JP2002183944A - 記録媒体用基板向けテクスチャ加工機およびテクスチャ付き記録媒体用基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 一層の記録密度の向上に大いに寄与すること
ができる記録媒体用基板のテクスチャ構造を実現するこ
とができる記録媒体用基板向けテクスチャ加工機を提供
する。 【解決手段】 基板２５の回転中に接触ローラ３６上の
研磨テープ３７は基板２５の表面に押し付けられる。研
磨テープ３７に供給される砥粒の働きで基板２５の表面
には微小な引っ掻き傷すなわちテクスチャ構造２７は形
成されることができる。接触ローラ３６は基板２５の半
径方向に沿って基板２５の周縁に向かって移動する。こ
の移動に応じて基板２５の回転速度は減少する。接触ロ
ーラ３６と基板２５との相対移動速度は一定に維持され
ることができる。その結果、基板２５の表面では全面に
わたって一様な表面粗さＲａは確保されることができ
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えばハードディ
スク駆動装置といった記憶装置に組み込まれる記録媒体
に関し、特に、こうした記録媒体に使用される基板の表
面にいわゆるテクスチャ加工を施す記録媒体用基板向け
テクスチャ加工機に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば特開平７−２４４８４５号公報に
開示されるように、磁気ディスク用基板の表面にテクス
チャ加工を施すテクスチャ加工機は広く知られる。テク
スチャ加工機では、回転軸回りで回転するディスク形の
基板に対して研磨テープは押し付けられる。研磨テープ
に付着する砥粒は基板の表面に引っ掻き傷すなわちテク
スチャを形成する。こうした基板の表面に磁性膜は積層
形成される。磁気ディスクが組み込まれるハードディス
ク駆動装置（ＨＤＤ）では、テクスチャの働きで磁気デ
ィスクに対するヘッドスライダの吸着は防止されること
ができる。同時に、こういったテクスチャは磁気異方性
の確立に役立つ。記録密度の向上は期待される。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来の基板に基づき形
成された磁気ディスクでは、周縁から中心に向かって徐
々に表面粗さは増大してしまう。したがって、ＨＤＤで
は、たとえ周縁に近い位置でヘッドスライダの吸着防止
に十分な表面粗さが確立されても、中心に近い位置で表
面粗さは増大する。こうして増大する表面粗さに基づき
ヘッドスライダの浮上量が設定されなければ、ヘッドス
ライダは磁気ディスクに衝突してしまう。こうした浮上
量の増大は一層の高記録密度化の実現を阻害することが
懸念される。

【０００４】しかも、従来の基板に基づき形成された磁
気ディスクでは、周縁から中心に向かって徐々にクロス
アングルは増大してしまう。磁気ディスクの表面では磁
気特性に斑が生じてしまう。こうした磁気特性の斑は一
層の高記録密度化の実現を阻害することが懸念される。

【０００５】本発明は、上記実状に鑑みてなされたもの
で、一層の記録密度の向上に大いに寄与することができ
る記録媒体用基板のテクスチャ構造を実現することがで
きる記録媒体用基板向けテクスチャ加工機を提供するこ
とを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、第１発明によれば、任意の仮想平面に直交する姿勢
で回転自在に支持される回転軸と、仮想平面に沿って回
転軸から遠心方向に変位自在に支持される接触具と、接
触具の変位に応じて回転軸の回転速度を変化させる駆動
機構とを備えることを特徴とする記録媒体用基板向けテ
クスチャ加工機が提供される。

【０００７】こういったテクスチャ加工機では、回転軸
に記録媒体用基板が装着されると、回転軸の回転に起因
して記録媒体用基板は仮想平面内で回転する。こうした
回転時に記録媒体用基板の表面には接触具が押し付けら
れることができる。こういった接触具と記録媒体用基板
との間に例えば砥粒が流し込まれると、砥粒の働きで記
録媒体用基板の表面には微小な引っ掻き傷は形成される
ことができる。こうして記録媒体用基板の表面にはいわ
ゆるテクスチャが形成される。

【０００８】特に、このテクスチャ加工機では、記録媒
体用基板の半径方向に沿って接触具の移動は引き起こさ
れることができる。記録媒体用基板の半径方向に沿った
接触具の位置と、回転軸の回転速度とに基づき、接触具
と記録媒体用基板との間で常に一定の相対移動速度は確
立されることができる。こういった一定の相対移動速度
によれば、記録媒体用基板の表面では全面にわたって一
様な表面粗さは確保されることができる。

【０００９】こうした記録媒体用基板向けテクスチャ加
工機には、前記遠心方向に沿って規定の振幅で接触具を
往復移動させる振動機構がさらに組み込まれることが望
まれる。こうして半径方向に沿って規定の振幅で接触具
の往復移動が実現されると、記録媒体用基板の表面で
は、全面にわたって、互いに交差する引っ掻き傷同士の
間で一様なクロスアングルは確立されることができる。

【００１０】さらに、記録媒体用基板向けテクスチャ加
工機は、回転軸に装着される記録媒体用基板に対して接
触具の押し付け圧を一定に維持する押し付け圧調整機構
をさらに備えてもよい。こうした押し付け圧調整機構は
一様な表面粗さや一様なクロスアングルの確立に大いに
寄与することができる。

【００１１】以上のようなテクスチャ加工機によれば、
例えば、ディスク形状に形作られ、中心から周縁に向か
って均一なテクスチャ構造を備えることを特徴とするテ
クスチャ付き記録媒体用基板は製造されることができ
る。例えばテクスチャ構造は表面粗さやクロスアングル
で規定されればよい。こうした基板の表面に磁性膜が形
成されると、磁性膜の表面にはテクスチャ構造が反映さ
れる。したがって、こういった基板を利用したディスク
形の記録媒体には、中心から周縁に向かって均一な構造
でテクスチャが形成されることができる。均一なテクス
チャは一層の記録密度向上に大いに貢献することができ
る。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しつつ本発
明の一実施形態を説明する。

【００１３】図１は磁気記録媒体駆動装置の一具体例す
なわちハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）１１の内部構
造を概略的に示す。このＨＤＤ１１は、例えば平たい直
方体の内部空間を区画する箱形の筐体本体１２を備え
る。収容空間には、記録媒体としての１枚以上の磁気デ
ィスク１３が収容される。磁気ディスク１３はスピンド
ルモータ１４の回転軸に装着される。スピンドルモータ
１４は、例えば７２００ｒｐｍや１００００ｒｐｍとい
った高速度で磁気ディスク１３を回転させることができ
る。筐体本体１２には、筐体本体１２との間で収容空間
を密閉する蓋体すなわちカバー（図示せず）が結合され
る。

【００１４】収容空間には、垂直方向に延びる支軸１５
回りで揺動するキャリッジ１６がさらに収容される。こ
のキャリッジ１６は、支軸１５から水平方向に延びる剛
体の揺動アーム１７と、この揺動アーム１７の先端に取
り付けられて揺動アーム１７から前方に延びる弾性サス
ペンション１８とを備える。周知の通り、弾性サスペン
ション１８の先端では、いわゆるジンバルばね（図示せ
ず）の働きで浮上ヘッドスライダ１９は片持ち支持され
る。

【００１５】浮上ヘッドスライダ１９には、周知の通
り、磁気ディスク１３に情報を書き込む書き込み素子
（図示せず）や、磁気ディスク１３から情報を読み出す
読み出し素子（図示せず）が組み込まれる。書き込み素
子には、例えば薄膜コイルパターンで生起される磁界を
利用して書き込みギャップに書き込み磁界を形成する薄
膜磁気ヘッドが用いられればよい。読み出し素子には、
例えば磁気ディスク１３から作用する磁界の向きに応じ
て変化する電気抵抗に基づき２値情報を読み取る磁気抵
抗効果（ＭＲ）素子が用いられればよい。こういったＭ
Ｒ素子は例えば巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ）素子やトン
ネル接合磁気抵抗効果（ＴＭＲ）素子に代表されること
ができる。

【００１６】浮上ヘッドスライダ１９には、磁気ディス
ク１３の表面に向かって弾性サスペンション１８から押
し付け力が作用する。磁気ディスク１３の回転に基づき
磁気ディスク１３の表面で生成される気流の働きで浮上
ヘッドスライダ１９には浮力が作用する。弾性サスペン
ション１８の押し付け力と浮力とのバランスで磁気ディ
スク１３の回転中に比較的に高い剛性で浮上ヘッドスラ
イダ１９は浮上し続けることができる。このとき、浮上
ヘッドスライダ１９の浮上量は例えば１０ｎｍや２０ｎ
ｍ程度に設定される。こうした浮上ヘッドスライダ１９
の浮上中に、書き込み素子の書き込み動作や読み出し素
子の読み出し動作は実現される。

【００１７】浮上ヘッドスライダ１９の浮上中に、キャ
リッジ１６が支軸１５回りで揺動すると、浮上ヘッドス
ライダ１９は半径方向に磁気ディスク１３の表面を横切
ることができる。こうした移動に基づき浮上ヘッドスラ
イダ１９上の書き込み素子や読み出し素子は磁気ディス
ク１３上の所望の記録トラックに位置決めされる。この
とき、キャリッジ１６の揺動は例えばボイスコイルモー
タ（ＶＣＭ）といったアクチュエータ２１の働きを通じ
て実現されればよい。周知の通り、複数枚の磁気ディス
ク１３が筐体本体１２内に組み込まれる場合には、隣接
する磁気ディスク１３同士の間で１本の揺動アーム１７
に対して２つの弾性サスペンション１８が搭載される。

【００１８】磁気ディスク１３の表面には、例えば図２
に示されるように、全面にわたっていわゆるテクスチャ
２２が形成される。テクスチャ２２は複数筋の微小な引
っ掻き傷２３から構成される。相互に交差する引っ掻き
傷２３同士の間にはいわゆるクロスアングルαが規定さ
れる。テクスチャ２２の働きで磁気ディスク１３の表面
には規定値の表面粗さＲａが確立される。

【００１９】テクスチャ２２は、磁気ディスク１３の中
心から周縁に向かって均一な構造で広がる。すなわち、
図２から明らかなように、磁気ディスク１３の全面にわ
たって、クロスアングルαは一定値（例えば１．２度）
に統一される。しかも、図３から明らかなように、磁気
ディスク１３の全面にわたって表面粗さＲａは一定値
（例えば０．７ｎｍ）に統一される。

【００２０】図３に示されるように、磁気ディスク１３
は、例えばアルミニウムといった金属やガラスから成形
される支持体すなわち基板２５を備える。基板２５はデ
ィスク形状に形作られればよい。ガラスが用いられる場
合には、ガラスの表面に金属膜が被膜されてもよい。

【００２１】基板２５の表面には、周知の通り、磁性膜
２６が積層形成される。この磁性膜２６に磁気情報は記
録される。こういった磁性膜２６は一定の膜厚で形成さ
れればよい。すなわち、前述のテクスチャ２２は、基板
２５の表面に形成されるテクスチャ構造２７を反映す
る。さらに磁性膜２６の表面には例えば潤滑油膜（図示
せず）が形成される。こういった潤滑油膜は、磁気ディ
スク１３と浮上ヘッドスライダ１９との間に引き起こさ
れる摩擦を和らげる。

【００２２】前述のようなテクスチャ２２によれば、た
とえ浮上ヘッドスライダ１９が磁気ディスク１３の表面
に接触しても、磁気ディスク１３の表面に広がる潤滑油
膜から浮上ヘッドスライダ１９に作用する吸着力は弱め
られることができる。したがって、例えば静止中の磁気
ディスク１３の表面に浮上ヘッドスライダ１９が落下し
ても、磁気ディスク１３は確実に回転し始めることがで
きる。その一方で、磁気ディスク１３の表面で十分な表
面粗さＲａが確保されない場合には、浮上ヘッドスライ
ダ１９が磁気ディスク１３に吸着し、磁気ディスク１３
は回転し始めることさえできなくなってしまう。

【００２３】しかも、基板２５のテクスチャ構造２７に
従って磁性膜２６が成長すると、磁性膜２６には十分な
磁気異方性が確立されることができる。こうして磁気異
方性が確立されると、磁気ディスク１３の感度は高めら
れることができる。磁気ディスク１３に作用する記録磁
界が比較的に弱くても、磁気ディスク１３に正確に２値
情報は書き込まれることができる。

【００２４】特に、以上のようなＨＤＤ１１では、磁気
ディスク１３の全面にわたって均一な表面粗さＲａが確
保されることから、浮上ヘッドスライダ１９の浮上量は
磁気ディスク１３の半径方向位置に拘わらず一定に設定
されることができる。すなわち、磁気ディスク１３の表
面では、全面にわたって、浮上ヘッドスライダ１９の吸
着を防止するにあたって十分な最小表面粗さＲａが確立
されればよい。磁気ディスク１３の半径方向内側では、
浮上ヘッドスライダ１９の浮上量は従来に比べて抑制さ
れることができる。したがって、磁気ディスク１３の記
録密度はいま以上に高められることができる。

【００２５】加えて、以上のようなＨＤＤ１１では、磁
気ディスク１３の全面にわたって均一なクロスアングル
αが確保されることから、磁気ディスク１３の表面では
一様な磁気特性は確立されることができる。こういった
磁気特性の均一化は一層の記録密度向上に大いに貢献す
ることができる。

【００２６】図４は前述のようなテクスチャ構造２７の
形成にあたって用いられるテクスチャ加工機３１を概略
的に示す。このテクスチャ加工機３１は、例えば任意の
仮想平面に直交する姿勢で回転自在に支持される回転軸
３２を備える。仮想平面は例えば垂直平面すなわちｘｚ
平面で規定されればよい。回転軸３２には、回転軸３２
の回転を生起する例えば駆動機構３３が接続される。こ
の駆動機構３３は例えば可変速モータで構成されればよ
い。

【００２７】テクスチャ加工機３１には、ｘｚ平面を挟
んで互いに向き合う１対のテクスチャ加工ユニットすな
わち粗研ぎユニット３４が組み込まれる。各粗研ぎユニ
ット３４は、ｘｚ平面に平行に水平方向に延びる支軸３
５回りで回転する接触具すなわち接触ローラ３６を備え
る。このとき、支軸３５は回転軸３２の遠心方向を規定
する。接触ローラ３６は例えば硬質ゴムから形成されれ
ばよい。このとき、支軸３５に沿った接触ローラ３６の
長さは前述の磁気ディスク１３に比べて著しく短く設定
されることが望まれる。

【００２８】接触ローラ３６には研磨テープ３７が巻き
かけられる。この研磨テープ３７は、第１ローラ３８か
ら接触ローラ３６に向かって供給され、最終的に第２ロ
ーラ３９に巻き取られる。第１および第２ローラ３８、
３９の回転軸は接触ローラ３６の支軸３５に平行に設定
されればよい。第１ローラ３８および接触ローラ３６の
間や、第２ローラ３９および接触ローラ３６の間には、
研磨テープ３７の走行経路を規定する補助ローラ４０が
同時に配置されてもよい。第２ローラ３９には、研磨テ
ープ３７を巻き取るにあたって例えば駆動モータ４１か
ら駆動力が付与されればよい。研磨テープ３７には、例
えばアクリルやセルロース、ポリエステル、レーヨンと
いった素材から製造される織布や不織布が用いられても
よく、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタラート）か
らなる基材でウレタン層を受け止めるスポンジ材が用い
られてもよい。

【００２９】第１ローラ３８と補助ローラ４０との間に
は供給管４２が配置される。この供給管４２は、第１ロ
ーラ３８から接触ローラ３６に向かう研磨テープ３７に
加工液を滴下する。加工液中には、例えばダイヤモンド
の微粒子といった砥粒が分散していればよい。こうして
砥粒が付着した研磨テープ３７は接触ローラ３６に供給
されていく。供給管４２には、常時、所定のタンク（図
示せず）から加工液が補充されればよい。

【００３０】図５から明らかなように、各粗研ぎユニッ
ト３４は、各ローラ３６、３８〜４０や供給管４２を支
持する共通の支持構造体４４を備える。この支持構造体
４４は第１変位部材４５に吊り下げ支持される。支持構
造体４４には、第１変位部材４５上で支軸３５に平行に
支持構造体４４を往復移動させる振動機構４６が連結さ
れる。この振動機構４６は、支軸３５すなわち遠心方向
に沿って規定の振幅Ａｍで接触ローラ３６を往復移動さ
せる。振動機構４６は、例えば振動用モータ４７の回転
を利用して支持構造体４４の往復移動を引き起こす。

【００３１】第１変位部材４５は第２変位部材４８に支
持される。第２変位部材４８は、支軸３５に平行に延び
る案内梁４９に案内される。この案内梁４９の働きで、
回転軸３２の遠心方向に沿った第２変位部材４８の変位
は実現されることができる。第２変位部材４８の変位量
は例えば変位用モータ５０の回転量すなわち回転角に基
づき規定されることができる。

【００３２】図６から明らかなように、第２変位部材４
８には、回転軸３２に平行に延びる案内梁５１が組み込
まれる。この案内梁５１に第１変位部材４５は受け止め
られる。第１変位部材４５には、第２変位部材４８上で
回転軸３２に平行に第１変位部材４５を変位させる押し
付け圧調整機構５２が連結される。この押し付け圧調整
機構５２は、駆動モータ５３の働きで、ｘｚ平面に向か
って第１変位部材４５を押し付けたり、ｘｚ平面から第
１変位部材４５を後退させたりすることができる。

【００３３】以上のようなテクスチャ加工機３１にはコ
ントローラ５５が組み込まれる。コントローラ５５は、
例えば図７に示されるように、駆動機構３３、駆動モー
タ４１、振動用モータ４７、変位用モータ５０および駆
動モータ５３に各々接続される。コントローラ５５は、
所定の加工プログラムに従って駆動機構３３や駆動モー
タ４１、振動用モータ４７、変位用モータ５０、駆動モ
ータ５３の動作を制御する。加工プログラムは、任意の
インターフェースを通じて外部からコントローラ５５に
入力されてもよく、コントローラ５５内のメモリ（図示
せず）に予め格納されていてもよい。

【００３４】ここで、テクスチャ加工機３１の動作を簡
単に説明する。まず、平坦化研磨後の記録媒体用基板２
５が回転軸３２に装着される。このとき、基板２５の表
面では例えば０．２ｎｍ程度の表面粗さＲａが確立され
る。駆動機構３３は、コントローラ５５から供給される
指令に従って初期速度で回転軸３２を回転させる。記録
媒体用基板２５はｘｚ平面内で回転する。

【００３５】続いて粗研ぎユニット３４の接触ローラ３
６は記録媒体用基板２５に対して位置決めされる。この
位置決めにあたって、変位用モータ５０は、コントロー
ラ５５から供給される指令信号に基づき、案内梁４９に
沿って第２変位部材４８を移動させる。接触ローラ３６
の表面すなわち研磨テープ３７は記録媒体用基板２５の
最内周位置で記録媒体用基板２５の表面に向き合わせら
れる。

【００３６】粗研ぎユニット３４では、研磨テープ３７
に向けて加工液の供給が開始される。同時に、第２ロー
ラ３９は研磨テープ３７の巻き取りを開始する。接触ロ
ーラ３６には、加工液を受け止めた研磨テープ３６が切
れ目なく供給されていく。

【００３７】その後、例えば図８に示されるように、接
触ローラ３６は記録媒体用基板２５に対して押し付けら
れていく。この押し付けにあたって、駆動モータ５３
は、コントローラ５５から供給される指令信号に基づき
案内梁５１に沿って第１変位部材４５を移動させる。接
触ローラ３６は、記録媒体用基板２５の１半径線上で記
録媒体用基板２５の表面に線接触する。こうして接触ロ
ーラ３６上の研磨テープ３７が記録媒体用基板２５の表
面に押し付けられると、砥粒の働きで記録媒体用基板２
５の表面には微小な引っ掻き傷２３が形成されていく。
押し付け圧調整機構５２は駆動モータ５３の働きを借り
て一定の押し付け圧を維持する。引っ掻き傷２３が形成
されるに従って、記録媒体用基板２５の表面では例えば
０．７ｎｍの表面粗さＲａが確立されていく。

【００３８】この押し付けに先立って、振動機構４６は
規定の振幅Ａｍで記録媒体用基板２５の半径方向に接触
ローラ３６を往復移動させる。こうして回転軸３２の回
転と接触ローラ３６の往復移動とが組み合わせられる結
果、記録媒体用基板２５の表面には、前述のようにクロ
スアングルα（＝１．２度）で交差する引っ掻き傷２３
は形成されることができる。

【００３９】続いて接触ローラ３６は記録媒体用基板２
５の半径方向に移動する。この移動にあたって、コント
ローラ５５は変位用モータ５０に向けて指令信号を出力
する。変位用モータ５０は案内梁４９に沿って第２変位
部材４８の変位を引き起こす。接触ローラ３６は、段階
的に回転軸３２の遠心方向に移動してもよく、継続的に
回転軸３２の遠心方向に移動してもよい。

【００４０】このとき、接触ローラ３６の移動に応じて
回転軸３２の回転速度は変化する。コントローラ５５
は、接触ローラ３６に対する記録媒体用基板２５の相対
移動速度すなわち加工速度ｕを一定に維持する。すなわ
ち、接触ローラ３６が回転軸３２から離れるにつれて回
転軸３２の回転速度は減少する。こうして加工速度ｕが
一定に維持されると、次式に示されるように、接触ロー
ラ３６と記録媒体用基板２５の表面との間で規定される
加工液の膜厚ｈは一定に維持されることができる。

【００４１】

【数１】

【００４２】ここで、定数Ｒは接触ローラ３６の半径長
さを示す。定数ηは加工液の粘度を示す。定数ｗは接触
ローラ３６の押し付け力を示す。定数Ｌは、接触ローラ
３６と基板２５との間で確立される線接触の長さを示
す。

【００４３】例えば図９に示されるように、一定の加工
速度ｕが維持されたまま接触ローラ３６が最外周位置に
到達すると、記録媒体用基板２５の表面には全面にわた
って一様な表面粗さＲａ（＝０．７ｎｍ）は確保される
ことができる。同時に、記録媒体用基板２５の表面で
は、全面にわたって、互いに交差する引っ掻き傷２３同
士の間で一様なクロスアングルα（＝１．２度）は確立
されることができる。これに対し、回転軸３２の回転速
度が一定に維持されると、回転軸３２に近づくにつれて
加工速度ｕは減少する。したがって、例えば記録媒体用
基板２５の最外周位置で表面粗さＲａ＝０．７ｎｍおよ
びクロスアングルα＝１．２度が確立されても、最内周
位置の表面粗さはＲａ＝０．８ｎｍまで増大し、最内周
位置のクロスアングルはα＝２．６度まで増大してしま
うことが確認された。

【００４４】以上のようなテクスチャ加工機３１では、
［数１］から明らかなように、加工速度ｕと押し付け力
ｗとの比が一定値に維持されれば、記録媒体用基板２５
の表面で一様な表面粗さＲａやクロスアングルαは確立
されることができる。たとえ回転軸３２の回転速度が一
定に維持される場合でも、加工速度ｕの変化に応じて押
し付け力ｗは増減すればよい。こういった動作はコント
ローラ５５の制御に基づき達成されることができる。

【００４５】（付記１） 任意の仮想平面に直交する姿
勢で回転自在に支持される回転軸と、仮想平面に沿って
回転軸から遠心方向に変位自在に支持される接触具と、
接触具の変位に応じて回転軸の回転速度を変化させる駆
動機構とを備えることを特徴とする記録媒体用基板向け
テクスチャ加工機。

【００４６】（付記２） 付記１に記載の記録媒体用基
板向けテクスチャ加工機において、前記遠心方向に沿っ
て規定の振幅で前記接触具を往復移動させる振動機構を
さらに備えることを特徴とする記録媒体用基板向けテク
スチャ加工機。

【００４７】（付記３） 付記２に記載の記録媒体用基
板向けテクスチャ加工機において、前記回転軸に装着さ
れる記録媒体用基板に対して前記接触具の押し付け圧を
一定に維持する押し付け圧調整機構をさらに備えること
を特徴とする記録媒体用基板向けテクスチャ加工機。

【００４８】（付記４） 回転軸回りで回転するディス
ク形の記録媒体用基板に接触具を接触させる工程と、記
録媒体用基板の半径方向に沿って接触具を移動させる工
程と、接触具の移動に応じて記録媒体用基板の回転速度
を変化させる工程とを備えることを特徴とする記録媒体
用基板のテクスチャ加工方法。

【００４９】（付記５） 付記４に記載の記録媒体用基
板のテクスチャ加工方法において、前記記録媒体用基板
に前記接触具を接触させるにあたって、前記半径方向に
沿って規定の振幅で接触具を往復移動させる工程をさら
に備えることを特徴とする記録媒体用基板のテクスチャ
加工方法。

【００５０】（付記６） 付記５に記載の記録媒体用基
板のテクスチャ加工方法において、前記接触具を移動さ
せるにあたって、前記記録媒体用基板に対して前記接触
具の押し付け圧を一定に維持することを特徴とする記録
媒体用基板のテクスチャ加工方法。

【００５１】（付記７） ディスク形状に形作られ、中
心から周縁に向かって均一なテクスチャ構造を備えるこ
とを特徴とするテクスチャ付き記録媒体用基板。

【００５２】（付記８） 付記７に記載のテクスチャ付
き記録媒体用基板において、前記テクスチャ構造は表面
粗さで規定されることを特徴とするテクスチャ付き記録
媒体用基板。

【００５３】（付記９） 付記７に記載のテクスチャ付
き記録媒体用基板において、前記テクスチャ構造はクロ
スアングルで規定されることを特徴とするテクスチャ付
き記録媒体用基板。

【００５４】（付記１０） ディスク形状に形作られる
基板と、基板の表面に形成される磁性膜と、中心から周
縁に向かって均一な構造で磁性膜の表面に形成されるテ
クスチャとを備えることを特徴とするディスク形の記録
媒体。

【００５５】（付記１１） 付記１０に記載のディスク
形の記録媒体において、前記テクスチャの構造は表面粗
さで規定されることを特徴とするディスク形の記録媒
体。

【００５６】（付記１２） 付記１０に記載のディスク
形の記録媒体において、前記テクスチャの構造はクロス
アングルで規定されることを特徴とするディスク形の記
録媒体。

【００５７】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、一層の記
録密度の向上に大いに寄与することができる記録媒体用
基板のテクスチャ構造は実現されることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 ハードディスク駆動装置（ＨＤＤ）の内部構
造を概略的に示す平面図である。

【図２】 磁気ディスクの表面構造を詳細に示す一部拡
大平面図である。

【図３】 磁気ディスクの一部拡大断面図である。

【図４】 記録媒体用基板向けテクスチャ加工機の構造
を概略的に示す斜視図である。

【図５】 接触ローラの支持構造を概略的に示すテクス
チャ加工機の一部抜き出し側面図である。

【図６】 押し付け力調整機構の構造を概略的に示すテ
クスチャ加工機の一部抜き出し正面図である。

【図７】 テクスチャ加工機の制御系統を概略的に示す
ブロック図である。

【図８】 テクスチャ加工機で加工される記録媒体用基
板の様子を示す斜視図である。

【図９】 テクスチャ加工機で加工される記録媒体用基
板の様子を示す斜視図である。

【符号の説明】

１３ ディスク形の記録媒体としての磁気ディスク、２
２ テクスチャ、２５テクスチャ付き記録媒体用基板、
２７ テクスチャ構造、３１ 記録媒体用基板向けテク
スチャ加工機、３２ 回転軸、３３ 駆動機構すなわち
可変速モータ、３５ 円心方向を規定する支軸、３６
接触具としての接触ローラ、４６ 振動機構、５２ 押
し付け圧調整機構。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3C058 AA05 AA09 AA11 AA12 AA16 BB02 BC05 CA02 CB01 DA10 DA17 5D006 CB04 CB07 5D112 AA02 GA09

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 任意の仮想平面に直交する姿勢で回転自
   在に支持される回転軸と、仮想平面に沿って回転軸から
   遠心方向に変位自在に支持される接触具と、接触具の変
   位に応じて回転軸の回転速度を変化させる駆動機構とを
   備えることを特徴とする記録媒体用基板向けテクスチャ
   加工機。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の記録媒体用基板向けテ
   クスチャ加工機において、前記遠心方向に沿って規定の
   振幅で前記接触具を往復移動させる振動機構をさらに備
   えることを特徴とする記録媒体用基板向けテクスチャ加
   工機。
3. 【請求項３】 ディスク形状に形作られ、中心から周縁
   に向かって均一なテクスチャ構造を備えることを特徴と
   するテクスチャ付き記録媒体用基板。
4. 【請求項４】 請求項３に記載のテクスチャ付き記録媒
   体用基板において、前記テクスチャ構造は表面粗さで規
   定されることを特徴とするテクスチャ付き記録媒体用基
   板。
5. 【請求項５】 請求項３に記載のテクスチャ付き記録媒
   体用基板において、前記テクスチャ構造はクロスアング
   ルで規定されることを特徴とするテクスチャ付き記録媒
   体用基板。