JPH0644558A

JPH0644558A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH0644558A
Application number: JP19858892A
Authority: JP
Inventors: Hideyuki Ueda; 英之植田; Kiyoshi Takahashi; 喜代司高橋; Mikio Murai; 幹夫村居; Masaru Odagiri; 優小田桐; Yukikazu Ochi; 幸和大地
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1992-07-24
Filing date: 1992-07-24
Publication date: 1994-02-18

Abstract

(57)【要約】【目的】電磁変換特性と実用信頼性（耐久性、耐候
性、走行安定性）とを高次元で両立することのできる強
磁性金属薄膜型磁気記録媒体を提供することを目的とす
る。【構成】非磁性基板３上に強磁性金属薄膜５を形成
し、強磁性金属薄膜５上にプラズマＣＶＤ法等により硬
質炭素保護膜７を形成する。さらに硬質炭素保護膜７上
に−ＣＯＯＨ等の特定の極性基を導入した含フッ素系潤
滑剤層９を湿式塗布法等により形成する。あるいは硬質
炭素保護膜７上に含窒素化合物のモノマーガスによるプ
ラズマ重合膜を形成し、トップコート層として−ＣＯＯ
Ｈ等の特定の極性基を導入した含フッ素系潤滑剤層９を
湿式塗布法等により形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＶＴＲ、磁気ディスク
装置等に用いられる強磁性金属薄膜型磁気記録媒体に関
するものであり、特に電磁変換特性と実用信頼性とを高
次元両立させるために磁性層上に硬質炭素保護膜を形成
し、さらにトップコート層として、含フッ素系潤滑剤層
を形成した磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、磁気記録媒体装置は、高性能化
（ＶＴＲの場合は、高画質・高音質化、磁気ディスク装
置の場合は、大容量・高速化）、小型軽量化が要望され
るようになってきた。それに伴い磁気記録媒体として
は、高密度記録を達成することが必要不可欠であり、磁
性層の残留磁束密度（Ｂｒ）及び保磁力（Ｈｃ）が共に
大きく、磁性層の薄層化が可能であり、しかも磁性層表
面の超平滑化に最適である強磁性金属薄膜型磁気記録媒
体の開発、実用化が積極的に行われている。

【０００３】一般に強磁性金属薄膜型磁気記録媒体は、
真空雰囲気中で、Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ等の金
属もしくは合金を電子ビーム等で加熱・蒸発させ、真空
槽内にわずかな酸素ガスを導入しながら、連続的に入射
角を変化させた斜方蒸着法、スパッタリング法等を用い
て、ポリエステル、ポリイミド等の高分子フィルムや非
磁性金属からなる基板上に付着・堆積させることにより
得ることができる。

【０００４】しかしながら強磁性金属薄膜型磁気記録媒
体の磁性層は、硬度が低く塑性変形しやすいため、高速
回転するＶＴＲの磁気ヘッド及び金属シリンダと直接接
触する場合、磁性層は瞬間的に摩耗・損傷され、ヘッド
摺動面に金属凝着を引き起こし、その結果、耐久性の悪
化（繰り返し走行による大幅な記録再生出力の低下、ス
チルライフの著しい減少等）を招くという問題が生じ
た。また磁性層表面は、酸化被膜が形成され保護されて
ているものの高湿環境下における耐食性は、不充分であ
るといった問題を有していた。

【０００５】そこで従来より、強磁性金属薄膜型磁気記
録媒体の潤滑性、耐摩耗性及び耐食性を向上させるため
に、微小突起を形成したベースフィルムを使用したり、
磁性層上に滑り性・撥水性効果を合わせ持つ含フッ素系
潤滑剤層あるいは硬質保護膜層を形成することが提案さ
れている。特に硬質保護膜層については、ＳｉＯ2 膜を
設ける構成（特開昭５９−２２９７４３号公報及び特開
昭６０−１４５５２４号公報）、層状結晶構造を有する
グラファイト層を設ける構成（特開昭６０−１４５５２
４号公報及び特開昭６１−１３４３９）あるいは二硫化
モリブデン薄膜層を設ける構成（特開昭６０−１３３５
４５号公報及び特開昭６０−１９７９３３号公報）、ス
パッタ法によるアモルファスカーボン膜を設ける構成
（特開昭６２−５１０２３号公報及び特開昭６２−５７
１２３号公報）、プラズマ重合膜を設ける構成（特開昭
５９−１７１０２８号公報及び特開昭６０−５７５３５
号公報）等の提案がなされている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来より
行われてきた方法を用いて、優れた電磁変換特性及び耐
久性を兼ね備えた磁気記録媒体を提供することは非常に
困難であり、様々な問題が生じている。

【０００７】例えば磁性層上に上記した保護膜層を形成
する構成では、保護膜自体の硬度が低いため、耐久性を
確保するためには保護膜の膜厚を厚くする必要があり、
その結果、テープとヘッドとのスペーシングロスが増大
し、電磁変換特性の低下を招いてしまう。また保護膜の
膜厚を増加させずに耐久性を向上させる方法として、上
記保護膜上に滑り性効果（せん断力を低下させる効果）
のある潤滑剤層を形成させた場合においても、保護膜と
潤滑剤との接着性が充分でないために、記録再生時にヘ
ッド摺動面に潤滑剤成分からなる焼き付きが生じ、著し
い出力低下を招いたり、長時間目づまりを発生させる等
予期した効果が得られないことが多い。

【０００８】また保護膜の硬度がある程度高い場合にお
いても、保護膜構成原子の充填率（密度）が低いため
に、高温高湿保存時に水分等が保護膜と磁性層との界
面、磁性層とベースフィルムとの界面に侵入し、錆、ふ
くれ、剥離等が発生するといった耐候性劣下の問題を有
していた。

【０００９】本発明は上記課題を解決するものであり、
電磁変換特性と実用信頼性とを高次元で両立させること
のできる強磁性金属薄膜型磁気記録媒体を提供すること
を目的とするものである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に本発明は、非磁性基板上に強磁性金属薄膜を形成し、
強磁性金属薄膜上に、ラマンスペクトルの面積強度比が
０．８〜３．０であり、密度が１．５ｇ／ｃｍ³ 以上で
あり、ビッカース硬度が２０００ｋｇ／ｍｍ²以上であ
る硬質炭素保護膜を形成し、さらにトップコート層とし
て、この硬質炭素保護膜上に、−ＣＯＯＨ、−ＯＨ、−
ＳＨ、−ＮＨ₂ 、＝ＮＨ、−ＣＯＮＨ₂、−ＣＯＮＨ
Ｒ、−ＣＯＮＲ₂ 、−ＣＯＯＲ、＝ＰＲ、＝ＰＲＯ、＝
ＰＲＳ、−ＯＰＯ（ＯＨ）₂ 、−ＯＰＯ（ＯＲ）₂ 、−
ＳＯ₃ Ｍ（ただし、Ｒは炭素数１〜２２の炭化水素基、
Ｍは水素、アルカリ金属またはアルカリ土類金属）から
選ばれた少なくとも一つの極性基を有する含フッ素系潤
滑剤層を形成した構成とする。あるいは非磁性基板上に
強磁性金属薄膜を形成し、強磁性金属薄膜上に、硬質炭
素保護膜を形成し、硬質炭素保護膜上に含窒素化合物の
モノマーガスによるプラズマ重合膜を形成し、さらにト
ップコート層として、このプラズマ重合膜上に含フッ素
系潤滑剤層を形成した構成とする。

【００１１】

【作用】したがって本発明によれば、強磁性金属薄膜上
に形成された保護膜は、ＳＰ³結合を主体とした高硬度
でしかも緻密な構造を有する炭素保護膜であり、さらに
含フッ素系潤滑剤分子中に導入された極性基が硬質炭素
保護膜表面に強く吸着するため、テープとヘッドとのス
ペーシングロスを低減し短波長領域での再生出力を向上
させるために保護膜の膜厚を極めて薄く設定した場合で
あっても、耐久性、耐候性を充分に確保することができ
る。

【００１２】また硬質炭素保護膜上に含窒素化合物のモ
ノマーガスによるプラズマ重合膜を形成した場合には、
プラズマ重合膜中に含有する窒素原子と含フッ素系潤滑
剤分子中に導入された極性基との化学的親和力により保
護膜と潤滑剤との接着性がより改善されるため、テープ
の走行安定性が増し、耐久性が著しく向上する。さらに
ヘッド摺動面の異種材料間の偏摩耗を低減することが可
能となり、その結果、電磁変換特性と実用信頼性とを高
次元両立させた強磁性金属薄膜型磁気記録媒体を得るこ
とができる。

【００１３】

【実施例】以下本発明の実施例について図面を参照しな
がら詳細に説明する。

【００１４】図１は、本発明の強磁性金属薄膜型磁気テ
ープ１の構成を示す拡大断面図である。（この図は、後
述する実施例（１）〜（４）における強磁性金属薄膜型
磁気テープの構成図に相当するものである。）図中、３
は非磁性基板であり、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド等の
高分子フィルムを用いることができ、磁性層側の基板表
面には１０ｎｍ〜２０ｎｍ程度の微小突起層４が形成さ
れている。５は強磁性金属薄膜であり、真空雰囲気中
で、Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ等の金属もしくは合
金を電子ビーム等で加熱・蒸発させ、真空槽内にわずか
な酸素ガスを導入しながら、連続的に入射角を変化させ
た斜方蒸着法により形成する。その膜厚は１００ｎｍ〜
２００ｎｍである。６はバックコート層であり、カーボ
ンブラック、ポリウレタン樹脂、ニトロセルロース樹脂
を主成分とした塗料を塗布・乾燥させることにより形成
する。７は硬質炭素保護膜であり、プラズマＣＶＤ法等
により形成することができ、その膜厚は短波長領域での
再生出力を確保するために、８ｎｍ〜１２ｎｍ程度であ
る。また９は−ＣＯＯＨ等の極性基を導入した含フッ素
系潤滑剤層であり、湿式塗布法あるいは真空蒸着法によ
り形成する。

【００１５】また図２は、本発明の強磁性金属薄膜型磁
気テープ２の構成を示す拡大断面図である。（この図
は、後述する実施例（５）、（６）における強磁性金属
薄膜型磁気テープの構成図に相当するものである。）図
中、８は含窒素化合物のモノマーガスによるプラズマ重
合膜であり、その膜厚は１ｎｍ程度である。他は、強磁
性金属薄膜型磁気テープ１の構成と同様である。

【００１６】また図３は、本発明の強磁性金属薄膜型磁
気テープ１、２を構成している硬質炭素保護膜７、プラ
ズマ重合膜８を製造するための成膜装置の概略図を示し
たものである。図中、１０は真空槽であり、真空ポンプ
１１を用いて槽内部の圧力が１０^-4ｔｏｒｒ〜１０^-5ｔ
ｏｒｒの高真空状態となるように排気を行っている。１
２は非磁性基板３上に強磁性金属薄膜５及びバックコー
ト層６が形成された磁気テープであり、巻出しロール１
３から送り出され、２本のパスロール１５、１６及び円
筒状の冷却キャン１７を経由して巻取りロール１４に巻
き取られる。冷却キャン１７は、磁気テープ１２を一定
速度で搬送できるように回転制御する働きをしている。
またこの冷却キャン１７は成膜装置本体とは絶縁されて
おり、冷却キャン内部を循環している冷媒（冷却水）を
介して接地（アース）されている。

【００１７】１８は硬質炭素保護膜７を磁気テープ１２
の強磁性金属薄膜５表面上に成膜させるための放電管
（非平衡プラズマ発生空間）であり、放電管１８の内部
にはパイプ状の放電電極１９が設置されている。パイプ
状の放電電極１９はプラズマ発生用電源２０と接続され
ており、プラズマ発生用電源２０としては、直流電圧ま
たは交流電圧のどちらかのみを印加する方式や直流電圧
と交流電圧とを重畳させて印加する方式の三種類の放電
方式を採用することができる。２１は炭化水素系ガス及
びＡｒガスといった原料ガスを放電管１８内に導入する
ための原料ガス導入口である。２２はプラズマ重合膜８
を磁気テープ１２の硬質炭素保護膜７表面上に成膜させ
るための放電管（非平衡プラズマ発生空間）であり、放
電管２２の内部にはパンチングメタル放電電極２３が設
置されている。パンチングメタル放電電極２３はプラズ
マ発生用電源２４と接続されており、プラズマ発生用電
源２４としては、交流電圧のみを印加する放電方式を採
用している。２５は含窒素化合物のモノマーガスを放電
管２２内に導入するための原料ガス導入口である。

【００１８】なおパスロール１５、１６は、磁気テープ
１２の走行を安定化させるための働きだけでなく、放電
管１８、２２から磁気テープ１２の強磁性金属薄膜５へ
と流れた電流を抵抗を介して接地（アース）させるため
の通電ロールとしての役割も担っている。この際、パス
ロール１５、１６と磁気テープ１２との局部的な接触に
より、電流がその接触部分に集中して非磁性基板３が熱
負けしてしまう問題が発生しないように、パスロール１
５、１６には半導体材料、例えばＳｉＣを用いることが
好ましい。

【００１９】実施例（１）まず真空槽１０の内部を真空排気した後、放電管１８内
にメタンガスとＡｒガスをそれぞれ導入し、メタンガス
とＡｒガスとの圧力比が４：１、総ガス圧力が０．２５
ｔｏｒｒとなるようにガス流量の調整を行う。また円筒
状の冷却キャン１７の温度を１５℃に設定する。次に１
０μｍ厚のポリエチレンテレフタレート３上に強磁性金
属薄膜５及びバックコート層６が形成された磁気テープ
１２を３〜５ｍ／ｍｉｎの走行スピードで搬送させると
ともに、パイプ状の放電電極１９にＤＣ：８００Ｖの電
圧を印加することで非平衡プラズマを発生させ、磁気テ
ープ１２の強磁性金属薄膜５表面上に硬質炭素保護膜７
を膜厚約１０ｎｍ程度成膜する。さらに極性基として−
ＣＯＯＨを導入した含フッ素系潤滑剤層９を湿式塗布法
により膜厚約３ｎｍ程度形成させた後、８ｍｍ幅にスリ
ットして８ｍｍＶＴＲ用薄膜テープを作製した。

【００２０】実施例（１）で得られた硬質炭素保護膜の
ラマンスペクトルを図４に示す。図４より、硬質炭素保
護膜のラマンスペクトルの面積強度比は０．９４であっ
た。

【００２１】実施例（１）で得られた硬質炭素保護膜の
密度は、ラザフォード後方散乱分析法（ＲＢＳ）による
測定結果より、２．３ｇ／ｃｍ³ であることがわかっ
た。

【００２２】また磁気テープ１２の代わりに、Ｓｉウエ
ハー上に実施例（１）と同様な成膜条件（メタンガスと
Ａｒガスとの圧力比、総ガス圧力、印加電圧、Ｓｉウエ
ハーの表面温度を実施例（１）と同一条件とした。）に
て硬質炭素保護膜を膜厚約１μｍ程度形成し、微小硬度
計（マイクロ硬度計）を用いてビッカース硬度を測定し
た。その結果、硬質炭素保護膜のビッカース硬度は２８
００ｋｇ／ｍｍ² であった。

【００２３】実施例（２）〜実施例（４）及び比較例
（１）〜比較例（５）メタンガスとＡｒガスとの圧力比、総ガス圧力、円筒状
の冷却キャンの温度、印加電圧を変更し、他は実施例
（１）と同様な方法により、ラマンスペクトルの面積強
度比、密度、ビッカース硬度の異なる硬質炭素保護膜を
形成させた８ｍｍＶＴＲ用薄膜テープを作製した。

【００２４】実施例（２）〜実施例（４）及び比較例
（１）〜比較例（５）で得られた硬質炭素保護膜におけ
るラマンスペクトルの面積強度比、密度及びビッカース
硬度を（表１）に示した。

【００２５】

【表１】

【００２６】実施例（５）まず真空槽１０の内部を真空排気した後、放電管１８内
にメタンガスとＡｒガスをそれぞれ導入し、メタンガス
とＡｒガスとの圧力比が４：１、総ガス圧力が０．２５
ｔｏｒｒとなるようにガス流量の調整を行う。また放電
管２２内にピリジンガスを導入し、ガス圧力が０．１ｔ
ｏｒｒとなるようにガス流量の調整を行う。さらに円筒
状の冷却キャン１７の温度を１５℃に設定する。次に１
０μｍ厚のポリエチレンテレフタレート３上に強磁性金
属薄膜５及びバックコート層６を形成させた磁気テープ
１２を３〜５ｍ／ｍｉｎの走行スピードで搬送させると
ともに、パイプ状の放電電極１９にＤＣ：８００Ｖの電
圧を印加することで非平衡プラズマを発生させ、磁気テ
ープ１２の強磁性金属薄膜５表面上に硬質炭素保護膜７
を膜厚約１０ｎｍ程度成膜する。またパンチングメタル
放電電極２３にＡＣ：６００Ｖ（周波数１５ｋＨｚ）の
電圧を印加することでピリジンガスをプラズマ化し、磁
気テープ１２の硬質炭素保護膜７表面上に窒素原子含有
のプラズマ重合膜を膜厚約１ｎｍ程度成膜する。さらに
極性基として−ＣＯＯＨを導入した含フッ素系潤滑剤層
９を湿式塗布法により膜厚約３ｎｍ程度形成させた後、
８ｍｍ幅にスリットして８ｍｍＶＴＲ用薄膜テープを作
製した。

【００２７】実施例（６）含窒素化合物のモノマーガスをピリジンからアリルアミ
ンに変更する以外は、実施例（５）と同様な方法によ
り、８ｍｍＶＴＲ用薄膜テープを作製した。

【００２８】比較例（６）含窒素化合物のモノマーガスの代わりに、芳香族炭化水
素（ベンゼン）ガスを用いてプラズマ重合膜を形成する
以外は、実施例（５）と同様な方法により、８ｍｍＶＴ
Ｒ用薄膜テープを作製した。

【００２９】比較例（７）含窒素化合物のモノマーガスの代わりに、有機金属化合
物（テトラメチル錫）ガスを用いてプラズマ重合膜を形
成する以外は、実施例（５）と同様な方法により、８ｍ
ｍＶＴＲ用薄膜テープを作製した。

【００３０】なお、実施例（５）、実施例（６）、比較
例（６）及び比較例（７）で得られた硬質炭素保護膜に
おけるラマンスペクトルの面積強度比、密度及びビッカ
ース硬度は、実施例（１）で得られた硬質炭素保護膜と
同一の値を示した。

【００３１】以上の実施例及び比較例にて得られた各８
ｍｍＶＴＲ用薄膜テープについて以下の測定を行った。（１）スチルライフスチルライフ測定用に改造した８ｍｍＶＴＲを用い、２
３℃−１０％の環境下２０ｇ荷重の条件で、あらかじめ
録画しておいた静止画をスチルモードにて再生し、その
映像信号が６ｄＢ落ち込むまでの時間を示した。なお測
定は最長１８０分間で打ち切った。（２）出力低下２３℃−１０％ＲＨの環境下、約６０分長の薄膜テープ
に映像信号を記録し、再生を１００パス行う（繰り返し
走行による耐久試験）。出力低下の定義としては、再生
１パス目の出力を基準（０ｄＢ）とし、１００パス再生
中に最も出力が低下した値（最低出力値）をデシベル表
示した。（３）耐候性耐候性試験としては、６０℃−９０％ＲＨの環境下で約
１００日間薄膜テープを放置し、錆、ふくれ、剥離等の
発生状態を顕微鏡で観察した。（４）摩擦係数μ_k 直径４ｍｍのステンレス円柱に薄膜テープの保護膜（潤
滑剤層）表面が９０゜に渡って接触するようにし、ステ
ンレス円柱に対して、入側張力を３０ｇ、テープ走行速
度を０．５ｍｍ／ｓｅｃに設定した時の出側張力Ｘｇを
測定し、次式から摩擦係数を求めた。

【００３２】

【数１】

【００３３】なお測定環境は２３℃−６０％ＲＨであ
り、摩擦係数としては、走行３０パス目の測定値を採用
することにした。

【００３４】（表１）に各実施例、比較例にて作製した
８ｍｍＶＴＲ用薄膜テープの評価結果を示す。

【００３５】表１から明らかなように、実施例（１）〜
実施例（６）は、硬質炭素保護膜におけるラマンスペク
トルの面積強度比、密度及びビッカース硬度が本発明の
適切な範囲に入っているため、スチルライフの著しい向
上、出力低下の大幅な改善を同時に達成することができ
た。また高温高湿環境保存後に薄膜テープの表面あるい
は界面に錆、ふくれ、剥離等が発生せず、耐候性を飛躍
的に向上させることができた。

【００３６】さらに実施例（５）、実施例（６）につい
ては、プラズマ重合膜中に含有する窒素原子と潤滑剤分
子中に導入された極性基との化学的親和力により保護膜
と潤滑剤との接着性が改善されたため、テープの走行安
定性が良好となった。

【００３７】比較例（１）は、硬質炭素保護膜における
ラマンスペクトルの面積強度比が大きく（ＳＰ³ 結合の
存在する割合が小さく）、ビッカース硬度が低いため、
スチルライフが短くなった。

【００３８】比較例（２）は、硬質炭素保護膜の密度が
極めて小さいため、薄膜テープの保護膜と磁性層との界
面、磁性層とベースフィルムとの界面に水分が侵入し、
錆、ふくれ、が発生した。

【００３９】比較例（３）は、硬質炭素保護膜における
ラマンスペクトルの面積強度比が大きく、しかも密度が
小さいため、スチルライフの著しい減少及び耐候性の大
幅な劣化が生じる結果となった。

【００４０】比較例（４）は、硬質炭素保護膜における
ラマンスペクトルの面積強度比が極めて小さく（ＳＰ³
結合の存在する割合が非常に大きく）、ビッカース硬度
が高すぎるため、ヘッド摺動面のアモルファス（センダ
スト）部分とフェライト部分とで段差（偏摩耗）を生
じ、出力低下が大きくなった。

【００４１】比較例（５）は、硬質炭素保護膜のビッカ
ース硬度が若干低いため、スチルライフが悪化する傾向
を示した。

【００４２】比較例（６）は、保護膜と潤滑剤との接着
性が改善されず、しかもプラズマ重合膜は硬度が低く摩
耗しやすいため、テープの走行安定性が悪化し、さらに
ヘッド摺動面に潤滑剤成分からなる焼き付きが生じ、出
力低下が大きくなった。

【００４３】比較例（７）はプラズマ重合膜中に含有す
る金属と潤滑剤分子中に導入された極性基との化学的親
和力により保護膜と潤滑剤との接着性が改善されたた
め、テープの走行安定性が良好となるものの、低湿環境
下においてヘッド摺動面に金属凝着を引き起こし、スチ
ルライフの著しい減少、出力低下の大幅な悪化を招く結
果となった。また薄膜テープ表面に錆が発生するといっ
た耐候性劣化の問題も生じた。

【００４４】なお上記実施例では、８ｍｍＶＴＲ用薄膜
テープのみについて説明したが、これに限定されるもの
ではなく、他の強磁性金属薄膜型磁気テープ、磁気ディ
スク等の磁気記録媒体についても同様に適用できる。

【００４５】また上記実施例では、極性基として−ＣＯ
ＯＨを導入した含フッ素系潤滑剤のみについて示した
が、−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＨ₂ 、＝ＮＨ、−ＣＯＮＨ
₂ 、−ＣＯＮＨＲ、−ＣＯＮＲ₂ 、−ＣＯＯＲ、＝Ｐ
Ｒ、＝ＰＲＯ、＝ＰＲＳ、−ＯＰＯ（ＯＨ）₂ 、−ＯＰ
Ｏ（ＯＲ）₂ 、−ＳＯ₃ Ｍ（ただし、Ｒは炭素数１〜２
２の炭化水素基、Ｍは水素、アルカリ金属またはアルカ
リ土類金属）から選ばれた少なくとも一つの極性基を有
する含フッ素系潤滑剤であれば同様に適用可能である。

【００４６】さらに上記実施例では、プラズマ重合膜の
形成に用いるモノマーガスとして、ピリジン、アリルア
ミンについてのみ示したが、これに限定されるものでは
なく、含窒素化合物のモノマーガスであれば同様に適用
可能である。

【００４７】

【発明の効果】以上のように本発明は、磁性層上に特定
の硬質炭素保護膜あるいは特定の硬質炭素保護膜と窒素
原子含有プラズマ重合膜を形成し、さらにトップコート
層として特定の極性基を有する含フッ素系潤滑剤層を形
成する構成により、電磁変換特性、耐久性、耐候性、走
行安定性に優れた磁気記録媒体の提供を可能とするもの
である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明における実施例の強磁性金属薄膜型磁気
テープの構成を示す拡大断面図である。

【図２】本発明における実施例の強磁性金属薄膜型磁気
テープの構成を示す拡大断面図である。

【図３】本発明の強磁性金属薄膜型磁気テープを構成し
ている硬質炭素保護膜、プラズマ重合膜を製造するため
の成膜装置の概略図である。

【図４】実施例（１）で得られた硬質炭素保護膜におけ
るラマンスペクトルを示した図である。

【符号の説明】

１強磁性金属薄膜型磁気テープ２強磁性金属薄膜型磁気テープ３非磁性基板４微小突起層５強磁性金属薄膜６バックコート層７硬質炭素保護膜８プラズマ重合膜９含フッ素系潤滑剤層１０真空槽１１真空ポンプ１２磁気テープ１３巻出しロール１４巻取りロール１５パスロール１６パスロール１７冷却キャン１８放電管１９パイプ状の放電電極２０プラズマ発生用電源２１原料ガス導入口２２放電管２３パンチングメタル放電電極２４プラズマ発生用電源２５原料ガス導入口

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者小田桐優大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内 (72)発明者大地幸和大阪府門真市大字門真1006番地松下電器産業株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性基板上に強磁性金属薄膜を形成
し、上記強磁性金属薄膜上に、ラマン分光法により得ら
れたラマンスペクトルにおいて、１３８０ｃｍ^-1付近に
存在するピークを（Ａ）、１５５０ｃｍ^-1付近に存在す
るピークを（Ｂ）とし、各々のピークに対しガウス曲線
でフィッティングした時の、（Ａ）の面積強度を（Ｂ）
の面積強度で除した値（ラマンスペクトルの面積強度
比）が０．８〜３．０であり、密度が１．５ｇ／ｃｍ³
以上であり、ビッカース硬度が２０００ｋｇ／ｍｍ² 以
上である硬質炭素保護膜を形成し、さらにトップコート
層として、上記硬質炭素保護膜上に、−ＣＯＯＨ、−Ｏ
Ｈ、−ＳＨ、−ＮＨ₂ 、＝ＮＨ、−ＣＯＮＨ₂ 、−ＣＯ
ＮＨＲ、−ＣＯＮＲ₂ 、−ＣＯＯＲ、＝ＰＲ、＝ＰＲ
Ｏ、＝ＰＲＳ、−ＯＰＯ（ＯＨ）₂ 、−ＯＰＯ（ＯＲ）
₂ 、−ＳＯ₃ Ｍ（ただし、Ｒは炭素数１〜２２の炭化水
素基、Ｍは水素、アルカリ金属またはアルカリ土類金
属）から選ばれた少なくとも一つの極性基を有する含フ
ッ素系潤滑剤層を形成することを特徴とする磁気記録媒
体。
【請求項２】非磁性基板上に強磁性金属薄膜を形成
し、上記強磁性金属薄膜上に、ラマン分光法により得ら
れたラマンスペクトルにおいて、１３８０ｃｍ^-1付近に
存在するピークを（Ａ）、１５５０ｃｍ^-1付近に存在す
るピークを（Ｂ）とし、各々のピークに対しガウス曲線
でフィッティングした時の、（Ａ）の面積強度を（Ｂ）
の面積強度で除した値（ラマンスペクトルの面積強度
比）が０．８〜３．０であり、密度が１．５ｇ／ｃｍ³
以上であり、ビッカース硬度が２０００ｋｇ／ｍｍ² 以
上である硬質炭素保護膜を形成し、上記硬質炭素保護膜
上に、含窒素化合物のモノマーガスによるプラズマ重合
膜を形成し、さらにトップコート層として、上記プラズ
マ重合膜上に、−ＣＯＯＨ、−ＯＨ、−ＳＨ、−Ｎ
Ｈ₂、＝ＮＨ、−ＣＯＮＨ₂ 、−ＣＯＮＨＲ、−ＣＯＮ
Ｒ₂ 、−ＣＯＯＲ、＝ＰＲ、＝ＰＲＯ、＝ＰＲＳ、−Ｏ
ＰＯ（ＯＨ）₂ 、−ＯＰＯ（ＯＲ）₂ 、−ＳＯ₃ Ｍ（た
だし、Ｒは炭素数１〜２２の炭化水素基、Ｍは水素、ア
ルカリ金属またはアルカリ土類金属）から選ばれた少な
くとも一つの極性基を有する含フッ素系潤滑剤層を形成
することを特徴とする磁気記録媒体。