JPH09180389A - 磁気ヘッドスライダ製造装置及び磁気ヘッドスライダ製造方法 - Google Patents

磁気ヘッドスライダ製造装置及び磁気ヘッドスライダ製造方法

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JPH09180389A
JPH09180389A JP34069295A JP34069295A JPH09180389A JP H09180389 A JPH09180389 A JP H09180389A JP 34069295 A JP34069295 A JP 34069295A JP 34069295 A JP34069295 A JP 34069295A JP H09180389 A JPH09180389 A JP H09180389A
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head slider
air bearing
bearing surface
slider
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JP34069295A
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Katsuyoshi Kojima
勝義 小島
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Original Assignee
Toshiba Corp
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
    • B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
    • B24B37/048—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces of sliders and magnetic heads of hard disc drives or the like

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】リセスの低減を図ることができる磁気ヘッドス
ライダ製造装置を提供すること。 【解決手段】気体膜を介して浮上する浮上面を有し且つ
浮上面側にギャップが開口する薄膜磁気ヘッドを内蔵す
る磁気ヘッドスライダＷの浮上面を加工して所定の磁気
ギャップ深さを得る磁気ヘッドスライダ製造装置３０に
おいて、磁気ヘッドスライダＷを保持する保持治具７４
と、保持治具７４に対向して設けられ保持治具７４に保
持された磁気ヘッドスライダＷの浮上面を研磨するラッ
プ盤４４とを備え、ラップ盤４４は、板状のラップ盤本
体と、このラップ盤本体表面にその一部を露出させて埋
め込まれて固定された砥粒とを具備するようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、磁気ヘッドスライ
ダ製造装置に関し、特にスライダのラップ加工時に生じ
るリセス（加工段差）の低減、磁性膜の腐食の抑制及び
装置の低コスト化等を図ることができるものに関する。
また、本発明は、磁気ヘッドスライダ製造装置及び磁気
ヘッドスライダ製造方法に関し、特にスライダの浮上面
にクラウンを形成するものに関する。
【０００２】
【従来の技術】ハードディスク装置には、ディスクに書
込み・読出しを行う磁気ヘッドが組み込まれている。こ
の磁気ヘッドは、ディスクの記録面に対して所定の距離
をとる必要がある。このため、磁気ヘッドはディスクの
回転に伴って浮き上がる磁気ヘッドスライダに取り付け
られている。
【０００３】図９はこのような磁気ヘッドスライダの一
例を示している。すなわち、磁気ヘッドスライダ１０
は、矩形状に形成されたスライダ本体１１と、このスラ
イダ本体１１のディスクＰと対向する側に設けられた浮
上面１２と、この浮上面１２端部に埋設された磁気ヘッ
ド１３と、磁気ヘッド１３を保護する保護膜１４と、浮
上面１２と反対側に設けられ、磁気ヘッドアーム（不図
示）に取り付けられる取付面１５とを備えている。な
お、浮上面１２にはクラウン形成部（不図示）とテーパ
部１２ａとが設けられている。テーパ部１２ａはディス
クＰの回転に伴い、気流を受けてスライダ本体１１を浮
上させ、磁気ヘッド１３とディスクＰとを一定距離に保
持する機能を有している。
【０００４】磁気ヘッドスライダ浮上面１２端部に埋設
された磁気ヘッド１３とそれを保護するための保護膜１
４はそれぞれＣｏＦｅ、ＣｏＺｒＮｂ等の磁性膜及びＡ
ｌ2Ｏ3 等の薄膜で構成されており、浮上面１２を構成
するＡｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣ等のセラミックス材とは大きく
硬度が異なる。具体的には、Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣはＨｖ
が２２００、Ａｌ2 Ｏ3 はＨｖが９９０、磁性膜はＨｖ
が１８０となっている。このため浮上面１２を研磨加工
する際に各材料間の硬度の相違に基づくリセス（加工段
差）が発生する。
【０００５】このため、従来はリセスを低減させる方法
として、図１０の（ａ），（ｂ）に示すように粒径１／
４μｍ程度のダイヤモンド砥粒Ｄを含有するスラリーＳ
をラップ定盤Ｖを用いて、加工液としてオイル若しくは
水性液体等を用いて加工を行っていた。なお、荒加工と
リセス低減のための仕上げ加工とは粗さの異なるラップ
定盤を備えた別々の装置で行われている。
【０００６】一方、図１１は磁気ヘッドスライダの別の
例を示している。すなわち、磁気ヘッドスライダ２０
は、矩形状に形成されたスライダ本体２１と、このスラ
イダ本体２１のディスクＰと対向する側に設けられた浮
上面２２と、この浮上面２２端部に埋設された磁気ヘッ
ド２３と、磁気ヘッド２３に接続された電極２４と、浮
上面２２と反対側に設けられ、磁気ヘッドアーム（不図
示）に取り付けられる取付面２５とを備えている。な
お、浮上面２２にはテーパ部２２ａとクラウン形成部２
２ｂとが設けられている。クラウン形成部２２ｂは、浮
上面２２とディスクとの吸着等を防止するために形成さ
れている。
【０００７】このクラウン形成部２２ｂは、複数の磁気
ヘッドスライダ２０の取付面２５をスライダ保持治具
（不図示）に貼り付け、浮上面２２をラップ定盤（不図
示）により研磨することにより形成している。すなわ
ち、ラップ定盤を予め凹状の球面形状に加工し、この形
状を浮上面２２に転写することにより形成したり、スラ
イダ保持治具に強制的な変形を与え、これを浮上面２２
に転写することにより形成する方法がとられていた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の磁気ヘ
ッドスライダ製造装置にあっては、次のような問題があ
った。すなわち、リセスを低減するためにラップ定盤に
より仕上げ加工を行なう方法では、リセスを１０〜１５
ｎｍ以下には低減できないという問題があった。これ
は、加工液中の遊離砥粒が柔らかい磁気ヘッド１３及び
保護膜１４に作用するためである。一方、加工液として
水分を含んだものは磁気ヘッド１３及び保護膜１４を構
成する磁性膜を酸化腐食する虞があり、オイルを含んだ
ものは後洗浄が必要になる等の問題があった。さらに、
荒加工用ラップ定盤と、仕上げ加工用ラップ定盤とが異
なる装置に設けられているため、設置スペースを広く必
要とする等の問題があった。
【０００９】一方、上述したクラウンを形成する方法に
おいては、再現性を高めるためにスライダ保持治具を高
精度に製造する必要があったり、スライダ保持治具の構
造が複雑になり高コストになる等の問題があった。
【００１０】そこで本発明は、リセスの低減を図ること
ができる磁気ヘッドスライダ製造装置及び磁性膜の酸化
腐食抑制や後洗浄の洗浄性を向上させることができる磁
気ヘッドスライダ製造装置及び広い設置スペースを必要
とせず低コストの磁気ヘッドスライダを提供することを
目的としている。また、スライダの浮上面にクラウンを
再現性よく、かつ低コストで形成することができる磁気
ヘッドスライダ製造装置を提供することを目的としてい
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決し目的を
達成するために、請求項１に記載された発明は、気体膜
を介して浮上する浮上面を有し且つ上記浮上面側にギャ
ップが開口する薄膜磁気ヘッドを内蔵する磁気ヘッドス
ライダの上記浮上面を加工して所定の磁気ギャップ深さ
を得る磁気ヘッドスライダ製造装置において、上記磁気
ヘッドスライダを保持する保持治具と、上記保持治具に
対向して設けられ上記保持治具に保持された上記磁気ヘ
ッドスライダの上記浮上面を研磨するラップ盤とを備
え、上記ラップ盤は、板状のラップ盤本体と、このラッ
プ盤本体表面にその一部を露出させて埋め込まれて固定
された砥粒とを具備するようにした。
【００１２】請求項２に記載された発明は、気体膜を介
して浮上する浮上面を有し且つ上記浮上面側にギャップ
が開口する薄膜磁気ヘッドを内蔵する磁気ヘッドスライ
ダの上記浮上面を加工して所定の磁気ギャップ深さを得
る磁気ヘッドスライダ製造装置において、上記磁気ヘッ
ドスライダを保持する保持治具と、上記保持治具に対向
して設けられ上記保持治具に保持された上記磁気ヘッド
スライダの上記浮上面を研磨するラップ盤と、このラッ
プ盤に加工液を供給する加工液供給機構とを備え、上記
加工液は上記磁性膜又は上記磁気ヘッドを腐食しない溶
媒を有することとした。
【００１３】請求項３に記載された発明は、請求項２に
記載された発明において、上記磁性膜又は上記磁気ヘッ
ドを腐食しない溶媒は、グリコール類又はエーテル類で
あることとした。
【００１４】請求項４に記載された発明は、気体膜を介
して浮上する浮上面を有し且つ上記浮上面側にギャップ
が開口する薄膜磁気ヘッドを内蔵する磁気ヘッドスライ
ダの上記浮上面を加工して所定の磁気ギャップ深さを得
る磁気ヘッドスライダ製造装置において、上記磁気ヘッ
ドスライダを保持する保持治具と、この保持治具に対向
して設けられ所定軸を中心に回転駆動されるベースプレ
ートと、このベースプレート上に同心的に配置された荒
加工用定盤と、上記ベースプレート上に上記荒加工用定
盤に対し同心的に配置された仕上げ加工用定盤とを備え
るようにした。
【００１５】請求項５に記載された発明は、気体膜を介
して浮上する浮上面を有し且つ上記浮上面側にギャップ
が開口する薄膜磁気ヘッドを内蔵する磁気ヘッドスライ
ダの上記浮上面を加工して所定の磁気ギャップ深さを得
るとともに、上記浮上面を凸状に形成する磁気ヘッドス
ライダ製造装置において、上記磁気ヘッドスライダをホ
ットメルトワックスを介して保持する保持治具と、上記
保持治具に保持された上記磁気ヘッドスライダの上記浮
上面を研磨するラップ盤と、上記ホットメルトワックス
を加熱する加熱手段とを備えるようにした。
【００１６】請求項６に記載された発明は、気体膜を介
して浮上する浮上面を有し且つ上記浮上面側にギャップ
が開口する薄膜磁気ヘッドを内蔵する磁気ヘッドスライ
ダの上記浮上面を加工して所定の磁気ギャップ深さを得
るとともに、上記浮上面を凸状に形成する磁気ヘッドス
ライダ製造方法において、保持治具にホットメルトワッ
クスを介してスライダを常温において接着するスライダ
接着工程と、上記ホットメルトワックスを加熱し、上記
スライダを上記浮上面を凹状に変形させる加熱工程と、
この加熱工程により変形した上記スライダの上記浮上面
を平坦に研磨する研磨工程とを備えるようにした。
【００１７】上記手段を講じた結果、次のような作用が
生じる。請求項１に記載された発明では、保持治具に保
持された磁気ヘッドスライダの浮上面を、ラップ盤本体
表面に砥粒がその一部を露出させて埋め込まれたラップ
盤により研磨するので、遊離砥粒により過剰な研磨を抑
えることができ、材質の違いによるリセスの発生を防止
することができる。
【００１８】請求項２に記載された発明では、加工液は
磁性膜又は磁気ヘッドを腐食しない溶媒を有するので、
磁気ヘッドスライダを構成する磁性膜及び磁気ヘッドの
特性に悪影響を与えることがない。
【００１９】請求項３に記載された発明では、磁性膜又
は磁気ヘッドを腐食しない溶媒は、グリコール類又はエ
ーテル類であるので、拭き取り等の後処理が容易であ
る。請求項４に記載された発明では、磁気ヘッドスライ
ダを保持する保持治具と、この保持治具に対向して設け
られ所定軸を中心に回転駆動されるベースプレートと、
このベースプレート上に同心的に配置された荒加工用定
盤と、ベースプレート上に荒加工用定盤に対し同心的に
配置された仕上げ加工用定盤とを備えるようにしたの
で、荒加工及び仕上げ加工を行う回転機構等を共通化さ
せることができ、装置の製造コストを低減することがで
きる。
【００２０】請求項５に記載された発明では、保持治具
に磁気ヘッドスライダをホットメルトワックスを介して
保持させ、このホットメルトワックスを加熱して膨脹さ
せることで磁気ヘッドスライダを変形させることができ
るので、変形させた状態で平坦化することにより、常温
に戻すことで浮上面を凸状に形成することができる。
【００２１】請求項６に記載された発明では、保持治具
に磁気ヘッドスライダをホットメルトワックスを介して
保持させ、このホットメルトワックスを加熱して膨脹さ
せることで磁気ヘッドスライダを変形させることができ
るので、変形させた状態で平坦化することにより、常温
に戻すことで浮上面を凸状に形成することができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】図１の（ａ），（ｂ）は本発明の
第１の実施の形態に係る磁気ヘッドスライダ製造装置３
０を一部切欠して示す側面図である。磁気ヘッドスライ
ダ製造装置３０は、ラップ定盤部４０と、スライダ保持
部５０とから構成されている。
【００２３】ラップ定盤部４０は、図１中矢印Ｒ方向に
回転する回転軸４１と、この回転軸４１の図１中上端に
取り付けられた円板状のセラミックスベース板４２と、
このセラミックスベース板４２上面にエポキシ系樹脂系
の接着剤で接着されて錫材製の円環状の荒加工用定盤４
３と、錫材製の円板状の仕上げ加工用定盤４４とを備え
ている。なお、仕上げ加工用定盤４４には、後述する粒
径１／８μｍ以下の固定したダイヤモンド砥粒Ｄ２が埋
め込まれている。
【００２４】スライダ保持部５０は、図１中矢印Ｘ方向
に沿って後述するカバー用スライダ６０及び被加工物用
スライダ７０を往復動させる搬送機構５１と、この搬送
機構５１に支持されたカバー用スライダ６０と、搬送機
構５１に支持された被加工物用スライダ７０とを備えて
いる。
【００２５】カバー用スライダ６０には、後述するカバ
ー６２を図１中矢印Ｚ方向に沿って上下動させる上下駆
動機構６１が取り付けられており、この上下駆動機構６
１にはカバー６２が取り付けられている。
【００２６】被加工物用スライダ７０には、後述する加
圧用エアシリンダ７２を図１中矢印ｒ方向に回動させる
回動機構７１が取り付けられており、この回動機構７１
には後述するスライダ保持治具７３を図１中Ｚ方向に沿
って上下動させる加圧用エアシリンダ７２が取り付けら
れている。そして、この加圧用エアシリンダ７２には治
具ホルダ７３が取り付けられている。
【００２７】治具ホルダ７３の図１中下面７３ａには、
スライダ保持治具７４がねじやボルト（不図示）等で取
り付けられており、スライダ保持治具７４にはホットメ
ルトワックス等で接着固定された複数の磁気ヘッドスラ
イダＷが保持されている。
【００２８】なお、図１中８０は加工液Ｓ１を供給する
加工液供給ホース、８１は加工液Ｓ１を荒加工用定盤４
３に吹き付ける加工液供給ノズル、９０は加工液Ｓ２を
供給する加工液供給ホース、９１は加工液Ｓ２を仕上げ
加工用定盤４４に吹き付ける加工液供給ノズルを示して
いる。
【００２９】このように構成された磁気ヘッドスライダ
製造装置３０では、次のようにして磁気ヘッドスライダ
Ｗの研磨加工を行なう。なお研磨加工に先立ち、仕上げ
加工用定盤４４上に固定したダイヤモンド砥粒Ｄ２を予
め図２に示すようにして形成する。すなわち、アルミナ
材製の修正リングＭを仕上げ加工用定盤４４に対向させ
るとともに、これらの間に１／８μｍ以下のダイヤモン
ド砥粒Ｄ２を含むスラリーＳ３を噴霧する。そして、修
正リングＭと仕上げ加工用定盤４４とを所定の圧力で押
圧しながら３０分間程度相対運動を行う。この相対運動
によりダイヤモンド砥粒Ｄ２の一部が錫材製の仕上げ加
工用定盤４４に埋め込まれる。この後、仕上げ加工用定
盤４４表面を純水で洗浄し、この純水を拭き取る。
【００３０】次に荒加工の研磨を行う。図１の（ａ）に
示すように、搬送機構５１によりカバー用スライダ６０
を仕上げ加工用定盤４４に対向させ、上下駆動機構６１
によりカバー６２で仕上げ加工用定盤４４を覆う。これ
は後述する加工液Ｓ１が仕上げ加工用定盤４４表面にか
からないようにするためである。
【００３１】搬送機構５１により被加工物用スライダ７
０を磁気ヘッドスライダＷを荒加工用定盤４３に対向さ
せ、加工液供給ホース８０及び加工液供給ノズル８１か
ら加工液Ｓ１を荒加工用定盤４３表面上に供給する。な
お、加工液Ｓ１は、粒径１／８μｍのダイヤモンド砥粒
Ｄ１をエチレングリコール液に混合（約０．５重量％）
したもので水は含まない。回転軸４１を図１中Ｒ方向に
回転駆動するとともに、回動機構７１により治具ホルダ
７３を図１中ｒ方向に回転駆動し、さらに加圧用エアシ
リンダ７２で加圧する。
【００３２】図３の（ａ）は荒加工定盤４３での加工状
態を示す概略図である。ダイヤモンド砥粒Ｄ１は遊離砥
粒として磁気ヘッドスライダＷに作用する。このときの
リセスは約１０ｎｍとなる。
【００３３】所定時間経過後、カバー６２を取り外し、
図１の（ｂ）に示すように仕上げ加工の研磨を行う。す
なわち、搬送機構５１により被加工物用スライダ７０を
磁気ヘッドスライダＷを仕上げ加工用定盤４４に対向さ
せ、加工液供給ホース９０及び加工液供給ノズル９１か
ら加工液Ｓ２を仕上げ加工用定盤４４表面上に供給す
る。なお、加工液Ｓ２は、エチレングリコール液であ
り、水及びダイヤモンド砥粒は含まない。回転軸４１を
図１中Ｒ方向に回転駆動するとともに、回動機構７１に
より治具ホルダ７３を図１中ｒ方向に回転駆動し、さら
に加圧用エアシリンダ７２で加圧する。
【００３４】図３の（ｂ）は仕上げ加工用定盤４４での
加工状態を示す概略図である。磁気ヘッドスライダＷに
は、仕上げ加工用定盤４４に埋め込まれたダイヤモンド
砥粒Ｄ２のみが作用する。このため、スライダ表面が均
一に研磨され材料の硬さの違いによるリセスの発生が抑
制される。このときのリセスの加工段差量は５〜６ｎｍ
となる。
【００３５】また、磁性膜の腐食に関しては、磁性膜中
のＦｅＭｎ膜のＭｎの原子濃度を指標にした場合、従来
の水が混入している加工液では１９．８ａｔｏｍｉｃ％
であるのに対し、エチレングリコールからなる加工液Ｓ
２では３２．７ａｔｏｍｉｃ％であり、磁性膜が本来持
っているＭｎ濃度を維持しており腐食が抑制できる。さ
らに、磁気ヘッドの特性を磁気抵抗変化率で見た場合、
従来の水が混入している加工液では１．２％であるのに
対しエチレングリコールからなる加工液Ｓ２では２．５
％となり、磁気特性においても効果がある。
【００３６】また、エチレングリコールからなる加工液
Ｓ２は、拭き取りが容易であるため、後洗浄の洗浄性の
向上を図ることができる。さらに、同一の回転軸４１に
取り付けられたセラミックスベース板４２上に荒加工用
定盤４３と仕上げ加工用定盤４４が形成されているの
で、装置１台で荒加工から仕上加工までを行うことがで
き、装置の製造コストを低減することができる。
【００３７】図４は本発明の第２の実施の形態に係る磁
気ヘッドスライダ製造装置１００を示す縦断面図であ
る。磁気ヘッドスライダ製造装置１００は、ラップ定盤
部１１０と、スライダ保持部１２０とから構成されてい
る。
【００３８】ラップ定盤部１１０は、図１中矢印Ｑ方向
に回転する回転軸１１１と、この回転軸１１１の図１中
上端に取り付けられた円板状のセラミックスベース板１
１２と、このセラミックベース板１１２上面にボルトに
より締結されたセラミックス受板１１３と、このセラミ
ックス受板１１３にエポキシ系樹脂系の接着剤で接着さ
れたラップ定盤１１４とを備えている。なお、セラミッ
クスベース板１１２内には、ラップ定盤１１４の温度を
調節するための温度調節液を循環させるための温度調節
液用溝１１５が設けられている。この温度調節液用溝１
１５には、温度調節液供給ホース１１６と、温度調節液
排出ホース１１７が接続されており、恒温槽（不図示）
との間を所定の温度に調節された温度調節液が循環する
ように形成されている。
【００３９】スライダ保持部１２０は、後述する治具ホ
ルダ１２２を図１中矢印ｑ方向に回動させる回動機構１
２１と、この回動機構１２１に取り付けられた治具ホル
ダ１２２と、この治具ホルダ１２２の下面に取り付けら
れたスライダ保持治具１２３とを備えている。このスラ
イダ保持治具１２３にホットメルトワックス１２４を介
して図５に示すように複数の磁気ヘッドスライダＬが取
り付けられている。
【００４０】なお、図１中１３０は加工液Ｓ３を供給す
る加工液供給ホース、１３１は加工液Ｓ４をラップ定盤
１１４上に吹き付ける加工液供給ノズルを示している。
このように構成された磁気ヘッドスライダ製造装置１０
０は、次のようにしてクラウンを形成する。なお、スラ
イダ保持治具１２３にホットメルトワックス１２４を介
して保持された磁気ヘッドスライダＬは平板状であり、
変形していない。次に、温度調節液用供給ホース１１６
から室温よりも約１０℃高い温度調節液を温度調節液用
溝１１５に供給する。なお、温度調節液用溝１１５から
温度調節液は温度調節液用排出ホース１１７から恒温槽
に戻される。これによりラップ定盤１１４の温度が約１
０℃上昇する。
【００４１】ラップ定盤１１４は温度上昇により膨脹し
変形するため、この温度を維持した状態で、切削バイト
等によりラップ定盤１１４の平面加工を行う。次に磁気
ヘッドスライダＬの研磨を行う。すなわち、回転軸１１
１を図４中Ｑ矢印方向に回転駆動し、セラミックスベー
ス板１１２を回転させ、回動機構１２１により治具ホル
ダ１２２を図４中ｑ方向に回転させ、図６の（ｂ）に示
すように磁気ヘッドスライダＬとラップ定盤１１４とを
摺動させ、平坦化するように研磨を行う。このとき、ラ
ップ定盤１１４から磁気ヘッドスライダＬを介してホッ
トメルトワックス１２４に熱が伝導する。
【００４２】ホットメルトワックス１２４は熱により膨
脹し、図６の（ｃ）に示すように磁気ヘッドスライダＬ
の浮上面Ｌａが凹状に変形する。一方、ラップ定盤１１
４による研磨が進行しており、図６の（ｄ）に示すよう
に浮上面Ｌａは引き続き研磨され、平坦化される。
【００４３】所定時間経過後、浮上面Ｌａが平坦化され
た後、ラップ定盤１１４と磁気ヘッドスライダＬとの摺
動を停止させ、ラップ定盤１１４と磁気ヘッドスライダ
Ｌとを離間させる。これにより、ラップ定盤１１４から
の熱の伝導がなくなるので、ホットメルトワックス１２
４は常温に戻されて元の長さに収縮する。このため、磁
気ヘッドスライダＬは変形も元の形状に戻る。浮上面Ｌ
ａは、変形時に平坦に形成されているので、磁気ヘッド
スライダＬが元の形状に戻るとともに、浮上面Ｌａは図
６の（ｅ）に示すように突出量δの凸状のクラウンが形
成される。なお、図７はラップ定盤１１４の温度とクラ
ウンの突出量δとの関係を示すグラフである。すなわ
ち、必要な突出量δに応じて温度調節用液の温度を調節
すればよい。
【００４４】上述したように本第２の実施の形態におい
ては、磁気ヘッドスライダＬを接着するためのホットメ
ルトワックス１２４を膨脹させることで、磁気ヘッドス
ライダＬの浮上面Ｌａを凹状に変形させ、この状態で平
坦化を行うため、元の温度に戻したときに浮上面Ｌａを
凸状に変形させることができる。したがって、スライダ
保持治具１２３やラップ定盤１１４に特別な機構を設け
ることなく、再現性高く、かつ高精度にクラウンを形成
することができる。
【００４５】なお、上述した第１の実施の形態と第２の
実施の形態とは個別に説明したが、第１の実施の形態に
おいて、図８に示すようにセラミックスベース板４２内
に温度調節液を循環させるための温度調節液用溝４５を
設け、この温度調節液用溝４５に温度調節液供給ホース
４６と、温度調節液排出ホース４７とにより温度調節液
を循環させる。これにより、荒加工用定盤４３及び仕上
げ加工用定盤４４を加熱し研磨加工を行うことにより、
リセスを低減することができるとともに、第２の実施の
形態と同様のクラウンを形成することが可能である。な
お、本発明は上記各実施の形態に限定されるものではな
く、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施可能
であるのは勿論である。
【００４６】
【発明の効果】請求項１に記載された発明では、保持治
具に保持された磁気ヘッドスライダの浮上面を、ラップ
盤本体表面に砥粒がその一部を露出させて埋め込まれた
ラップ盤により研磨するので、遊離砥粒により過剰な研
磨を抑えることができ、材質の違いによるリセスの発生
を防止することができる。
【００４７】請求項２に記載された発明では、加工液は
磁性膜又は磁気ヘッドを腐食しない溶媒を有するので、
磁気ヘッドスライダを構成する磁性膜及び磁気ヘッドの
特性に悪影響を与えることがない。
【００４８】請求項３に記載された発明では、磁性膜又
は磁気ヘッドを腐食しない溶媒は、グリコール類又はエ
ーテル類であるので、拭き取り等の後処理が容易であ
る。請求項４に記載された発明では、磁気ヘッドスライ
ダを保持する保持治具と、この保持治具に対向して設け
られ所定軸を中心に回転駆動されるベースプレートと、
このベースプレート上に同心的に配置された荒加工用定
盤と、ベースプレート上に荒加工用定盤に対し同心的に
配置された仕上げ加工用定盤とを備えるようにしたの
で、荒加工及び仕上げ加工を行う回転機構等を共通化さ
せることができ、装置の製造コストを低減することがで
きる。
【００４９】請求項５に記載された発明では、保持治具
に磁気ヘッドスライダをホットメルトワックスを介して
保持させ、このホットメルトワックスを加熱して膨脹さ
せることで磁気ヘッドスライダを変形させることができ
るので、変形させた状態で平坦化することにより、常温
に戻すことで浮上面を凸状に形成することができる。
【００５０】請求項６に記載された発明では、保持治具
に磁気ヘッドスライダをホットメルトワックスを介して
保持させ、このホットメルトワックスを加熱して膨脹さ
せることで磁気ヘッドスライダを変形させることができ
るので、変形させた状態で平坦化することにより、常温
に戻すことで浮上面を凸状に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る磁気ヘッドス
ライダ製造装置を一部切欠して示す側面図。
【図２】同装置に組込まれた仕上げ加工用定盤に砥粒を
埋め込むための工程を示す断面図。
【図３】同装置による研磨の状態を説明するための断面
図。
【図４】本発明の第２の実施の形態に係る磁気ヘッドス
ライダ製造装置を一部切欠して示す側面図。
【図５】同装置に組み込まれたスライド保持治具と磁気
ヘッドスライダとを示す斜視図。
【図６】同装置による研磨工程を示す側面図。
【図７】ラップ定盤の温度とクラウンの突出量との関係
を示すグラフ。
【図８】本発明の第３の実施の形態に係る磁気ヘッドス
ライダ製造装置を一部切欠して示す側面図。
【図９】従来の磁気ヘッドスライダの一例を示す側面
図。
【図１０】同磁気ヘッドスライダの研磨方法を示す図。
【図１１】従来の磁気ヘッドスライダの別の例を示す斜
視図。
【符号の説明】
３０…磁気ヘッドスライダ製造装置 ４０…ラップ定盤部 ４２…円板状のセラミックスベース板 ４３…荒加工用定盤 ４４…仕上げ加工用定盤 ５０…スライダ保持部 ７４…スライダ保持治具 ８０，９０…加工液供給ホース ８１，９１…加工液供給ノズル １００…磁気ヘッドスライダ製造装置 １１０…ラップ定盤部 １１２…セラミックベース板 １１３…セラミックス受板 １１４…ラップ定盤 １１５…温度調節液用溝 １１６…温度調節液供給ホース １１７…温度調節液排出ホース １２０…スライダ保持部 １２３…スライダ保持治具 １２４…ホットメルトワックス １３０…加工液供給ホース １３１…加工液供給ノズル Ｓ１，Ｓ２，Ｓ３，Ｓ４…加工液 Ｄ１，Ｄ２…ダイヤモンド砥粒 Ｗ，Ｌ…磁気ヘッドスライダ

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】気体膜を介して浮上する浮上面を有し且つ
    上記浮上面側にギャップが開口する薄膜磁気ヘッドを内
    蔵する磁気ヘッドスライダの上記浮上面を加工して所定
    の磁気ギャップ深さを得る磁気ヘッドスライダ製造装置
    において、 上記磁気ヘッドスライダを保持する保持治具と、 上記保持治具に対向して設けられ上記保持治具に保持さ
    れた上記磁気ヘッドスライダの上記浮上面を研磨するラ
    ップ盤とを備え、 上記ラップ盤は、板状のラップ盤本体と、 このラップ盤本体表面にその一部を露出させて埋め込ま
    れて固定された砥粒とを具備することを特徴とする磁気
    ヘッドスライダ製造装置。
  2. 【請求項２】気体膜を介して浮上する浮上面を有し且つ
    上記浮上面側にギャップが開口する薄膜磁気ヘッドを内
    蔵する磁気ヘッドスライダの上記浮上面を加工して所定
    の磁気ギャップ深さを得る磁気ヘッドスライダ製造装置
    において、 上記磁気ヘッドスライダを保持する保持治具と、 上記保持治具に対向して設けられ上記保持治具に保持さ
    れた上記磁気ヘッドスライダの上記浮上面を研磨するラ
    ップ盤と、 このラップ盤に加工液を供給する加工液供給機構とを備
    え、 上記加工液は上記磁性膜又は上記磁気ヘッドを腐食しな
    い溶媒を有することを特徴とする磁気ヘッドスライダ製
    造装置。
  3. 【請求項３】上記磁性膜又は上記磁気ヘッドを腐食しな
    い溶媒は、グリコール類又はエーテル類であることを特
    徴とする請求項２に記載の磁気ヘッドスライダ製造装
    置。
  4. 【請求項４】気体膜を介して浮上する浮上面を有し且つ
    上記浮上面側にギャップが開口する薄膜磁気ヘッドを内
    蔵する磁気ヘッドスライダの上記浮上面を加工して所定
    の磁気ギャップ深さを得る磁気ヘッドスライダ製造装置
    において、 上記磁気ヘッドスライダを保持する保持治具と、 この保持治具に対向して設けられ所定軸を中心に回転駆
    動されるベースプレートと、 このベースプレート上に同心的に配置された荒加工用定
    盤と、 上記ベースプレート上に上記荒加工用定盤に対し同心的
    に配置された仕上げ加工用定盤とを備えていることを特
    徴とする磁気ヘッドスライダ製造装置。
  5. 【請求項５】気体膜を介して浮上する浮上面を有し且つ
    上記浮上面側にギャップが開口する薄膜磁気ヘッドを内
    蔵する磁気ヘッドスライダの上記浮上面を加工して所定
    の磁気ギャップ深さを得るとともに、上記浮上面を凸状
    に形成する磁気ヘッドスライダ製造装置において、 上記磁気ヘッドスライダをホットメルトワックスを介し
    て保持する保持治具と、 上記保持治具に保持された上記磁気ヘッドスライダの上
    記浮上面を研磨するラップ盤と、 上記ホットメルトワックスを加熱する加熱手段とを具備
    することを特徴とする磁気ヘッドスライダ製造装置。
  6. 【請求項６】気体膜を介して浮上する浮上面を有し且つ
    上記浮上面側にギャップが開口する薄膜磁気ヘッドを内
    蔵する磁気ヘッドスライダの上記浮上面を加工して所定
    の磁気ギャップ深さを得るとともに、上記浮上面を凸状
    に形成する磁気ヘッドスライダ製造方法において、 保持治具にホットメルトワックスを介してスライダを常
    温において接着するスライダ接着工程と、 上記ホットメルトワックスを加熱し、上記スライダを上
    記浮上面を凹状に変形させる加熱工程と、 この加熱工程により変形した上記スライダの上記浮上面
    を平坦に研磨する研磨工程とを備えていることを特徴と
    する磁気ヘッドスライダ製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6497611B2 (en) 2000-01-28 2002-12-24 Tdk Corporation Method of polishing a magnetic head slider
JP2005169556A (ja) * 2003-12-10 2005-06-30 Tdk Corp 研磨装置及び研磨方法
US7514016B2 (en) 2004-07-30 2009-04-07 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, Bv Methodology of chemical mechanical nanogrinding for ultra precision finishing of workpieces
US7803288B2 (en) 2004-02-04 2010-09-28 Mitsubishi Heavy Industries, Ltd. Neutron shielding material composition, shielding material and container

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