JPH11213367A - 薄膜磁気ヘッドの浮動面の研磨方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁気記録媒体表面に浮上するための浮動面３
１を有する薄膜磁気ヘッド３０の製造工程中における浮
動面３１の最終仕上げの研磨において、薄膜磁気ヘッド
３０の記録再生特性の向上を阻む一因となるポールリセ
ッションの発生を抑制することが可能な薄膜磁気ヘッド
３０の浮動面３１の研磨方法を提供することにある。 【解決手段】 研磨定盤２１の表面へ砥粒２４を含んだ
研磨液２５を供給し、砥粒埋め込みリング１３によって
は研磨定盤の表面に砥粒２４を埋め込んで固定状態の砥
粒切れ刃を形成しつつ、なおかつ埋め込みが不十分で遊
離状態にある砥粒２４についてはワークキャリアリング
１２の外周円筒面に設けた多孔質体１４によって吸収捕
獲して浮動面３１の研磨には作用させぬように除去しな
がら、薄膜磁気ヘッド３０の浮動面３１を研磨する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、磁気記録再生用装
置に用いられる薄膜磁気ヘッドの製造工程中で、薄膜磁
気ヘッドの浮動面を最終仕上げ研磨する方法に関する。
さらに詳しくは、薄膜磁気ヘッドの記録再生特性を向上
を阻む一因となる薄膜磁気ヘッドの浮動面とポールとの
段差（以下、ポールリセッションという）を低減させる
ための薄膜磁気ヘッドの浮動面の研磨方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の薄膜磁気ヘッドの浮動面の研磨方
法を図２に示して説明する。図２は、従来の薄膜磁気ヘ
ッドの浮動面の研磨方法を示す説明図であり、一般的に
単一ラップ型と呼ばれているタイプの研磨装置２０を用
いて、薄膜磁気ヘッド３０の浮動面３１を研磨している
状態を示している。薄膜磁気ヘッド３０は、浮動面３１
が研磨定盤２１と当接するようにして、研磨治具２２に
取り付けてある。さらに、研磨治具２２は、研磨定盤２
１上の面内で研磨治具２２を回転可能に支持するガイド
治具２３により、研磨定盤２１上で位置決めされセット
してある。

【０００３】そして、薄膜磁気ヘッド３０の浮動面３１
を研磨するには、研磨定盤２１上に砥粒２４を含んだ研
磨液２５をポンプ２６によりチューブ２７を通じて連続
的に点滴供給し、研磨定盤２１と浮動面３１との間に砥
粒２４を介在させたうえで、研磨定盤２１と浮動面３１
とに相対的な摺動運動が与えられる。具体的には、研磨
定盤２１上に砥粒２４を含んだ研磨液２５を供給しなが
ら、研磨定盤２１をモータ（図示しない）によって反時
計方向（矢印Ａ方向）に回転させる。すると、研磨治具
２２は、研磨定盤２１の外周速度と内周速度との差によ
って反時計方向（矢印Ｂ方向）へと連れ回されて回転
し、結果的には研磨定盤２１と浮動面３１とに相対的動
運動が与えられ、浮動面３１の研磨がなされる。

【０００４】なお、研磨治具２２が研磨定盤２１に反時
計方向（矢印Ｂ方向）へ連れ回されて回転する際には、
ガイド治具２３の先端に設けてある時計方向（矢印Ｃ方
向）へ回転可能な外輪を有した一対のローラ２８が、研
磨治具２２を研磨定盤２１上で位置決めし、なおかつ反
時計方向（矢印Ｂ方向）への回転運動をガイドする。

【０００５】砥粒２４を含んだ研磨液２５については瓶
２９に入れてあるが、砥粒２４が研磨液２５中で沈澱し
ないように、攪拌機４１で常時攪拌している。

【０００６】また、薄膜磁気ヘッド３０の浮動面３１に
は、鏡面状態であることが要求されるが、通常、砥粒２
４には粒径が１μｍ以下のダイヤモンド砥粒が用いられ
て、研磨定盤２１には軟質金属製研磨定盤が用いられ
る。粒径が１μｍ以下のダイヤモンド砥粒と軟質金属製
研磨定盤とを用いることによっては、面粗度が非常に小
さくなる研磨仕上げが可能であり、浮動面３１は鏡面状
態に研磨仕上げされる。

【０００７】従来の薄膜磁気ヘッドの浮動面の研磨方法
としては、図２に示して、上述した方法が最も一般的で
ある。

【０００８】ところで、近年は、磁気記録再生用装置の
益々の高密度記録高容量化が進められている状況にあっ
て、磁気記録再生用装置における磁気記録媒体表面上で
の薄膜磁気ヘッドの浮上量については低減化が図られて
いる。これは磁気記録媒体表面と薄膜磁気ヘッドのポー
ルとの空隙をより微少化し、より高性能な磁気記録再生
用装置を実現しようとする技術動向である。そして、薄
膜磁気ヘッドの製造技術については、前記空隙をより微
少化するために、浮動面とポールとの段差すなわちポー
ルリセッションを少しでも低減化することが強く望まれ
ているところである。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来の技術による薄膜磁気ヘッドの浮動面の研磨方法で
は、薄膜磁気ヘッドの記録再生特性の向上を阻む一因と
なるポールリセッションが生じるという課題を有する。

【００１０】ポールリセッションとは、具体的には薄膜
磁気ヘッドの浮動面とポールとの段差のことであり、薄
膜磁気ヘッドの浮動面を基準面としてみた浮動面からの
ポールの窪み（ｒｅｃｅｓｓｉｏｎ）であるが、磁気記
録再生用装置において磁気記録媒体表面に浮上する薄膜
磁気ヘッドにポールリセッションがあると、磁気記録媒
体表面と薄膜磁気ヘッドのポールとの空隙が拡大してし
まい、記録再生特性を向上させるうえでは問題点とな
る。

【００１１】ここで、ポールリセッションについて図面
を基に説明しておく。図３は、薄膜磁気ヘッド３０を示
している。（ａ）は、薄膜磁気ヘッド３０の斜視図であ
る。（ｂ）は、ポールリセッションを示しており、
（ａ）中に示したＤ部のＸ−Ｘ要部断面図である。そし
て、図３の（ｂ）に示した浮動面３１と保護膜３３との
段差を含めた浮動面３１とポール３２との段差がポール
リセッションである。

【００１２】なお、薄膜磁気ヘッド３０の構造としては
浮動面３１の端部に保護膜３３で周囲を囲まれたポール
３２がある。よって、浮動面３１の研磨を実施する時に
は、保護膜３３とポール３２も、浮動面３１と同時に研
磨が施されることになる。そして、問題のポールリセッ
ションは、薄膜磁気ヘッド３０の製造工程中における浮
動面３１の研磨工程で生じている。

【００１３】ところで、砥粒２４を含んだ研磨液２５を
軟質金属製の研磨定盤２１上に供給して行う研磨におい
て砥粒２４が被研磨物に対して働く加工作用としては、
砥粒２４が研磨定盤２１上に埋め込まれた状態で働く加
工作用と、砥粒２４が研磨定盤２１上で遊離したままの
状態で働く加工作用とが有る。そしてこのうち、ポール
リセッションの発生には、砥粒２４が研磨定盤２１上で
遊離したままの状態で働く加工作用が大きく関与してい
る。すなわち、砥粒２４が研磨定盤２１上で遊離したま
まの状態で働く加工作用が有る状態で、薄膜磁気ヘッド
３０の浮動面３１を研磨すると、浮動面３１と保護膜３
３との境界部で段差が生じて、さらには保護膜３３の面
内でポール３２が窪んでしまう。その結果、図３の
（ｂ）に示すような段差（浮動面３１とポール３２との
段差）、すなわちポールリセッションが形成されてしま
う。

【００１４】以下には、砥粒２４が研磨定盤２１上で遊
離したままの状態で働く加工作用が関与し、ポールリセ
ッションが形成される理由について、さらに詳しく説明
する。

【００１５】上述のようにポールリセッションの発生に
は砥粒２４が研磨定盤２１上で遊離したままの状態で働
く加工作用が関与しているが、ポールリセッションの発
生は薄膜磁気ヘッド３０の各部位を構成する材質の違い
にも起因している。具体的に言えば、薄膜磁気ヘッド３
０の浮動面３１の材質と、保護膜３３の材質と、ポール
３２の材質の、機械的性質の差異である硬度差に起因し
ている。

【００１６】一般的には、薄膜磁気ヘッド３０の浮動面
３１の材質はアルミナチタンカーバイド系セラミックス
であり、保護膜３３の材質はアルミナであり、ポール３
２の材質は軟質磁性金属であるが、これら３種類の材質
の硬度を比較すると、浮動面３１の材質であるアルミナ
チタンカーバイド系セラミックスが最も硬くて、続いて
保護膜３３の材質であるアルミナが硬く、ポール３２の
材質である軟質磁性金属が最も低硬度である。

【００１７】そして、砥粒２４が研磨定盤２１上で遊離
したままでの加工作用が働く状態で、薄膜磁気ヘッド３
０の浮動面３１を研磨すると、低硬度な材質部ほど遊離
状態の砥粒２４が侵入し易いがために、低硬度な材質部
ほど遊離状態の砥粒２４によって侵食するようにして削
り掘られ、図３の（ｂ）に示したような段差、すなわち
ポールリセッションが生じるのである。

【００１８】このようにして、前記従来の技術による薄
膜磁気ヘッド３０の浮動面３１の研磨方法では、砥粒２
４が研磨定盤２１上で遊離したままでの加工作用が働く
がために、薄膜磁気ヘッド３０の記録再生特性の向上を
阻む一因となるポールリセッションが生じるという課題
を有する。

【００１９】なお、図３にはインダクティブ型の薄膜磁
気ヘッド３０を示してポールリセッションが生じるとい
う課題を説明してきたが、これは磁気抵抗型の薄膜磁気
ヘッドの浮動面の研磨においても共通の課題である。

【００２０】したがって、本発明は、かかる問題点を鑑
みなされたものであり、その目的とするところは、磁気
記録媒体表面に浮上するための浮動面３１を有する薄膜
磁気ヘッド３０の製造工程中における浮動面３１の最終
仕上げの研磨において、薄膜磁気ヘッド３０の記録再生
特性の向上を阻む一因となるポールリセッションの発生
を抑制することが可能な薄膜磁気ヘッド３０の浮動面３
１の研磨方法を提供することにある。

【００２１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の薄膜磁気ヘッドの浮動面の研磨方法は、下
記に記載の手段を採用する。

【００２２】本発明のうちで請求項１に記載の発明は、
磁気記録媒体表面に浮上するための浮動面を有する薄膜
磁気ヘッドの製造工程中における浮動面の最終仕上げの
研磨方法において、研磨定盤の表面へ砥粒を含んだ研磨
液を供給し、研磨定盤の表面に砥粒を埋め込み固定状態
の砥粒切れ刃を形成しつつ、なおかつ埋め込みが不十分
で遊離状態にある砥粒については浮動面の研磨に作用せ
ぬよう除去しながら、研磨することを特徴とする。

【００２３】本発明のうちで請求項２に記載の発明は、
前記研磨定盤は、円盤状の回転研磨定盤とすることを特
徴とする。

【００２４】本発明のうちで請求項３に記載の発明は、
中空円筒状の砥粒埋め込みリングの環状下端面を前記回
転研磨定盤の表面に当接させて前記回転研磨定盤上に載
置し、前記回転研磨定盤の回転によっては前記回転研磨
定盤上で中空円筒状の前記砥粒埋め込みリングを連れ回
して回転摺動させることで、前記回転研磨定盤の表面に
砥粒を埋め込み固定状態の砥粒切れ刃を形成することを
特徴とする。

【００２５】本発明のうちで請求項４に記載の発明は、
前記砥粒埋め込みリングと同様にして中空円筒状であっ
て、環状下端面を前記回転研磨定盤の表面に当接して前
記回転研磨定盤上に載置され、前記回転研磨定盤の回転
によっては前記回転研磨定盤上で連れ回され回転摺動
し、なおかつ中空円筒部の内部では薄膜磁気ヘッドの浮
動面以外の部位を保持させた研磨治具を前記回転研磨定
盤上で連れ回して摺動させる中空円筒状のワークキャリ
アリングの外周円筒面に、遊離状態にある砥粒を吸収し
て捕獲することが可能な多孔質体をその一端が前記回転
研磨定盤表面と当接する状態にして設けることによっ
て、前記回転研磨定盤の表面に埋め込みが不十分で遊離
状態の砥粒を除去し、遊離状態の砥粒は浮動面の研磨に
作用せぬようにすることを特徴とする。

【００２６】

【発明の実施の形態】以下、本発明による一実施例を、
図面を基に説明する。

【００２７】図１は、本発明による薄膜磁気ヘッドの浮
動面の研磨方法を示す説明図であり、一般的に単一ラッ
プ型と呼ばれているタイプの研磨装置２０を用いて、薄
膜磁気ヘッド３０の浮動面３１を研磨している状態を示
している。

【００２８】薄膜磁気ヘッド３０の浮動面３１を研磨す
る時には、軟質金属製（具体的には錫製）の研磨定盤２
１がモータ（図示しない）によって反時計方向（矢印Ｅ
方向）に回転し、研磨定盤２１上には砥粒２４を含んだ
研磨液２５がポンプ２６によりチューブ２７を通じて連
続的に点滴供給される。なお、砥粒２４を含んだ研磨液
２５は瓶２９に入れてあり、砥粒２４が研磨液２５中で
沈澱しないように攪拌機４１で常時攪拌している。

【００２９】また、研磨装置２０の上には支柱１１ａを
設けており、支柱１１ａの上端にはＬ字型のガイド治具
２３ａを取り付けてある。さらにＬ字型のガイド治具２
３ａの２つの先端部には、時計方向（矢印Ｆ方向）に回
転可能な外輪を持つ一対のローラ２８ａが取り付けてあ
る。ローラ２８ａの配置としては、ローラ２８ａの時計
方向（矢印Ｆ方向）に回転可能な外輪が研磨定盤２１上
に載せた中空円筒状のワークキャリアリング１２の外側
円筒面に接し、ワークキャリアリング１２の外側円筒面
をローラ２８ａが受けるような配置にしている。

【００３０】ワークキャリアリング１２は、反時計方向
（矢印Ｅ方向）に回転する研磨定盤２１上に載せてあ
り、また、それと同時にワークキャリアリング１２の外
側円筒面を時計方向（矢印Ｆ方向）に回転可能な外輪付
きローラ２８ａで受けることによっては、研磨定盤２１
上でのワークキャリアリング１２の配置位置を位置決め
している。

【００３１】研磨定盤２１の回転時において、ワークキ
ャリアリング１２の環状下端面が当接している研磨定盤
２１の上面では、内側部と外側部とで回転半径の大きさ
の違いによって、周速差が生じる。研磨定盤２１の上面
の回転半径は、当然、内側部よりも外側部の方が大きい
ので、そのぶん外側部の周速の方が内側部の周速よりも
速くなる。この研磨定盤２１の上面における内側部と外
側部との周速差すなわち研磨定盤２１上面の外側部周速
が内側部周速よりも速いことによっては、ワークキャリ
アリング１２に反時計方向（矢印Ｇ方向）への回転力が
加わって、ワークキャリアリング１２は反時計方向（矢
印Ｇ方向）に自転をする。この際、ローラ２８ａの時計
方向（矢印Ｆ方向）に回転可能な外輪は、ワークキャリ
アリング１２が反時計方向（矢印Ｇ方向）に自転するた
めのガイド役として働く。

【００３２】中空円筒状のワークキャリアリング１２の
内側には、下面に薄膜磁気ヘッド３０の浮動面３１を下
向きに保持させた研磨治具２２が配置してある。この研
磨治具２２は、研磨定盤２１上に載せてあるので研磨定
盤２１の反時計方向（矢印Ｅ方向）の回転によって反時
計方向（矢印Ｅ方向）に動かされ、ワークキャリアリン
グ１２の内側円筒面に外周面を押し付けられる。そし
て、ワークキャリアリング１２は前記のように反時計方
向（矢印Ｇ方向）に自転しているので、研磨治具２２も
反時計方向（矢印Ｈ方向）に連れ回されて回転する。

【００３３】上述したように、研磨治具２２は研磨定盤
２１の上面に配置しており、その研磨治具２２の下面に
は薄膜磁気ヘッド３０が浮動面３１を下向きにして保持
されており、さらに、その研磨治具２２は反時計方向
（矢印Ｅ方向）に回転している研磨定盤２１の上面で反
時計方向（矢印Ｇ方向）に自転するワークキャリア１２
によって反時計方向に回転運動が与えられる。したがっ
て、薄膜磁気ヘッド３０の浮動面３１と研磨定盤２１の
上面とは相対的な摺動運動をすることになり、研磨定盤
２１の上面には砥粒２４を含んだ研磨液２５がポンプ２
６によってチューブ２７を通じて連続的に点滴供給され
ているので、薄膜磁気ヘッド３０の浮動面３１に研磨が
施されることになる。

【００３４】また、研磨装置２０の上には支柱１１ｂを
設けており、支柱１１ｂの上端にはＬ字型のガイド治具
２３ｂを取り付けてある。さらにＬ字型のガイド治具２
３ｂの２つの先端部には、時計方向（矢印Ｉ方向）に回
転可能な外輪を持つ一対のローラ２８ｂが取り付けてあ
る。ローラ２８ｂの配置としては、ローラ２８ｂの時計
方向（矢印Ｉ方向）に回転可能な外輪が研磨定盤２１上
に載せた中空円筒状の砥粒埋め込みリング１３の外側円
筒面に接し、砥粒埋め込みリング１３の外側円筒面をロ
ーラ２８ｂが受けるような配置にしている。

【００３５】砥粒埋め込みリング１３は、反時計方向
（矢印Ｅ方向）に回転する研磨定盤２１上に載せてあ
り、また、それと同時に砥粒埋め込みリング１３の外側
円筒面を時計方向（矢印Ｉ方向）に回転可能な外輪付き
ローラ２８ｂで受けることによっては、研磨定盤２１上
での砥粒埋め込みリング１３の配置位置を位置決めして
いる。

【００３６】研磨定盤２１の回転時において、砥粒埋め
込みリング１３の環状下端面が当接している研磨定盤２
１の上面では、内側部と外側部とで回転半径の大きさの
違いによって、周速差が生じる。研磨定盤２１の上面の
回転半径は、当然、内側部よりも外側部の方が大きいの
で、そのぶん外側部の周速の方が内側部の周速よりも速
くなる。この研磨定盤２１の上面における内側部と外側
部との周速差すなわち研磨定盤２１上面の外側部周速が
内側部周速よりも速いことによっては、砥粒埋め込みリ
ング１３に反時計方向（矢印Ｊ方向）への回転力が加わ
って、砥粒埋め込みリング１３は反時計方向（矢印Ｊ方
向）に自転をする。この際、ローラ２８ｂの時計方向
（矢印Ｉ方向）に回転可能な外輪は、砥粒埋め込みリン
グ１３が反時計方向（矢印Ｊ方向）に自転するためのガ
イド役として働く。

【００３７】上述したように、砥粒埋め込みリング１３
は、反時計方向（矢印Ｅ方向）に回転している研磨定盤
２１の上面で反時計方向（矢印Ｊ方向）に自転する。し
たがって、中空円筒状の砥粒埋め込みリング１３の環状
下端面と研磨定盤２１の上面とは相対的な摺動運動をす
ることになり、さらに研磨定盤２１の上面には砥粒２４
を含んだ研磨液２５がポンプ２６によってチューブ２７
を通じて連続的に点滴供給されているので、研磨定盤２
１の表面には砥粒２４が埋め込まれることになる。この
ことによっては、薄膜磁気ヘッド３０の浮動面３１に対
しては、遊離状態ではなく固定状態で加工作用を働かせ
る固定状態の砥粒切れ刃を形成する。

【００３８】図１中には図示していないが、研磨定盤２
１の上面と摺動する砥粒埋め込みリング１３の環状下端
面は、研磨定盤２１の材質よりも硬度が高い材質で構成
している。これは、砥粒埋め込みリング１３の環状下端
面側に砥粒２４が埋め込まれることを防止し、砥粒埋め
込みリング１３が研磨定盤２１側へと砥粒２４を押し込
むように働かせるためである。具体的には、砥粒埋め込
みリング１３の環状下端面には、被研磨加工物である薄
膜磁気ヘッド３０の浮動面３１と同じ材質のアルミナチ
タンカーバイド系セラミックスの小片を等間隔に並べて
取り付けている。よって、薄膜磁気ヘッド３０の浮動面
３１を研磨する際には、砥粒埋め込みリング１３の環状
下端面に取り付けたアルミナチタンカーバイド系セラミ
ックスも薄膜磁気ヘッド３０の浮動面３１と同様にして
研磨加工が施されることにはなるが、研磨定盤２１の材
質である錫の硬度に比べては砥粒埋め込みリング１３の
環状下端面に取り付けたアルミナチタンカーバイド系セ
ラミックスの硬度の方がはるかに高いために、砥粒埋め
込みリング１３側には砥粒２４が埋め込まれず、研磨定
盤２１側にだけ砥粒２４が埋め込まれ、研磨定盤２１の
上面に固定状態の砥粒切れ刃が形成される。

【００３９】なお、砥粒埋め込みリング１３と同様にし
て研磨定盤２１上で摺動するワークキャリアリング１２
の環状下端面についても、研磨定盤２１の材質より硬度
が高い材質で構成することによっては、砥粒埋め込みリ
ング１３と同様にして研磨定盤２１上に固定状態の砥粒
切れ刃を形成する働きをすることは言うまで無いことで
ある。そして、図１中には図示していないが、ここで
は、ワークキャリアリング１２の環状下端面にも、アル
ミナチタンカーバイド系セラミックスの小片を等間隔に
並べて取り付けており、研磨定盤２１上での固定砥粒切
れ刃の形成を促進させている。

【００４０】また、本発明の実施形態においては、ワー
クキャリアリング１２の外周円筒面に、遊離状態にある
砥粒２４を吸収して捕獲することが可能な多孔質体１４
を、その下端部が研磨定盤２１の表面と当接する状態に
して巻き付けて設けている。この多孔質体１４は微細な
気孔を無数に有するスポンジ状の物のであり、多孔質体
１４の微細な気孔によっては、研磨定盤２１の表面に埋
め込みが不十分であり遊離状態にある砥粒２４を吸収し
て捕獲することで除去し、浮動面３１の研磨には遊離状
態の砥粒２４が作用させぬようにするものである。

【００４１】上述したように、本発明の実施形態におい
ては、研磨定盤２１上で摺動する砥粒埋め込みリング１
３とワークキャリアリング１２とによって、研磨定盤２
１の上面に砥粒２４を埋め込んでいる。そして、大多数
の砥粒２４は、研磨定盤２１上に埋め込まれ、固定砥粒
切れ刃を形成することになる。しかしながら、実際に
は、研磨定盤２１上に供給した無数の砥粒２４を１００
％全て完全に研磨定盤２１の上面に埋め込むことは不可
能であり、研磨定盤２１の表面には埋め込みが不十分な
遊離状態の砥粒２４も僅かに存在する。そこで、本発明
の実施形態においては、ワークキャリアリング１２の外
周円筒面にその下端部が研磨定盤２１の表面と当接する
状態にして巻き付けて設けた多孔質体１４によって、問
題のポールリセッションの発生に関与する遊離状態の砥
粒２４を吸収捕獲し除去する。

【００４２】多孔質体１４は、ワークキャリアリング１
２の外周円筒面にその下端部が研磨定盤２１の表面と当
接する状態にして巻き付けて設けてあるので、ワークキ
ャリアリング１２の中空円筒外周部において、遊離状態
の砥粒２４を吸収捕獲する。したがって、下面に薄膜磁
気ヘッド３０の浮動面３１を下向きに保持させた研磨治
具２２を配置するワークキャリアリング１２の中空円筒
内部へ、遊離状態の砥粒２４が侵入することは阻止され
る。よって、浮動面３１の研磨には遊離状態の砥粒２４
が作用せぬようにすることが可能となり、浮動面３１の
研磨は研磨定盤２１上に埋め込まれた砥粒２４で形成さ
れた固定砥粒の切れ刃だけによって成されることにな
る。

【００４３】なお、多孔質体１４としては、親水性高分
子であるポリビニルアルコールを原料とした親水性基材
の連続気孔体スポンジを用ている。具体的には、「ベル
クリン」という商品名で市販されているスポンジであ
り、これは極微細な連続気孔体であって砥粒２４のよう
なパーティクルの吸着性に優れており、しかも研磨液２
５を吸収した状態においては柔軟性にも優れるために研
磨定盤２１の表面に常に当接し研磨定盤２１の表面に追
従可能である。さらには、耐摩耗性にも優れており、基
材の脱落もないので、浮動面３１の研磨に悪影響を及ぼ
すような粉塵を出すことも無い。「ベルクリン」は元々
は、半導体製造等における精密洗浄用のブラシやワイパ
ー、あるいはクリーンルームの清掃用具として使われる
パーティクルの吸着性に優れたスポンジである。

【００４４】また、本発明の実施形態において、多孔質
体１４はワークキャリアリング１２の外周円筒面に巻き
付けて設けているが、これは着脱可能に取り付けてあっ
て、遊離状態にある砥粒２４を吸収して捕獲する能力が
劣化してきた際には、新しい多孔質体１４との交換が可
能にしてある。

【００４５】本発明の実施形態では上述したように、研
磨定盤２１の表面へ砥粒２４を含んだ研磨液２５を供給
し、研磨定盤２１上で摺動する砥粒埋め込みリング１３
とワークキャリアリング１２とによって研磨定盤２１の
表面に砥粒２４を埋め込んで固定状態の砥粒切れ刃を形
成する。なおかつ、埋め込みが不十分で遊離状態にある
砥粒２４については、浮動面３１の研磨に作用せぬよう
に、ワークキャリアリング１２の外周円筒面に巻き付け
て設けた多孔質体１４により吸収捕獲して、除去しなが
ら研磨する。よって、問題のポールリセッションの発生
に関与する加工作用、すなわち砥粒２４が研磨定盤２１
上で遊離したままでの加工作用は除外した状態での浮動
面３１の研磨を行う。

【００４６】したがって、前記従来の技術の研磨方法
で、薄膜磁気ヘッド３０の浮動面３１を研磨した時のよ
うに、問題点のポールリセッションを生じる問題は無
い。

【００４７】

【発明の効果】以上の説明で明かなように、本発明にお
ける薄膜磁気ヘッドの浮動面の研磨方法では、磁気記録
媒体表面に浮上するための浮動面を有する薄膜磁気ヘッ
ドの製造工程中における浮動面の最終仕上げの研磨方法
において、研磨定盤の表面へ砥粒を含んだ研磨液を供給
し、研磨定盤の表面に砥粒を埋め込み固定状態の砥粒切
れ刃を形成しつつ、なおかつ埋め込みが不十分で遊離状
態にある砥粒については浮動面の研磨に作用せぬよう除
去しながら研磨する。

【００４８】また、本発明における薄膜磁気ヘッドの浮
動面の研磨方法では、前記研磨定盤は円盤状の回転研磨
定盤とする。

【００４９】さらに、本発明における薄膜磁気ヘッドの
浮動面の研磨方法では、中空円筒状の砥粒埋め込みリン
グの環状下端面を前記回転研磨定盤の表面に当接させて
前記回転研磨定盤上に載置し、前記回転研磨定盤の回転
によっては前記回転研磨定盤上で中空円筒状の前記砥粒
埋め込みリングを連れ回して回転摺動させることで、前
記回転研磨定盤の表面に砥粒を埋め込み固定状態の砥粒
切れ刃を形成する。

【００５０】またさらに、本発明における薄膜磁気ヘッ
ドの浮動面の研磨方法では、前記砥粒埋め込みリングと
同様にして中空円筒状であって、環状下端面を前記回転
研磨定盤の表面に当接して前記回転研磨定盤上に載置さ
れ、前記回転研磨定盤の回転によっては前記回転研磨定
盤上で連れ回され回転摺動し、なおかつ中空円筒部の内
部では薄膜磁気ヘッドの浮動面以外の部位を保持させた
研磨治具を前記回転研磨定盤上で連れ回して摺動させる
中空円筒状のワークキャリアリングの外周円筒面に、遊
離状態にある砥粒を吸収して捕獲することが可能な多孔
質体をその一端が前記回転研磨定盤表面と当接する状態
にして設けることによって、前記回転研磨定盤の表面に
埋め込みが不十分で遊離状態の砥粒を除去し、遊離状態
の砥粒は浮動面の研磨に作用せぬようにする。

【００５１】したがって、本発明の薄膜磁気ヘッドの浮
動面の研磨方法によって得られる研磨仕上がりにおいて
は、前記従来の技術の研磨方法で生じるポールリセッシ
ョンの問題は無い。

【００５２】なお、図３ではインダクティブ型薄膜磁気
ヘッドを示してポールリセッションが生じるという課題
を説明したが、このポールリセッションの問題は磁気抵
抗型薄膜磁気ヘッドの浮動面の研磨においても共通の課
題であった。すなわち、上述した本発明の効果は、イン
ダクティブ型薄膜磁気ヘッドの浮動面の研磨だけに限定
されるものではなく、磁気抵抗型薄膜磁気ヘッドの浮動
面の研磨においても有効である。

【００５３】このため、磁気記録媒体表面に浮上するた
めの浮動面を有する薄膜磁気ヘッドの製造工程中におけ
る浮動面の最終仕上げの研磨において、薄膜磁気ヘッド
の記録再生特性の向上を阻む一因となるポールリセッシ
ョンの発生を抑制することが可能な薄膜磁気ヘッドの浮
動面の研磨方法が提供された。

【００５４】ひいては、記録再生特性が向上した高性能
な薄膜磁気ヘッドが提供された。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による薄膜磁気ヘッドの浮動面の研磨方
法を示す説明図である。

【図２】従来の技術による一般的な薄膜磁気ヘッドの浮
動面の研磨方法を示す説明図である。

【図３】薄膜磁気ヘッドのポールリセッションについて
の説明図である。（ａ）は薄膜磁気ヘッドの斜視図であ
り、（ｂ）はポールリセッションを示す薄膜磁気ヘッド
の要部断面図である。

【符号の説明】

１２ ワークキャリアリング １３ 砥粒埋め込みリング １４ 多孔質体 ２１ 研磨定盤 ２２ 研磨治具 ２４ 砥粒 ２５ 研磨液 ３０ 薄膜磁気ヘッド ３１ 浮動面

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 磁気記録媒体表面に浮上するための浮動
   面を有する薄膜磁気ヘッドの製造工程中における浮動面
   の最終仕上げの研磨方法において、研磨定盤の表面へ砥
   粒を含んだ研磨液を供給し、研磨定盤の表面に砥粒を埋
   め込み固定状態の砥粒切れ刃を形成しつつ、なおかつ埋
   め込みが不十分で遊離状態にある砥粒については浮動面
   の研磨に作用せぬよう除去しながら研磨することを特徴
   とする薄膜磁気ヘッドの浮動面の研磨方法。
2. 【請求項２】 前記研磨定盤は、円盤状の回転研磨定盤
   とすることを特徴とする請求項１に記載の薄膜磁気ヘッ
   ドの浮動面の研磨方法。
3. 【請求項３】 中空円筒状の砥粒埋め込みリングの環状
   下端面を前記回転研磨定盤の表面に当接させて前記回転
   研磨定盤上に載置し、前記回転研磨定盤の回転によって
   は前記回転研磨定盤上で中空円筒状の前記砥粒埋め込み
   リングを連れ回して回転摺動させることで、前記回転研
   磨定盤の表面に砥粒を埋め込み固定状態の砥粒切れ刃を
   形成することを特徴とする請求項２に記載の薄膜磁気ヘ
   ッドの浮動面の研磨方法。
4. 【請求項４】 前記砥粒埋め込みリングと同様にして中
   空円筒状であって、環状下端面を前記回転研磨定盤の表
   面に当接して前記回転研磨定盤上に載置され、前記回転
   研磨定盤の回転によっては前記回転研磨定盤上で連れ回
   され回転摺動し、なおかつ中空円筒部の内部では薄膜磁
   気ヘッドの浮動面以外の部位を保持させた研磨治具を前
   記回転研磨定盤上で連れ回して摺動させる中空円筒状の
   ワークキャリアリングの外周円筒面に、遊離状態にある
   砥粒を吸収して捕獲することが可能な多孔質体をその一
   端が前記回転研磨定盤表面と当接する状態にして設ける
   ことによって、前記回転研磨定盤の表面に埋め込みが不
   十分で遊離状態の砥粒を除去し、遊離状態の砥粒は浮動
   面の研磨に作用せぬようにすることを特徴とする請求項
   ２に記載の薄膜磁気ヘッドの浮動面の研磨方法。