JPH0936617A - 高周波モジュール - Google Patents
高周波モジュールInfo
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- JPH0936617A JPH0936617A JP20667095A JP20667095A JPH0936617A JP H0936617 A JPH0936617 A JP H0936617A JP 20667095 A JP20667095 A JP 20667095A JP 20667095 A JP20667095 A JP 20667095A JP H0936617 A JPH0936617 A JP H0936617A
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- high frequency
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- line
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 直流からマイクロ波、ミリ波帯まで動作可能
な高周波モジュールを提供することを目的とするもので
ある。 【構成】 所定の高周波信号用接続媒体によって、1つ
の電子部品と他の電子部品とを電気的に接続する高周波
モジュールにおいて、1つの電子部品と他の電子部品と
を電気的に接続する接続部のうちで、高周波信号用接続
媒体と高周波モジュールの電気的グランドとの間の領域
に、比誘電率が1.0よりも大きい誘電体材料が挿入さ
れ、また、高周波信号用接続媒体とモジュールの電気的
グランドとの配置、間隔、寸法に応じて、上記接続部
が、100オーム以下の特性インピーダンスを有する伝
送線路である。
な高周波モジュールを提供することを目的とするもので
ある。 【構成】 所定の高周波信号用接続媒体によって、1つ
の電子部品と他の電子部品とを電気的に接続する高周波
モジュールにおいて、1つの電子部品と他の電子部品と
を電気的に接続する接続部のうちで、高周波信号用接続
媒体と高周波モジュールの電気的グランドとの間の領域
に、比誘電率が1.0よりも大きい誘電体材料が挿入さ
れ、また、高周波信号用接続媒体とモジュールの電気的
グランドとの配置、間隔、寸法に応じて、上記接続部
が、100オーム以下の特性インピーダンスを有する伝
送線路である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、直流からマイクロ波、
ミリ波帯まで動作可能な高周波モジュールに関するもの
である。
ミリ波帯まで動作可能な高周波モジュールに関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】図8は、2つのICチップ1を互いに電
気的に接続する高周波モジュールの従来例を示す図であ
り、図8(1)はその正面図であり、図8(2)はその
平面図である。
気的に接続する高周波モジュールの従来例を示す図であ
り、図8(1)はその正面図であり、図8(2)はその
平面図である。
【0003】図8に示す従来例は、ボンディング用パッ
ド3を介して、ICチップ1をワイヤボンディング2で
接続する例である。なお、図8(2)中、ICチップ1
とICチップ1とを接続する接続部8aの中央のボンデ
ィングワイヤ2が信号線9であり、この信号線9の上下
に配置されているボンディングワイヤ2がグランド線1
0である。
ド3を介して、ICチップ1をワイヤボンディング2で
接続する例である。なお、図8(2)中、ICチップ1
とICチップ1とを接続する接続部8aの中央のボンデ
ィングワイヤ2が信号線9であり、この信号線9の上下
に配置されているボンディングワイヤ2がグランド線1
0である。
【0004】図9は、パッケージと基板とを電気的に接
続する高周波モジュールの別の従来例を示す図であり、
図9(1)はその正面図であり、図9(2)はその平面
図である。
続する高周波モジュールの別の従来例を示す図であり、
図9(1)はその正面図であり、図9(2)はその平面
図である。
【0005】図9に示す従来例は、アルミナ、ガラスエ
ポキシ等の基板6の上の金属パタン7に、パッケージ4
のリード5を半田等で接続する例である。なお、図9
(2)中、パッケージ4と金属パタン7とを電気的に接
続する接続部8bの中央のリード5が信号線9であり、
この信号線9の上下に配置されているリード5がグラン
ド線10である。
ポキシ等の基板6の上の金属パタン7に、パッケージ4
のリード5を半田等で接続する例である。なお、図9
(2)中、パッケージ4と金属パタン7とを電気的に接
続する接続部8bの中央のリード5が信号線9であり、
この信号線9の上下に配置されているリード5がグラン
ド線10である。
【0006】上記従来例においては、接続部8a、8b
における信号線9、グランド線10の間隔は、ボンディ
ング装置の合わせ精度やリードの組み立て精度に応じて
定まり、たとえばボンディングワイヤ2の場合で、0.
lmm以上、パッケージのリード5の場合で、0.5m
m以上と幅広になっている。また、接続部8a、8bに
おける信号線9とグランド線10との間は、空気(比誘
電率=1)になっている。
における信号線9、グランド線10の間隔は、ボンディ
ング装置の合わせ精度やリードの組み立て精度に応じて
定まり、たとえばボンディングワイヤ2の場合で、0.
lmm以上、パッケージのリード5の場合で、0.5m
m以上と幅広になっている。また、接続部8a、8bに
おける信号線9とグランド線10との間は、空気(比誘
電率=1)になっている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところで、接続部8
a、8bの特性インピーダンスは、信号線9とグランド
線10との間隔と、その間を充填している媒体の誘電率
によって定まるので、上記従来例においては、接続部8
a、8bの特性インピーダンスが非常に高く、ほぼ1〜
5nHの寄生インダクタンス成分になっている。
a、8bの特性インピーダンスは、信号線9とグランド
線10との間隔と、その間を充填している媒体の誘電率
によって定まるので、上記従来例においては、接続部8
a、8bの特性インピーダンスが非常に高く、ほぼ1〜
5nHの寄生インダクタンス成分になっている。
【0008】したがって、上記従来例において、特に1
0GHz以上で動作させると、接続部品間の整合性の問
題に基づく信号の反射や減衰が生じ、高周波モジュール
の電気特性の劣化が生じ、高性能なモジュールを実現す
ることが困難であるという問題がある。
0GHz以上で動作させると、接続部品間の整合性の問
題に基づく信号の反射や減衰が生じ、高周波モジュール
の電気特性の劣化が生じ、高性能なモジュールを実現す
ることが困難であるという問題がある。
【0009】なお、上記従来例において、信号線9とグ
ランド線10との間隔を20ミクロン以下に設定すれ
ば、特性インピーダンスが下がり、信号の反射や減衰が
生じることはなく、高周波モジュールの電気特性の劣化
を阻止できるが、しかし、ボンディング装置の合わせ精
度やリードの組み立て精度が現在ではそれ程高くないの
で、上記のように、信号線9とグランド線10との間隔
を20ミクロン以下に設定することは現実的には実現不
可能である。
ランド線10との間隔を20ミクロン以下に設定すれ
ば、特性インピーダンスが下がり、信号の反射や減衰が
生じることはなく、高周波モジュールの電気特性の劣化
を阻止できるが、しかし、ボンディング装置の合わせ精
度やリードの組み立て精度が現在ではそれ程高くないの
で、上記のように、信号線9とグランド線10との間隔
を20ミクロン以下に設定することは現実的には実現不
可能である。
【0010】なお、上記説明では、接続部8が信号線
9、グランド線10で構成される例を示したが、接続部
8が信号線9のみで構成される場合でも、上記と同様な
問題がある。
9、グランド線10で構成される例を示したが、接続部
8が信号線9のみで構成される場合でも、上記と同様な
問題がある。
【0011】本発明は、直流からマイクロ波、ミリ波帯
まで動作可能な高周波モジュールを提供することを目的
とするものである。
まで動作可能な高周波モジュールを提供することを目的
とするものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明は、所定の高周波
信号用接続媒体によって、1つの電子部品と他の電子部
品とを電気的に接続する高周波モジュールにおいて、1
つの電子部品と他の電子部品とを電気的に接続する接続
部のうちで、高周波信号用接続媒体と高周波モジュール
の電気的グランドとの間の領域に、比誘電率が1.0よ
りも大きい誘電体材料が挿入され、また、高周波信号用
接続媒体とモジュールの電気的グランドとの配置、間
隔、寸法に応じて、上記接続部が、100オーム以下の
特性インピーダンスを有する伝送線路である。
信号用接続媒体によって、1つの電子部品と他の電子部
品とを電気的に接続する高周波モジュールにおいて、1
つの電子部品と他の電子部品とを電気的に接続する接続
部のうちで、高周波信号用接続媒体と高周波モジュール
の電気的グランドとの間の領域に、比誘電率が1.0よ
りも大きい誘電体材料が挿入され、また、高周波信号用
接続媒体とモジュールの電気的グランドとの配置、間
隔、寸法に応じて、上記接続部が、100オーム以下の
特性インピーダンスを有する伝送線路である。
【0013】
【作用】本発明は、1つの電子部品と他の電子部品とを
電気的に接続する接続部のうちで、高周波信号用接続媒
体と高周波モジュールの電気的グランドとの間の領域
に、比誘電率が1.0よりも大きい誘電体材料が挿入さ
れ、また、高周波信号用接続媒体とモジュールの電気的
グランドとの配置、間隔、寸法に応じて、上記接続部
が、100オーム以下の特性インピーダンスを有する伝
送線路であるので、接続された電子部品間の整合性が改
善され、高周波においても低い電圧定在波比(VSW
R)を有する高周波モジュールを実現できる。
電気的に接続する接続部のうちで、高周波信号用接続媒
体と高周波モジュールの電気的グランドとの間の領域
に、比誘電率が1.0よりも大きい誘電体材料が挿入さ
れ、また、高周波信号用接続媒体とモジュールの電気的
グランドとの配置、間隔、寸法に応じて、上記接続部
が、100オーム以下の特性インピーダンスを有する伝
送線路であるので、接続された電子部品間の整合性が改
善され、高周波においても低い電圧定在波比(VSW
R)を有する高周波モジュールを実現できる。
【0014】
【実施例】図1は、本発明の第1の実施例である高周波
モジュールM1を示す図であり、ICチップ1のボンデ
ィングワイヤ2が信号線9とその両側のグランド線10
とで構成されている実施例を示す図である。なお、図1
(1)は、図1(2)のI−I’から見た縦断面図であ
り、図1(2)は、図1(1)のIa−Ia’よりも上
に存在する樹脂11を削除して示した平面図である。
モジュールM1を示す図であり、ICチップ1のボンデ
ィングワイヤ2が信号線9とその両側のグランド線10
とで構成されている実施例を示す図である。なお、図1
(1)は、図1(2)のI−I’から見た縦断面図であ
り、図1(2)は、図1(1)のIa−Ia’よりも上
に存在する樹脂11を削除して示した平面図である。
【0015】高周波モジュールM1は、ボンディング用
パッド3を介して、ICチップ1がワイヤボンディング
2で接続され、図1(2)中、2つのICチップ1を接
続する接続部81の中央のボンディングワイヤ2が信号
線9であり、この上下に配置されているボンディングワ
イヤ2がグランド線10である。
パッド3を介して、ICチップ1がワイヤボンディング
2で接続され、図1(2)中、2つのICチップ1を接
続する接続部81の中央のボンディングワイヤ2が信号
線9であり、この上下に配置されているボンディングワ
イヤ2がグランド線10である。
【0016】また、高周波モジュールM1において、エ
ポキシ系の樹脂(比誘電率=4)等の比誘電率が1より
も大きい誘電体材料を含む樹脂状の材料11が接続部8
1に充填されている。したがって、高周波モジュールM
1において、信号線9とグランド線10との間に、樹脂
状の材料11が埋め込まれている。
ポキシ系の樹脂(比誘電率=4)等の比誘電率が1より
も大きい誘電体材料を含む樹脂状の材料11が接続部8
1に充填されている。したがって、高周波モジュールM
1において、信号線9とグランド線10との間に、樹脂
状の材料11が埋め込まれている。
【0017】高周波モジュールM1において、信号線9
とグランド線10との間には、空気ではなく、比誘電率
の高い材料11で満たされているので、信号線9とグラ
ンド線10との間の容量が大きく、その信号線を100
オーム以下の特性インピーダンスを有する伝送線路にす
ることができる。また、高周波モジュールM1におい
て、信号線9とグランド線10とによってコプレーナ線
路が形成されている。
とグランド線10との間には、空気ではなく、比誘電率
の高い材料11で満たされているので、信号線9とグラ
ンド線10との間の容量が大きく、その信号線を100
オーム以下の特性インピーダンスを有する伝送線路にす
ることができる。また、高周波モジュールM1におい
て、信号線9とグランド線10とによってコプレーナ線
路が形成されている。
【0018】図2は、高周波モジュールM1において、
信号線9とグランド線10との間隔に対する特性インピ
ーダンスの計算結果を示す図である。
信号線9とグランド線10との間隔に対する特性インピ
ーダンスの計算結果を示す図である。
【0019】この計算例では、信号線9の幅を200ミ
クロン、グランド線10の幅を400ミクロン、樹脂状
の材料11の比誘電率を4としており、信号線9とグラ
ンド線10との間隔をほぼ100ミクロンに設定すれ
ば、低VSWRの接続特性を有する50オームの特性イ
ンピーダンスを得ることが可能であることがわかる。
クロン、グランド線10の幅を400ミクロン、樹脂状
の材料11の比誘電率を4としており、信号線9とグラ
ンド線10との間隔をほぼ100ミクロンに設定すれ
ば、低VSWRの接続特性を有する50オームの特性イ
ンピーダンスを得ることが可能であることがわかる。
【0020】高周波モジュールM1において、ボンディ
ングワイヤ2として、幅広のリボン状のボンディングワ
イヤを使用するか、または、複数のリボン状のボンディ
ングワイヤを接続して帯状にすること等によって、上記
の信号線幅、グランド線幅を実現することができ、さら
に、その間隔もボンディング装置の精度で充分に実現で
きる。
ングワイヤ2として、幅広のリボン状のボンディングワ
イヤを使用するか、または、複数のリボン状のボンディ
ングワイヤを接続して帯状にすること等によって、上記
の信号線幅、グランド線幅を実現することができ、さら
に、その間隔もボンディング装置の精度で充分に実現で
きる。
【0021】したがって、高周波モジュールM1によっ
て、接続部品間の整合性が高くVSWRが低い高周波モ
ジュールを実現することができる。また、比誘電率の高
い樹脂を使用することによって、間隔をより広くして
も、50オームの特性インピーダンスを実現することが
可能であり、この場合、ボンディング精度への負担はさ
らに軽減される。
て、接続部品間の整合性が高くVSWRが低い高周波モ
ジュールを実現することができる。また、比誘電率の高
い樹脂を使用することによって、間隔をより広くして
も、50オームの特性インピーダンスを実現することが
可能であり、この場合、ボンディング精度への負担はさ
らに軽減される。
【0022】図3は、本発明の第2の実施例である高周
波モジュールM2を示す図であり、信号線9の下側にグ
ランド面12が存在する場合の実施例を示す図である。
なお、図3(1)は、図3(2)のIII−III’か
ら見た縦断面図であり、図3(2)は、図3(1)のI
IIa−IIIa’よりも上に存在する樹脂11を削除
して示した平面図である。
波モジュールM2を示す図であり、信号線9の下側にグ
ランド面12が存在する場合の実施例を示す図である。
なお、図3(1)は、図3(2)のIII−III’か
ら見た縦断面図であり、図3(2)は、図3(1)のI
IIa−IIIa’よりも上に存在する樹脂11を削除
して示した平面図である。
【0023】高周波モジュールM2は、ボンディング用
パッド3を介して、ICチップ1がワイヤボンディング
2で接続され、図3(2)中、2つのICチップ1を接
続する接続部82の中央のボンディングワイヤ2が信号
線9であり、図3(1)中、信号線9であるボンディン
グワイヤ2の下にグランド面12が配置されているもの
である。
パッド3を介して、ICチップ1がワイヤボンディング
2で接続され、図3(2)中、2つのICチップ1を接
続する接続部82の中央のボンディングワイヤ2が信号
線9であり、図3(1)中、信号線9であるボンディン
グワイヤ2の下にグランド面12が配置されているもの
である。
【0024】また、高周波モジュールM2において、エ
ポキシ系の樹脂(比誘電率=4)等の比誘電率が1より
も大きい誘電体材料を含む樹脂状の材料11が接続部8
2に充填されている。したがって、高周波モジュールM
2において、信号線9とモジュールのグランド面12と
の間に、樹脂状の材料11が埋め込まれている。
ポキシ系の樹脂(比誘電率=4)等の比誘電率が1より
も大きい誘電体材料を含む樹脂状の材料11が接続部8
2に充填されている。したがって、高周波モジュールM
2において、信号線9とモジュールのグランド面12と
の間に、樹脂状の材料11が埋め込まれている。
【0025】さらに、高周波モジュールM2において、
信号線9とグランド面12とによってマイクロストリッ
プ線路が形成されている。
信号線9とグランド面12とによってマイクロストリッ
プ線路が形成されている。
【0026】高周波モジュールM2において、信号線9
とグランド面12との間には、空気ではなく、比誘電率
の高い材料11で満たされているので、信号線9とグラ
ンド面12との間の容量が大きく、その信号線を100
オーム以下の特性インピーダンスを有する伝送線路にす
ることができる。つまり、高周波モジュールM2におい
ても、高周波モジュールM1の場合と同様に、信号線9
の幅と、信号線9とグランド面12との間の距離とを、
現実的に実現可能な範囲で調整することによって、特性
インピーダンスが100オーム以下である伝送線路にす
ることが可能である。
とグランド面12との間には、空気ではなく、比誘電率
の高い材料11で満たされているので、信号線9とグラ
ンド面12との間の容量が大きく、その信号線を100
オーム以下の特性インピーダンスを有する伝送線路にす
ることができる。つまり、高周波モジュールM2におい
ても、高周波モジュールM1の場合と同様に、信号線9
の幅と、信号線9とグランド面12との間の距離とを、
現実的に実現可能な範囲で調整することによって、特性
インピーダンスが100オーム以下である伝送線路にす
ることが可能である。
【0027】図4は、本発明の第3の実施例である高周
波モジュールM3を示す図であり、パッケージ4のリー
ド5が、信号線9とその両側のグランド線10とで構成
され、そのリード5がガルウイング型である実施例を示
す図である。
波モジュールM3を示す図であり、パッケージ4のリー
ド5が、信号線9とその両側のグランド線10とで構成
され、そのリード5がガルウイング型である実施例を示
す図である。
【0028】なお、図4(1)は、図4(2)のIV−
IV’から見た縦断面図であり、図4(2)は、図4
(1)のIVa−IVa’よりも上に存在する樹脂11
を削除して示した平面図である。
IV’から見た縦断面図であり、図4(2)は、図4
(1)のIVa−IVa’よりも上に存在する樹脂11
を削除して示した平面図である。
【0029】高周波モジュールM3は、アルミナ、ガラ
スエポキシ等で構成される基板6の上の金属パタン7
に、パッケージ4のリード5を半田等で接続する例であ
る。なお、図4(2)中、金属パタン7とパッケージ4
のリード5とを接続する接続部83の中央のリード5が
信号線9であり、この信号線9の上下に配置されている
リード5がグランド線10である。
スエポキシ等で構成される基板6の上の金属パタン7
に、パッケージ4のリード5を半田等で接続する例であ
る。なお、図4(2)中、金属パタン7とパッケージ4
のリード5とを接続する接続部83の中央のリード5が
信号線9であり、この信号線9の上下に配置されている
リード5がグランド線10である。
【0030】また、高周波モジュールM3は、高周波モ
ジュールM1と同様に、接続部83に、比誘電率が1よ
りも大きい誘電体材料を含む樹脂状の材料11が充填さ
れている。つまり、接続部83の信号線9とグランド線
10との間を、この樹脂状の材料11が埋めている。
ジュールM1と同様に、接続部83に、比誘電率が1よ
りも大きい誘電体材料を含む樹脂状の材料11が充填さ
れている。つまり、接続部83の信号線9とグランド線
10との間を、この樹脂状の材料11が埋めている。
【0031】高周波モジュールM3においても、材料1
1の比誘電率を適当に選択することによって、また、リ
ード5の加工精度、組み立て精度の範囲内で、リード5
の幅と、信号線9とグランド線10との間隔とを調整す
ることによって、接続部83を、100オーム以下の特
性インピーダンスを有する伝送線路にすることが可能で
ある。なお、接続部83はコプレーナ線路の伝送線路と
なる。
1の比誘電率を適当に選択することによって、また、リ
ード5の加工精度、組み立て精度の範囲内で、リード5
の幅と、信号線9とグランド線10との間隔とを調整す
ることによって、接続部83を、100オーム以下の特
性インピーダンスを有する伝送線路にすることが可能で
ある。なお、接続部83はコプレーナ線路の伝送線路と
なる。
【0032】図5は、本発明の第4の実施例である高周
波モジュールM4を示す図であり、パッケージ4のリー
ド5が信号線9とその両側のグランド線10とで構成さ
れ、そのリード5がフラット型である実施例を示す図で
ある。
波モジュールM4を示す図であり、パッケージ4のリー
ド5が信号線9とその両側のグランド線10とで構成さ
れ、そのリード5がフラット型である実施例を示す図で
ある。
【0033】なお、図5(1)は、図5(2)のV−
V’から見た縦断面図であり、図5(2)は、図5
(1)のVa−Va’よりも上に存在する樹脂11を削
除して示した平面図である。
V’から見た縦断面図であり、図5(2)は、図5
(1)のVa−Va’よりも上に存在する樹脂11を削
除して示した平面図である。
【0034】高周波モジュールM4は、アルミナ、ガラ
スエポキシ等で構成されている基板6の上の金属パタン
7に、パッケージ4のリード5を半田等で接続する例で
ある。なお、図5(2)中、金属パタン7とパッケージ
4のリード5とを接続する接続部84の中央のリード5
が信号線9であり、この信号線9の上下に配置されてい
るリード5がグランド線10である。
スエポキシ等で構成されている基板6の上の金属パタン
7に、パッケージ4のリード5を半田等で接続する例で
ある。なお、図5(2)中、金属パタン7とパッケージ
4のリード5とを接続する接続部84の中央のリード5
が信号線9であり、この信号線9の上下に配置されてい
るリード5がグランド線10である。
【0035】また、高周波モジュールM4は、高周波モ
ジュールM1と同様に、接続部84に、比誘電率が1よ
りも大きい誘電体材料を含む樹脂状の材料11が充填さ
れている。つまり、接続部84の信号線9とグランド線
10との間を、この樹脂状の材料11が埋めている。
ジュールM1と同様に、接続部84に、比誘電率が1よ
りも大きい誘電体材料を含む樹脂状の材料11が充填さ
れている。つまり、接続部84の信号線9とグランド線
10との間を、この樹脂状の材料11が埋めている。
【0036】高周波モジュールM4においても、材料1
1の比誘電率を適当に選択することによって、また、リ
ード5の加工精度、組み立て精度の範囲内で、リード5
の幅と、信号線9とグランド線10との間隔とを調整す
ることによって、接続部84を、100オーム以下の特
性インピーダンスを有する伝送線路にすることが可能で
ある。なお、接続部84はコプレーナ線路の伝送線路と
なる。
1の比誘電率を適当に選択することによって、また、リ
ード5の加工精度、組み立て精度の範囲内で、リード5
の幅と、信号線9とグランド線10との間隔とを調整す
ることによって、接続部84を、100オーム以下の特
性インピーダンスを有する伝送線路にすることが可能で
ある。なお、接続部84はコプレーナ線路の伝送線路と
なる。
【0037】図6は、本発明の第5の実施例である高周
波モジュールM5を示す図であり、パッケージ4のリー
ド5が信号線9であり、この信号線9の下側にグランド
面12が構成され、そのリード5がフラット型である実
施例を示す図である。
波モジュールM5を示す図であり、パッケージ4のリー
ド5が信号線9であり、この信号線9の下側にグランド
面12が構成され、そのリード5がフラット型である実
施例を示す図である。
【0038】なお、図6(1)は、図6(2)のVI−
VI’から見た縦断面図であり、図6(2)は、図6
(1)のVIa−VIa’よりも上に存在する樹脂11
を削除して示した平面図である。
VI’から見た縦断面図であり、図6(2)は、図6
(1)のVIa−VIa’よりも上に存在する樹脂11
を削除して示した平面図である。
【0039】高周波モジュールM5は、アルミナ、ガラ
スエポキシ等で構成されている基板6の上の金属パタン
7に、パッケージ4のリード5を半田等で接続する例で
ある。なお、図6(2)中、金属パタン7とパッケージ
4のリード5とを接続する接続部85のリード5が信号
線9であり、図6(1)中、リード5の下にグランド面
12が配置されている。
スエポキシ等で構成されている基板6の上の金属パタン
7に、パッケージ4のリード5を半田等で接続する例で
ある。なお、図6(2)中、金属パタン7とパッケージ
4のリード5とを接続する接続部85のリード5が信号
線9であり、図6(1)中、リード5の下にグランド面
12が配置されている。
【0040】また、高周波モジュールM5は、高周波モ
ジュールM1と同様に、接続部85に、比誘電率が1よ
りも大きい誘電体材料を含む樹脂状の材料11が充填さ
れている。つまり、接続部85の信号線9とグランド面
12との間を、この樹脂状の材料11が埋めている。
ジュールM1と同様に、接続部85に、比誘電率が1よ
りも大きい誘電体材料を含む樹脂状の材料11が充填さ
れている。つまり、接続部85の信号線9とグランド面
12との間を、この樹脂状の材料11が埋めている。
【0041】高周波モジュールM5においても、材料1
1の比誘電率を適当に選択することによって、また、リ
ード5の加工精度、組み立て精度の範囲内で、リード5
の幅と、信号線9であるリード5とグランド面12との
間隔とを調整することによって、接続部85を、100
オーム以下の特性インピーダンスを有する伝送線路にす
ることが可能である。なお、接続部85には、マイクロ
ストリップ線路の伝送線路が構成されている。
1の比誘電率を適当に選択することによって、また、リ
ード5の加工精度、組み立て精度の範囲内で、リード5
の幅と、信号線9であるリード5とグランド面12との
間隔とを調整することによって、接続部85を、100
オーム以下の特性インピーダンスを有する伝送線路にす
ることが可能である。なお、接続部85には、マイクロ
ストリップ線路の伝送線路が構成されている。
【0042】図7は、本発明の第6の実施例である高周
波モジュールM6を示す図であり、図7(1)は、図7
(2)のVII−VII’から見た平面図であり、図7
(2)は、図7(1)のVIIa−VIIa’から見た
縦断正面図であり、図7(3)は、図7(1)のVII
b−VIIb’から見た縦断右側面図である。
波モジュールM6を示す図であり、図7(1)は、図7
(2)のVII−VII’から見た平面図であり、図7
(2)は、図7(1)のVIIa−VIIa’から見た
縦断正面図であり、図7(3)は、図7(1)のVII
b−VIIb’から見た縦断右側面図である。
【0043】高周波モジュールM6は、ICチップ13
を、信号線用バンプ14、グランド線用バンプ15によ
ってフリップチップで、基板6上のパタン7に接続した
ものである。
を、信号線用バンプ14、グランド線用バンプ15によ
ってフリップチップで、基板6上のパタン7に接続した
ものである。
【0044】また、高周波モジュールM6は、信号線用
のバンプ14とグランド線用バンプ15との間に、比誘
電率が1よりも大きい誘電体材料を含む樹脂状の材料1
1が充墳されている。なお、接続部86は、金属パタン
7とICチップ13とを接続する接続部である。
のバンプ14とグランド線用バンプ15との間に、比誘
電率が1よりも大きい誘電体材料を含む樹脂状の材料1
1が充墳されている。なお、接続部86は、金属パタン
7とICチップ13とを接続する接続部である。
【0045】通常使用されているバンプ接続技術では、
バンプの直径は20−200ミクロン、バンプ間隔は1
00ミクロン以上であるが、樹脂状の材料11の比誘電
率を適当に選ぶことによって、この寸法範囲内で、バン
プ14、15の直径、バンプ14とバンプ15との間隔
を設定すれば、接続部86を、特性インピーダンスが1
00オーム以下であるコプレーナ型の伝送線路とするこ
とが可能である。
バンプの直径は20−200ミクロン、バンプ間隔は1
00ミクロン以上であるが、樹脂状の材料11の比誘電
率を適当に選ぶことによって、この寸法範囲内で、バン
プ14、15の直径、バンプ14とバンプ15との間隔
を設定すれば、接続部86を、特性インピーダンスが1
00オーム以下であるコプレーナ型の伝送線路とするこ
とが可能である。
【0046】なお、高周波モジュールM6において、I
Cチップ13の代りに、ボールグリッドアレイパッケー
ジ(BGA)を使用しても、上記と同じ動作を行う。
Cチップ13の代りに、ボールグリッドアレイパッケー
ジ(BGA)を使用しても、上記と同じ動作を行う。
【0047】また、ボンディングワイヤ2、リード5、
バンプ14の代わりに、リボンボンド、ワイヤボンド、
タブ等の他の高周波信号用接続媒体を使用するようにし
てもよく、また、接続部81、82、83、84、8
5、86を、広く電子部品と電子部品とを接続する接続
部に適用するようにしてもよい。
バンプ14の代わりに、リボンボンド、ワイヤボンド、
タブ等の他の高周波信号用接続媒体を使用するようにし
てもよく、また、接続部81、82、83、84、8
5、86を、広く電子部品と電子部品とを接続する接続
部に適用するようにしてもよい。
【0048】すなわち、1つの電子部品と他の電子部品
とを電気的に接続する接続部のうちで、高周波信号用接
続媒体と高周波モジュールの電気的グランドとの間の領
域に、比誘電率が1.0よりも大きい誘電体材料が挿入
され、また、高周波信号用接続媒体とモジュールの電気
的グランドとの配置、間隔、寸法に応じて、上記接続部
が、100オーム以下の特性インピーダンスを有する伝
送線路であるようにしてもよい。
とを電気的に接続する接続部のうちで、高周波信号用接
続媒体と高周波モジュールの電気的グランドとの間の領
域に、比誘電率が1.0よりも大きい誘電体材料が挿入
され、また、高周波信号用接続媒体とモジュールの電気
的グランドとの配置、間隔、寸法に応じて、上記接続部
が、100オーム以下の特性インピーダンスを有する伝
送線路であるようにしてもよい。
【0049】
【発明の効果】本発明によれば、高周波においても低電
圧定在波比(VSWR)で反射の少ない電気特性を有す
る電気部品の接続方法を実現できるため、直流からマイ
クロ波、ミリ波帯まで動作が可能であるという効果を奏
する。
圧定在波比(VSWR)で反射の少ない電気特性を有す
る電気部品の接続方法を実現できるため、直流からマイ
クロ波、ミリ波帯まで動作が可能であるという効果を奏
する。
【図1】本発明の第1の実施例である高周波モジュール
M1を示す図である。
M1を示す図である。
【図2】高周波モジュールM1において、信号線9とグ
ランド線10との間隔に対する特性インピーダンスの計
算結果を示す図である。
ランド線10との間隔に対する特性インピーダンスの計
算結果を示す図である。
【図3】本発明の第2の実施例である高周波モジュール
M2を示す図である。
M2を示す図である。
【図4】本発明の第3の実施例である高周波モジュール
M3を示す図である。
M3を示す図である。
【図5】本発明の第4の実施例である高周波モジュール
M4を示す図である。
M4を示す図である。
【図6】本発明の第5の実施例である高周波モジュール
M5を示す図である。
M5を示す図である。
【図7】本発明の第6の実施例である高周波モジュール
M6を示す図である。
M6を示す図である。
【図8】2つのICチップを電気的に接続する高周波モ
ジュールの従来例を示す図である。
ジュールの従来例を示す図である。
【図9】パッケージと基板とを電気的に接続する高周波
モジュールの別の従来例を示す図である。
モジュールの別の従来例を示す図である。
1…ICチップ、 2…ボンディングワイヤ、 3…ボンディング用パッド、 4…パッケージ、 5…リード、 6…基板、 7…パタン、 9…信号線、 10…グランド線、 11…比誘電率が1.0よりも大きい誘電体材料、 12…グランド面、 13…ICチップ、 81〜85…接続部。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山口 聡 東京都千代田区内幸町1丁目1番6号 日 本電信電話株式会社内 (72)発明者 高田 透 東京都武蔵野市吉祥寺本町1丁目14番5号 エヌティティエレクトロニクステクノロ ジー株式会社内
Claims (1)
- 【請求項1】 所定の高周波信号用接続媒体によって、
1つの電子部品と他の電子部品とを電気的に接続する高
周波モジュールにおいて、 上記1つの電子部品と上記他の電子部品とを電気的に接
続する接続部のうちで、上記高周波信号用接続媒体と高
周波モジュールの電気的グランドとの間の領域に、比誘
電率が1.0よりも大きい誘電体材料が挿入され、ま
た、上記高周波信号用接続媒体と上記モジュールの電気
的グランドとの配置、間隔、寸法に応じて、上記接続部
が、100オーム以下の特性インピーダンスを有する伝
送線路であることを特徴とする高周波モジュール。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20667095A JPH0936617A (ja) | 1995-07-20 | 1995-07-20 | 高周波モジュール |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20667095A JPH0936617A (ja) | 1995-07-20 | 1995-07-20 | 高周波モジュール |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0936617A true JPH0936617A (ja) | 1997-02-07 |
Family
ID=16527186
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20667095A Pending JPH0936617A (ja) | 1995-07-20 | 1995-07-20 | 高周波モジュール |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0936617A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001168238A (ja) * | 1999-12-07 | 2001-06-22 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | 高周波回路用パッケージ |
JP2006156820A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Toshiba Corp | 回路基板 |
JP2008227720A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Anritsu Corp | 伝送線路接続構造 |
JP2015141926A (ja) * | 2014-01-27 | 2015-08-03 | 富士通株式会社 | 半導体モジュール |
CN113113375A (zh) * | 2021-04-09 | 2021-07-13 | 中国科学技术大学 | 一种用于毫米波频段芯片封装的垂直互连结构 |
-
1995
- 1995-07-20 JP JP20667095A patent/JPH0936617A/ja active Pending
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001168238A (ja) * | 1999-12-07 | 2001-06-22 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | 高周波回路用パッケージ |
JP2006156820A (ja) * | 2004-11-30 | 2006-06-15 | Toshiba Corp | 回路基板 |
JP4664657B2 (ja) * | 2004-11-30 | 2011-04-06 | 株式会社東芝 | 回路基板 |
JP2008227720A (ja) * | 2007-03-09 | 2008-09-25 | Anritsu Corp | 伝送線路接続構造 |
JP2015141926A (ja) * | 2014-01-27 | 2015-08-03 | 富士通株式会社 | 半導体モジュール |
CN113113375A (zh) * | 2021-04-09 | 2021-07-13 | 中国科学技术大学 | 一种用于毫米波频段芯片封装的垂直互连结构 |
CN113113375B (zh) * | 2021-04-09 | 2024-05-28 | 中国科学技术大学 | 一种用于毫米波频段芯片封装的垂直互连结构 |
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