JPH0711239A - 研磨用組成物 - Google Patents
研磨用組成物Info
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- JPH0711239A JPH0711239A JP15489493A JP15489493A JPH0711239A JP H0711239 A JPH0711239 A JP H0711239A JP 15489493 A JP15489493 A JP 15489493A JP 15489493 A JP15489493 A JP 15489493A JP H0711239 A JPH0711239 A JP H0711239A
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- Japan
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- polishing
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- alumina sol
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- aluminum
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- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 プラスチック製品や金属材料の研磨用として
優れた研磨用組成物を提供する。 【構成】 水と、酸化アルミニウムの研磨剤、及び研磨
促進剤からなる。研磨促進剤は、硝酸アルミニウムとグ
リコ−ル類及びアルミナゾルのうち２種以上を混合して
用い、硝酸アルミニウム５〜１００ｇ／ｌ，グリコ−ル
類５０〜４００ｇ／ｌ及びアルミナゾルが５〜５０ｇ／
ｌの割合で添加されている。またシリコ−ン消泡剤１〜
１０ｇ／ｌが添加されている。
優れた研磨用組成物を提供する。 【構成】 水と、酸化アルミニウムの研磨剤、及び研磨
促進剤からなる。研磨促進剤は、硝酸アルミニウムとグ
リコ−ル類及びアルミナゾルのうち２種以上を混合して
用い、硝酸アルミニウム５〜１００ｇ／ｌ，グリコ−ル
類５０〜４００ｇ／ｌ及びアルミナゾルが５〜５０ｇ／
ｌの割合で添加されている。またシリコ−ン消泡剤１〜
１０ｇ／ｌが添加されている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明はプラスチック製品や金
属材料等を迅速に研磨する従来品より改良された研磨用
組成物に関する。
属材料等を迅速に研磨する従来品より改良された研磨用
組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に使用されるプラスチック製品や金
属材料の研磨用組成物は、研磨材、例えば酸化セリウ
ム、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化スズ、
二酸化ケイ素、二酸化チタン、二酸化クロムを水でスラ
リー状にしたものである。この研磨用剤をプラスチック
製品や金属材料に適用して研磨パッドなどで研磨するこ
とが行われている。しかし、これら従来の研磨用剤は研
磨に手間がかかり、研磨表面を滑らかにし、かつ光沢を
良くするためには相当の研磨時間を要する。また、研磨
能率を良くするために研磨剤の粒子径を大きくすると深
いスクラッチ及びオレンジピール等の表面欠陥を生成す
る傾向があり、滑らかでそれらの欠点のない高品質な表
面を得ることは一層困難であった。
属材料の研磨用組成物は、研磨材、例えば酸化セリウ
ム、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化スズ、
二酸化ケイ素、二酸化チタン、二酸化クロムを水でスラ
リー状にしたものである。この研磨用剤をプラスチック
製品や金属材料に適用して研磨パッドなどで研磨するこ
とが行われている。しかし、これら従来の研磨用剤は研
磨に手間がかかり、研磨表面を滑らかにし、かつ光沢を
良くするためには相当の研磨時間を要する。また、研磨
能率を良くするために研磨剤の粒子径を大きくすると深
いスクラッチ及びオレンジピール等の表面欠陥を生成す
る傾向があり、滑らかでそれらの欠点のない高品質な表
面を得ることは一層困難であった。
【０００３】上記の従来の研磨用剤の欠点を解消するた
めに、本出願人は、特公昭５３−３５１８号公報にて次
のような合成樹脂成形品の研磨用組成物を開示した。即
ち「 水と、酸化アルミニウム、酸化セリウム等の研磨
用剤及びポリ塩化アルミニウム、硝酸セリウム、硝酸ア
ルミニウム、臭化アルミニウム等の酸性化合物からなる
合成樹脂成形品の研磨用組成物。」である。更に、本出
願人は特公平２−２３５８９号公報にて、メモリーハー
ドディスク等の金属材料を研磨する際も硝酸アルミニウ
ム等が研磨促進効果を奏することを開示した。これらの
研磨用組成物は合成樹脂成形品やメモリーハードディス
クの研磨用として優れたものであるが、更にこれらの研
磨用組成物より優れたものの開発が要望されていた。
めに、本出願人は、特公昭５３−３５１８号公報にて次
のような合成樹脂成形品の研磨用組成物を開示した。即
ち「 水と、酸化アルミニウム、酸化セリウム等の研磨
用剤及びポリ塩化アルミニウム、硝酸セリウム、硝酸ア
ルミニウム、臭化アルミニウム等の酸性化合物からなる
合成樹脂成形品の研磨用組成物。」である。更に、本出
願人は特公平２−２３５８９号公報にて、メモリーハー
ドディスク等の金属材料を研磨する際も硝酸アルミニウ
ム等が研磨促進効果を奏することを開示した。これらの
研磨用組成物は合成樹脂成形品やメモリーハードディス
クの研磨用として優れたものであるが、更にこれらの研
磨用組成物より優れたものの開発が要望されていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、プラスチッ
ク製品や金属材料の研磨用として優れた研磨用組成物を
提供することを目的とする。
ク製品や金属材料の研磨用として優れた研磨用組成物を
提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、さらに前
述の研磨用組成物を改良すべく鋭意研究した結果、開発
されたものであり、本発明は、水と、酸化アルミニウム
の研磨剤、及び研磨促進剤からなり、前記研磨促進剤
が、硝酸アルミニウムとグリコール類及びアルミナゾル
のうち、２種以上を混合して用いることを特徴とする研
磨用組成物であり、前記研磨促進剤が硝酸アルミニウム
５〜１００ｇ／ｌ，グリコール類５０〜４００ｇ／ｌ及
びアルミナゾルが５〜５０ｇ／ｌの割合で添加されてい
るものであり、さらに上述の研磨用組成物に、シリコー
ン消泡剤１〜１０ｇ／ｌが添加されていることを特徴と
する研磨用組成物である。
述の研磨用組成物を改良すべく鋭意研究した結果、開発
されたものであり、本発明は、水と、酸化アルミニウム
の研磨剤、及び研磨促進剤からなり、前記研磨促進剤
が、硝酸アルミニウムとグリコール類及びアルミナゾル
のうち、２種以上を混合して用いることを特徴とする研
磨用組成物であり、前記研磨促進剤が硝酸アルミニウム
５〜１００ｇ／ｌ，グリコール類５０〜４００ｇ／ｌ及
びアルミナゾルが５〜５０ｇ／ｌの割合で添加されてい
るものであり、さらに上述の研磨用組成物に、シリコー
ン消泡剤１〜１０ｇ／ｌが添加されていることを特徴と
する研磨用組成物である。
【０００６】
【作用】本発明は、前述の如く、水と、酸化アルミニウ
ムの研磨剤、及び研磨促進剤からなるので、研磨速度は
著しく増加し、さらに良好な研磨表面を生成し、スクラ
ッチ及びオレンジピール等が生じない。
ムの研磨剤、及び研磨促進剤からなるので、研磨速度は
著しく増加し、さらに良好な研磨表面を生成し、スクラ
ッチ及びオレンジピール等が生じない。
【０００７】本発明において、各構成研磨用剤の限定し
た理由について、次に述べる。 (1)酸化アルミニウムの研磨剤 研磨剤としての酸化アルミニウムは通常水性スラリーと
して使用するので通常微粒子であることが好ましくその
粒子の大きさは平均粒子径で０．１〜１０μｍ，好まし
くは０．１〜３μｍである。そのスラリー濃度は通常１
〜５０重量％好ましくは５〜３０重量％の研磨剤を含有
することが望ましい。 (2)研磨促進剤 a. 硝酸アルミニウム：５〜１００ｇ／ｌ 硝酸アルミニウムは上述の研磨剤の研磨速度を増進する
のに効果があり、５ｇ／ｌ未満では多少効果はあるが実
用的でなく、１００ｇ／ｌを越えて含有させてもその効
果は横ばいであり、経済的でないからその量を５〜１０
０ｇ／ｌとした。
た理由について、次に述べる。 (1)酸化アルミニウムの研磨剤 研磨剤としての酸化アルミニウムは通常水性スラリーと
して使用するので通常微粒子であることが好ましくその
粒子の大きさは平均粒子径で０．１〜１０μｍ，好まし
くは０．１〜３μｍである。そのスラリー濃度は通常１
〜５０重量％好ましくは５〜３０重量％の研磨剤を含有
することが望ましい。 (2)研磨促進剤 a. 硝酸アルミニウム：５〜１００ｇ／ｌ 硝酸アルミニウムは上述の研磨剤の研磨速度を増進する
のに効果があり、５ｇ／ｌ未満では多少効果はあるが実
用的でなく、１００ｇ／ｌを越えて含有させてもその効
果は横ばいであり、経済的でないからその量を５〜１０
０ｇ／ｌとした。
【０００８】b. グリコール類：５０〜４００ｇ／ｌ グリコール類としては、プロピレングリコール重合物、
エチレングリコール重合物が挙げられ、具体的には、プ
ロピレングリコール、エチレングリコール、ジプロピレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、ジエチレン
グリコール、ポリエチレングリコール等が挙げられ、特
にプロピレングリコール、エチレングリコールが好まし
い。グリコール類は研磨能率の向上と研磨面の良質化の
ために有効な作用をなすものであり、５０ｇ／ｌ未満で
はその効果が少なく、４００ｇ／ｌを越えた場合、粘度
が高すぎて、研磨中に被研磨物に滑りを生じ、効果が少
なくなるのでその量を５０〜４００ｇ／ｌとした。 c. アルミナゾル：５〜５０ｇ／ｌ アルミナゾルは化学式Ａｌ2 Ｏ3 ・ｎＨ2 Ｏ（ｎ＝１〜
２）にて一般的に表はされるが、これはスラリーの粘度
をあげて、研磨剤を浮遊させる役目や研磨能率の向上を
果たすものであり、そのための添加量は５〜５０ｇ／ｌ
が望ましい結果を得ている。
エチレングリコール重合物が挙げられ、具体的には、プ
ロピレングリコール、エチレングリコール、ジプロピレ
ングリコール、ポリプロピレングリコール、ジエチレン
グリコール、ポリエチレングリコール等が挙げられ、特
にプロピレングリコール、エチレングリコールが好まし
い。グリコール類は研磨能率の向上と研磨面の良質化の
ために有効な作用をなすものであり、５０ｇ／ｌ未満で
はその効果が少なく、４００ｇ／ｌを越えた場合、粘度
が高すぎて、研磨中に被研磨物に滑りを生じ、効果が少
なくなるのでその量を５０〜４００ｇ／ｌとした。 c. アルミナゾル：５〜５０ｇ／ｌ アルミナゾルは化学式Ａｌ2 Ｏ3 ・ｎＨ2 Ｏ（ｎ＝１〜
２）にて一般的に表はされるが、これはスラリーの粘度
をあげて、研磨剤を浮遊させる役目や研磨能率の向上を
果たすものであり、そのための添加量は５〜５０ｇ／ｌ
が望ましい結果を得ている。
【０００９】(3)シリコーン消泡剤：１〜１０ｇ／ｌ また、本研磨組成物においては、グリコール類やアルミ
ナゾルを使用するために泡が生ずるのでシリコーン消泡
剤を添加し消泡することが望ましく、その量は１〜１０
ｇ／ｌが有効であることが判った。本発明の研磨用組成
物が適用できるプラスチック製品としてはプラスチック
レンズ、プラスチック製ディスク基板、風防ガラス、医
療用品、食器、ラジオ部品、機械部品（小型歯車、ベア
リング）、ボタン、キャップ、キャビネット、化粧板、
眼鏡枠、プラスチック製安全ガラスなどの各種がある。
また、金属材料として代表的なものとして、メモリーハ
ードディスクに使用されるアルミニウム，ニッケル・リ
ンメッキ基板，半導体部品，機械部品等の各種があり、
これらの精密研磨加工に適用できる。
ナゾルを使用するために泡が生ずるのでシリコーン消泡
剤を添加し消泡することが望ましく、その量は１〜１０
ｇ／ｌが有効であることが判った。本発明の研磨用組成
物が適用できるプラスチック製品としてはプラスチック
レンズ、プラスチック製ディスク基板、風防ガラス、医
療用品、食器、ラジオ部品、機械部品（小型歯車、ベア
リング）、ボタン、キャップ、キャビネット、化粧板、
眼鏡枠、プラスチック製安全ガラスなどの各種がある。
また、金属材料として代表的なものとして、メモリーハ
ードディスクに使用されるアルミニウム，ニッケル・リ
ンメッキ基板，半導体部品，機械部品等の各種があり、
これらの精密研磨加工に適用できる。
【００１０】
【実施例】次に本発明の一実施例について述べる。平均
粒子径１．３μｍの酸化アルミニウムを１９０ｇ／ｌの
割合に水と配合し、硝酸アルミニウム，プロピレングリ
コール及びアルミナゾルを添加し表１に示すような組成
の研磨用組成物，試料Ｎ０．１〜９を調製した。なお、
本発明である試料Ｎ０．５〜Ｎ０．９にはシリコーン消
泡剤を夫々５ｇ／ｌを添加した。
粒子径１．３μｍの酸化アルミニウムを１９０ｇ／ｌの
割合に水と配合し、硝酸アルミニウム，プロピレングリ
コール及びアルミナゾルを添加し表１に示すような組成
の研磨用組成物，試料Ｎ０．１〜９を調製した。なお、
本発明である試料Ｎ０．５〜Ｎ０．９にはシリコーン消
泡剤を夫々５ｇ／ｌを添加した。
【００１１】次に、これらの研磨用組成物を用いて研磨
有効度を次のような研磨テストにより評価した。アリル
ジグリルコールカーボネート樹脂（ＣＲ−３９）７０mm
φのレンズ試料をコバーン５０５型非球面レンズ研磨機
を用いて、研磨パッドとして、プラスチックレンズ用植
毛布にて、研磨圧力２４０ｇ／cm2 ，研磨時間５分，研
磨温度１３±１℃，スラリー供給量２リットル／分の割
合で循環する研磨条件にて研磨した。その結果の研磨能
率（ｇ／５分）並びに表面粗度Ｒａ（ｎｍ）を組成と共
に表１に示す。
有効度を次のような研磨テストにより評価した。アリル
ジグリルコールカーボネート樹脂（ＣＲ−３９）７０mm
φのレンズ試料をコバーン５０５型非球面レンズ研磨機
を用いて、研磨パッドとして、プラスチックレンズ用植
毛布にて、研磨圧力２４０ｇ／cm2 ，研磨時間５分，研
磨温度１３±１℃，スラリー供給量２リットル／分の割
合で循環する研磨条件にて研磨した。その結果の研磨能
率（ｇ／５分）並びに表面粗度Ｒａ（ｎｍ）を組成と共
に表１に示す。
【００１２】
【表１】
【００１３】表１に示すように、試料Ｎ０．１の酸化ア
ルミニウム単独の場合や試料Ｎ０．２〜４の硝酸アルミ
ニウム，プロピレングリコール，アルミナゾルを夫々単
独で添加した場合に比して、試料Ｎ０．５〜９の組合わ
せの研磨組成物は研磨能率及び表面粗度共に良好であ
る。特に試料Ｎ０．８と試料Ｎ０．９は従来品と比し
て、研磨能率が非常に高く、なおかつ表面粗度等の研磨
面品質に優れている。本発明は、その要旨を超えない限
り以上の実施例に限定されるものではない。
ルミニウム単独の場合や試料Ｎ０．２〜４の硝酸アルミ
ニウム，プロピレングリコール，アルミナゾルを夫々単
独で添加した場合に比して、試料Ｎ０．５〜９の組合わ
せの研磨組成物は研磨能率及び表面粗度共に良好であ
る。特に試料Ｎ０．８と試料Ｎ０．９は従来品と比し
て、研磨能率が非常に高く、なおかつ表面粗度等の研磨
面品質に優れている。本発明は、その要旨を超えない限
り以上の実施例に限定されるものではない。
【００１４】
【発明の効果】この研磨用組成物によれば、優れた研磨
成績を示し研磨加工面に表面欠陥を発生させることなく
著しく研磨能率を向上せしめことができる。
成績を示し研磨加工面に表面欠陥を発生させることなく
著しく研磨能率を向上せしめことができる。
Claims (3)
- 【請求項１】 水と、酸化アルミニウムの研磨剤、及び
研磨促進剤からなり、前記研磨促進剤が、硝酸アルミニ
ウムとグリコール類及びアルミナゾルのうち、２種以上
を混合して用いることを特徴とする研磨用組成物。 - 【請求項２】 前記研磨促進剤が硝酸アルミニウム５〜
１００ｇ／ｌ，グリコール類５０〜４００ｇ／ｌ及びア
ルミナゾルが５〜５０ｇ／ｌの割合で添加されているこ
とを特徴とする請求項１記載の研磨用組成物。 - 【請求項３】 シリコーン消泡剤１〜１０ｇ／ｌが添加
されていることを特徴とする請求項１又は２記載の研磨
用組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15489493A JP3582017B2 (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 研磨用組成物およびプラスチック研磨用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15489493A JP3582017B2 (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 研磨用組成物およびプラスチック研磨用組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0711239A true JPH0711239A (ja) | 1995-01-13 |
| JP3582017B2 JP3582017B2 (ja) | 2004-10-27 |
Family
ID=15594286
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15489493A Expired - Lifetime JP3582017B2 (ja) | 1993-06-25 | 1993-06-25 | 研磨用組成物およびプラスチック研磨用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3582017B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002002712A1 (en) * | 2000-07-05 | 2002-01-10 | Showa Denko K.K. | Polishing composition and magnetic recording disk substrate polished with the polishing composition |
| KR100466422B1 (ko) * | 2000-04-18 | 2005-01-13 | 제일모직주식회사 | Ｃｍｐ용 조성물 |
| WO2004104122A3 (en) * | 2003-05-26 | 2005-02-24 | Showa Denko Kk | Polishing composition for magnetic disks comprising a surface cleaning agent and polishing method |
| JP2006036864A (ja) * | 2004-07-23 | 2006-02-09 | Fujimi Inc | 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 |
| US7211121B2 (en) | 2003-03-31 | 2007-05-01 | Fujimi Incorporated | Polishing composition |
| KR100761649B1 (ko) * | 1999-05-19 | 2007-09-27 | 제일모직주식회사 | 연마용 조성물 |
| US7655057B2 (en) | 2005-08-31 | 2010-02-02 | Fujimi Incorporated | Polishing composition and polishing method |
| WO2013153880A1 (ja) * | 2012-04-10 | 2013-10-17 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板の研磨方法 |
| KR20210102220A (ko) | 2018-12-14 | 2021-08-19 | 가부시키가이샤 후지미인코퍼레이티드 | 연마용 조성물 및 합성 수지 연마 방법 |
-
1993
- 1993-06-25 JP JP15489493A patent/JP3582017B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100761649B1 (ko) * | 1999-05-19 | 2007-09-27 | 제일모직주식회사 | 연마용 조성물 |
| KR100466422B1 (ko) * | 2000-04-18 | 2005-01-13 | 제일모직주식회사 | Ｃｍｐ용 조성물 |
| WO2002002712A1 (en) * | 2000-07-05 | 2002-01-10 | Showa Denko K.K. | Polishing composition and magnetic recording disk substrate polished with the polishing composition |
| US7211121B2 (en) | 2003-03-31 | 2007-05-01 | Fujimi Incorporated | Polishing composition |
| WO2004104122A3 (en) * | 2003-05-26 | 2005-02-24 | Showa Denko Kk | Polishing composition for magnetic disks comprising a surface cleaning agent and polishing method |
| JP2006036864A (ja) * | 2004-07-23 | 2006-02-09 | Fujimi Inc | 研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法 |
| US7655057B2 (en) | 2005-08-31 | 2010-02-02 | Fujimi Incorporated | Polishing composition and polishing method |
| WO2013153880A1 (ja) * | 2012-04-10 | 2013-10-17 | 旭硝子株式会社 | ガラス基板の研磨方法 |
| KR20210102220A (ko) | 2018-12-14 | 2021-08-19 | 가부시키가이샤 후지미인코퍼레이티드 | 연마용 조성물 및 합성 수지 연마 방법 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3582017B2 (ja) | 2004-10-27 |
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