JPH07120741A - 液晶セル用基板 - Google Patents
液晶セル用基板Info
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- JPH07120741A JPH07120741A JP5285836A JP28583693A JPH07120741A JP H07120741 A JPH07120741 A JP H07120741A JP 5285836 A JP5285836 A JP 5285836A JP 28583693 A JP28583693 A JP 28583693A JP H07120741 A JPH07120741 A JP H07120741A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶セル内に水分や酸素が侵入しにくくて透
明導電膜パターンの断線問題や気泡発生問題等を生じに
くい樹脂系の液晶セル用基板を得ること。 【構成】 ガラス転移温度が１３０℃以上の樹脂からな
る板層（１１）を少なくとも有してなり、酸素透過係数
が５cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下で、透湿度が３０ｇ／
ｍ2・24時間以下であり、かつ光透過率が８０％以上で、
厚さが０．３〜１mmである液晶セル用基板（１）。 【効果】 耐湿性、ガスバリア性、耐熱性、耐衝撃性、
軽量性に優れる基板が得られ、寿命や信頼性に優れる液
晶セルを形成でき、従来のガラス基板セルと同等の画質
を達成しつつ約６０％の軽量化を実現した大画面の液晶
表示装置を形成できる。
明導電膜パターンの断線問題や気泡発生問題等を生じに
くい樹脂系の液晶セル用基板を得ること。 【構成】 ガラス転移温度が１３０℃以上の樹脂からな
る板層（１１）を少なくとも有してなり、酸素透過係数
が５cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下で、透湿度が３０ｇ／
ｍ2・24時間以下であり、かつ光透過率が８０％以上で、
厚さが０．３〜１mmである液晶セル用基板（１）。 【効果】 耐湿性、ガスバリア性、耐熱性、耐衝撃性、
軽量性に優れる基板が得られ、寿命や信頼性に優れる液
晶セルを形成でき、従来のガラス基板セルと同等の画質
を達成しつつ約６０％の軽量化を実現した大画面の液晶
表示装置を形成できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、軽量性、低透湿性、ガ
スバリア性、耐熱性等に優れて寿命や信頼性等に優れる
液晶セルが得られる樹脂系の液晶セル用基板に関する。
スバリア性、耐熱性等に優れて寿命や信頼性等に優れる
液晶セルが得られる樹脂系の液晶セル用基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶セルの大画面化に際してこれまでの
ガラス基板では、その易割裂性が障害となってその実現
を困難としていることから樹脂基板が検討されている。
樹脂基板ではその軽量性が液晶セルの大画面化により有
利に作用する利点などもある。
ガラス基板では、その易割裂性が障害となってその実現
を困難としていることから樹脂基板が検討されている。
樹脂基板ではその軽量性が液晶セルの大画面化により有
利に作用する利点などもある。
【０００３】従来、樹脂からなる液晶セル用基板として
は、ガラス転移温度１３０℃以上、曲げ弾性率５０〜１
０００kgf／mm2、複屈折率３０nm以下、黄色度指数５mm
以下、比重１．５以下、荷重撓み試験における撓み量１
０mm以下、厚さ０．３〜０．７mmの樹脂板からなるもの
が知られていた（特開平５−１８６５３５号公報）。
は、ガラス転移温度１３０℃以上、曲げ弾性率５０〜１
０００kgf／mm2、複屈折率３０nm以下、黄色度指数５mm
以下、比重１．５以下、荷重撓み試験における撓み量１
０mm以下、厚さ０．３〜０．７mmの樹脂板からなるもの
が知られていた（特開平５−１８６５３５号公報）。
【０００４】しかしながら、かかる樹脂板からなる液晶
セル用基板に透明導電膜を設けて液晶セルを形成した場
合に、透明導電膜パターンに断線が生じて表示機能を喪
失する致命的な問題点のあることが判明した。
セル用基板に透明導電膜を設けて液晶セルを形成した場
合に、透明導電膜パターンに断線が生じて表示機能を喪
失する致命的な問題点のあることが判明した。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、前記の
問題点を克服するために鋭意研究を重ねるなかで液晶セ
ルにおける透明導電膜パターンの断線は、水分や酸素が
基板を透過してセル内に侵入し、それが原因で断線問題
の生じることを究明した。またその究明過程において本
発明者らはさらに、セル内に侵入した水分や酸素が気泡
を形成するまでに成長して外観不良を起こしたり、液晶
を変質させうることを見出した。かかる水分や酸素の侵
入問題は、液晶セルの大面積化により侵入量の増加を伴
うことより深刻な課題である。
問題点を克服するために鋭意研究を重ねるなかで液晶セ
ルにおける透明導電膜パターンの断線は、水分や酸素が
基板を透過してセル内に侵入し、それが原因で断線問題
の生じることを究明した。またその究明過程において本
発明者らはさらに、セル内に侵入した水分や酸素が気泡
を形成するまでに成長して外観不良を起こしたり、液晶
を変質させうることを見出した。かかる水分や酸素の侵
入問題は、液晶セルの大面積化により侵入量の増加を伴
うことより深刻な課題である。
【０００６】従って本発明は、セル内に水分や酸素が侵
入しにくくて透明導電膜パターンの断線問題や気泡発生
問題等を生じにくい樹脂系の液晶セル用基板の開発を課
題とする。
入しにくくて透明導電膜パターンの断線問題や気泡発生
問題等を生じにくい樹脂系の液晶セル用基板の開発を課
題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、ガラス転移温
度が１３０℃以上の樹脂からなる板層を少なくとも有し
てなり、酸素透過係数が５cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下
で、透湿度が３０ｇ／ｍ2・24時間以下であり、かつ光透
過率が８０％以上で、厚さが０．３〜１mmであることを
特徴とする液晶セル用基板を提供するものである。
度が１３０℃以上の樹脂からなる板層を少なくとも有し
てなり、酸素透過係数が５cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下
で、透湿度が３０ｇ／ｍ2・24時間以下であり、かつ光透
過率が８０％以上で、厚さが０．３〜１mmであることを
特徴とする液晶セル用基板を提供するものである。
【０００８】
【作用】上記の構成により、水分や酸素が侵入しにくく
て透明導電膜パターンの断線問題や気泡発生問題等を生
じにくい、大画面化に有利な樹脂系の液晶セル用基板と
することができる。
て透明導電膜パターンの断線問題や気泡発生問題等を生
じにくい、大画面化に有利な樹脂系の液晶セル用基板と
することができる。
【０００９】
【実施例】本発明の液晶セル用基板は、ガラス転移温度
が１３０℃以上の樹脂からなる板層を少なくとも有して
なり、酸素透過係数が５cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下
で、透湿度が３０ｇ／ｍ2・24時間以下であり、かつ光透
過率が８０％以上で、厚さが０．３〜１mmのものであ
る。
が１３０℃以上の樹脂からなる板層を少なくとも有して
なり、酸素透過係数が５cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下
で、透湿度が３０ｇ／ｍ2・24時間以下であり、かつ光透
過率が８０％以上で、厚さが０．３〜１mmのものであ
る。
【００１０】従って本発明の液晶セル用基板は、前記し
た樹脂板の単層物やその積層物、あるいはそれをベース
層とする種々の機能層との重畳物などからなる複層物と
して形成される。
た樹脂板の単層物やその積層物、あるいはそれをベース
層とする種々の機能層との重畳物などからなる複層物と
して形成される。
【００１１】前記の板層を形成する樹脂としては、１３
０℃以上のガラス転移温度を有する種々のものを用いう
る。ガラス転移温度が１３０℃未満の樹脂では、基板に
ＩＴＯ蒸着膜等からなる透明導電膜を設ける際に耐熱性
に乏しくて変形する場合がある。
０℃以上のガラス転移温度を有する種々のものを用いう
る。ガラス転移温度が１３０℃未満の樹脂では、基板に
ＩＴＯ蒸着膜等からなる透明導電膜を設ける際に耐熱性
に乏しくて変形する場合がある。
【００１２】好ましく用いうる樹脂は、１５０℃以上の
ガラス転移温度を有し、耐薬品性、表面硬度、透明性、
光学的等方性、低吸水性、低透湿性、ガスバリア性、特
に低酸素透過性に優れるものである。その例としては、
エポキシ系樹脂、ポリジアリルフタレート、不飽和ポリ
エステル、ポリイソボニルメタクリレートなどの熱硬化
性樹脂や、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポ
リエーテルイミド、ポリカーボネート、ポリスルホン、
ポリアミドなどの熱可塑性樹脂があげられる。
ガラス転移温度を有し、耐薬品性、表面硬度、透明性、
光学的等方性、低吸水性、低透湿性、ガスバリア性、特
に低酸素透過性に優れるものである。その例としては、
エポキシ系樹脂、ポリジアリルフタレート、不飽和ポリ
エステル、ポリイソボニルメタクリレートなどの熱硬化
性樹脂や、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポ
リエーテルイミド、ポリカーボネート、ポリスルホン、
ポリアミドなどの熱可塑性樹脂があげられる。
【００１３】前記において、耐熱性やガスバリア性、低
透湿性等の点より熱硬化性樹脂としてはエポキシ系樹脂
が好ましく用いられ、特に脂環式エポキシ系樹脂やトリ
グリシジルイソシアヌレートを単独で、あるいは混合し
て用いたものが好ましい。その硬化剤については、例え
ば酸無水物系のものが無色透明性に優れる硬化物が得ら
れやすい利点などを有するが特に限定はない。
透湿性等の点より熱硬化性樹脂としてはエポキシ系樹脂
が好ましく用いられ、特に脂環式エポキシ系樹脂やトリ
グリシジルイソシアヌレートを単独で、あるいは混合し
て用いたものが好ましい。その硬化剤については、例え
ば酸無水物系のものが無色透明性に優れる硬化物が得ら
れやすい利点などを有するが特に限定はない。
【００１４】熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂は、１種又は
２種以上を用いることができ、１３０℃以上のガラス転
移温度が維持される範囲で他成分との共重合体や混合物
などとして用いることもできる。なおポリイミド系樹脂
やスチレン系樹脂、ビニルピロリドン系樹脂は、水分や
ガスを透過させやすいのでそれらを単独で用いることは
好ましくない。
２種以上を用いることができ、１３０℃以上のガラス転
移温度が維持される範囲で他成分との共重合体や混合物
などとして用いることもできる。なおポリイミド系樹脂
やスチレン系樹脂、ビニルピロリドン系樹脂は、水分や
ガスを透過させやすいのでそれらを単独で用いることは
好ましくない。
【００１５】ちなみに、熱硬化性樹脂に共重合させうる
ものとしては、例えばメタクリル酸メチル、メタクリル
酸エチル、スチレン、ジビニルベンゼンの如きビニル系
モノマーなどがあげられる。
ものとしては、例えばメタクリル酸メチル、メタクリル
酸エチル、スチレン、ジビニルベンゼンの如きビニル系
モノマーなどがあげられる。
【００１６】また前記の熱可塑性樹脂に混合しうるも
の、あるいは共重合させうるものとしては、例えばポリ
メタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリス
チレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビ
ニルアルコールの如きビニル系樹脂、ポリエチレン、ポ
リプロピレンの如きオレフィン系樹脂、トリアセチルセ
ルロース、ジアセチルセルロースの如きセルロース系樹
脂、あるいはそれらの樹脂を形成するモノマーなどがあ
げられる。ちなみにポリアリレートとポリカーボネー
ト、あるいは更にポリエステル系樹脂を加えたアロイ化
物は、耐熱性、耐薬品性、成形性などに優れる。
の、あるいは共重合させうるものとしては、例えばポリ
メタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリス
チレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビ
ニルアルコールの如きビニル系樹脂、ポリエチレン、ポ
リプロピレンの如きオレフィン系樹脂、トリアセチルセ
ルロース、ジアセチルセルロースの如きセルロース系樹
脂、あるいはそれらの樹脂を形成するモノマーなどがあ
げられる。ちなみにポリアリレートとポリカーボネー
ト、あるいは更にポリエステル系樹脂を加えたアロイ化
物は、耐熱性、耐薬品性、成形性などに優れる。
【００１７】液晶セル用基板に用いる樹脂板の形成は、
例えば注型成形方式、トランスファ成形方式、流延成形
方式、射出成形方式、ロール塗工成形方式、押出成形方
式、キャスティング成形方式、反応射出成形方式（ＲＩ
Ｍ）などの適宜な方式で行うことができる。樹脂板の形
成に際しては、必要に応じて例えば染料、変性剤、変色
防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、離型剤などの適宜
な添加剤を配合することができる。
例えば注型成形方式、トランスファ成形方式、流延成形
方式、射出成形方式、ロール塗工成形方式、押出成形方
式、キャスティング成形方式、反応射出成形方式（ＲＩ
Ｍ）などの適宜な方式で行うことができる。樹脂板の形
成に際しては、必要に応じて例えば染料、変性剤、変色
防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、離型剤などの適宜
な添加剤を配合することができる。
【００１８】形成する樹脂板の厚さは、ガスバリア性や
低透湿性、剛直性や薄型軽量性等の点より０．３〜１mm
である。かかる範囲であれば、液晶層に高度なギャップ
精度が要求されるＳＴＮ液晶セルの場合の基板の剛直性
も満足させうる。なお樹脂板のかかる厚さは、上記した
如く同種又は異種の樹脂からなる２層又は３層以上の積
層物として達成されていてもよい。
低透湿性、剛直性や薄型軽量性等の点より０．３〜１mm
である。かかる範囲であれば、液晶層に高度なギャップ
精度が要求されるＳＴＮ液晶セルの場合の基板の剛直性
も満足させうる。なお樹脂板のかかる厚さは、上記した
如く同種又は異種の樹脂からなる２層又は３層以上の積
層物として達成されていてもよい。
【００１９】本発明において好ましく用いうる樹脂板
は、酸素透過係数が３０cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下、
好ましくは１５cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下、特に５cc・
mm／ｍ2・24時間・atm以下であり、透湿度が３０ｇ／ｍ2・
24時間以下、好ましくは２０ｇ／ｍ2・24時間以下であ
り、かつ光透過率が８０％以上のものである。
は、酸素透過係数が３０cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下、
好ましくは１５cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下、特に５cc・
mm／ｍ2・24時間・atm以下であり、透湿度が３０ｇ／ｍ2・
24時間以下、好ましくは２０ｇ／ｍ2・24時間以下であ
り、かつ光透過率が８０％以上のものである。
【００２０】樹脂板には、例えば表面硬度の向上等を目
的とするシリコーン系硬化樹脂等からなるハードコート
層や、透明導電膜の密着性の向上等を目的とするプライ
マー層などの適宜な機能層を設けることができる。
的とするシリコーン系硬化樹脂等からなるハードコート
層や、透明導電膜の密着性の向上等を目的とするプライ
マー層などの適宜な機能層を設けることができる。
【００２１】樹脂板が本発明の液晶セル用基板における
酸素透過係数を満足しない場合やガスバリア性のより向
上をはかる場合には、ガスバリア層が設けられる。ガス
バリア層を設ける位置は、樹脂板の片側表面が一般的で
あるが、表裏面に設けてもよく、また積層物からなる樹
脂板の場合には中間に設けてもよい。また適宜な位置に
２層以上のガスバリア層を設けることもできる。図１に
ガスバリア層を有する液晶セル用基板を例示した。１１
が樹脂板、１２がガスバリア層である。なお２は、液晶
セル用基板１に設けられた透明導電膜である。
酸素透過係数を満足しない場合やガスバリア性のより向
上をはかる場合には、ガスバリア層が設けられる。ガス
バリア層を設ける位置は、樹脂板の片側表面が一般的で
あるが、表裏面に設けてもよく、また積層物からなる樹
脂板の場合には中間に設けてもよい。また適宜な位置に
２層以上のガスバリア層を設けることもできる。図１に
ガスバリア層を有する液晶セル用基板を例示した。１１
が樹脂板、１２がガスバリア層である。なお２は、液晶
セル用基板１に設けられた透明導電膜である。
【００２２】ガスバリア層は、例えばポリマーの塗工膜
等からなる有機物層や、シリカ等の無機蒸着層などとし
て形成することができる。形成効率等の点より好ましく
用いうるものは塗工膜として付与できるポリマーであ
る。そのポリマーとしては、例えばポリビニルアルコー
ル、その部分けん化物、エチレンビニルアルコール共重
合体、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニリデンなど
の酸素透過係数が小さいもの、就中、酸素透過係数が
０．５cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下のもの、特に０．０
１cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下のものである。なお塗工
膜の形成は、例えばキャスティング方式やスピンコート
方式などの適宜な方式で行うことができる。
等からなる有機物層や、シリカ等の無機蒸着層などとし
て形成することができる。形成効率等の点より好ましく
用いうるものは塗工膜として付与できるポリマーであ
る。そのポリマーとしては、例えばポリビニルアルコー
ル、その部分けん化物、エチレンビニルアルコール共重
合体、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニリデンなど
の酸素透過係数が小さいもの、就中、酸素透過係数が
０．５cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下のもの、特に０．０
１cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下のものである。なお塗工
膜の形成は、例えばキャスティング方式やスピンコート
方式などの適宜な方式で行うことができる。
【００２３】形成するガスバリア層の厚さは、有機物層
の場合１０μm以下、就中５μm以下、無機物層の場合１
μm以下とすることが好ましい。厚いガスバリア層は、
黄色着色や透明導電膜の密着力低下の原因となりやす
い。
の場合１０μm以下、就中５μm以下、無機物層の場合１
μm以下とすることが好ましい。厚いガスバリア層は、
黄色着色や透明導電膜の密着力低下の原因となりやす
い。
【００２４】上記した酸素透過係数が３０cc・mm／ｍ2・2
4時間・atm以下、就中２０〜３０cc・mm／ｍ2・24時間・atm
程度の樹脂板に、酸素透過係数が０．５cc・mm／ｍ2・24
時間・atm以下である前記極薄の１層のガスバリア層を付
加することで、酸素透過係数が２cc・mm／ｍ2・24時間・at
m以下で、厚さが０．３〜１mmの液晶セル用基板を容易
に得ることができる。なお液晶セル用基板の好ましい酸
素透過係数は、０．４cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下であ
る。
4時間・atm以下、就中２０〜３０cc・mm／ｍ2・24時間・atm
程度の樹脂板に、酸素透過係数が０．５cc・mm／ｍ2・24
時間・atm以下である前記極薄の１層のガスバリア層を付
加することで、酸素透過係数が２cc・mm／ｍ2・24時間・at
m以下で、厚さが０．３〜１mmの液晶セル用基板を容易
に得ることができる。なお液晶セル用基板の好ましい酸
素透過係数は、０．４cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下であ
る。
【００２５】液晶セルの形成は、例えば液晶セル用基板
に透明導電膜パターンを形成して対向配置し、その液晶
セル用基板間に液晶を封入する方法などにより行うこと
ができる。その透明導電膜ないしパターンの形成は、例
えば酸化スズ、酸化インジウム、金、白金、パラジウム
の如き透明導電膜形成材をスパッタリング法等により蒸
着する方式や透明導電塗料を塗布する方式などの従来に
準じた方式で行うことができる。透明導電膜上に必要に
応じて設けられる液晶配列用の配向膜も同様に従来に準
じた方式で行うことができる。
に透明導電膜パターンを形成して対向配置し、その液晶
セル用基板間に液晶を封入する方法などにより行うこと
ができる。その透明導電膜ないしパターンの形成は、例
えば酸化スズ、酸化インジウム、金、白金、パラジウム
の如き透明導電膜形成材をスパッタリング法等により蒸
着する方式や透明導電塗料を塗布する方式などの従来に
準じた方式で行うことができる。透明導電膜上に必要に
応じて設けられる液晶配列用の配向膜も同様に従来に準
じた方式で行うことができる。
【００２６】本発明の液晶セル用基板は、必要に応じて
偏光板や位相差板などの液晶表示装置を形成する他の素
材と積層した状態で液晶セルの形成に供することができ
る。形成する液晶セルは、例えばＴＮ型、ＳＴＮ型、Ｔ
ＦＴ型、強誘電性液晶セル型など任意であり、ＳＴＮ型
等にも有利に用いることができる。
偏光板や位相差板などの液晶表示装置を形成する他の素
材と積層した状態で液晶セルの形成に供することができ
る。形成する液晶セルは、例えばＴＮ型、ＳＴＮ型、Ｔ
ＦＴ型、強誘電性液晶セル型など任意であり、ＳＴＮ型
等にも有利に用いることができる。
【００２７】実施例１ 前記の化学式で表される脂環式エポキシの樹脂１００部
（重量部、以下同じ）とメチルヘキサヒドロ無水フタル
酸１２４部とトリ−ｎ−ブチルオクチルホスホニウムブ
ロマイド１部からなる混合物を型に注入し、１００℃で
２時間、ついで１７０℃で１６時間硬化処理して厚さ
０．４mmの樹脂板を得た。
（重量部、以下同じ）とメチルヘキサヒドロ無水フタル
酸１２４部とトリ−ｎ−ブチルオクチルホスホニウムブ
ロマイド１部からなる混合物を型に注入し、１００℃で
２時間、ついで１７０℃で１６時間硬化処理して厚さ
０．４mmの樹脂板を得た。
【００２８】実施例２ 上記した化学式の脂環式エポキシの樹脂５０部とトリグ
リシジルイソシアヌレート５０部とメチルヘキサヒドロ
無水フタル酸１２５部とトリ−ｎ−ブチルオクチルホス
ホニウムブロマイド１部からなる混合物を用いて実施例
１に準じ樹脂板を得た。
リシジルイソシアヌレート５０部とメチルヘキサヒドロ
無水フタル酸１２５部とトリ−ｎ−ブチルオクチルホス
ホニウムブロマイド１部からなる混合物を用いて実施例
１に準じ樹脂板を得た。
【００２９】実施例３ 実施例１で得た樹脂板の片面に１０重量％ポリビニルア
ルコール（ＰＶＡ）水溶液を塗布し乾燥させて厚さ５μ
mのＰＶＡ層を設けて液晶セル用基板を得た。
ルコール（ＰＶＡ）水溶液を塗布し乾燥させて厚さ５μ
mのＰＶＡ層を設けて液晶セル用基板を得た。
【００３０】実施例４ 実施例２で得た樹脂板を用いたほかは実施例３に準じ液
晶セル用基板を得た。
晶セル用基板を得た。
【００３１】比較例１ ２，２−ビス（４−（４−マレイミドフェノキシ）フェ
ニル）プロパン６０部、スチレン４０部、アゾビスイソ
ブチロニトリル１部及びジ−ｔ-ブチルパーオキシド２
部からなる溶融混合物を型に注入し、８０℃で２時間、
ついで１５０℃で５時間硬化処理して厚さ０．４mmの樹
脂板を得た。
ニル）プロパン６０部、スチレン４０部、アゾビスイソ
ブチロニトリル１部及びジ−ｔ-ブチルパーオキシド２
部からなる溶融混合物を型に注入し、８０℃で２時間、
ついで１５０℃で５時間硬化処理して厚さ０．４mmの樹
脂板を得た。
【００３２】比較例２ 比較例１で得た樹脂板を用いたほかは実施例３に準じ液
晶セル用基板を得た。
晶セル用基板を得た。
【００３３】評価試験 透湿度、酸素透過係数、ガラス転移温度、光透過率 実施例、比較例で得た樹脂板及び液晶セル用基板につい
て透湿度、酸素透過係数、ガラス転移温度、光透過率を
調べた。なお測定はそれぞれ、透湿度についてはＪＩＳ
Ｚ ０２０８に基づくカップ法により、酸素透過係数
についてはＡＳＴＭ Ｄ−３９８５に基づくオキシトラ
ン法により、ガラス転移温度についてはＴＭＡ（昇温速
度２℃／分、引張モード）により、光透過率については
分光光度計（波長６００nm）により行った。
て透湿度、酸素透過係数、ガラス転移温度、光透過率を
調べた。なお測定はそれぞれ、透湿度についてはＪＩＳ
Ｚ ０２０８に基づくカップ法により、酸素透過係数
についてはＡＳＴＭ Ｄ−３９８５に基づくオキシトラ
ン法により、ガラス転移温度についてはＴＭＡ（昇温速
度２℃／分、引張モード）により、光透過率については
分光光度計（波長６００nm）により行った。
【００３４】耐湿・ガスバリア性 従来のガラス基板からなる液晶表示セルの形成方法に準
じて、実施例、比較例で得た樹脂板及び液晶セル用基板
に蒸着方式でＩＴＯ透明導電膜を形成し、これを電極基
板として液晶を封入し液晶表示セルを形成した。前記に
おいては、いずれの場合にもＩＴＯ蒸着時に板に変形は
生じず従来のガラス系セルと同等の画質を示すものが得
られた。
じて、実施例、比較例で得た樹脂板及び液晶セル用基板
に蒸着方式でＩＴＯ透明導電膜を形成し、これを電極基
板として液晶を封入し液晶表示セルを形成した。前記に
おいては、いずれの場合にもＩＴＯ蒸着時に板に変形は
生じず従来のガラス系セルと同等の画質を示すものが得
られた。
【００３５】次に前記の液晶表示セルを４０℃、９５％
ＲＨの雰囲気に３００時間、又は１０００時間放置し、
それを取りだしてセル内に酸素又は水分の侵入による気
泡の発生が有るか無いか、及びＩＴＯ透明導電膜パター
ンの断線（表示素子の破損）が有るか無いかを調べた。
ＲＨの雰囲気に３００時間、又は１０００時間放置し、
それを取りだしてセル内に酸素又は水分の侵入による気
泡の発生が有るか無いか、及びＩＴＯ透明導電膜パター
ンの断線（表示素子の破損）が有るか無いかを調べた。
【００３６】前記の結果を表１に示した。
【表１】
【００３７】表１より、比較例１の如く透湿度及びガス
バリア性、就中、酸素透過率の高い基板ではセル内に水
分や酸素が侵入しやすくて寿命や信頼性に劣り、例え比
較例２の如くガスバリア層を設けても長時間の安定性に
は劣ることがわかる。一方、実施例の如く透湿度の低さ
及びガスバリア性、就中、酸素透過率の低さに優れる樹
脂板（実施例１，２）を用いてそれにガスバリア層を設
けることにより透湿度の低さ及びガスバリア性、就中、
酸素透過率の低さに高度に優れる液晶セル用基板（実施
例３，４）が得られて、寿命や信頼性に優れる液晶セル
が得られることがわかる。なお実施例１及び２では３０
０時間の経過時点において、実施例３及び４では１００
０時間の経過時点においてもその液晶セルは、初期の良
質な画質を保持するものであった。
バリア性、就中、酸素透過率の高い基板ではセル内に水
分や酸素が侵入しやすくて寿命や信頼性に劣り、例え比
較例２の如くガスバリア層を設けても長時間の安定性に
は劣ることがわかる。一方、実施例の如く透湿度の低さ
及びガスバリア性、就中、酸素透過率の低さに優れる樹
脂板（実施例１，２）を用いてそれにガスバリア層を設
けることにより透湿度の低さ及びガスバリア性、就中、
酸素透過率の低さに高度に優れる液晶セル用基板（実施
例３，４）が得られて、寿命や信頼性に優れる液晶セル
が得られることがわかる。なお実施例１及び２では３０
０時間の経過時点において、実施例３及び４では１００
０時間の経過時点においてもその液晶セルは、初期の良
質な画質を保持するものであった。
【００３８】
【発明の効果】本発明によれば、耐湿性、ガスバリア
性、耐熱性、耐衝撃性、軽量性に優れる基板を得ること
ができ、寿命や信頼性に優れる液晶セルを形成すること
ができる。その結果、従来のガラス基板セルと同等の画
質を達成しつつ約６０％の軽量化を実現した大画面の液
晶表示装置を形成することが可能になる。
性、耐熱性、耐衝撃性、軽量性に優れる基板を得ること
ができ、寿命や信頼性に優れる液晶セルを形成すること
ができる。その結果、従来のガラス基板セルと同等の画
質を達成しつつ約６０％の軽量化を実現した大画面の液
晶表示装置を形成することが可能になる。
【図１】液晶セル用基板を例示した断面図。
１：液晶セル用基板 １１：樹脂板 １２：ガスバリア層 ２：透明導電膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 梅原 俊志 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内 (72)発明者 河本 紀雄 大阪府茨木市下穂積１丁目１番２号 日東 電工株式会社内
Claims (4)
- 【請求項１】 ガラス転移温度が１３０℃以上の樹脂か
らなる板層を少なくとも有してなり、酸素透過係数が５
cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下で、透湿度が３０ｇ／ｍ2・2
4時間以下であり、かつ光透過率が８０％以上で、厚さ
が０．３〜１mmであることを特徴とする液晶セル用基
板。 - 【請求項２】 ガスバリア層を有して酸素透過係数が２
cc・mm／ｍ2・24時間・atm以下である請求項１に記載の液
晶セル用基板。 - 【請求項３】 ガスバリア層が厚さ１０μm以下であ
り、かつ酸素透過係数が０．５cc・mm／ｍ2・24時間・atm
以下の有機物層からなる請求項２に記載の液晶セル用基
板。 - 【請求項４】 ガラス転移温度が１３０℃以上の樹脂か
らなり、酸素透過係数が３０cc・mm／ｍ2・24時間・atm以
下で、透湿度が３０ｇ／ｍ2・24時間以下であり、かつ光
透過率が８０％以上で、厚さが０．３〜１mmであること
を特徴とする液晶セル基板用の樹脂板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28583693A JP3197716B2 (ja) | 1993-10-20 | 1993-10-20 | 液晶セル用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28583693A JP3197716B2 (ja) | 1993-10-20 | 1993-10-20 | 液晶セル用基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07120741A true JPH07120741A (ja) | 1995-05-12 |
| JP3197716B2 JP3197716B2 (ja) | 2001-08-13 |
Family
ID=17696715
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28583693A Expired - Fee Related JP3197716B2 (ja) | 1993-10-20 | 1993-10-20 | 液晶セル用基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3197716B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1054979A (ja) * | 1996-08-12 | 1998-02-24 | Nitto Denko Corp | 液晶表示素子用基板 |
| KR20200019350A (ko) * | 2018-08-14 | 2020-02-24 | 주식회사 엘지화학 | 광학 디바이스 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004277708A (ja) * | 2003-02-28 | 2004-10-07 | Nitto Denko Corp | 樹脂シート、それを用いた液晶セル基板 |
Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59198427A (ja) * | 1983-04-26 | 1984-11-10 | Seiko Epson Corp | 液晶表示体 |
| JPS60260019A (ja) * | 1984-06-06 | 1985-12-23 | Sharp Corp | 液晶表示素子 |
| JPS6118925A (ja) * | 1984-07-06 | 1986-01-27 | Seiko Epson Corp | 表示装置 |
| JPS6120928A (ja) * | 1984-07-10 | 1986-01-29 | Seiko Epson Corp | 表示装置 |
| JPS6450021A (en) * | 1987-08-20 | 1989-02-27 | Fujimori Kogyo Co | Electrode substrate for liquid crystal display panel and its production |
| JPS6488425A (en) * | 1987-09-29 | 1989-04-03 | Fujimori Kogyo Co | Photoisotropic laminated body |
| JPH04199025A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-20 | Ricoh Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JPH04299109A (ja) * | 1991-03-28 | 1992-10-22 | Fujimori Kogyo Kk | 光学用積層体 |
| JPH05186535A (ja) * | 1991-06-18 | 1993-07-27 | Toray Ind Inc | 光学用板状物 |
-
1993
- 1993-10-20 JP JP28583693A patent/JP3197716B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59198427A (ja) * | 1983-04-26 | 1984-11-10 | Seiko Epson Corp | 液晶表示体 |
| JPS60260019A (ja) * | 1984-06-06 | 1985-12-23 | Sharp Corp | 液晶表示素子 |
| JPS6118925A (ja) * | 1984-07-06 | 1986-01-27 | Seiko Epson Corp | 表示装置 |
| JPS6120928A (ja) * | 1984-07-10 | 1986-01-29 | Seiko Epson Corp | 表示装置 |
| JPS6450021A (en) * | 1987-08-20 | 1989-02-27 | Fujimori Kogyo Co | Electrode substrate for liquid crystal display panel and its production |
| JPS6488425A (en) * | 1987-09-29 | 1989-04-03 | Fujimori Kogyo Co | Photoisotropic laminated body |
| JPH04199025A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-20 | Ricoh Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JPH04299109A (ja) * | 1991-03-28 | 1992-10-22 | Fujimori Kogyo Kk | 光学用積層体 |
| JPH05186535A (ja) * | 1991-06-18 | 1993-07-27 | Toray Ind Inc | 光学用板状物 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1054979A (ja) * | 1996-08-12 | 1998-02-24 | Nitto Denko Corp | 液晶表示素子用基板 |
| KR20200019350A (ko) * | 2018-08-14 | 2020-02-24 | 주식회사 엘지화학 | 광학 디바이스 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3197716B2 (ja) | 2001-08-13 |
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