JPH07114360B2 - 半導体集積回路装置 - Google Patents

半導体集積回路装置

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JPH07114360B2
JPH07114360B2 JP62257123A JP25712387A JPH07114360B2 JP H07114360 B2 JPH07114360 B2 JP H07114360B2 JP 62257123 A JP62257123 A JP 62257123A JP 25712387 A JP25712387 A JP 25712387A JP H07114360 B2 JPH07114360 B2 JP H07114360B2
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    • H03K19/094Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices using field-effect transistors
    • H03K19/0944Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices using field-effect transistors using MOSFET or insulated gate field-effect transistors, i.e. IGFET
    • H03K19/09448Logic circuits, i.e. having at least two inputs acting on one output; Inverting circuits using specified components using semiconductor devices using field-effect transistors using MOSFET or insulated gate field-effect transistors, i.e. IGFET in combination with bipolar transistors [BIMOS]

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体集積回路装置に関するもので、例え
ば、光通信システムに含まれるCMI(Coded Mark Invers
ion)コーデック(CODEC:Coder・Decoder)等に利用し
て有効な技術に関するものである。
〔従来の技術〕
例えば0.8V程度の比較的小さな振幅とされるECL(Emitt
er Coupled Logic)レベルの入力信号を受け、例えば5.
2V程度の比較的大きな振幅とされるCMOS(相補型MOS)
レベルの内部信号を形成するECL入力回路がある。このE
CL入力回路は、例えば第6図に示されるように、参照電
位VRを受け入力信号VEのレベルを比較判定するレベル判
定回路LCと、上記レベル判定回路LCの出力信号を受けCM
OSレベルの内部信号を形成するレベル変換回路LSと、上
記レベル変換回路LSの出力信号を各回路に分配供給する
信号分配回路SDとを含む。
一方、伝送路に光ファイバを用いた光通信システムがあ
る。この光通信システムにおいて、通信データの符号形
式をCMI符号からNRZ(Non Return to Zero)符号に又は
NRZ符号からCMI符号に変換するCMIコーデックがある。C
MIコーデックは、符号変換処理は行うストアドプログラ
ム方式のディジタル信号処理プロセッサを含む。比較的
高いレートで伝送される通信データは、CMIコーデック
に対してECLレベルで入出力される。また、CMIコーデッ
クに内蔵されるディジタル信号処理プロセッサは、MOS
レベルで通信データを処理する。このため、CMIコーデ
ックには、上記のようなECL入力回路と、MOSレベルの出
力信号をECLレベルに変換するECL出力回路とが必要とさ
れる。
ECL入力回路については、例えば、1982年2月12日発
行、『アイ・エス・エス・シー・シー(ISSCC:Internat
ional Solid・S−tate Circuits Conference)セッシ
ョン(SE−SSION)XVIII予稿集』第248頁〜第249頁に記
載されている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
上記に記載されるECL入力回路は、次のような問題点を
持つ。すなわち、上記ECL入力回路は、ECLレベルの入力
信号をCMOSレベルの内部信号に変換するだけであるにも
かかわらず、前述のように、レベル判定回路とレベル変
換回路及び信号分配回路による3段構成とされる。ま
た、これらの回路は、負荷駆動能力が比較的小さなMOSF
ETによって構成される。このため、入力信号の伝達遅延
時間が大きくなり、ECL入力回路を含むCMIコーデック等
の動作の高速化が制限されるとともに、回路素子数が多
く、チップの小型化が制限されるものである。
この発明の目的は、回路の簡素化と動作の高速化を図っ
たECL入力回路を提供することにある。この発明の他の
目的は、ECL入力回路を含むCMIコーデック等の動作の高
速化を推進し、チップの小型化を図ることにある。
この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述及び添付図面から明らかになるであろ
う。
〔問題点を解決するための手段〕
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。すなわち、EC
L入力回路を、所定の参照電位に従って入力信号のレベ
ルを比較判定する電流スイッチ回路と、上記入力信号を
受けるレベルシフト回路と、出力ノードと第1の電源電
圧との間に設けられそのゲートに上記電流スイッチ回路
の出力信号を受けるPチャンネルMOSFETと、上記出力ノ
ードと第2の電源電圧との間に設けられそのゲートに上
記レベルシフト回路の出力信号を受けるNチャンネルMO
SFETとにより構成するものである。
〔作用〕
上記した手段によれば、回路の簡素化と動作の高速化を
図った1段構成のECL入力回路を実現できるため、ECL入
力回路を含むCMIコーデック等の動作を高速化し、チッ
プの小型化を図ることができる。
〔実施例1〕 第1図には、この発明が適用されたECL入力回路の第1
の実施例の回路図が示されている。同図の各回路素子
は、CMIコーデックの図示されない他の各部を構成する
回路素子とともに、1個の半導体基板上において形成さ
れる。以下の図において、チャンネル(バックゲート)
部に矢印が付加されるMOSFETはPチャンネル型であり、
矢印の付加されないNチャンネルMOSFETと区別して表示
される。また、図示されるバイポーラトランジスタは、
すべてNPN型トランジスタである。
以下の実施例において、ECL入力回路は、特に制限され
ないが、光通信システムのCMIコーデックに内蔵され
る。ECL入力回路には、動作電源として、例えば0Vすな
わち接地電位とされる電源電圧VDD(第1の電源電圧)
と例えば−5.2Vのような負の電圧とされる電源電圧VSS
(第2の電源電圧)が供給される。ECL入力回路には、
さらに図示されない前段回路から、入力信号VEが供給さ
れる。入力信号はVEは、ECLレベルの信号とされ、その
ハイレベルVEHは例えば−0.9Vとされ,またそのロウレ
ベルVELは例えば−1.7Vとされる。言うまでもなく、入
力信号VEの振幅は0.8Vとされ、そのレベル変化の中心値
VECは−1.3Vとされる。
第1図において、入力信号VEは、特に制限されないが、
マルチエミッタ型のバイポーラトランジスタT1(第1及
び第2のバイポーラトランジスタ又は第4のバイポーラ
トランジスタ)のベースに供給される。トランジスタT1
のコレクタは、電源電圧VDDに結合される。トランジス
タT1の第1のエミッタは、トランジスタT1と差動形態と
されるトランジスタT2(第2のバイポーラトランジス
タ)のエミッタに共通結合され、さらに定電流源IS2を
介して電源電圧VSSに結合される。トランジスタT2のコ
レクタは、負荷抵抗R1を介して電源電圧VDDに結合さ
れ、さらにPチャンネルMOSFETQP1(第1のMOSFET)の
ゲートに結合される。トランジスタT2のベースには、参
照電位VRが供給される。参照電位VRは、上記入力信号VE
のレベル変化の中心値VCEすなわち−1.3Vのような所定
の電圧とされる。トランジスタT2は、上記トランジスタ
T1とともに、入力信号VEに対するレベル判定用の電流ス
イッチ回路を構成する。
一方、トランジスタT1の第2のエミッタは、ダイオード
D1を介してNチャンネルMOSFETQN1(第2のMOSFET)の
ゲートに結合され、さらに定電流源ISIを介して電源電
圧VSSに結合される。トランジスタT1の第2のエミッタ
と上記ダイオードD1及び定電流源IS1は、MOSFETQN1に対
するレベルシフト回路を構成する。
MOSFETQP1のソースは回路の電源電圧VDDに結合され、そ
のドレインはECL入力回路の出力ノードに結合される。
この出力ノードと回路の接地電位との間には、上記MOSF
ETQN1が設けられる。出力ノードの電圧は、ECL入力回路
の反転出力信号▲▼とされる。
第2図には、第1図のECL入力回路の動作特性図が示さ
れている。この動作特性図と第1図の回路図に従って、
この実施例のECL入力回路の動作の概要を説明する。
第2図において、動作特性図の横軸は入力信号VEを示
し、縦軸はPチャンネルMOSFETQP1及びNチャンネルMOS
FETQN1のゲート電位VP1及びVN1を示す。入力信号VEは、
前述のように、例えば−0.9VとされるECLレベルのハイ
レベルVEHと、例えば−1.7VとされるECLレベルのロウレ
ベルVELの2点間を遷移する。
入力信号VEが、ECLレベルのハイレベルVEHすなわち−0.
9Vとされるとき、トランジスタT1のベース電位は、参照
電位VRよりも高くなる。その結果、トランジスタT1がオ
ン状態となり、トランジスタT2はカットオフ状態とな
る。したがって、トランジスタT2のコレクタ電位すなわ
ちMOSFETQP1のゲート電位VP1は、電源電圧VDDのような
ハイレベルとされる。同様に、入力信号VEが、ECLレベ
ルのロウレベルVELすなわち−1.7Vとされるとき、トラ
ンジスタT1のベース電位は、参照電位VRよりも低くな
る。その結果、トランジスタT1はカットオフ状態とな
り、代わってトランジスタT2がオン状態となる。したが
って、トランジスタT2のコレクタ電位すなわちMOSFETQP
1のゲート電位VP1は、定電流源IS2の電流値をI2とする
とき、 VP1=VDD−I2×R1 のようなロウレベルとなる。このコレクタ電位VP1は、
トランジスタT2を飽和領域とせず、かつ電源電圧VDDと
の差がMOSFETQP1のしきい値電圧VTHPのほぼ2倍となる
ように、電流スイッチ回路の各回路定数が設計される。
これにより、上記コレクタ電位VP1のレベル変化の中心
値は、MOSFETQP1のしきい値電圧VTHPと一致するものと
なる。
ところで、入力信号VEが、上記ECLレベルのハイレベルV
EHとされるとき、MOSFETQN1のゲート電位すなわちVN1
は、定電流源IS1の電流値をI1、トランジスタT1のベー
ス・エミッタ電圧をVBE1、ダイオードD1の順方向電圧を
VDF1とするとき、 VN1=VEH−(VBE1+VDF1) =−0.9−VS ……(1) となる。ここで、上記(1)式のVSは、このレベルシフ
ト回路のシフト量であり、 VS=VBE1+VDF1 である。同様に、入力信号VEが、上記ECLレベルのロウ
レベルVELとされるとき、MOSFETQN1のゲート電位VN1
は、 VN1=VEL−(VBE1+VDF1) =−1.7−VS ……(2) となる。この実施例において、MOSFETQN1のゲート電位V
N1の中心値すなわち上記(1)式及び(2)式の平均値
は、電源電圧VSSにMOSFETQN1のしきい値電圧VTHNを加え
た値と一致するように、つまり、 VSS+VTHN=VEC−VS −5.2+VTNH=−1.3−VS となるように、レベルシフト回路の各回路定数が設計さ
れる。
これらのことから、入力信号VEがECLレベルのハイレベ
ルVEHになると、PチャンネルMOSFETQP1は、そのゲート
電位VP1が電源電圧VDDのようなハイレベルとなること
で、オフ状態となる。このとき、NチャンネルMOSFETQN
1は、そのゲート電位VN1が、 VN1>VSS+VTHN となるため、オン状態となる。これにより、ECL入力回
路の反転出力信号▲▼は、電源電圧VSSのようなCMO
Sレベルのロウレベルとなる。
一方、入力信号VEがECLレベルのロウレベルVELになる
と、PチャンネルMOSFETQP1は、そのゲート電位VP1が、 VP1=VDD−I2×R1 =−2×VTHP となることから、オン状態となる。また、Nチャンネル
MOSFETQN1は、そのゲート電位VN1が、 VN1<VSS+VTHN となるため、オフ状態となる。これにより、ECL入力回
路の反転出力信号▲▼は、電源電圧VDDのようなCMO
Sレベルのハイレベルとなる。
以上のように、この実施例のCMIコーデックのECL入力回
路は、入力信号VEを受ける電流スイッチ回路及びレベル
シフト回路と、電源電圧VDDと電源電圧VSSとの間に直列
形態に設けられそのゲートに上記電流スイッチ回路及び
レベルシフト回路の出力信号をそれぞれ受けるPチャン
ネルMOSFET及びNチャンネルMOSFETによって構成され
る。電流スイッチ回路の出力信号すなわちPチャンネル
MOSFETのゲート電位は、その中心値がPチャンネルMOSF
ETのしきい値電圧となるように設計される。また、レベ
ルシフト回路の出力信号すなわちNチャンネルMOSFETの
ゲート電位は、その中心値が電源電圧VSSにNチャンネ
ルMOSFETのしきい値電圧を加えた値となるように設計さ
れる。したがって、この実施例のECL入力回路は、その
構成が非常に簡素化されているにもかかわらず、安定し
たECL・CMOSレベル変換回路として機能する。これによ
り、ECL入力回路を含むCMIコーデック等は、信号伝達遅
延時間が短縮され動作の高速化が図られるとともに、回
路素子数が削減され、チップの小型化が図られる。
〔実施例2〕 第3図には、この発明が適用されたECL入力回路の第2
の実施例の回路図が示されている。この実施例は、上記
第1の実施例を基本とする変形例であり、上記第1の実
施例と重複する部分についてはその説明を省略する。こ
の実施例において、トランジスタT1,T2とPチャンネルM
OSFETQP1,ダイオードD1,抵抗R1及び定電流源IS1,IS2
は、上記第1図の実施例の各回路素子にそのまま対応す
る。
第3図において、NチャンネルMOSFETQN2(第2のMOSFE
T)は、特に制限されないが、ダブルドレイン型のMOSFE
Tとされる。MOSFETQN2の第1のドレインは、Pチャンネ
ルMOSFETQP1のソースに結合される。また、MOSFETQN2の
ゲートは定電流源IS1を介して電源電圧VSSに結合され、
そのソースは直接電源電圧VSSに結合される。
MOSFETQN2の第2のドレインは、ECL入力回路の出力ノー
ドに結合され、さらにバイポーラトランジスタT3を介し
て電源電圧VDDに結合される。トランジスタT3のベース
は、上記MOSFETQP1のエミッタ及びMOSFETQN2の第1のド
レインに共通結合される。
入力信号VEがECLレベルのハイレベルとされるとき、前
述のように、PチャンネルMOSFETQP1はオフ状態とな
り、NチャンネルMOSFETQN2はオン状態となる。したが
って、トランジスタT3は、そのベース電流が得られずま
たそのベース容量がMOSFETQN2を介してディスチャージ
されることで、カットオフ状態とされる。トランジスタ
T3がカットオフ状態となり、MOSFETQN2がオン状態とな
ることで、ECL入力回路の反転出力信号▲▼は、電
源電圧VSSのようなCMOSレベルのロウレベルとなる。
一方、入力信号VEがECLレベルのロウレベルとされる
と、前述のように、NチャンネルMOSFETQN2はオフ状態
となり、代わってPチャンネルMOSFETQP1がオン状態と
なる。したがって、トランジスタT3は、MOSFETQP1を介
してベース電流が供給されるため、オン状態となる。こ
れにより、ECL入力回路の反転出力信号▲▼は、急
速に電源電圧VDDのようなCMOSレベルのハイレベルとな
る。
以上のように、この実施例のECL入力回路は、第1図の
実施例に加えて、バイポーラ型の出力トランジスタT3
と、ダブルドレイン型のNチャンネルMOSFETQN2の第2
のドレインを介するディスチャージ回路を含む。ECL入
力回路の反転出力信号▲▼の立ち上がり変化は、ト
ランジスタT3によって増幅され、高速化されるととも
に、そのファンアウトが増大される。
〔実施例3〕 第4図には、この発明が適用されたECL入力回路の第3
の実施例の回路図が示されている。この実施例におい
て、トランジスタT6,PチャンネルMOSFETQP2,Nチャンネ
ルMOSFETQN3,ダイオードD4及び定電流源IS3,IS4は、上
記第1図の実施例のトランジスタT2,PチャンネルMOSFET
QP1,NチャンネルMOSFETQN1,ダイオードD1及び定電流源I
S1,IS2にそれぞれ対応する。
第4図において、図示されない前段回路から入力される
入力信号VEは、バイポーラトランジスタT4のベースに供
給される。トランジスタT4のコレクタは、電源電圧VDD
に結合される。また、トランジスタT4のエミッタは、ト
ランジスタT5のベースに結合されるとともに、直列形態
のダイオードD2及び抵抗R2を介してNチャンネルMOSFET
QN3のゲートに結合される。MOSFETQN3のゲートと電源電
圧VSSとの間には、定電流源IS3が設けられる。これによ
り、トランジスタT4とダイオードD2,抵抗R2及び定電流
源IS3は、MOSFETQN3に対するレベルシフト回路を構成す
る。また、トランジスタT4は、トランジスタT5に対する
レベルシフト回路を兼ねる。
入力信号VEが、上記レベルシフト回路を経てMOSFETQN3
のゲート電位に供給されるまでのレベルシフト量VSは、
トランジスタT4のベース・エミッタ電圧をVBE4,ダイオ
ードD2の順方向電圧をVDF2,定電流源IS3の電流値を13と
するとき、 VS=VBE4+VDE2+I3×R2 となる。したがて、MOSFETQN3のゲート電位VN3は、 VN3=VE−VS =VE−(VBE4+VDF2+I3×R2) となる。第1図の実施例と同様に、このゲート電圧VN3
の中心値は、電源電圧VSSにMOSFETQN3のしきい値電圧V
THNを加えた値とほぼ一致するように、レベルシフト回
路の各回路定数が設計される。
一方、トランジスタT5のエミッタは、差動形態とされる
バイポーラトランジスタT6のエミッタと共通結合され、
さらに定電流源IS4を介して電源電圧VSSに結合される。
トランジスタT5のコレクタは、負荷抵抗R3を介して電源
電圧VDDに結合される。また、トランジスタT6のコレク
タは、負荷抵抗R4及び上記負荷抵抗R3を介して電源電圧
VDDに結合されるとともに、MOSFETQP2のゲートに結合さ
れる。トランジスタT6のベースには、参照電位VRが供給
される。前述のように、入力信号VEは、トランジスタT4
によってそのベース・エミッタ電圧VBE4分だけレベルシ
フトされ、トランジスタT5のベースに供給される。した
がって、上記参照電位VRは、入力信号VEのレベル変化の
中心値をVCEにするとき、 VR=VCE−VBE4 となるような所定の電圧とされる。トランジスタT5及び
T6は、抵抗R3,R4及び定電流源IS4とともに、入力信号VE
に対するレベル判定用の電流スイッチ回路を構成する。
入力信号VEが、−0.9VのようなECLレベルのハイレベルV
CHとされるとき、トランジスタT5のベース電位は参照電
位VRよりも高くなる。その結果、トランジスタT5はオン
状態となり、トランジスタT6はカットオフ状態となる。
したがって、トランジスタT6のコレクタ電位すなわちMO
SFETQP2のゲート電位VP2は、定電流源IS4の電流値をI4
とするとき、 VP2=VDD−I4×R3 となるようなハイレベルとなり、MOSFETQP2はオフ状態
となる。このとき、MOSFETQN3は、そのゲート電位VN3が
電源電圧VSSにそのしきい値電圧VTHNを加えた電圧より
も高くなることから、オン状態となる。これにより、こ
のECL入力回路の反転出力信号▲▼は、電源電圧VSS
のようなCMOSレベルのロウレベルとされる。
一方、入力信号VEが−1.7VのようなECLレベルのロウレ
ベルとなると、トランジスタT5のベース電位は参照電位
VRよりも低くなる。その結果、トランジスタT5はオフ状
態となり、代わってトランジスタT6がオン状態となる。
したがって、トランジスタT6の上記コレクタ電位VP2
は、 VP2=VDD−I4×(R3+R4) となるようなロウレベルとなる。上記第1図の実施例と
同様に、トランジスタT6のコレクタ電位VP2のハイレベ
ル及びロウレベルは、トランジスタT6を飽和領域とせず
かつその中心値の絶対値がMOSFETQP2のしきい値電圧V
THPとほぼ一致するように、電流スイッチ回路の各回路
定数が設計される。したがって、上記トランジスタT6の
コレクタ電位がロウレベルとなることで、MOSFETQP2は
オン状態となる。このとき、MOSFETQN3は、そのゲート
電位VN3が電源電圧VSSにそのしきい値電圧VTHNを加えた
電圧よりも低くなることから、オン状態となる。これに
より、このECL入力回路の反転出力信号▲▼は、電
源電圧VDDのようなCMOSレベルのハイレベルとされる。
MOSFETQP2及びQN3の共通結合されたソース及びドレイン
の電位すなわち反転出力信号▲▼は、さらにCMOSイ
ンバータ回路N1によって反転され、ECL入力回路の非反
転出力信号Vmとされる。
以上のように、この実施例のECL入力回路では、Pチャ
ンネルMOSFETQP2及びNチャンネルMOSFETQN3の共通結合
されたドレイン及びソースの電位が、ECL入力回路の反
転出力信号▲▼とされるとともに、CMOSインバータ
回路N1によって反転され、非反転出力信号Vmとされる。
これにより、この実施例のECL入力回路は、入力信号VE
に従った相補出力信号を形成しうるとともに、上記第1
図の実施例と同様な効果を得ることができる。
〔実施例4〕 第5図には、この発明が適用されたECL入力回路の第4
の実施例が示されている。この実施例は、基本的に上記
第4図の実施例を踏襲するものであり、トランジスタT4
ないしT6,PチャンネルMOSFETQP2,NチャンネルMOSFETQN
3,ダイオードD2,抵抗R2ないしR4及び低電流源IS3,IS4
は、第4図の各回路素子にそのまま対応する。
第5図において、電流スイッチ回路を構成するトランジ
スタT5のコレクタと負荷抵抗R3との間には、負荷抵抗R5
が設けられる。トランジスタT5のコレクタは、さらにバ
イポーラトランジスタT7のベース及びPチャンネルMOSF
ETQP3のゲートに共通結合される。トランジスタT7のコ
レクタは電源電圧VDDに結合され、そのエミッタはダイ
オードD3を介してNチャンネルMOSFETQN4のゲートに結
合される。MOSFETQN4のゲートは、さらに定電流源IS5を
介して電源電圧VSSに結合される。これにより、トラン
ジスタT7,ダイオードD3及び定電流源IS5は、MOSFETQN4
に対するレベルシフト回路を構成する。
PチャンネルMOSFETQP3のソースは電源電圧VDDに結合さ
れ、そのドレインは、上記MOSFETQN4を介して電源電圧V
SSに結合される。MOSFETQP3及びQN4の共通結合されたド
レイン及びソースの電位は、このECL入力回路の非反転
出力信号Vmとされる。また、上記MOSFETQP2及びQN3の共
通結合されたドレイン及びソースの電位は、このECL入
力回路の反転出力信号▲▼とされる。
入力信号VEが、−0.9VのようなECLレベルのハイレベルV
EHとされるとき、前述のように、電流スイッチ回路を構
成するトランジスタT5はオン状態となり、トランジスタ
T6はオフ状態となる。このとき、トランジスタT6のコレ
クタ電位すなわちMOSFETQP2のゲート電位VP2は、 VP2=VDD−I4×R3 のようなハイレベルとなり、MOSFETQP2はオフ状態とな
る。また、トランジスタT5のコレクタ電位すなわちトラ
ンジスタT7のベース電位言い換えるとMOSFETQP3のゲー
ト電位VP3は、 VP3=VDD−I4×(R3+R5) ……(3) のようなロウレベルとなる。このコレクタ電位VP3のロ
ウレベル及びハイレベルは、トランジスタT5を飽和領域
とせずかつその中心値の絶対値がMOSFETQP3のしきい値
電圧VTHPとほぼ一致するように、負荷抵抗R5の値が設計
される。入力信号VEがECLレベルのハイレベルとなり、
そのゲート電位VP3が上記のようなロウレベルとなるこ
とで、MOSFETQP3はオン状態となる。
ところで、トランジスタT5のコレクタ電位VP3は、トラ
ンジスタT7及びダイオードD3を介して、MOSFETQN4のゲ
ートに伝達される。したがって、MOSFETQN4のゲート電
位VN4は、トランジスタT7のベース・エミッタ電圧をVBE
7とし、ダイオードD3の順方向電圧をVDF3とすると、 VN4=VP3−(VBE7+VDF3) =VP3−VS4 ……(4) となる。ここで、VS4は、トランジスタT7,ダイオードD3
及び定電流値IS5からなるレベルシフト回路のレベルシ
フト量であり、 VS4=VBE7+VDF3 である。このシフト量VS4は、MOSFETQN4のゲート電位VN
4のレベル変化の中心値が、電源電圧VSSにMOSFETQN4の
しきい値電圧VTHNを加えた値とほぼ一致するように、各
回路定数が設計される。上記(3)式及び(4)式によ
り、入力信号VEがECLレベルのハイレベルとされると
き、MOSFETQN4のゲート電位VN4は、 VN4=VDD−I4×(R3+R5) −(VBE7+VDF3) のようなロウレベルとなる。これにより、MOSFETQN4は
オフ状態となる。すでに述べたように、入力信号VEがEC
Lレベルのハイレベルとなることで、MOSFETQP3はオン状
態とされる。したがって、ECL入力回路の非反転出力信
号Vmは、電源電圧VDDのようなCMOSレベルのハイレベル
とされる。このとき、ECL入力回路の反転出力信号▲
▼は、前述のように、PチャンネルMOSFETQP2がオフ
状態となりNチャンネルMOSFETQN3がオン状態となるこ
とで、電源電圧VSSのようなCMOSレベルのロウレベルと
される。
一方、入力信号VEが、−1.7VのようなECLレベルのロウ
レベルVELとなると、トランジスタT5はオフ状態とな
り、代わってトランジスタT6がオン状態となる。したが
って、トランジスタT6のコレクタ電位すなわちMOSFETQP
2のゲート電位VP2は、 VP2=VDD−I4×(R3+R4) のようなロウレベルとなり、トランジスタT5のコレクタ
電位すなわちMOSFETQP3のゲート電位VP3は、 VP3=VDD−I4×R5 のようなハイレベルとなる。これにより、MOSFETQP2は
オン状態となり、MOSFETQP3はオフ状態となる。
トランジスタT5のコレクタ電位VP3がハイレベルとなる
ことで、MOSFETQN4のゲート電位VN4は、 VN4=VDD−I4×R5 −(VBE7+VDF3) のようなハイレベルとなり、MOSFETQN4はオン状態とな
る。
これらのことから、ECL入力回路の非反転出力信号Vm
は、電源電圧VSSのようなCMOSレベルのロウレベルとさ
れる。このとき、前述のように、MOSFETQP2はオン状態
となり、MOSFETQN3は、そのゲート電位がロウレベルと
なることから、オフ状態となる。したがって、ECL入力
回路の反転出力信号▲▼は、電源電圧VDDのようなC
MOSレベルのハイレベルとされる。
以上のように、この実施例のECL入力回路では、MOSFETQ
P2及びQN3の共通結合されたドレイン及びソースの電位
が、ECL入力回路の反転出力信号▲▼として出力さ
れる。また、MOSFETQP3及びQN4の共通結合されたドレイ
ン及びソースの電位が、ECL入力回路の非反転出力信号V
mとされる。これにより、この実施例のECL入力回路は、
上記第4図の実施例と同様に、入力信号VEに従った相補
出力信号を形成しうるとともに、上記第1図の実施例と
同様な効果を得ることができる。
以上の複数の実施例に示されるように、この発明を光通
信システムに含まれるCMIコーデック等の半導体集積回
路装置に適用した場合、次のような効果が得られる。す
なわち、 (1)ECL入力回路を、所定の参照電位に従って入力信
号のレベルを比較判定する電流スイッチ回路と、上記入
力信号を受けるレベルシフト回路と、出力ノードと第1
の電源電圧との間に設けられ上記電流スイッチ回路の出
力信号を受けるPチャンネルMOSFETと、上記出力ノード
と第2の電源電圧との間に設けられ上記レベルシフト回
路の出力信号を受けるNチャンネルMOSFETとにより構成
することで、レベル変換機能を持つ1段構造の簡素化さ
れたECL入力回路を実現できるという効果が得られる。
(2)上記(1)項により、ECL入力回路の信号伝達遅
延時間を短縮し、ECL入力回路を含むCMIコーデック等の
動作の高速化を図ることができるという効果が得られ
る。
(3)上記(1)項及び(2)項により、ECL入力回路
の回路素子数を削減し、その所要レイアウト面積を縮小
することができるため、ECL入力回路を含むCMIコーデッ
ク等が搭載されるチップの小型化を図り、装置の低コス
ト化を図ることができるという効果が得られる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。例えば、第1図の実施
例において、トランジスタT1はマルチエミッタ型のトラ
ンジスタとせず、ベース及びコレクタが共通結合される
2個のトランジスタに置き換えてもよい。また、トラン
ジスタT1,ダイオードD1及び定電流源IS1からなるレベル
シフト回路は、入力信号VEのレベルに応じて適当な抵抗
を追加するものであってもよい。第3図の実施例におい
て、NチャンネルMOSFETQN2は、ダブルドレイン型のMOS
FETとせず、ゲート及びソースが共通結合される2個の
NチャンネルMOSFETに置き換えてもよい。また、第3図
のトランジスタT3等及び第4図のCMOSインバータ回路N1
の代わりに、バイポーラ・CMOS複合回路からなる駆動回
路を設けてもよい。各実施例において、電源電圧VDD及
びVSSは正の電源電圧であってもよいし、電源電圧の極
性を入れ換えることで、各トランジスタをPNP型としま
た各MOSFETの導電型を入れ換えることもできる。また、
各実施例は、その電流スイッチ回路を例えばノアゲート
形態とすることて、論理ゲートとしての機能を持たせる
こともできる。さらに、各実施例の具体的な回路構成や
入出力信号レベルの組み合わせ等、種々の実施形態を採
ることができる。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である光通信システムのCM
Iコーデックに適用した場合について説明したが、それ
に限定されるものではなく、例えば、バイポーラ・CMOS
型RAM等の半導体記憶装置や同様な入力回路を有する各
種のディジタル集積回路装置にも適用できる。本発明
は、少なくともECL・CMOSレベル変換機能を持つ入力回
路を含む半導体集積回路装置に広く適用できる。
(発明の効果〕 本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果を簡単に説明すれば、下記のとおりであ
る。すなわち、ECL入力回路を、入力信号を受ける電流
スイッチ回路及びレベルシフト回路と、出力ノードと第
1の電源電圧との間に設けられ上記電流スイッチ回路の
出力信号を受けるPチャンネルMOSFETと、上記出力ノー
ドと第2の電源電圧との間に設けられ上記レベルシフト
回路の出力信号を受けるNチャンネルMOSFETとにより構
成することて、1段構造の簡素化されたECL入力回路を
実現することができるため、ECL入力回路を含むCMIコー
デック等の動作を高速化し、チップの小型化を図ること
ができるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は、この発明が適用されたECL入力回路の第1の
実施例を示す回路図、 第2図は、第1図のECL入力回路の一実施例を示す動作
特性図、 第3図は、この発明が適用されたECL入力回路の第2の
実施例を示す回路図、 第4図は、この発明が適用されたECL入力回路の第3の
実施例を示す回路図、 第5図は、この発明が適用されたECL入力回路の第4の
実施例を示す回路図、 第6図は、従来のECL入力回路の一例を示すブロック図
である。 T1〜T7……NPN型バイポーラトランジスタ、QP1〜QP3…
…PチャンネルMOSFET、QN1〜QN4……NチャンネルMOSF
ET、R1〜R5……抵抗、D1〜D3……ダイオード、IS1〜IS5
……定電流源、N1……CMOSインバータ回路。 LC……レベル判定回路、LS……レベル変換回路、SD……
信号分配回路。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】所定の参照電位に従って入力信号のレベル
    を比較判定する電流スイッチ回路と、上記入力信号を受
    けるレベルシフト回路と、出力ノードと第1の電源電圧
    との間に設けられそのゲートに上記電流スイッチ回路の
    出力信号を受ける第1導電型の第1のMOSFETと、上記出
    力ノードと第2の電源電圧との間に設けられそのゲート
    に上記レベルシフト回路の出力信号を受ける第2導電型
    の第2のMOSFETとを含む入力回路を具備することを特徴
    とする半導体集積回路装置。
  2. 【請求項2】上記電流スイッチ回路は、そのベースに上
    記入力信号を受ける第1のバイポーラトランジスタと、
    上記第1のバイポーラトランジスタと差動形態とされそ
    のベースに上記参照電位を受ける第2のバイポーラトラ
    ンジスタとを含むものであり、上記レベルシフト回路
    は、そのコレクタが上記第1の電源電圧に結合されその
    ベースに上記入力信号を受ける第3のバイポーラトラン
    ジスタと、上記第3のバイポーラトランジスタのエミッ
    タと上記第2のMOSFETのゲートとの間に設けられる第1
    の負荷手段と、上記第2のMOSFETのゲートと第2の電源
    電圧との間に設けられる定電流源とを含むものであるこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の半導体集積
    回路装置。
  3. 【請求項3】上記第1及び第3のバイポーラトランジス
    タは、共通化されたコレクタ領域及びベース領域を持
    ち、エミッタが異なる半導体領域により構成されたマル
    チエミッタトランジスタからなるものであることを特徴
    とする特許請求の範囲第2項記載の半導体集積回路装
    置。
  4. 【請求項4】上記レベルシフト回路は、上記入力信号の
    レベル変化にともなう上記第2のMOSFETのゲート電位の
    レベル変化の中心値と第2の電源電圧との差が、上記第
    2のMOSFETのしきい値電圧とほぼ一致するように設計さ
    れることを特徴とする特許請求の範囲第1項,第2項又
    は第3項記載の半導体集積回路装置。
  5. 【請求項5】上記入力信号はECLレベルの信号とされ、
    上記出力ノードの出力信号はCMOSレベルの信号とされる
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項,第2項,第3
    項又は第4項記載の半導体集積回路装置。
  6. 【請求項6】上記半導体集積回路装置は、光通信システ
    ムのCMIコーデックであることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項,第2項,第3項,第4項又は第5項記載の
    半導体集積回路装置。
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