JPH07130017A - 光磁気記録媒体の製造方法および光磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 表面が粗い有機保護層（４）を光磁気記録層
（２）上に有する光磁気記録媒体の製造方法において、
硬化性樹脂（３）のうち外内周部など媒体端部だけを硬
化させ、次いで表面が粗いフレキシブルな型（７）を重
ね合せ、次いで硬化性樹脂（３）全体を硬化させ、その
後型（７）を剥離することを特徴とする光磁気記録媒体
の製造方法。 【効果】 型を乗せる前に端部の樹脂を先に硬化してお
くので、硬化部分が樹脂のはみ出しを防ぐ障壁となり、
バリの発生や不要部分への樹脂の広がりを防ぐことがで
きる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、表面に凹凸が形成され
た硬化性樹脂を硬化してなる保護層を記録層上に有する
記録媒体であって、レーザーと磁気ヘッドを用いて磁界
変調記録できる光磁気記録媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、書き換え可能を特徴とする光磁気
ディスクが上市され、コンピューターのコード情報や画
像などのデータファイルとして応用されつつある。しか
し、これらの製品は永久磁石を用いた光変調方式を採用
しているので、情報の重ね書きが困難であり、あらかじ
め消去を行なってから記録を行なうという２つの過程が
必要で、書き込み処理に時間がかかり過ぎる。そこで、
消去過程が不要なオーバーライトを実現する手段とし
て、磁界変調記録方式が検討されている。この磁界変調
記録方式は、光磁気ディスクをはさんでレーザーと対向
する位置に浮上式の磁気ヘッドを設けて、バイアス磁界
の向きを高速でスイッチングさせながら、連続してレー
ザーを照射することにより、オーバーライトを実現する
方法であり、光磁気ディスクのパフォーマンスをより向
上させる有効な手段である。

【０００３】しかし、光磁気ディスク停止時に磁気ヘッ
ドを光磁気ディスク面上に接触させ、回転開始時に磁気
ヘッドを浮上させるＣＳＳ（Contact Start Stop）方式
を採用する場合、光磁気ディスクの保護層と浮上した磁
気ヘッドがフラットな面同志で接触すると吸着してしま
い、磁気ヘッドにダメージを与えるという問題が生じ
る。そこで、光磁気ディスクの保護層面を粗す（微細な
凹凸を形成する）必要がある。

【０００４】光磁気ディスクの保護層に樹脂等の有機材
料を用いる場合、その表面に微細な凹凸を形成する方法
として、フレキシブルな型（シート）の表面形状を、有
機保護層の表面に転写する方法、いわゆるシート転写法
が提案されている。従来のシート転写法は次の工程によ
り行われていた。(i) 少なくとも記録層が形成されてい
る基板上にスピンコート法等により硬化性樹脂を均一に
塗布する。(ii)この硬化性樹脂上に、表面に微細な凹凸
が形成されているフレキシブルな型を重ね合せる。(ii
i) 硬化性樹脂を硬化させる。(iv)このフレキシブルな
型を剥離する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
シート転写法では、硬化性樹脂をスピンコート法等によ
り基板上に塗布した場合、この硬化性樹脂は基板の外周
端部までコートされ、フレキシブルな型を硬化性樹脂上
に重ね合せた際に硬化性樹脂がフレキシブルな型の重さ
等により押し広げられて、基板からはみ出ることがあっ
た。このはみ出た硬化性樹脂は硬化してバリとなる。こ
のバリは薄くて脆いので、振動や衝撃等により取れて基
板表面に付着してデータの読み取りエラーを引き起こす
ことがあった。更に、基板の外周部をクランプして基板
の中心部にハブを接着する場合、基板をクランプする際
にバリが折れて、基板の中心とハブの中心がずれて偏心
が大きくなることがあった。

【０００６】また、この硬化性樹脂は、基板の内周側に
おいても同様に楕円状に押し広げられて、部分的に基板
の内周端部まで広がることもあった。基板の有機保護層
側の面が接着面となるハブを接着する場合、ハブの接着
部分に硬化性樹脂が部分的に広がっていると、段差があ
るのでハブが傾いて接着されて、偏心が大きくなると共
に媒体をスピンドルにセットする際に、クランプ不良等
を起こすことがあった。

【０００７】本発明は、この様な従来技術の課題を解決
すべくなされたものであり、凹凸を表面に有する有機保
護層を形成する際のバリの発生や硬化性樹脂の不要な部
分への広がりを防止できる光磁気記録媒体の製造方法を
提供する事を目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、表
面に凹凸が形成された保護層を光磁気記録層上に有する
光磁気記録媒体の製造方法において、硬化性樹脂を光磁
気記録層上に供給する工程と、該硬化性樹脂のうち媒体
端部の硬化性樹脂を硬化させる工程と、該硬化後に、表
面に凹凸を有するフレキシブルな型を該硬化性樹脂上に
重ね合せる工程と、該型を重ね合せた後に、未硬化の硬
化性樹脂を硬化させる工程と、該硬化後に、該型を剥離
する工程とを有することを特徴とする光磁気記録媒体の
製造方法により達成できる。

【０００９】

【作用】本発明においては、フレキシブルな型を乗せる
前に媒体の端部の樹脂を先に硬化しておくので、この硬
化部分が樹脂のはみ出しを防ぐ障壁として作用し、フレ
キシブルな型を重ね合せた際も硬化性樹脂が押し広げら
れることがなくなる。これによりバリの発生や不要部分
への樹脂の広がりを防ぐことができる。

【００１０】

【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
する。

【００１１】＜実施例１＞図１は、本実施例における光
磁気記録媒体の製造方法の各工程を示す模式的断面図で
ある。

【００１２】本実施例においては、まず図１（ａ）に示
す様に、直径８６ｍｍのディスク状ポリカーボネイト基
板１上に、光磁気記録層２を形成した。次に図１（ｂ）
に示す様に、ウレタンアクリレート系の紫外線硬化型樹
脂（硬化性樹脂３）を、スピンコート法により約１０μ
ｍの厚さに均一に塗布した。次に図１（ｃ）に示す様
に、基板１の硬化性樹脂３が形成された面上に、内外周
部のみ紫外線が透過する様に紫外線透過部５ａと紫外線
遮へい部５ｂから成るマスク５を置き、紫外線ランプ６
より紫外線を照射し、外周部（基板１の外周端から約
１．５ｍｍ巾の範囲）および内周部（基板１の内周端か
ら約７．５ｍｍの部分で約１．５ｍｍ巾の範囲）にある
硬化性樹脂３を硬化させた。次に図１（ｄ）に示す様
に、マスク５を取り外し、表面を粗したポリエチレンテ
レフタレートフィルム（表面に微細な凹凸が形成されて
いるフレキシブルな型７）を端部のみ硬化した硬化性樹
脂３の上に重ね合せ、紫外線ランプ６より紫外線を照射
し、硬化性樹脂３の全体を硬化させた。次に図１（ｅ）
に示す様に、フレキシブルな型７を剥離して、本実施例
の光磁気記録媒体を得た。

【００１３】この光磁気記録媒体の保護層４は表面（端
部を除く）に微細な凹凸を有するものであり、その表面
粗度は中心線平均山高さ（Ｒｐｍ）で約０．８μｍであ
った。

【００１４】また本実施例における様にマスク露光によ
り部分露光する場合は、他の手段により部分露光する場
合と比較して生産タクトが短かく、生産性の点で有利で
ある。

【００１５】＜実施例２＞図２は、本実施例における光
磁気記録媒体の製造方法の一工程を示す模式的断面図で
ある。

【００１６】本実施例においては、図１（ｃ）に示した
実施例１の部分露光工程を行なう代わりに、図２に示す
様に紫外線ランプ６に接続された光ファイバー８の端部
を、媒体の内外周部の上部に設置すると共に媒体を回転
させる事により、紫外線を基板の内外周部のみに照射
し、外周部（基板１の外周端から約１．０ｍｍ巾の範
囲）および内周部（基板１の内周端から約７．５ｍｍの
部分で約１ｍｍ巾の範囲）の硬化性樹脂を硬化させた。
これ以外は実施例１と同じ工程に従い本実施例の光磁気
記録媒体を得た。

【００１７】本実施例における様にエネルギー線を集光
させて部分露光する場合は、他の手段により部分露光す
る場合と比較して部分的な硬化が精度良くできるため、
硬化すべき部分がズレることがなくなり歩留りの点で有
利である。

【００１８】＜実施例３＞図３は、本実施例における光
磁気記録媒体の製造方法の一工程を示す模式的断面図で
ある。

【００１９】本実施例においては、図２に示した実施例
２の光ファイバー８による部分露光工程において、図３
に示す様にさらに光ファイバー８の先端部に集光レンズ
９および回折光のもれ防止のマスク１０をそれぞれ取り
付けて照射を行い硬化性樹脂を硬化させた。これ以外は
実施例２と同じ工程に従い本実施例の光磁気記録媒体を
得た。

【００２０】本実施例においては、紫外線の回折光が押
えられ、硬化性樹脂の所望する部分のみを硬化させるこ
とができ歩留りがさらに向上した。

【００２１】例えばφ８６基板の場合、記録領域はｒ＝
約２３〜４１ｍｍである。この領域では、保護膜厚さが
変動することは望ましくない。したがって、特に外周部
ではｒ＝４２．５〜４３．０ｍｍの部分のみを先に硬化
させることが望ましい。また、実施例１ではマスクの位
置ズレや紫外線の回折により、硬化される領域が約１．
５ｍｍの巾を持つ。実施例２では、光ファイバーにより
伝達される紫外線を用いるが、上記硬化領域をせばめる
ためには、光ファイバーの束の太さを細くする必要があ
る。このため伝達される紫外線エネルギーが小さくな
り、その結果、実施例１に比べて上記硬化領域がせまく
なるものの、約１．０ｍｍ巾であった。本実施例では、
レンズを用いて集光するため、紫外線エネルギーが大き
く、回折光も押さえられる。その結果、上記硬化領域が
約０．５ｍｍ巾に押さえられ、特に外周では所望するｒ
＝４２．５〜４３．０ｍｍの部分のみを硬化させること
ができた。

【００２２】＜比較例１＞実施例１における図１（ｃ）
に示した部分露光工程は実施せず、硬化性樹脂３を塗布
した後、そのまま表面を粗したフレキシブルな型７を重
ね合わせて紫外線を全面照射した。これ以外は実施例１
と同じ工程に従い本実施例の光磁気記録媒体を得た。

【００２３】＜評価＞以上の実施例１〜３および比較例
１におけるバリの発生率およびその大きさを下記の表１
に示す。

【００２４】

【表１】 この表１に示す結果から明らかな様に、従来法である比
較例１の方法ではバリが必ず発生し、またその発生した
バリも大きい。一方、実施例１〜３ではバリの発生が無
いかまたは非常に少なく、そのサイズも小さい。

【００２５】以上の実施例においては、硬化性樹脂３と
してウレタンアクリレート系の紫外線硬化型樹脂を使用
したが、本発明はこれに限定されない。紫外線硬化型樹
脂以外に、紫外線硬化型、加熱硬化型、電子線硬化型な
どの、部分的に硬化可能なタイプの硬化性樹脂（コート
剤）が使用できる。ただし、加熱硬化型樹脂を採用する
と加熱時の熱により媒体が反る場合がある。また電子線
硬化型樹脂を採用すると、硬化させる際に室内を真空に
する必要があるので、装置コストが高く且つ生産性がよ
くない。これに比べて、紫外線硬化型樹脂を採用すれ
ば、短時間で熱もかからず部分的に硬化させることもで
きる点で有利である。また、硬化性樹脂の層厚は１μｍ
〜２０μｍ程度が望ましく、２μｍ〜１０μｍ程度が更
に好ましい。

【００２６】その他、図中の基板１としては光学的に透
明な各種材料を、光磁気記録層２としてはＣＳＳ方式に
適用できる各種磁性材料を、フレキシブルな型７として
はシート転写法に使用可能な各種シートを制限無く採用
できる。また、適宜任意の層を追加することもできる。

【００２７】また以上の実施例においては、ディスク状
基板の外周部および内周部の硬化性樹脂をあらかじめ硬
化させたが本発明はこれに限定されない。本発明におい
て硬化性樹脂をあらかじめ硬化させるべき領域である媒
体端部とは、硬化性樹脂のはみ出しが生じる可能性のあ
る媒体の端を含む領域をいう。即ち本発明においては、
媒体端部のうち硬化性樹脂のはみ出しを防ぐ必要のある
部分を適宜硬化すればよいのであって、ディスク状基板
の外周部のみ、もしくは内周部のみ、またはそれらの一
部分のみを硬化させる態様であってもよい。また、ハブ
を設けるときの接着領域となる様な内周部もここでいう
媒体端部に含まれる。

【００２８】また以上の実施例においては、光磁気記録
媒体の形状をディスク状としたが本発明はこれに限定さ
れない。ディスク状以外の形状を採用する場合は、その
任意形状に応じて媒体端部の硬化性樹脂を適宜硬化させ
ればよい。最も有用な形状は、実施例で採用したディス
ク形状であるが、この場合、基板の外周端から０ｍｍ〜
約０．５ｍｍ巾の範囲における硬化性樹脂を硬化させる
ことが望ましい。また、基板の内周部については、内周
端から０ｍｍ〜約０．５ｍｍ巾の範囲内、または例えば
基板内周に段差がある場合その段差部から０ｍｍ〜約
０．５ｍｍ巾の範囲内、における硬化性樹脂を硬化させ
ることが望ましい。

【００２９】また以上の実施例においては部分露光工程
において、マスク露光、および光ファイバーによる集光
露光を採用したが、本発明はこれらに限定されない。例
えば、硬化性樹脂として、加熱硬化型樹脂や電子線硬化
型樹脂を採用する場合は、それに応じて、部分加熱手段
や電子線照射手段を適宜採用すればよい。

【００３０】また硬化の程度は、完全に硬化させる必要
はなく、生産性を考慮すると時間短縮のためには樹脂の
流動性がなくなるレベルの硬化が望ましい。

【００３１】また以上の実施例においては、光磁気記録
媒体の保護層４の表面粗度は中心線平均山高さ（Ｒｐ
ｍ）で約０．８μｍ程度としたが、本発明においては、
ＣＳＳ方式を採用する場合に、光磁気ディスクの保護層
と浮上した磁気ヘッドが面接触による磁気ヘッドにダメ
ージを減らせる程度の表面粗度であればよい。具体的に
は保護層の表面粗度はＲｐｍで０．１〜１．５μｍ程度
であれば有効である。

【００３２】

【発明の効果】以上説明した様に本発明においては、フ
レキシブルな型を重ね合せる前に、あらかじめ媒体端部
の硬化性樹脂を硬化させておくので、バリの発生や硬化
性樹脂の不要な部分への広がりを防止できる。

【００３３】したがって、従来法においてバリ等により
生じていた問題、例えばバリが基板表面に付着してデー
タの読み取りエラーを引き起こす問題、基板の中心とハ
ブの中心がずれて偏心が大きくなる問題、段差によりハ
ブが傾いて接着され偏心が大きくなったりクランプ不良
が生じる問題が解決される。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の光磁気記録媒体の製造方法の各工程
を示す模式的断面図である。

【図２】実施例２の光磁気記録媒体の製造方法の一工程
を示す模式的断面図である。

【図３】実施例３の光磁気記録媒体の製造方法の一工程
を示す模式的断面図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ 光磁気記録層 ３ 硬化性樹脂 ４ 保護層（硬化後の硬化性樹脂） ５ マスク ５ａ マスクの紫外線透過部 ５ｂ マスクの紫外線遮へい部 ６ 紫外線ランプ ７ フレキシブルな型 ８ 光ファイバー ９ 集光レンズ １０ 回折光もれ防止マスク

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面に凹凸が形成された硬化性樹脂を硬
   化してなる保護層を光磁気記録層上に有する光磁気記録
   媒体の製造方法において、 硬化性樹脂を光磁気記録層上に供給する工程と、 該硬化性樹脂のうち媒体端部の硬化性樹脂を硬化させる
   工程と、 該硬化後に、表面に凹凸を有するフレキシブルな型を該
   硬化性樹脂上に重ね合せる工程と、 該型を重ね合せた後に、未硬化の該硬化性樹脂を硬化さ
   せる工程と、 該硬化後に、該型を剥離する工程とを有することを特徴
   とする光磁気記録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】 マスク露光により、前記硬化性樹脂のう
   ち媒体端部の硬化性樹脂を硬化させる請求項１記載の光
   磁気記録媒体の製造方法。
3. 【請求項３】 エネルギー線を集光させて照射すること
   により、前記硬化性樹脂のうち媒体端部の硬化性樹脂を
   硬化させる請求項１記載の光磁気記録媒体の製造方法。
4. 【請求項４】 前記硬化性樹脂が、紫外線硬化型樹脂で
   ある請求項１、２または３記載の光磁気記録媒体の製造
   方法。
5. 【請求項５】 請求項１記載の製造方法によって製造さ
   れた光磁気記録媒体。