JPH07126779A - 銅基合金およびその製造法 - Google Patents

銅基合金およびその製造法

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JPH07126779A
JPH07126779A JP31102093A JP31102093A JPH07126779A JP H07126779 A JPH07126779 A JP H07126779A JP 31102093 A JP31102093 A JP 31102093A JP 31102093 A JP31102093 A JP 31102093A JP H07126779 A JPH07126779 A JP H07126779A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 銅基合金素材表面にSnを被覆した後、熱処
理を施し該素材の表面処理層に高硬度Cu−Sn系金属
間化合物を適正に形成させることにより、耐摩耗性,耐
腐食性等に優れた表面を有する銅基合金と、その製造法
を提案する。 【構成】 Cu−Ni−Sn−P系銅合金、またはCu
−Ni−Sn−P−(Fe,Co,Zn,Ti,Mg等
の副成分中の1種または2種以上)系銅合金素材表面に
Snを被覆した後、所定条件で熱処理することにより、
高硬度金属間化合物であるCu−Sn系被膜を該素材表
面に形成した高硬度,高強度および高導電率等の諸特性
に優れた銅基合金とその製造法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、銅基合金(銅及び銅合
金を含む。以下単に「銅基合金」という。)およびその
製造法に関し、更に詳しくは、例えば自動車の電気配線
等に使用される多ピンのコネクタの表面のように挿抜に
際しての摩擦を小さくすることを要求される表面や、電
気自動車の充電用ソケットのように挿抜回数が多いもの
や、モータのブラシのように回転体と接して耐摩耗性を
要求される表面や、バッテリー端子のように耐摩耗性・
耐腐食性が要求される表面を有した銅基合金とその製造
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年のエレクトロニクスの発達により、
種々の機械の電気配線は複雑化,高集積化が進み、それ
に伴いコネクタの多ピン化も進んできている。従来のS
nめっきをしたコネクタでは抜き差しに際し摩擦が大き
くなり、コネクタの挿抜が困難になるという問題が生じ
てきている。
【0003】また、現在の電気自動車では1日1回以上
の充電を必要としており、充電用ソケット部品の耐摩耗
性の確保が必要である。その上に10A以上の大電流が
流れるため発熱が大きく、従来のSnめっき等の方法で
は該めっきが剥離してしまう等の問題も生じている。
【0004】上記のような問題に対し、従来の表面処理
方法では対応しきれないことが明らかになってきてお
り、また本発明が提案する銅基合金を表面処理後、熱拡
散させる技術も従来から存在したが、従来の技術は表面
処理層と素材との拡散により、加工または熱的な影響等
による表面処理層の剥離を防止するだけのものであった
ため、やはり上記の問題には対応できなかった。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記のような
問題点を解決したもので、銅基合金素材表面にSnまた
はSn合金を被覆した後に熱処理を施し、該素材の表面
処理層に非常に硬いCu−Sn系金属間化合物(Cu
Sn,CuSn等)を適正に形成させることにより、
例えばコネクタや電気自動車の充電ソケット等に好適な
表面の摩擦係数が小さく、しかも耐摩耗性に優れた表面
を有する銅基合金とその製造法を提案するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、特定組成の銅
基合金に被覆するSnの膜厚と熱処理条件を限定するこ
とにより、従来技術では難しく不可能であったCu−S
n系金属間化合物(CuSn,CuSn等)を積極
的に形成させることにより、表面硬度を著しく向上させ
ることができるとの知見を得て開発された技術であっ
て、自動車のコネクタや電気自動車の充電用ソケット等
に好適な表面の摩擦係数の小さい、耐摩耗性に優れた銅
基合金とその製造法を提供するものである。
【0007】即ち、請求項1記載の発明は、「表面にC
uとSnとの高硬度金属間化合物被膜を有することを特
徴とする銅基合金」であり、
【0008】請求項2の発明は「重量%においてNi:
0.1%〜15%,Sn:0.1〜10%,P:0.0
05%〜0.5%を含有し、残部がCuおよび不可避不
純物からなり、表面にCuとSnとの高硬度金属間化合
物被膜を有することを特徴とする銅基合金」であり、
【0009】請求項3の発明は、「重量%においてN
i:0.1〜15%,Sn:0.1〜10%,P:0.
005〜0.5%を含有し、更にFe,Co,Zn,T
i,Mg,Zr,Ca,Si,Mn,Cd,Al,P
b,Be,Te,In,Ag,B,Y,La,Cr,C
e,Auの群から選ばれる1種または2種以上を総量で
0.01〜40%含有し、残部がCuおよび不可避不純
物からなり、表面にCuとSnとの高硬度金属間化合物
被膜を有することを特徴とする銅基合金」であり、
【0010】請求項4の発明は、「銅基合金の素材表面
をSnで被覆した後、加熱処理することにより該素材表
面にCuとSnとの高硬度金属間化合物被膜を形成する
ことを特徴とする銅基合金の製造法」であり、
【0011】請求項5の発明は、「重量%においてN
i:0.1〜15%,Sn:0.1〜10%,P:0.
005〜0.5%を含有し、残部がCuおよび不可避不
純物から成る銅基合金素材表面をSnで被覆した後、加
熱処理することにより、該素材表面にCuとSnとの高
硬度金属間化合物被膜を形成することをを特徴とする銅
基合金の製造法」であり、
【0012】請求項6の発明は、「重量%においてN
i:0.1〜15%,Sn:0.1〜10%,P:0.
005〜0.5%を含有し、更にFe,Co,Zn,T
i,Mg,Zr,Ca,Si,Mn,Cd,Al,P
b,Be,Te,In,Ag,B,Y,La,Cr,C
e,Auの群から選ばれる1種または2種以上を総量で
0.01〜40%含有し、残部がCuおよび不可避不純
物から成る銅基合金素材表面をSnで被覆した後、加熱
処理することにより、該素材表面にCuとSnとの高硬
度金属間化合物被膜を形成することをを特徴とする銅基
合金の製造法」を提供するものである。
【0013】上記請求項4,5又は6項記載の発明にお
いて、Snの被覆厚さが0.5〜20μm、好ましくは
1〜10μmで、最も好ましくは1〜5μmであり、被
覆後の熱処理条件としては、温度100〜600℃で処
理時間0.5〜24時間が好ましく、より好ましくは温
度200〜500℃で処理時間0.5〜24時間の範囲
であり、最も好ましくは温度250〜500℃で処理時
間3〜10時間の範囲である。
【0014】上記請求項2,3,5又は6記載の発明に
おいて、Ni:Pの組成比が重量百分率比率で5〜50
の範囲であることが好ましいのである。
【0015】
【作用】次に、本発明の内容を具体的に説明する。ま
ず、本発明に係る銅基合金の添加元素の選択とその含有
量の範囲の限定理由について述べると、次の通りであ
る。
【0016】(1)Ni Niは、素材の強度,弾性,耐熱性および耐応力緩和特
性等の向上に寄与する元素であり、更にPと化合物を形
成して分散析出させることにより電気伝導性も向上す
る。また、表面被覆処理後の熱処理によるCu−Sn系
拡散層の形成を効果的に行うことができる。また、更に
添加したNiの一部が表面処理層側に拡散し、その界面
ないし拡散層においてNi−Sn,Cu−Ni−Sn等
の金属間化合物を形成し、強度,硬さ,密着性および耐
食性等を向上させる。
【0017】上記の効果を発揮するためには、0.1w
t%以上の含有が必要であり、15wt%を超えて含有
すると、電気伝導性の低下が顕著になり、経済的にも不
利になる。従って、Niの含有量は0.1〜15wt%
の範囲が好ましいのである。
【0018】(2)Sn Snは、素材のCuマトリックス中に固溶して強度,弾
性および耐食性を向上させる。しかし、Sn含有量が
0.1wt%未満では、強度,弾性の向上が充分でな
く、10wt%を超えると電気伝導性や加工性の抵下が
顕著となり、更に耐マイグレーション性の低下を招くお
それがある。従って、Snの含有量は0.1〜10wt
%の範囲が好ましいのである。
【0019】(3)P PはNiと化合物を形成して分散析出することにより、
電気伝導性を向上させ、かつ強度,弾性、耐応力緩和特
性を向上させる。しかし、Pの含有量が0.005wt
%未満では上記の効果が充分に得られず、0.5wt%
を超えるとNi共存下でも電気伝導性,加工性や半田耐
候性の低下が著しくなり、更に耐マイグレーション性の
低下を招く。従って、Pの含有量は0.005〜0.5
wt%の範囲が好ましいのである。
【0020】(4)Ni:Pの組成比について また、本発明に係る銅基合金においては、添加したN
i,Pの一部がNi−P系化合物を形成し、これが均一
微細に分散析出することにより電気伝導性をはじめ、強
度,弾性,耐応力緩和特性を向上させることができる。
従って、NiとPの重量百分率の比(Ni/P)を限定
するのが好ましく、そのNi/Pの重量百分率組成比率
は、5〜50の範囲が好ましいのである。
【0021】(5)副成分について 更に副成分として、Fe,Co,Zn,Ti,Mg,Z
r,Ca,Si,Mn,Cd,Al,Pb,Be,T
e,In,Ag,B,Y,La,Cr,Ce,Auの群
のうち1種または2種以上を0.01〜40wt%含有
させると上記諸特性をより向上させる。
【0022】ここで、Znは、銅基合金のめっき耐候性
を更に向上させるばかりかその他、比重が小さいので、
該合金の重量の軽減化や安価であるので経済的である等
の利点がある。しかし、添加量が多くなると耐応力腐食
割れ性や電気伝導性が低下するので、Znの含有量は
0.01〜40wt%の範囲が好ましいのである。
【0023】その他の元素Fe,Co,Zn,Ti,M
g,Zr,Ca,Si,Mn,Cd,Al,Pb,B
e,Te,In,Al,B,Y,La,Cr,Ce,A
uにつては、それらの含有により強度,弾性等の特性を
向上させる。また、これらの副成分は、本発明に係る銅
基合金の電気伝導性を低下させることなく、強度,弾性
および加工性の向上にも効果的である。
【0024】ただし、電気伝導性や成形加工性または製
造のし易さ等から、より好ましい範囲としては、Fe:
0.01〜5wt%,Co:0.01〜5wt%,T
i:0.01〜5wt%,Mg:0.01〜3wt%,
Zr:0.01〜3wt%,Ca:0.01〜1wt
%,Si:0.01〜3wt%,Mn:0.01〜10
wt%,Cd:0.01〜5wt%,Al:0.01〜
10wt%,Pb:0.01〜5wt%,Be:0.0
1〜3wt%,Te:0.01〜5wt%,In:0.
01〜5wt%,Ag:0.01〜5wt%,B:0.
01〜1wt%,Y:0.01〜5wt%,La:0.
01〜5wt%,Cr:0.01〜5wt%,Ce:
0.01〜5wt%,Au:0.01〜5wt%であ
る。
【0025】(6)銅基合金の銅成分量について 工業的に生産し得る銅合金としてCuに最も多量に添加
される元素はZnであるが、その最大含有量は45wt
%であり、またCu−Sn系金属間化合物(Cu
n,CuSn等)を効果的に形成させるためにも、C
uは少なくとも55wt%以上含有する必要がある。
【0026】上記のように調整した銅基合金は耐熱性に
優れ、次に行なう被覆後の熱拡散にも充分耐えられ、熱
拡散によるCu−Sn系の金属間化合物の形成を効果的
に行なうことができる。
【0027】次に、Snの被覆厚さおよび拡散処理条件
の限定理由について述べる。
【0028】(7)Snの被覆厚さについて Snの被覆の厚さが0.5μm未満では耐食性が低下し
易く、特にHSガスによる腐食が問題になることがあ
る。また、金属間化合物の層が薄くなり物性面でも不利
になる。Sn被覆の厚さが20μmを超えると拡散層の
厚さが厚くなり過ぎ、加工時に割れが発生するなどの成
形加工性の低下が認められ、更に疲労特性の低下や、経
済的にも不利になる等の問題が生じる。
【0029】従って、Sn被覆の厚さは、0.5〜20
μmの範囲が好ましく、より好ましくは1〜10μmの
範囲で、最も好ましくは1〜5μmの範囲である。
【0030】Sn被膜層の形成方法としては、電気めっ
き,化学めっき,蒸着,溶融めっき等の公知の方法が適
用できるが、被覆の密着性や均一ならびに経済的な面か
ら、電気めっきや溶融浸漬法が好ましいのである。
【0031】また、被覆するSnについては、Snの含
有量が50%以上のSn−Pb合金であってもよい。
【0032】(8)熱処理条件について 100℃未満の熱処理ではSnの拡散に要する時間が長
くなり過ぎ、経済的に不利となる。また600℃を超え
ると短時間で素材の銅基合金が軟化し始めるため、強
度,硬度が低下する。
【0033】加熱処理時間については、0.5時間未満
ではSnの拡散が不充分となり、有効な金属間化合物の
形成ができなくなり、また24時間を超えると経済的に
不利となって生産性も低下する。
【0034】従って、熱処理条件としては、温度100
〜600℃で処理時間0.5〜24時間が好ましく、よ
り好ましい範囲としては温度200〜500℃で処理時
間0.5〜24時間で、最も好ましい範囲としては温度
250〜500℃で処理時間3〜10時間である。
【0035】また、熱処理時の雰囲気としては、不活性
または還元性雰囲気を特に必要としないので、経済的に
有利である。
【0036】上記の工程を経ることにより、素材表面に
形成された金属間化合物と素材との密着性が向上し、ま
た焼鈍による素材の特性の劣化を防ぐことができる。更
に、表層の金属間化合物と素材との密着性が向上するこ
とから、曲げ加工や張り出し加工時の表層の剥離や割れ
の発生を防ぐことができ、一般に言われるクラッド材の
難加工性の問題も解決される。
【0037】更に、熱処理後、表面の酸化皮膜は酸洗等
の化学的処理またはバフかけ等の機械的処理により除去
すればなお好ましい。この皮膜除去によって、より一層
の接触抵抗値や半田付け性の向上が望める。従って、表
層から0.01〜0.2μmの範囲で除去するのが好ま
しい。次に、本発明の実施例を説明する。
【0038】
【実施例】
実施例1 表1に示される化学成分(wt%)を有する本発明銅基
合金No.1〜2と、比較のための銅基合金No.3
を、それぞれ0.3mmまで圧延したものにSnを被
覆(硫酸浴を用いた電気めっきによる)した後、熱処理
を行なった。この熱処理条件は、Sn膜厚7.0μm,
熱処理温度350℃,処理時間5時間とした。
【0039】
【表1】
【0040】以上のようにして得られた試験材を用い
て、硬度,引張強さ,ばね限界値および導電率の測定を
行ない、それぞれJIS−Z−2244,JIS−Z−
2241,JIS−H−3130およびJIS−H−0
505に従って行なった。
【0041】曲げ加工性は、90°W曲げ試験(CES
−M−0002−6,R=0.2mm,圧延方向および
垂直方向)も行ない、中央部の山表面が良好なものを○
印、しわの発生したものを△印、割れの発生したものを
×印として評価した。張り出し加工性は、エリクセン試
験を行ない、JIS−Z−2247A法に従った。
【0042】以上の測定結果を表2に示す。表2の結果
から、本発明に係るNo.1,No.2の銅基合金は表
面の硬度が著しく改善され、かつ引張強さ,ばね限界値
および導電率のバランスに優れ、また曲げ加工性,張り
出し加工性も良好である。従って、コネクタ,充電用ソ
ケット等の用途に非常に優れた特性を有する銅基合金で
ある。これに対して、本発明の成分組成範囲外のNo.
3の比較合金は、熱処理時に合金が軟化し、合金の硬度
および引張強さが著しく低下していることが分る。
【0043】
【表2】
【0044】実施例2 本発明合金No.1について、めっき厚,熱処理温度の
条件を変化させたときに、実施例1と同様に硬度,引張
強さ,ばね限界値,導電率,曲げ加工性および張り出し
加工性について試験測定した。その結果を表3に示す。
【0045】
【表3】
【0046】表3の結果から、表面処理後に熱処理を行
なうことにより、表面の硬さが著しく向上し、例えばめ
っき厚3.5μm,7.0μmで熱処理温度250,3
50℃の場合、表面硬度,母材硬度およびばね限界値の
向上が認められる。
【0047】しかし、本発明に係る条件からはずれる
と、表面と素材の特性を同時に充分発現させることがで
きない。例えば、めっき厚7μmで熱処理温度700℃
の場合、熱処理時に軟化して素材硬度や引張強さ,ばね
限界値および曲げ加工性が著しく劣化しており、まため
っき厚22μmで熱処理温度350℃の場合、曲げ加工
性が著しく劣化していることが分る。
【0048】従って、本発明に係る銅合金はコネクタ
用,充電用ソケット用等の用途に充分適用できる優れた
諸特性を有している。
【0049】
【発明の効果】上記の実施例から明らかなように、本発
明に係る銅基合金は、高強度,高弾性および高電気伝導
率を有し、しかも曲げ加工性,張り出し加工性に優れた
コネクタ用,充電用ソケット用等として好適な銅合金で
あり、近年の自動車電装品の高密度化に対応できるコネ
クタ材および電気自動車の大電流の充電に充分対応でき
る充電用ソケット材を製造できるのである。
【0050】また、本発明法によって製造された銅基合
金は、上記のような耐摩耗性,耐腐食性に優れた特性を
有しているので、かかる特性を利用して電気,電子部品
用材料や構造材として多くの分野に利用することができ
る。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面にCuとSnとの高硬度金属間化合
    物被膜を有することを特徴とする銅基合金。
  2. 【請求項2】 重量%においてNi:0.1%〜15
    %,Sn:0.1〜10%,P:0.005%〜0.5
    %を含有し、残部がCuおよび不可避不純物からなり、
    表面にCuとSnとの高硬度金属間化合物被膜を有する
    ことを特徴とする銅基合金。
  3. 【請求項3】 重量%においてNi:0.1〜15%,
    Sn:0.1〜10%,P:0.005〜0.5%を含
    有し、更にFe,Co,Zn,Ti,Mg,Zr,C
    a,Si,Mn,Cd,Al,Pb,Be,Te,I
    n,Ag,B,Y,La,Cr,Ce,Auの群から選
    ばれる1種または2種以上を総量で0.01〜40%含
    有し、残部がCuおよび不可避不純物からなり、表面に
    CuとSnとの高硬度金属間化合物被膜を有することを
    特徴とする銅基合金。
  4. 【請求項4】 銅基合金の素材表面をSnで被覆した
    後、加熱処理することにより、該素材表面にCuとSn
    との高硬度金属間化合物被膜を形成することを特徴とす
    る銅基合金の製造法。
  5. 【請求項5】 重量%においてNi:0.1〜15%,
    Sn:0.1〜10%,P:0.005〜0.5%を含
    有し、残部がCuおよび不可避不純物からなる銅基合金
    素材表面をSnで被覆した後、加熱処理することによ
    り、該素材表面にCuとSnとの高硬度金属間化合物被
    膜を形成することを特徴とする銅基合金の製造法。
  6. 【請求項6】 重量%においてNi:0.1〜15%,
    Sn:0.1〜10%,P:0.005〜0.5%を含
    有し、更にFe,Co,Zn,Ti,Mg,Zr,C
    a,Si,Mn,Cd,Al,Pb,Be,Te,I
    n,Ag,B,Y,La,Cr,Ce,Auの群から選
    ばれる1種または2種以上を総量で0.01〜40%含
    有し、残部がCuおよび不可避不純物から成る銅基合金
    素材表面をSnで被覆した後、加熱処理することによ
    り、該素材表面にCuとSnとの高硬度金属間化合物被
    膜を形成することを特徴とする銅基合金の製造法。
  7. 【請求項7】 前記Snの被覆が0.5〜20μm厚で
    あり、加熱処理が100〜600℃の温度で0.5〜2
    4時間の加熱処理を施すことを特徴とする請求項4,5
    又は6記載の銅基合金の製造法。
  8. 【請求項8】 前記銅基合金においてNi:Pの重量百
    分率組成比率が5〜50であることを特徴とする請求項
    2又は3記載の銅基合金。
  9. 【請求項9】 前記銅基合金においてNi:Pの重量百
    分率組成比率が5〜50であることを特徴とする請求項
    5又は6記載の銅基合金の製造法。
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