JPH07127064A - バットレス型山留め掘削工法 - Google Patents

バットレス型山留め掘削工法

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JPH07127064A
JPH07127064A JP5278314A JP27831493A JPH07127064A JP H07127064 A JPH07127064 A JP H07127064A JP 5278314 A JP5278314 A JP 5278314A JP 27831493 A JP27831493 A JP 27831493A JP H07127064 A JPH07127064 A JP H07127064A
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雅路 青木
Eiji Sato
英二 佐藤
Hiroyuki Nishioka
博之 西岡
Yoichi Ogaki
洋一 大垣
Kiyoto Masumura
清人 増村
Katsumi Okamura
克己 岡村
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Takenaka Komuten Co Ltd
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Takenaka Komuten Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 地盤が軟弱な場所の根切り工事に伴なって周
辺地盤及び周辺構造物に及ぼす有害な影響を防止するバ
ットレス型山留め掘削工法を提供する。 【構成】 地盤の掘削予定区域の周囲に山留め壁1を構
築し、前記山留め壁の内側の地盤4を掘削する山留め掘
削工法において、山留め壁1の内側に、平面的に見て略
直角な向きに板状をなす複数のバットレス2が、同山留
め壁の長手方向に所定の間隔をあけて、ソイルセメント
柱列壁工法又は深層混合処理工法等による改良土壁とし
て硬質地盤3に根入れする深さまで形成されている。 【効果】 バットレス2の下端を硬質地盤3に根入れし
同硬質地盤3の強度を活用するから、バットレス2の水
平抵抗力が大きくなり、山留め壁1の変形量が従来に比
べて大幅に小さくなり、それに伴ない周辺地盤の沈下も
小さくなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、市街地の根切り山留
め工事、特に地盤が軟弱な場所で実施される根切り工事
に伴なって周辺地盤及び周辺構造物に及ぼす有害な影響
を可及的に防止すべく実施されるバットレス型山留め掘
削工法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、山留め掘削工法は種々公知であ
り、実施例も多い。特に、地盤が軟弱な場合に、根切り
に伴なって周辺地盤及び周辺構造物へ及ぼす有害な影響
を防止するため、設計、施工上の対策が種々行なわれて
いる。例えば、山留め壁の変位を抑止して山留め架搆の
安全性を高め周辺地盤への影響を少なくする補助工法と
して、大要、次の2通りの工法が公知であり、実施され
ている。 図5と図6に例示したように、山留め壁1の内側に
バットレス2(控え壁)を設けて山留め壁を補剛するバ
ットレス型山留め掘削工法(昭和62年6月の第22回
土質工学研究発表会(新潟)の梗概集P1305〜P1
306)。 山留め壁の内側に梁状のソイルストラッドを設けて
山留め壁を補剛するソイルストラッド型山留め掘削工法
(上記の梗概集のほか、特公昭63−65768号、特
開昭60−226917号公報記載の発明など)。
【0003】
【本発明が解決しようとする課題】上述した従来のバッ
トレス型山留め掘削工法の場合は、図6に示したよう
に、バットレス2の下端は密実な砂質土層等の硬質地盤
3よりも浅い深度で止められている。その具体的理由、
理論的根拠は定かではないが、前記のようなバットレス
型山留め掘削工法には、下記するような問題点がある。 バットレス2の周辺の地盤は一般的に軟弱な自然地
盤であるため、バットレスの水平変形モードに対して水
平抵抗力は比較的小さく、バットレス2および山留め架
搆全体の水平変形を抑止できない(図7参照)。 バットレス2の回転モードの変形に対して、バット
レス下部地盤の鉛直反力が小さく、バットレス2の回転
に対する抵抗力が小さいため、山留め壁1の回転変形を
抑止できない(図8参照)。 上記で述べた回転モードの卓越によって、バット
レス2の下部の軟弱な地盤が局部破壊し、過大変形を発
生させる危険性がある(図9参照)。
【0004】従って、本発明の目的は、バットレスの下
端を密実な砂質土層等の硬質地盤に根入れすることによ
って山留め壁の補剛効果を高め、山留め壁の水平変位量
を低減し、周辺地盤の沈下量も低減することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上述した従来技術の課題
を解決するための手段として、この発明に係るバットレ
ス型山留め掘削工法は、地盤の掘削予定区域の周囲に山
留め壁1を構築し、前記山留め壁の内側の地盤4を掘削
する山留め掘削工法において、前記山留め壁1の内側
に、平面的に見て略直角な向きに板状をなす複数のバッ
トレス2が、同山留め壁の長手方向に所定の間隔をあけ
て、ソイルセメント柱列壁工法又は深層混合処理工法等
による改良土壁として硬質地盤3に根入れする深さまで
形成されていることを特徴とする。
【0006】
【作用】バットレス2の下端を硬質地盤3に根入れした
ので、硬質地盤3の支持力、抵抗力を直接バットレス2
の抵抗力の源泉として利用でき、水平変形モード(図6
参照)及び回転変形モード(図7参照)に対するバット
レス2の抵抗力が大幅に増大する。その結果、山留め壁
1の水平変形量が大幅に低減され、周辺地盤の沈下量が
低減される。
【0007】ちなみに、図4Aに示したバットレス無し
タイプ(以下、Aタイプと云う。)、図4Bに示したバ
ットレス根入れ無しタイプ(以下、Bタイプと云
う。)、図4Cに示したバットレス根入れ0mタイプ
(以下、Cタイプと云う。)、図4Dに示したバットレ
ス根入れ2mタイプ(以下、Dタイプと云う。)、図4
Eに示したバットレス根入れ4mタイプ(以下、Eタイ
プと云う。)をそれぞれ同一の軟弱地盤(N値≒0)に
施工した場合についての緒元を、下記の表1に示す。硬
質地盤3のN値は35である。
【0008】
【表1】
【0009】以上要するに、バットレス2を硬質地盤3
へ接触させるだけ(Cタイプ)でも効果を発揮するが、
根入れ2mのDタイプ及び根入れ4mのEタイプになる
と、Kv値はBタイプの2倍近くかそれ以上となり、安
全率も1以上となって実施可能であることが認められ
る。根入れが深いほど補剛効果の大きいことも認められ
る。
【0010】
【実施例】次に、図1と図2に示した本発明の実施例を
説明する。本発明に係るバットレス型山留め掘削工法の
構造形式は従来例と変りなく、地盤4の掘削予定区域に
構築された山留め壁1の内側に、平面的に見ると図3の
如く山留め壁1に略直角な向きに、細長い板状をなすバ
ットレス2が形成されている。前記バットレス2の形成
は、攪拌掘削機により掘削した現位置土とセメントを練
り混ぜて改良するソイルセメント柱列壁工法又は深層混
合処理工法による改良土壁を、地中の深い位置にある、
例えばN値が約30以上の密実な砂質土層等の硬質地盤
3の中へ深く貫入して根入れした状態に構築されてい
る。
【0011】一例を挙げると、地盤4が沖積層から成
り、山留め壁1は直径1mのH鋼芯材入りソイルパイル
柱列壁である場合に、バットレス2の規模は、厚さWが
約1m、長さLは約11m、深さは地下28mに位置す
る硬質地盤3の中へ約2mの深さ根入れして構築されて
いる。また、前記バットレス2は、山留め壁1の長手方
向に約3mピッチで構築される。バットレス2(ソイル
セメント改良壁)の強度は、一軸圧縮強さが15.0kg
・f/cm2 位である。
【0012】なお、上述のように構築されたバットレス
2は、地盤4の根切り時に合一に掘削されることは、従
前のバットレス型山留め掘削工法と同じである。
【0013】
【本発明が奏する効果】本発明に係るバットレス型山留
め掘削工法は、バットレス2の下端を硬質地盤3に根入
れして同硬質地盤3の強度を活用するから、バットレス
2の水平抵抗力が大きくなり、山留め壁1の変形量が従
来に比べて大幅に小さくなり、それに伴ない周辺地盤の
沈下も小さくなる。同様に、バットレス2の下端を硬質
地盤3に根入れした結果、バットレス下部地盤の鉛直反
力が大きくなり、バットレス2の回転変形モードに対す
る抵抗も大きくなる。それに伴なって山留め壁1の変形
量及び周辺地盤の沈下量が小さく抑止される。同じく、
バットレス2の下端を硬質地盤3に根入れした結果、底
部先端の地盤局部破壊を防ぐことができ、山留め壁の過
大変形及び周辺地盤の沈下を防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】バットレス型山留め壁の平面図である。
【図2】バットレス型山留め壁の主要部を示した斜視図
である。
【図3】バットレス型山留め壁の断面図である。
【図4】A〜Eはバットレス型山留め壁の作用説明図で
ある。
【図5】従来のバットレス型山留め壁の主要部を示した
斜視図である。
【図6】従来のバットレス型山留め壁の断面図である。
【図7】従来のバットレス型山留め壁の水平モードの説
明図である。
【図8】従来のバットレス型山留め壁の回転モードの説
明図である。
【図9】従来のバットレス型山留め壁の底部先端の局部
破壊の説明図である。
【符号の説明】
1 山留め壁 2 バットレス 3 硬質地盤 4 地盤
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大垣 洋一 東京都中央区銀座八丁目21番1号 株式会 社竹中工務店東京本店内 (72)発明者 増村 清人 東京都中央区銀座八丁目21番1号 株式会 社竹中工務店東京本店内 (72)発明者 岡村 克己 東京都中央区銀座八丁目21番1号 株式会 社竹中工務店東京本店内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】地盤の掘削予定区域の周囲に山留め壁を構
    築し、前記山留め壁の内側の地盤を掘削する山留め掘削
    工法において、 前記山留め壁の内側に、平面的に見て略直角な向きに板
    状をなす複数のバットレスが、同山留め壁の長手方向に
    所定の間隔をあけて、ソイルセメント柱列壁工法又は深
    層混合処理工法等による改良土壁として硬質地盤に根入
    れする深さまで形成されていることを特徴とする、バッ
    トレス型山留め掘削工法。
JP5278314A 1993-11-08 1993-11-08 バットレス型山留め掘削工法 Expired - Lifetime JP3072403B2 (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003041586A (ja) * 2001-08-02 2003-02-13 Ohbayashi Corp 山留壁の変形量の抑制方法
JP2016156216A (ja) * 2015-02-25 2016-09-01 株式会社竹中工務店 山留壁
JP2019203347A (ja) * 2018-05-25 2019-11-28 公益財団法人鉄道総合技術研究所 土留め壁の支持構造

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