｍポリエチレンテレフ
タレートフィルムの片面にＣｏ／Ｎｉ合金を0.1μｍの
厚みに蒸着し、磁性層を形成した。該磁性層表面に実施
例１と同じ手順で厚さ0.02μｍのカーボンおよびグラフ
ァイトカーボンのスパッタ膜を設けた後、実施例１と同
じＫＲＹＴＯＸ(Ｒ)溶液に浸し、引き上げて潤滑油層を
設け、磁気テープとした。
タレートフィルムの片面にＣｏ／Ｎｉ合金を0.1μｍの
厚みに蒸着し、磁性層を形成した。該磁性層表面に実施
例１と同じ手順で厚さ0.02μｍのカーボンおよびグラフ
ァイトカーボンのスパッタ膜を設けた後、実施例１と同
じＫＲＹＴＯＸ(Ｒ)溶液に浸し、引き上げて潤滑油層を
設け、磁気テープとした。
【００３２】この磁気テープを８ｍｍ巾にスリットし、
４ｍｍφのＳＵＳ製ピンに磁性層側が接触するように90
°の角度で巻きつけ、20ｇの荷重をかけて１ｍ／minの
速度でテープを往復動させた。100回摺動後の摩擦係数
と傷のはいり方を観察した。結果を表２のNo.６に示し
た。特性は良好であった。
４ｍｍφのＳＵＳ製ピンに磁性層側が接触するように90
°の角度で巻きつけ、20ｇの荷重をかけて１ｍ／minの
速度でテープを往復動させた。100回摺動後の摩擦係数
と傷のはいり方を観察した。結果を表２のNo.６に示し
た。特性は良好であった。
【００３３】
【表２】
【００３４】(比較例１)実施例１のディスク用基板に磁
性層のみを実施例１と同様にして形成したものを、実施
例１と同様に摺動評価した。結果を表１のNo.４に示し
た。特性は良くなかった。
性層のみを実施例１と同様にして形成したものを、実施
例１と同様に摺動評価した。結果を表１のNo.４に示し
た。特性は良くなかった。
【００３５】(比較例２)実施例１のディスク用基板に実
施例１と同様にして磁性層を設けた後、実施例１と同様
の条件でカーボンをスパッタしたもの、およびカーボン
スパッタなしで実施例１と同様にしてＫＲＹＴＯＸ Ｒ
の潤滑層を設けたものを、実施例１と同様に摺動評価し
た。結果表１のNo.５に示した。特性は良くなかった。
施例１と同様にして磁性層を設けた後、実施例１と同様
の条件でカーボンをスパッタしたもの、およびカーボン
スパッタなしで実施例１と同様にしてＫＲＹＴＯＸ Ｒ
の潤滑層を設けたものを、実施例１と同様に摺動評価し
た。結果表１のNo.５に示した。特性は良くなかった。
【００３６】(比較例３)実施例４で用いたポリエチレン
テレフタレートフィルムに、実施例４と同様にしてＣｏ
／Ｎｉ合金の磁性層のみを設けたものおよび、実施例４
と同様にして磁性層とカーボンスパッタ膜を設けたも
の、実施例４と同様にして磁性層とＫＲＹＴＯＸ(Ｒ)の
潤滑層を設けたものをそれぞれ実施例4と同様に評価し
た。結果を表２のNo.７に示した。特性は良くなかっ
た。
テレフタレートフィルムに、実施例４と同様にしてＣｏ
／Ｎｉ合金の磁性層のみを設けたものおよび、実施例４
と同様にして磁性層とカーボンスパッタ膜を設けたも
の、実施例４と同様にして磁性層とＫＲＹＴＯＸ(Ｒ)の
潤滑層を設けたものをそれぞれ実施例4と同様に評価し
た。結果を表２のNo.７に示した。特性は良くなかっ
た。
【００３７】
【発明の効果】以上示したように、本研究によれば磁気
記録媒体の摩擦係数を下げ、摩耗に対し飛躍的な耐性を
もたせることができるため対ヘッド耐動特性を向上させ
磁気記録媒体の寿命および信頼性向上に大きな効果があ
る。
記録媒体の摩擦係数を下げ、摩耗に対し飛躍的な耐性を
もたせることができるため対ヘッド耐動特性を向上させ
磁気記録媒体の寿命および信頼性向上に大きな効果があ
る。
Claims (6)
- 【請求項１】 基体と、この基体上に設けられた磁性層
と、この磁性層上に設けられた保護層とからなる磁気記
録媒体において、前記保護層は水素の比率が原子数の比
で炭素の３０％以下である硬質カーボン層と含フッ素潤
滑油層からなることを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項２】 前記硬質カーボン層は、カーボン素材又
はグラファイト状カーボン素材を不活性ガス雰囲気中ま
たは不活性ガスと炭化水素ガスの混合雰囲気中でスパッ
タして形成されたものであることを特徴とする特許請求
の範囲第１項記載の磁気記録媒体。 - 【請求項３】 前記硬質カーボン層は、炭化水素ガスを
放電エネルギーにより分解し基体上に堆積させたもので
あることを特徴とする特許請求の範囲第１項記載の磁気
記録媒体。 - 【請求項４】 前記含フッ素潤滑油はポリパーフロロア
ルキルエーテル又はその誘導体であることを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の磁気記録媒体。 - 【請求項５】 前記含フッ素潤滑油が、下記一般式(化
１) 【化１】 で示される分子量4000〜6200のポリパーフロロアルキル
エーテルであることを特徴とする特許請求の範囲第１項
記載の磁気記録媒体。但し、一般式中ＲはＦ、ＣＦ3又
はＣＨ3である。 - 【請求項６】 前記硬質カーボン層と含フッ素潤滑油層
が、共に厚さ0.001〜0.1μｍであることを特徴とする磁
気記録媒体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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| JP6095118A JP2892588B2 (ja) | 1984-11-26 | 1984-11-26 | 磁気記録媒体の製造方法 |
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| JP29698398A Division JPH11203660A (ja) | 1984-11-26 | 1998-10-19 | 磁気記録媒体 |
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| JP29698398A Pending JPH11203660A (ja) | 1984-11-26 | 1998-10-19 | 磁気記録媒体 |
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Citations (6)
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| JPS53143206A (en) * | 1977-05-18 | 1978-12-13 | Nec Corp | Magnetic disc |
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1998
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Patent Citations (6)
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|---|---|---|---|---|
| JPS53143206A (en) * | 1977-05-18 | 1978-12-13 | Nec Corp | Magnetic disc |
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Also Published As
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| JP2892588B2 (ja) | 1999-05-17 |
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