JPH07130913A - 高周波用回路基板 - Google Patents

高周波用回路基板

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JPH07130913A
JPH07130913A JP5276966A JP27696693A JPH07130913A JP H07130913 A JPH07130913 A JP H07130913A JP 5276966 A JP5276966 A JP 5276966A JP 27696693 A JP27696693 A JP 27696693A JP H07130913 A JPH07130913 A JP H07130913A
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浩嗣 山田
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Naoya Morita
直哉 森田
Takashi Takahama
隆 高浜
Nobuo Watanabe
伸夫 渡辺
Yasushi Sakurai
也寸史 桜井
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    • H01L2224/48135Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
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    • HELECTRICITY
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 高周波信号をマイクロストリップラインを用
いて伝送する場合において、マイクロストリップライン
の接続部による伝送特性の劣化を防止する。 【構成】 マイクロストリップライン3間をボンディン
グワイヤまたは金リボン6にて接続する場合、誘電率の
高いゴム状物質5を挿入することによりボンディングワ
イヤまたは金リボンの接続部における特性インピーダン
スの整合をとる構成とした。 【効果】 接続するマイクロストリップライン間のボン
ディングワイヤ、または金リボンの特性インピーダンス
をマイクロストリップラインのそれと整合をとることに
より、接合部で発生する高周波信号の反射をなくし伝送
特性の損失を防ぐ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、衛星通信、地上マイ
クロ波通信、移動体通信等に使用する高周波用回路基板
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】図8は、例えば、IEEE 1992
MICROWAVE AND MILLIMETER−
WAVE MONOLITHIC CIRCUITS
SYMPOSIUM DIGEST pp1509−1
511,“MICROWAVEMODULE INTE
RCONNECTION AND PACKAGING
USING MULTILAYER THIN FIL
M/THICK FILM TECHNOLOGY”に
示された従来の高帯域の送受信モジュール用パッケージ
の断面図であり、図において、16は銅/モリブデン/
銅のクラッド材を用いた基板、17は金/錫はんだ層、
18はエポキシ層、19は多層厚膜回路、20は99.
6%アルミナ基板、21は低融点ガラス、22は96%
アルミナ・シールリング、23はMMIC、24はコバ
ール・リッド、25はバイアホール、26は薄膜回路、
27は整合回路、28はボンディングワイヤである。
【0003】次に動作について説明する。多層厚膜回路
19aから入力された高周波(マイクロ波)信号は、バ
イアホール25a、アルミナ基板20上に形成した薄膜
回路26a、ボンディングワイヤ28aを通過して、G
aAs製のMMIC(Microwave Monol
ithic Integrated Circuit)
23aで増幅され、薄膜回路26b、ボンディングワイ
ヤ28b、バイヤホール25bを通り多層厚膜回路19
bを経由して他のMMIC23bへ入力される。また、
回路構成によっては、MMIC23bと整合回路27そ
して薄膜回路26をボンディングワイヤ28で接続して
信号を伝送する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】従来の高周波用モジュ
ールは以上のように構成されているので、ICチップ間
またはICチップと伝送線路間を接続しなければなら
ず、ワイヤボンディングまたは金リボン接続することが
必要である。この接続により、伝送線路では通常、特性
インピーダンスが50Ωに設定されているが、ボンディ
ングワイヤや金リボンにおいては、特性インピーダンス
が100〜200Ωと高くなるため、接続部において伝
送線路との特性インピーダンス違うことにより高周波信
号が反射し、通過損失の増大や利得が下がるなどの問題
点があった。通常、ボンディングワイヤの長さは200
〜600μmで使用されるが、長さを600μmにした
場合の反射特性を図9に示すが、2.5GHz以上にお
いて−20dB以上になってしまい有効に信号が伝わっ
ていないことがわかる。
【0005】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、接続部において高周波信号の伝
送特性が劣化するのを防止できるとともに、マイクロス
トリップラインのグランドプレーンを強化できる高周波
回路用モジュールを得ることを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この発明に係わる高周波
用回路基板は、マイクロストリップライン間をワイヤボ
ンディングまたは金リボンで、接続するとともに、その
接続部の特性インピーダンスをマイクロストリップライ
ンのそれと同じにしたものである。更にこの発明は、絶
縁基板に1/8波長以下でバイアを形成し、絶縁基板上
のグランドとしての働きを強化するものである。
【0007】
【作用】この発明における高周波用回路基板は、マイク
ロストリップラインにより高周波信号が伝送され、接続
部による伝送損失を防止する。また、この発明の製造方
法では絶縁基板にバイアを1/8波長以下で作製する第
1の工程とその基板上にグランドパターンを形成する第
2の工程によりマイクロストリップラインまたは接続部
の特性インピーダンスを支配するグランドパターン形状
を形成するので特性インピーダンスの違いによる反射が
抑えられ伝送特性が均一となる。
【0008】また、導体パターンとゴム状の誘電体物質
により形成されるコンデンサにより、直流成分を遮断
し、高周波信号のみ通過させることが可能となる。
【0009】
【実施例】以下、この発明の一実施例を図について説明
する。 実施例1.図1は、この発明の高周波用回路基板の構成
を示す斜視図である。図において、1は絶縁基板、2は
導体(導体性ペーストまたは金箔)、3はマイクロスト
リップライン、4はキャパシタンス電極、5はゴム状の
誘電体物質である。図1は、従来例を示す図8の26か
ら27までの信号伝送経路に相当する。
【0010】次に動作について説明する。マイクロスト
リップライン3aとマイクロストリップライン3bのそ
れぞれに垂直な面にグランドと接続しない範囲の大きさ
で形成した金属性パターン4をコンデンサの電極とし、
マイクロストリップラインを直列に並べ、この電極間に
ゴム状の高誘電率物質5を挿入することによりコンデン
サを形成する。ゴム状の高誘電率物質5とは、エチレン
−プロピレン共重合体などの天然ゴムに誘電率が38の
チタン酸バリウムなどの高誘電率の無機充填材を含んだ
ものである。高周波信号がマイクロストリップライン3
aからマイクロストリップライン3bへ通過する場合、
高周波成分はこの形成したコンデンサを通過することが
可能であるが、直流成分の信号は形成したコンデンサに
よって遮断され、高周波信号が低損失で伝わることとな
る。コンデンサの容量としては、数十pFのものを用
い、選定基準は使用周波数が4GHz帯において、コン
デンサのインピーダンスがマイクロストリップラインの
特性インピーダンスに影響を与えない程、小さくなるよ
うに選択している。
【0011】高周波信号の損失が大きく、さらにキャパ
シタンス容量を大きくする場合には、マイクロストリッ
プラインの基板厚を厚くし、電極パターン4の面積を大
きくすること、マイクロストリップラインの接続間隔を
小さくすること、材料にはアルミナと同等もしくはそれ
以上の誘電率をもつゴム状の物質を選択することが望ま
しく、すくなくともゴム状物質の誘電率は10以上とす
る。マイクロストリップラインの接続間隔は、10μm
〜0.5mmであり、基板厚は0.38mm〜3mm
で、パターン面積は1.5mm2 以上である。
【0012】実施例2.図2は、この発明の高周波用回
路基板の構成を示す斜視図である。図において、1は絶
縁基板、2は導体(導電性ペーストまたは金箔)、3は
マイクロストリップライン、5はゴム状の誘電体物質、
6は金リボンまたはボンディングワイヤである。
【0013】次に動作について説明する。高周波信号を
用いてマイクロストリップライン間3a−3bを通過さ
せる場合、ボンディングワイヤや金リボン6によって接
続が行われるが、この接続部の特性インピーダンスは約
100〜200Ωであり、通常50Ωに設計されたマイ
クロストリップラインの特性インピーダンスとの差が大
きいために高周波信号が接続部で反射し、伝送損失が生
じる。これは、ボンディングワイヤや金リボンがグラン
ドと形成するキャパシタンス容量が減少するためである
ので、この接続部にゴム状の誘電体物質5(たとえば信
越シリコン製のCY51038)を挿入することによっ
て、接続部のキャパシタンス容量を増加させ、特性イン
ピーダンスをマイクロストリップラインのそれと近づけ
ることにより、高周波信号の反射を−20dB以上に低
減させ、伝送特性の劣化を防止することができる。
【0014】ここで、ゴム状の誘電体物質として用いた
CY51038は、誘電率が4.2、キャパシタンス容
量は、伝送特性は図3のようになり、3GHzまで−2
0dBを確保することができる。これはワイヤボンドの
みによる接続と比較して反射特性を抑える効果がみら
れ、より伝送特性を良好にするためは誘電率が4.2以
上が望ましい。
【0015】実施例3.図4は、この発明の高周波用回
路基板の構成を示す断面図である。図において、1は絶
縁基板、3はマイクロストリップライン、7はボンディ
ングワイヤ、8はコバールなどの金属製段付きリッド、
9はアルミナまたはコバール製のサイドウォール、10
は低融点ガラスなどの絶縁性物質である。
【0016】次に動作について説明する。実施例2.と
同様の原理を用いたものであり、パッケージにしてマイ
クロストリップライン間3a−3bをボンディングワイ
ヤ7で接続する場合、パッケージの基準電位に接続して
ある段8aをもつリッド8を、ボンディングワイヤ部7
へ近づけることによりキャパシタンス容量を増加させ、
特性インピーダンスをマイクロストリップラインの特性
インピーダンスに近づけることにより、特性インピーダ
ンスの違いによる不連続部をなくし、伝送特性の劣化を
防止することができる。
【0017】実施例4.図5は、この発明の高周波用回
路基板の構成を示す斜視図である。図において、1は絶
縁基板、3はマイクロストリップライン、6は金リボン
またはボンディングワイヤ、11はグランドパターンで
ある。
【0018】次に動作について説明する。実施例2.と
同様の原理を用いたものであり、高周波信号を用いてマ
イクロストリップライン間3a−3bを通過させる場
合、ボンディングワイヤや金リボン6によって接続が行
われるが、マイクロストリップラインのグランド面積が
制約される場合、接続部すなわちマイクロストリップラ
インの間隔に銀ペーストや金箔などの導電性物質により
形成したグランドパターン11のみの面積を広げること
によりボンディングワイヤや金リボンとのキャパシタン
ス容量を増加させ、特性インピーダンスをマイクロスト
リップラインの特性インピーダンスに近づけることによ
り、伝送特性の劣化を防止する。
【0019】実施例5.図6は、この発明の高周波用回
路基板の構成を示す断面図である。図において、1は絶
縁基板、3はマイクロストリップライン、5はゴム状の
誘電体物質、12はフレキシブル基板、13はグランド
接合用導電性ペーストまたは金属製テーブルである。
【0020】次に動作について説明する。高周波信号を
マイクロストリップライン間3a−3bに通過させる場
合、ボンディングワイヤや金リボンによる接続では、特
性インピーダンスがマイクロストリップラインと違うた
め高周波信号が反射を生じ、伝送損失を増大させてしま
う。そこで、50Ωに調整されたマイクロストリップ形
状のフレキシブル基板12(たとえばイミドを絶縁体、
銅を配線に用いた基板)によって接続することにより特
性インピーダンスがマイクロストリップラインと同じイ
ンピーダンスとなり、不整合から生じる伝送特性の劣化
を防止する。
【0021】なお、特性インピーダンスを整合するため
フレキシブル基板とマイクロストリップラインの幅に差
が生じることがある。この場合、伝送線路の幅を急激に
変化させると反射が大きくなり、伝送特性を劣化させる
ため、フレキシブル基板の導体とマイクロストリップラ
インとの接続にはテーパをつけて滑らかに変化させる。
これによって、大きな反射を防止し、−20dB以下を
確保することができる。
【0022】実施例6.図7は、この発明の高周波用回
路基板の構成を示す斜視図である。図において、1は絶
縁基板、2は導体(導電性ペーストまたは金箔)、3は
マイクロストリップライン、5はゴム状の誘電体物質、
14は絶縁基板のグランド、15はスルーホールであ
る。
【0023】次に動作について説明する。絶縁基板1上
にマイクロストリップライン3を含む高周波回路を形成
する場合、基板の実装面積が増大するにつれて、基板の
表面をメタライズしてシャーシグランドと接続するだけ
では、使用周波数が高くなり分布定数回路としてみた場
合にグランドとしての役目を果たさなくなる。また、実
施例4.のようにグランド面積が限定された場合におい
てもグランド2が、分布定数回路において高周波的に不
十分となる。そこでシャーシグランド14からマイクロ
ストリップラインを形成するグランドプレーン2までの
絶縁基板に、使用する高周波信号の1/8波長以下の間
隔でスルーホール15を形成することにより、絶縁基板
1上に配置された高周波回路のグランドプレーン2を高
周波的に確実なグランドとする。1/8波長以下の間隔
でスルーホール15を形成する理由としては、分布定数
として取り扱う場合の目安が波長の1/8以上の回路に
おいて用いられるためである。
【0024】なお、スルーホール15の形成において
は、金属による穴埋め方式でも、スルーホールの表面を
メタライズする方式でもかまわない。
【0025】
【発明の効果】以上のように、この発明によればマイク
ロストリップライン間を接続するボンディングワイヤ、
または金リボンによる伝送線路の不連続をなくすことに
より伝送特性の劣化を防ぐ効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の実施例1.の高周波用回路基板を示
す斜視図である。
【図2】この発明の実施例2.の高周波用回路基板を示
す斜視図である。
【図3】この発明の実施例2.の測定結果を示す図であ
る。ボンディングワイヤにポッティング樹脂を施した場
合の伝送特性を表した図である。
【図4】この発明の実施例3.の高周波用回路基板を示
す斜視図である。
【図5】この発明の実施例4.の高周波用回路基板を示
す斜視図である。
【図6】この発明の実施例5.の高周波用回路基板を示
す斜視図である。
【図7】この発明の実施例6.の高周波用回路基板を示
す斜視図である。
【図8】従来の高周波用モジュールを示す断面図であ
る。
【図9】従来の高周波用モジュールに用いられているワ
イヤボンドのみの伝送特性を表した図である。
【符号の説明】
1 絶縁基板 2 導体(導電性ペーストまたは金箔) 3 マイクロストリップライン 4 キャパシタンス電極 5 ゴム上の誘電体物質 6 金リボンまたはボンディングワイヤ 7 ボンディングワイヤ 8 段付きリッド 9 アルミナまたはコバール製のサイドウォール 10 低融点ガラスなどの絶縁性物質 11 グランドパターン 12 フレキシブル基板 13 グランド接合用導電性ペースト 14 絶縁基板のグランド 15 スルーホール 16 銅/モリブデン/銅のクラッド材を用いた基板 17 金/錫はんだ層 18 エポキシ層 19 多層厚膜回路 20 99.6%アルミナ基板 21 低融点ガラス 22 96%アルミナ・シールリング 23 MMIC 24 コバール・リッド 25 バイアホール 26 薄膜回路 27 整合回路 28 ボンディングワイヤ
フロントページの続き (72)発明者 高浜 隆 鎌倉市上町屋325番地 三菱電機株式会社 鎌倉製作所内 (72)発明者 渡辺 伸夫 鎌倉市上町屋325番地 三菱電機株式会社 鎌倉製作所内 (72)発明者 桜井 也寸史 鎌倉市上町屋325番地 三菱電機株式会社 鎌倉製作所内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 接地導体と、高周波伝送方向に垂直な面
    に信号用導体と接続した導体パターンとを形成した第1
    のマイクロストリップラインと、同様な形状を所有する
    第2のマイクロストリップラインと、それらのマイクロ
    ストリップラインの端面の導体パターン間のすき間に設
    置されたゴム状の誘電体物質とから構成されたことを特
    徴とする高周波用回路基板。
  2. 【請求項2】 接地導体と、信号用導体を形成した第1
    のマイクロストリップラインと、同様な形状を所有する
    第2のマイクロストリップラインと、これらのマイクロ
    ストリップライン間を電気的に接続するボンディングワ
    イヤまたは金リボンと、このボンディングワイヤを覆う
    ように設置した誘電率の高いゴム状物質とを設けたこと
    を特徴とする高周波用回路基板。
  3. 【請求項3】 接地導体と、信号用導体を形成した第1
    のマイクロストリップラインと、同様な形状を所有する
    第2のマイクロストリップラインと、これらのマイクロ
    ストリップライン間を電気的に接続するボンディングワ
    イヤまたは金リボンと、これらのマイクロストリップ間
    の接続部のキャパシタンスの容量値を大きくし、マイク
    ロストリップラインとの特性インピーダンスの整合をと
    るために、パッケージ上部よりグランドとして役目を果
    たすパッケージ上部のリッド(蓋)とを設けたことを特
    徴とする高周波用回路基板。
  4. 【請求項4】 信号用導体を形成した第1のマイクロス
    トリップラインと、同様な形状を所有する第2のマイク
    ロストリップラインと、これらのマイクロストリップラ
    イン間を電気的に接続するボンディングワイヤまたは金
    リボンと、これらのマイクロストリップライン間のすき
    間に用いるグランドには接地導体面積を大きくしたリボ
    ン、もしくは、このすき間に置かれた導電性物質とを設
    けたことを特徴とする高周波用回路基板。
  5. 【請求項5】 接地導体と、信号用導体を形成した第1
    のマイクロストリップラインと、同様な形状を所有する
    第2のマイクロストリップラインと、これらのマイクロ
    ストリップ間を接続するフレキシブル基板で作製した5
    0Ωのマイクロストリップラインとを設けたことを特徴
    とする高周波用回路基板。
  6. 【請求項6】 マイクロストリップラインを設置する絶
    縁体基材上にリボン線を施してマイクロストリップライ
    ンのグランドを得るため、絶縁体基板の下面に接地した
    アースへ接続する1/8波長以下の間隔をもつスルーホ
    ールを形成したことを特徴とする請求項1〜5いずれか
    記載の高周波用回路基板。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001244308A (ja) * 2000-02-25 2001-09-07 Mitsubishi Electric Corp 高周波信号用のプローブ
US8217496B2 (en) 2010-05-14 2012-07-10 Mitsubishi Electric Corporation Internal matching transistor

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001244308A (ja) * 2000-02-25 2001-09-07 Mitsubishi Electric Corp 高周波信号用のプローブ
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