JPH07132456A - 研磨方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 研磨キズの発生を防止し得る研磨方法を提供
すること。 【構成】 円盤状の定盤１を回転させると共に被研磨体
２を定盤１の径方向に揺動させて、被研磨体２を研磨す
る研磨方法であって、被研磨体２の研磨工程の後半にお
いては、被研磨体２を、”定盤回転方向平均速度Ｖax＜
揺動方向平均速度Ｖay”なる関係の下で研磨する。ま
た、研磨工程の前半においては、被研磨体２を、”定盤
回転方向平均速度Ｖax＞揺動方向平均速度Ｖay”なる関
係の下で研磨する。さらに、”定盤回転方向速度Ｖx＜
揺動方向速度Ｖy”なる関係のときに、被研磨体２を定
盤１から離間させるようになっている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、円盤状の定盤に対して
被研磨体を回転させると共にこの被研磨体を前記定盤の
径方向に往復移動させて当該被研磨体を研磨する研磨方
法であって、特に、研磨キズが研磨面に発生することを
防止する研磨方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ワークとしての被研磨体に対して鏡面研
磨（いわゆるラッピング）を行う一般的な研磨装置は、
円盤形状を有する回転自在な定盤と、被研磨体を支持す
る支持ユニットとを有し、この支持ユニットは、保持し
た被研磨体を定盤表面に対して接近離反移動させること
ができ、さらに、被研磨体を定盤の径方向に沿って往復
移動（以下、揺動という）させることができるように構
成されている。

【０００３】そして、この研磨装置では定盤を回転しつ
つその表面にダイヤモンドスラリー等の研磨液を供給
し、支持ユニットに保持された被研磨体を定盤表面に押
し当てながら揺動移動させることによって、被研磨体研
磨面の鏡面研磨が行われる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、この種の研
磨装置を使用して鏡面研磨を行った場合には、８０〜９
０％の発生率で、研磨キズが発生することがあった。例
えば、浮上型磁気ヘッド装置のスライダー加工にあって
は、エア・ベアリング・サーフェス（いわゆるＡＢＳ
面）は上述した研磨装置により研磨が行われるが、研磨
後のＡＢＳ面に、定盤研磨面の形状を転写し如き研磨キ
ズが発生することがあった。かかるＡＢＳ面の研磨キズ
は、ヘッド浮上量の増加に繋がり、ヘッドによる記録な
いし再生効率の低下を招いていた。また、シーク時ある
いはＣＳＳ時のダイナミックな特性低下等をも招来して
いた。

【０００５】本発明者らは研磨キズの発生を防止すべく
鋭意検討した結果、被研磨体の研磨工程の後半における
回転方向平均速度と揺動方向平均速度との関係、およ
び、被研磨体を定盤から離間させるときの回転方向速度
と揺動方向速度との関係が、研磨キズの発生に大きな影
響を及ぼすことを見出した。本発明は、上記従来技術に
伴う課題を解決するためになされたものであり、研磨キ
ズの発生を防止し得る研磨方法を提供することを目的と
する。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めの本発明は、円盤状の定盤に対して被研磨体を相対的
に回転させると共にこの被研磨体を前記定盤の径方向に
相対的に往復移動させて、当該被研磨体を研磨する研磨
方法において、被研磨体の研磨工程の後半においては、
前記被研磨体を、”前記相対的な回転方向平均速度＜前
記相対的な往復動方向平均速度”なる関係の下で研磨す
ることを特徴とする研磨方法である。

【０００７】また、被研磨体の研磨工程の前半において
は、前記被研磨体を、”前記相対的な回転方向平均速度
＞前記相対的な往復動方向平均速度”なる関係の下で研
磨すると良い。

【０００８】また、円盤状の定盤に対して被研磨体を相
対的に回転させると共にこの被研磨体を前記定盤の径方
向に相対的に往復移動させて、当該被研磨体を研磨する
研磨方法において、”前記相対的な回転方向速度＜前記
相対的な往復動方向速度”なる関係のときに、前記被研
磨体を前記定盤から離間させることを特徴とする研磨方
法である。

【０００９】また、円盤状の定盤に対して被研磨体を相
対的に回転させると共にこの被研磨体を前記定盤の径方
向に相対的に往復移動させて、当該被研磨体を研磨する
研磨方法において、被研磨体の研磨工程の後半において
は、前記被研磨体を、”前記相対的な回転方向平均速度
＜前記相対的な往復動方向平均速度”なる関係の下で研
磨し、さらに、”前記相対的な回転方向速度＜前記相対
的な往復動方向速度”なる関係のときに、前記被研磨体
を前記定盤から離間させることを特徴とする研磨方法で
ある。

【００１０】

【作用】本発明の研磨方法においては、被研磨体の研磨
工程の後半においては、被研磨体を、”相対的な回転方
向平均速度＜相対的な往復動方向平均速度”なる関係の
下で研磨するため、被研磨体に対する研磨は往復動方向
の研磨が支配的となり、定盤面フェーシング形状に起因
した研磨キズの発生がなくなる。

【００１１】また、研磨工程の前半においては、被研磨
体を、”相対的な回転方向平均速度＞相対的な往復動方
向平均速度”なる関係の下で研磨するため、研磨レート
が高くなり、研磨キズの発生をなくしつつ、研磨に要す
る時間の短縮化を図ることができる。

【００１２】また、”相対的な回転方向速度＜相対的な
往復動方向速度”なる関係のときに被研磨体を定盤から
離間させるため、往復動方向の研磨が支配的な間に定盤
から離れることになり、定盤面フェーシング形状に起因
した研磨キズの発生がさらに低減される。

【００１３】また、被研磨体を、”相対的な回転方向平
均速度＜相対的な往復動方向平均速度”なる関係の下で
研磨し、さらに、”相対的な回転方向速度＜相対的な往
復動方向速度”なる関係のときに被研磨体を定盤から離
間させるため、定盤面フェーシング形状に起因した研磨
キズの発生が著しく低減される。

【００１４】

【実施例】以下、本発明に係る研磨方法を、被研磨体と
しての浮上型磁気ヘッドのＡＢＳ面等を研磨する研磨装
置を実施例に挙げて詳細に説明する。図１は、同実施例
に係る研磨装置を示す概略構成図、図２は、鏡面研磨さ
れる浮上型磁気ヘッドを示す斜視図である。

【００１５】図１に示すように、研磨装置は、円盤形状
を有する回転自在な錫定盤１と、被研磨体２を支持する
支持ユニット３とを有する。錫定盤１の上面近傍には、
研磨液を供給するための図示しないノズルが配置され、
定盤１中央部には、余分な研磨液を収容して排出口へと
導く凹部１ａが形成されている。なお、錫定盤１は図示
しないベースプレートによって支持され、該ベースプレ
ートとともに図１中矢印Ｘ方向あるいはその反対方向に
回転可能とされている。

【００１６】支持ユニット３には、被研磨体２を支持固
定するための支持部４が設けられており、この支持部４
は、図１に矢印Ｚで示すように、定盤１の上面に対して
接近離反移動自在に、さらに、図１に矢印Ｙで示すよう
に、定盤１の径方向に沿って往復移動自在（揺動自在）
に構成されている。支持部４の揺動つまり被研磨体２の
揺動は、図７（２）に概念的に示すように、揺動用クラ
ンク５と支持部４とをロッド６を介してピン連結し、揺
動用クランク５の回転運動を支持部４の往復直線運動に
変換することにより行われる。

【００１７】そして、ダイヤモンドスラリー等の研磨液
を定盤１の上面に供給し、支持部４に固定された被研磨
体２を、回転する定盤１の上面に摺接させ、さらに被研
磨体２を揺動運動させることによって、被研磨体２の研
磨面に対して鏡面研磨が行われる。

【００１８】被研磨体２としての浮上型磁気ヘッド１１
は、平面矩形状の平板状に形成された非磁性材料よりな
るコアスライダー１２を有し、このコアスライダー１２
の一端に、薄膜磁気ヘッド等の磁気ヘッド素子１３を備
えたコア部１７が取り付けられている。コアスライダー
１２の図中上方面が磁気ディスク表面に向かい合う面と
なっており、この図中上面には、コアスライダー１２の
走行方向と平行に、スライダーレール１４、１５が突出
するように形成されている。

【００１９】このスライダーレール１４、１５の表面１
４ａ、１５ａがＡＢＳ面となる。図３に示すように、磁
気ディスク１８が回転するとこのディスク１８表面とＡ
ＢＳ面１４ａ、１５ａとの間に空気流が発生し、弾性を
有するサスペンションの先端に支持された磁気ヘッド１
１に浮力が作用し、コアスライダー１２が磁気ディスク
１８に対して所定寸法だけ浮上する。スライダーレール
１４、１５の空気流入側の端部には、空気の流入を円滑
にするテーパ面１４ｂ、１５ｂが形成されている。な
お、コア部１７の端面１７ａは、ＡＢＳ面１４ａ、１５
ａと面一に形成されている。

【００２０】このような磁気ヘッド１１のＡＢＳ面１４
ａ、１５ａおよびコア部１７の端面１７ａに対して、上
述した研磨装置により鏡面研磨が行われる。研磨の際に
は、磁気ヘッド１１は、そのスライダーレール１４、１
５が揺動方向Ｙに直交するように支持部４に支持固定さ
れる。従って、揺動運動による研磨方向は、図２に示す
ように、矢印Ｓで示される方向となる。一方、定盤１の
回転運動による研磨方向は、同図に矢印Ｔで示される方
向である。

【００２１】従来の研磨方法にあっては、磁気ヘッド１
１を研磨した場合に、図４に示すように、ＡＢＳ面１４
ａ、１５ａおよびコア部１７の端面１７ａに研磨キズが
発生していた。この研磨キズを調査したところ、キズの
深さ（ディプス）ｄは、図５に示すように、１０〜２０
ｎｍであった。また、研磨キズの間隔ｗａは、図６に示
す錫定盤１の定盤面フェーシング形状の間隔ｗｂに一致
していた。

【００２２】浮上型磁気ヘッド１１にあっては、磁気デ
ィスク１８に対するコアスライダー１２の浮上量が一定
であることが要求されるにも拘らず、ＡＢＳ面１４ａ、
１５ａなどに研磨キズが生じた磁気ヘッド１１では、コ
アスライダー１２の浮上量に研磨キズの深さｄがさらに
加わり、磁気ヘッド素子１３と磁気ディスク１８との間
の隙間が大きくなり過ぎ、前述したように、記録再生時
の出力低下、磁気ディスク１８上でのシーク時等のダイ
ナミックな特性低下等を招いてしまう。

【００２３】そこで、本発明者らは図４に示される研磨
キズの形状から、研磨キズの発生は定盤回転方向成分が
主たる原因であることに着目し、定盤１の回転方向平均
速度と磁気ヘッド１１の揺動方向平均速度（径方向移動
平均速度）との関係を検討した結果、これらの関係を所
定なものとすれば、錫定盤１の定盤面フェーシング形状
に起因した研磨キズの発生を著しく低減できることを見
出した。

【００２４】まず、研磨時の定盤回転方向速度、揺動方
向速度等を、図７（１）（２）に基づいて求める。同図
（２）に示すように、半径ｒ3＝０．０２５ｍの揺動用
クランクを用いた場合には、揺動範囲Ｌ2は、Ｌ2＝２×
ｒ3＝０．０５０ｍであり、揺動方向が切り替わる位相
θ＝０、πのときには揺動方向速度は０ｍ／ｓとなる。
ワークとしての磁気ヘッド１１の揺動方向に沿う長さＬ
1は、Ｌ1＝０．０２５ｍであり、研磨範囲Ｌ3は、Ｌ3＝
Ｌ1＋Ｌ2＝０．０７５ｍとなる。また、同図（１）に示
すように、ワーク研磨範囲の最内周半径ｒ1がｒ1＝０．
０９５ｍであれば、ワーク研磨範囲の最外周半径ｒ2
は、ｒ2＝ｒ1＋Ｌ3＝０．１７０となる。

【００２５】そして、定盤回転方向に関しては、 定盤回転数（ｒｐｍ） ：ｎ1 ワーク研磨範囲最内周半径（ｍ）：ｒ1 ワーク研磨範囲最外周半径（ｍ）：ｒ2とおけば、 最内周回転速度（ｍ／ｓ） ＝２πｒ1×ｎ1／６０ 最外周回転速度（ｍ／ｓ） ＝２πｒ2×ｎ1／６０ 半径ｘ（ｒ1≦ｘ≦ｒ2）の点における定盤回転方向速度
（ｍ／ｓ）＝２πｘ×ｎ1／６０ 定盤回転方向平均速度（ｍ／ｓ）＝［２π（ｒ1＋ｒ2）
×ｎ1／６０］／２ となる。

【００２６】また、揺動方向に関しては、 揺動用クランク回転数（ｒｐｍ）：ｎ2 揺動用クランク半径（ｍ） ：ｒ3とおけば、 揺動方向速度（ｍ／ｓ）＝２πｒ3×（ｎ2／６０）×｜
ｓｉｎθ｜より 位相θ＝αにおける揺動方向速度（ｍ／ｓ）＝２πｒ3
×（ｎ2／６０）×｜ｓｉｎα｜ 最小揺動方向速度（ｍ／ｓ）＝０ （θ＝０、πのとき） 最大揺動方向速度（ｍ／ｓ）＝２πｒ3×ｎ2／６０ （θ＝π／２、３π／２のとき） 揺動方向平均速度（ｍ／ｓ）＝２ｒ3×２×ｎ2／６０ となる。

【００２７】本発明者等がＡＢＳ面１４ａ、１５ａ等に
研磨キズが発生したときの研磨条件を確認したところ、
研磨開始から研磨完了に至るまで、”定盤回転方向平均
速度＞揺動方向平均速度”なる関係があり、上記の式で
算出される定盤回転方向平均速度は、揺動方向平均速度
の２０倍以上であった。そこで、定盤１の回転数を減少
させ、”定盤回転方向平均速度＜揺動方向平均速度”な
る関係の下で研磨を行えば、ＡＢＳ面１４ａ、１５ａ等
に対する研磨は揺動方向Ｓの研磨が支配的となり、定盤
面フェーシング形状に起因した研磨キズが発生しないこ
とがわかった。

【００２８】一方、”定盤回転方向平均速度＜揺動方向
平均速度”なる関係とした場合、研磨レートが低下する
ため、寸法追い込みの研磨つまり研磨工程の前半におい
ては、”定盤回転方向平均速度＞揺動方向平均速度”な
る関係の下で研磨を行い、研磨工程の後半において
は、”定盤回転方向平均速度＜揺動方向平均速度”なる
関係の下で研磨を行うことが望ましいことがわかった。
このようにすれば、研磨レートが全体として増加し、研
磨キズの発生を防止しつつ、研磨スピードを向上させる
ことができる。

【００２９】また、”定盤回転方向平均速度＜揺動方向
平均速度”なる関係で長時間に亘って研磨を行うと、研
磨キズの発生を防止できるものの、ＡＢＳ面１４ａ、１
５ａが円筒形状となり、形状の面から望ましいものでは
ないことがわかった。実験によれば、”定盤回転方向平
均速度＜揺動方向平均速度”なる関係で研磨を行う時間
ｔは以下に示す範囲が適切であることがわかった。

【００３０】最短時間： 研磨キズ深さ（ｍｍ）／研
磨レート（ｍｍ／ｓ） 最長時間：Ｎ×研磨キズ深さ（ｍｍ）／研磨レート（ｍ
ｍ／ｓ） ここに、Ｎは実験より定めた定数であり、Ｎ＝１０であ
った。上記最短時間よりも短い場合には研磨キズが残っ
てしまい、最長時間よりもさらに研磨を継続した場合に
はＡＢＳ面１４ａ、１５ａが円筒形状になった。したが
って、”定盤回転方向平均速度＜揺動方向平均速度”な
る関係で研磨を行う時間ｔ（ｓ）を、”研磨キズ深さ
（ｍｍ）／研磨レート（ｍｍ／ｓ）≦ｔ≦１０×研磨キ
ズ深さ（ｍｍ）／研磨レート（ｍｍ／ｓ）”の範囲とす
れば、研磨キズが発生せず、かつ、研磨面の形状が安定
化することがわかった。

【００３１】さらに、本発明者等は、磁気ヘッド１１を
錫定盤１から離間させるタイミングを適切な範囲にすれ
ば、錫定盤１の定盤面フェーシング形状に起因した研磨
キズの発生を低減できることも見出した。

【００３２】つまり、”定盤回転方向平均速度＞揺動方
向平均速度”なる関係で研磨を行っている場合であって
も、”定盤回転方向速度＜揺動方向速度”を満たすタイ
ミングで磁気ヘッド１１を錫定盤１から離間させれば、
ＡＢＳ面１４ａ、１５ａに対して揺動方向Ｓの研磨が支
配的な間に定盤１から離れることになり、定盤面フェー
シング形状に起因した研磨キズの発生を著しく低減でき
ることがわかった。

【００３３】本実施例における研磨方法では、上述した
実験結果より得られた知見に基づき、研磨工程の前半に
おいては通常研磨モードを行い、研磨工程の後半におい
てはキズ防止研磨モードを行い、さらに所定のタイミン
グで磁気ヘッド１１を錫定盤１から離間させるようにな
っている。本実施例の定盤回転方向速度と揺動方向速度
との関係は、図８（１）（２）に示すグラフのとおりで
ある。同図（１）は通常研磨モードにおける両速度の関
係を示すグラフ、同図（２）はキズ防止研磨モードにお
ける両速度の関係を示すグラフである。

【００３４】本実施例における、ワーク研磨範囲最内周
半径ｒ1はｒ1＝０．０９５ｍ、ワーク研磨範囲最外周半
径ｒ2はｒ2＝０．１７０ｍ、揺動用クランク半径ｒ3は
ｒ3＝０．０２５ｍであり、図７（１）（２）に示した
ものと同じである。また、通常研磨モードにおける定盤
回転数ｎ1は、ｎ1＝５０ｒｐｍ、キズ防止研磨モードに
おける定盤回転数ｎ1は、ｎ1＝２ｒｐｍ、揺動用クラン
ク回転数ｎ2は、両モードともにｎ2＝２０ｒｐｍであ
る。各研磨モードにおける定盤回転方向平均速度等を以
下に記す。

【００３５】通常研磨モード 定盤回転方向（ｎ1＝５０ｒｐｍ） 定盤回転方向速度Ｖx（ｍ／ｓ）：Ｖx＝２πｘ×ｎ1／
６０ 最内周回転速度：２×π×０．０９５×５０／６０＝
０．４９７ｍ／ｓ 最外周回転速度：２×π×０．１７０×５０／６０＝
０．８９０ｍ／ｓ 定盤回転方向平均速度Ｖax（ｍ／ｓ）：Ｖax＝（０．４
９７＋０．８９０）／２＝０．６９４ｍ／ｓ 揺動方向（ｎ2＝２０ｒｐｍ、ｒ3＝０．０２５ｍ） 揺動方向速度Ｖy（ｍ／ｓ）：Ｖy＝２πｒ3×（ｎ2／６
０）×｜ｓｉｎθ｜ 最小揺動方向速度Ｖy,min（ｍ／ｓ）：Ｖy,min＝０ｍ／
ｓ 最大揺動方向速度Ｖy,max（ｍ／ｓ）：Ｖy,max＝２π×
０．０２５×（２０／６０）×１＝０．０５２ｍ／ｓ 揺動方向平均速度Ｖay（ｍ／ｓ）：Ｖay＝２ｒ3×２×
２０／６０＝０．０３３ｍ／ｓ つまり、この通常研磨モードでは、”定盤回転方向平均
速度Ｖax＞揺動方向平均速度Ｖay”なる関係の下で研磨
が行われている。

【００３６】キズ防止研磨モード 定盤回転方向（ｎ1＝２ｒｐｍ） 最内周回転速度：２×π×０．０９５×２／６０＝０．
０２０ｍ／ｓ 最外周回転速度：２×π×０．１７０×２／６０＝０．
０３６ｍ／ｓ 定盤回転方向平均速度Ｖax（ｍ／ｓ）：Ｖax＝（０．０
２０＋０．０３６）／２＝０．０２８ｍ／ｓ 揺動方向（ｎ2＝２０ｒｐｍ、ｒ3＝０．０２５ｍ） 最小揺動方向速度Ｖy,min（ｍ／ｓ）：Ｖy,min＝０ｍ／
ｓ 最大揺動方向速度Ｖy,max（ｍ／ｓ）：Ｖy,max＝０．０
５２ｍ／ｓ 揺動方向平均速度Ｖay（ｍ／ｓ） ：Ｖay ＝０．
０３３ｍ／ｓ つまり、この通常研磨モードでは、”定盤回転方向平均
速度Ｖax＜揺動方向平均速度Ｖay”なる関係の下で研磨
が行われている。

【００３７】本実施例では、ＡＢＳ面１４ａ、１５ａ等
を研磨するに当たり、まず、研磨工程の前半において
は、研磨レートの高い通常研磨モードを行っているた
め、研磨スピードの向上が図られる。次いで、研磨工程
の後半においては、キズ防止研磨モードで、”定盤回転
方向平均速度Ｖax＜揺動方向平均速度Ｖay”なる関係の
下で研磨を行っているため、錫定盤１の定盤面フェーシ
ング形状に起因した研磨キズの発生が防止される。この
キズ防止研磨モードを行う時間ｔ（ｓ）は、”研磨キズ
深さ（ｍｍ）／研磨レート（ｍｍ／ｓ）≦ｔ≦１０×研
磨キズ深さ（ｍｍ）／研磨レート（ｍｍ／ｓ）”の範囲
に設定されているため、研磨キズの発生をなくしつつ、
研磨面の形状を安定化させることができる。そして、図
８（２）に斜線で示すように、”定盤回転方向速度Ｖx
＜揺動方向速度Ｖy”を満たすタイミングで、磁気ヘッ
ド１１を錫定盤１から離間させるため、定盤面フェーシ
ング形状に起因した研磨キズの発生がさらに低減され
る。

【００３８】このような研磨方法によれば、浮上型磁気
ヘッド１１のＡＢＳ面１４ａ、１５ａ等をキズのない均
一な研磨面に形成でき、磁気ヘッド１１の特性が安定
し、品質の向上を達成することができた。また、キズ防
止研磨モードは、研磨終了直前の比較的短時間で良いた
め、研磨作業全体の所要時間が増大することもなく、ま
た、回転速度の制御だけで良いため他の研磨設備を設け
る必要もないことから、コストの増加を招くこともな
い。さらに、キズ防止研磨モードの研磨を継続する時間
を管理することにより、研磨キズを防止しつつ安定した
形状の研磨面を得ることができる。しかも、磁気ヘッド
１１を錫定盤１から離間させるタイミングを所定のタイ
ミングにするだけで、定盤１の回転に伴う研磨キズの発
生をさらに抑制することができた。

【００３９】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の研磨方法によれば、被研磨体の研磨工程の後半におい
ては、被研磨体を、”相対的な回転方向平均速度＜相対
的な往復動方向平均速度”なる関係の下で研磨するた
め、被研磨体に対する研磨は往復動方向の研磨が支配的
となり、定盤面フェーシング形状に起因した研磨キズの
発生がなくなり、キズのない均一な研磨面を得ることが
でき、製品品質の向上を達成することが可能となる。

【００４０】また、研磨工程の前半においては、被研磨
体を、”相対的な回転方向平均速度＞相対的な往復動方
向平均速度”なる関係の下で研磨するため、研磨キズの
発生をなくしつつ、研磨スピードを向上させることがで
きる。

【００４１】また、”相対的な回転方向速度＜相対的な
往復動方向速度”なる関係のときに被研磨体を定盤から
離間させるため、往復動方向の研磨が支配的な間に定盤
から離れることになり、定盤面フェーシング形状に起因
した研磨キズの発生がさらに低減され、製品品質をより
一層向上させることができる。

【００４２】また、被研磨体を、”相対的な回転方向平
均速度＜相対的な往復動方向平均速度”なる関係の下で
研磨し、さらに、”相対的な回転方向速度＜相対的な往
復動方向速度”なる関係のときに被研磨体を定盤から離
間させれば、定盤面フェーシング形状に起因した研磨キ
ズの発生を著しく低減でき、高品質の製品を得ることが
可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 被研磨体としての浮上型磁気ヘッドのＡＢＳ
面等を研磨する研磨装置の一実施例を示す概略構成図で
ある。

【図２】 鏡面研磨される浮上型磁気ヘッドを示す斜視
図である。

【図３】 浮上型磁気ヘッドの使用時の状態を示す状態
図である。

【図４】 ＡＢＳ面等に研磨キズが生じた浮上型磁気ヘ
ッドの要部を示す斜視図である。

【図５】 ＡＢＳ面等に研磨キズが生じた浮上型磁気ヘ
ッドの要部を示す側面図である。

【図６】 定盤の定盤面フェーシング形状を示す図１の
６−６線に沿う断面図である。

【図７】 図７（１）（２）は、同実施例の作用の説明
に供する概念図であり、同図（１）は定盤の回転の説明
に供する概念図、同図（２）は被研磨体の揺動の説明に
供する概念図である。

【図８】 図８（１）（２）は、定盤回転方向速度と揺
動方向速度との関係を示すグラフであり、同図（１）は
通常研磨モードにおける両速度の関係を示すグラフ、同
図（２）はキズ防止研磨モードにおける両速度の関係を
示すグラフである。

【符号の説明】

１…錫定盤（定盤） ２…被研磨体 ３…支持ユニット ４…支持部 ５…揺動用クランク １１…浮上型磁気ヘッド １２…コアスライダー １４、１５…スライダーレール １４ａ，１５ａ…レール表面（ＡＢＳ面） １７…コア部 Ｖx：定盤回転方向速度 Ｖax：定盤回転方向平均速度 Ｖy：揺動方向速度 Ｖay：揺動方向平均速度

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 円盤状の定盤に対して被研磨体を相対的
   に回転させると共にこの被研磨体を前記定盤の径方向
   （Ｙ）に相対的に往復移動させて、当該被研磨体を研磨
   する研磨方法において、 被研磨体の研磨工程の後半においては、前記被研磨体
   を、 相対的な回転方向平均速度Ｖax＜相対的な往復動方向平
   均速度Ｖay なる関係の下で研磨することを特徴とする研磨方法。
2. 【請求項２】 被研磨体の研磨工程の前半においては、
   前記被研磨体を、 相対的な回転方向平均速度Ｖax＞相対的な往復動方向平
   均速度Ｖay なる関係の下で研磨することを特徴とする請求項１に記
   載の研磨方法。
3. 【請求項３】 円盤状の定盤に対して被研磨体を相対的
   に回転させると共にこの被研磨体を前記定盤の径方向
   （Ｙ）に相対的に往復移動させて、当該被研磨体を研磨
   する研磨方法において、 相対的な回転方向速度Ｖx＜相対的な往復動方向速度Ｖy なる関係のときに、前記被研磨体を前記定盤から離間さ
   せて研磨を終了することを特徴とする研磨方法。
4. 【請求項４】 円盤状の定盤に対して被研磨体を相対的
   に回転させると共にこの被研磨体を前記定盤の径方向
   （Ｙ）に相対的に往復移動させて、当該被研磨体を研磨
   する研磨方法において、 被研磨体の研磨工程の後半においては、前記被研磨体
   を、 相対的な回転方向平均速度Ｖax＜相対的な往復動方向平
   均速度Ｖay なる関係の下で研磨し、 さらに、 相対的な回転方向速度Ｖx＜相対的な往復動方向速度Ｖy なる関係のときに、前記被研磨体を前記定盤から離間さ
   せて研磨を終了することを特徴とする研磨方法。